JPH03259920A - フツ素含有ポリカーボネート樹脂 - Google Patents
フツ素含有ポリカーボネート樹脂Info
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- JPH03259920A JPH03259920A JP2059156A JP5915690A JPH03259920A JP H03259920 A JPH03259920 A JP H03259920A JP 2059156 A JP2059156 A JP 2059156A JP 5915690 A JP5915690 A JP 5915690A JP H03259920 A JPH03259920 A JP H03259920A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発8Aは新規なフッ素含有ポリカーボネート樹脂、特
に複屈折が低減され、透明性に優れかつ耐熱性にも優れ
たポリカーボネート樹脂に関する。
に複屈折が低減され、透明性に優れかつ耐熱性にも優れ
たポリカーボネート樹脂に関する。
ポリカーボネート樹脂は工業的に広く使用されている合
成樹脂であって、通常2.2−ビス(4′−ヒドロキシ
フェニル)プロパン(以下ビスフェノールAと略記する
)のような二価フェノールとホスゲンのような炭酸誘導
体との反応により製造されている。
成樹脂であって、通常2.2−ビス(4′−ヒドロキシ
フェニル)プロパン(以下ビスフェノールAと略記する
)のような二価フェノールとホスゲンのような炭酸誘導
体との反応により製造されている。
ところでビスフェノールAから製造されるポリカーボネ
ート樹脂は、耐衝撃性に優れ、しかも吸湿性が小さく熱
に安定である等の優れた特性を有しているが、これを光
学記録基板として使用する場合、ビスフェノールAから
製造されるポリカーボネート樹脂に代表される芳香族ポ
リカーボネート樹脂は、異方性の大きい芳香族環をその
主鎖に含むことから、光学記録基板の性質として極めて
重要である複屈折を低減することが困難であった。
ート樹脂は、耐衝撃性に優れ、しかも吸湿性が小さく熱
に安定である等の優れた特性を有しているが、これを光
学記録基板として使用する場合、ビスフェノールAから
製造されるポリカーボネート樹脂に代表される芳香族ポ
リカーボネート樹脂は、異方性の大きい芳香族環をその
主鎖に含むことから、光学記録基板の性質として極めて
重要である複屈折を低減することが困難であった。
この問題の解決のために分子量の低減化の他、成形条件
の検討という成形時の分子配向を低減しようという試み
がなされている。しかしながら、複屈折が素材そのもの
に起因することから、−様に複屈折の低い基板を安定し
て、製造することがきわめて困難な状況にあり光記録基
板として十分に満足できるポリカーボネート樹脂は未だ
見出されていない。
の検討という成形時の分子配向を低減しようという試み
がなされている。しかしながら、複屈折が素材そのもの
に起因することから、−様に複屈折の低い基板を安定し
て、製造することがきわめて困難な状況にあり光記録基
板として十分に満足できるポリカーボネート樹脂は未だ
見出されていない。
本発明の目的は、耐衝撃性、吸湿性、耐熱性に優れたポ
リカーボネート樹脂の長所を損うことなく光記録基板と
して使用する場合に欠点となっている複屈折の改良され
た優れたポリカーボネート樹脂を提供することにある。
リカーボネート樹脂の長所を損うことなく光記録基板と
して使用する場合に欠点となっている複屈折の改良され
た優れたポリカーボネート樹脂を提供することにある。
本発明は、式(1)
本発明の一般式(1)で示されるポリカーボネート樹脂
を製造する方法としては、二価のビスフェノール類にか
えて一般式(n)及び(m)で示される二価のアルコー
ルを混合使用する以外はポリカーボネート樹脂製造に関
する従来公知の方法によることができる。
を製造する方法としては、二価のビスフェノール類にか
えて一般式(n)及び(m)で示される二価のアルコー
ルを混合使用する以外はポリカーボネート樹脂製造に関
する従来公知の方法によることができる。
CF。
CF、 0
・・・・・・(I)
X+Y=1でX≧0.1、y≧0.1である)で示され
るフッ素含有ポリカーボネート樹脂を構成とすキシレン
を示す) その−例を(a)〜(d)として示す。
るフッ素含有ポリカーボネート樹脂を構成とすキシレン
を示す) その−例を(a)〜(d)として示す。
(a) ピリジン、トリエチルアミンのような有機塩
基中に、上記の一般式(II)及び(II)で示される
二価のアルコールを混合溶解させ、この溶液にホスゲン
などの炭酸誘導体を吹込んで反応させる方法。
基中に、上記の一般式(II)及び(II)で示される
二価のアルコールを混合溶解させ、この溶液にホスゲン
などの炭酸誘導体を吹込んで反応させる方法。
(b)塩化メチレン、クロルベンゼン、トルエンなどの
不活性溶媒とピリジンなどの酸受容体との存在下に上記
の一般式(I[)及び(III)で示される二価のアル
コール混合物とホスゲンたどの炭酸誘導体を反応させる
方法。
不活性溶媒とピリジンなどの酸受容体との存在下に上記
の一般式(I[)及び(III)で示される二価のアル
コール混合物とホスゲンたどの炭酸誘導体を反応させる
