JPH03229214A - 光変調素子 - Google Patents

光変調素子

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JPH03229214A
JPH03229214A JP2220890A JP2220890A JPH03229214A JP H03229214 A JPH03229214 A JP H03229214A JP 2220890 A JP2220890 A JP 2220890A JP 2220890 A JP2220890 A JP 2220890A JP H03229214 A JPH03229214 A JP H03229214A
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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    • G02F1/0356Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect in an optical waveguide structure controlled by a high-frequency electromagnetic wave component in an electric waveguide structure

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は動作速度が極めて速い光変調素子に関するもの
である。
[従来の技術] 従来の光変調素子の1例として、第8図(A)および(
B)に進行波電極を使用したマツハツエンダ形光強度変
調器を示す。
第8図(A)および(B)において、例えばZカットし
1Nb03等の電気光