方法。
(c) 金属酸化物などのエステル交換触媒の存在下
に、上記の一般式(n)及び(III)で示される二価
のアルコール混合物と炭酸ジアリールエステルとを反応
させる方法。
に、上記の一般式(n)及び(III)で示される二価
のアルコール混合物と炭酸ジアリールエステルとを反応
させる方法。
(d)ジクロロエタン、塩化メチレン、クロロベンゼン
、トルエンなどの不活性溶媒とピリジン攻どの酸受容体
との存在下で上記の一般式(n)及び(II)で示され
る二価のアルコール混合物とトリクロロメチルクロロホ
ルマートとを反応させる方法。
、トルエンなどの不活性溶媒とピリジン攻どの酸受容体
との存在下で上記の一般式(n)及び(II)で示され
る二価のアルコール混合物とトリクロロメチルクロロホ
ルマートとを反応させる方法。
また、いずれの方法にかいても、分子量調整剤として、
二価のアルコール混合物に対して、1〜10モル係の一
価のフェノール、たとえばフェノール、p−ターシャリ
−ブチルフェノール、p−クミルフェノールなどを添加
してもよい。
二価のアルコール混合物に対して、1〜10モル係の一
価のフェノール、たとえばフェノール、p−ターシャリ
−ブチルフェノール、p−クミルフェノールなどを添加
してもよい。
本発明の一般式(1)で示されるポリカーボネート樹脂
は耐衝撃性、吸湿性、熱安定性に優れた樹脂であう、か
つ芳香族ポリカーボネート樹脂と比較して樹脂そのもの
に帰因する複屈折がきわめて小さいため低複屈折性が要
求される光記録基板等の透明樹脂の用途に使用すること
が可能である。
は耐衝撃性、吸湿性、熱安定性に優れた樹脂であう、か
つ芳香族ポリカーボネート樹脂と比較して樹脂そのもの
に帰因する複屈折がきわめて小さいため低複屈折性が要
求される光記録基板等の透明樹脂の用途に使用すること
が可能である。
また、式(1)に示す本発明のポリカーボネート樹脂に
かいて、y≧o、 Rのは液晶相を示し、このものは他
の公知のポリマーと混合した場合、該ポリマーの機械的
強度を、改善する作用がある。
かいて、y≧o、 Rのは液晶相を示し、このものは他
の公知のポリマーと混合した場合、該ポリマーの機械的
強度を、改善する作用がある。
以下、実施例によυ本発明をさらに詳しく説明するが、
本発明はこれら実施例によって例等限定されるものでは
ない。
本発明はこれら実施例によって例等限定されるものでは
ない。
実施例で使用した原料は次のようにして製造した。
トランス、トランス−4,4′−ビシクロヘキサンジオ
ールの製造ニ トランス、シス混合4.4′−ビシクロヘキサンジオー
ルをジオキサン中ピリジン存在下、塩化ベンゾイルと反
応を行い、ジベンゾアートとした。再結晶によシ、トラ
ンス、トランス−4,4′−ビシクロヘキサンジベンゾ
アートを製造した。水酸化カリウム水溶液で加水分解し
た後再結晶を行い、目的のトランス、トランス−4,4
′−ビシクロヘキサンジオール画点215.5〜216
.3℃冷製造した( A、 L、 Wilds et
at、 、 J−Am、 Chem、 Soc、、 7
6、1735(1954) )。
ールの製造ニ トランス、シス混合4.4′−ビシクロヘキサンジオー
ルをジオキサン中ピリジン存在下、塩化ベンゾイルと反
応を行い、ジベンゾアートとした。再結晶によシ、トラ
ンス、トランス−4,4′−ビシクロヘキサンジベンゾ
アートを製造した。水酸化カリウム水溶液で加水分解し
た後再結晶を行い、目的のトランス、トランス−4,4
′−ビシクロヘキサンジオール画点215.5〜216
.3℃冷製造した( A、 L、 Wilds et
at、 、 J−Am、 Chem、 Soc、、 7
6、1735(1954) )。
ガラス転移温度: セイコー電子工業社製DSC−20
0型を用い毎分5℃の昇温速度で測定。
0型を用い毎分5℃の昇温速度で測定。
分解温度: セイコー電子工業社製TG/DTA−22
0型を用い毎分10℃の昇温速度で測定し、重量減少5
%の温度を求めた。
0型を用い毎分10℃の昇温速度で測定し、重量減少5
%の温度を求めた。
融点:偏光顕微鏡にホットステージ(メトラー社製FP
−82)を装着して毎分3℃の昇温速度で測定。
−82)を装着して毎分3℃の昇温速度で測定。
還元粘度: クロロホルムを溶媒として25℃、0.5
g/dtの濃度で測定。
g/dtの濃度で測定。
複屈折:偏光顕微鏡を利用して、546邪にてセナルモ
ンコンペンセーター法にてリターデーションを測定でき
る。
ンコンペンセーター法にてリターデーションを測定でき
る。
実施例1
ポリ(トランス、トランス−4,4′−ビシクロヘキシ
レン−1,1,1,3,3,3−へキサフルオロプロパ
ン−2,2−ビス(4−フェニレン)カルボナート)の
製造 内容1oomの3つロフラスコにトランス、トランス−
4,4′−ビシクロヘキサンジオール0.541 (2
−7mmol )、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル) −1,1,1,3,3,3−へキサフルオロプ
ロパン0.101 (0,3mmol ) 、ピリジン
2−)よび1.2−ジクロロエタン(以下、DCEと称
す)15−を入れて撹拌した。ついでマントルヒーター
で90℃に保ち還流下、トリクロロメチルクロロホル?
−) 0.33 Ji’ (1,7mmol )をDC
E 5 mに溶かした溶液を20分間で滴下し、その−
1190分間反応を行なった。この反応液を放冷して5
0℃にした後、メタノール3001Llに注ぎ、析出し
た沈澱物を濾過した。この濾過物を熱メタノール中で洗
浄、ついで乾燥し、白色粉末状のポリマー0.66I(
収率93.0%)を得た。このポリマーはガラス転移温
度が151℃、分解温度が287℃で融点をもたず、ク
ロロホルムに不溶であった。
レン−1,1,1,3,3,3−へキサフルオロプロパ
ン−2,2−ビス(4−フェニレン)カルボナート)の
製造 内容1oomの3つロフラスコにトランス、トランス−
4,4′−ビシクロヘキサンジオール0.541 (2
−7mmol )、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル) −1,1,1,3,3,3−へキサフルオロプ
ロパン0.101 (0,3mmol ) 、ピリジン
2−)よび1.2−ジクロロエタン(以下、DCEと称
す)15−を入れて撹拌した。ついでマントルヒーター
で90℃に保ち還流下、トリクロロメチルクロロホル?
−) 0.33 Ji’ (1,7mmol )をDC
E 5 mに溶かした溶液を20分間で滴下し、その−
1190分間反応を行なった。この反応液を放冷して5
0℃にした後、メタノール3001Llに注ぎ、析出し
た沈澱物を濾過した。この濾過物を熱メタノール中で洗
浄、ついで乾燥し、白色粉末状のポリマー0.66I(
収率93.0%)を得た。このポリマーはガラス転移温
度が151℃、分解温度が287℃で融点をもたず、ク
ロロホルムに不溶であった。
実施例2〜5
ジオール成分としてトランス、トランス−4,4′−ビ
シクロヘキサンジオールと2.2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル) −1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパンを種々の割合で用い、実施例1と同様々方
法によTD種々のポリカルボナートを製造した。
シクロヘキサンジオールと2.2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル) −1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパンを種々の割合で用い、実施例1と同様々方
法によTD種々のポリカルボナートを製造した。
これらの結果を実施例1の結果と併せて第1表に示した
。
。
以上の説明から明らかなように、本発明のポリカーボネ
ート樹脂は、シクロヘキシレン環の効果で優れた透明性
と低い複屈折訃よび高温度耐熱性を示し、かつあるもの
は液晶相を有して>、6、特に光記録基板等の光学樹脂
材料として有用である。
ート樹脂は、シクロヘキシレン環の効果で優れた透明性
と低い複屈折訃よび高温度耐熱性を示し、かつあるもの
は液晶相を有して>、6、特に光記録基板等の光学樹脂
材料として有用である。
以上
Claims (1)
- (1)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・( I
) (式中、▲数式、化学式、表等があります▼はトランス
シクロヘキシレン、x+y=1でx≧0.1、y≧0.
1である)で示されるフッ素含有ポリカーボネート樹脂
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2059156A JPH03259920A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | フツ素含有ポリカーボネート樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2059156A JPH03259920A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | フツ素含有ポリカーボネート樹脂 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03259920A true JPH03259920A (ja) | 1991-11-20 |
Family
ID=13105219
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2059156A Pending JPH03259920A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | フツ素含有ポリカーボネート樹脂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03259920A (ja) |
-
1990
- 1990-03-09 JP JP2059156A patent/JPH03259920A/ja active Pending
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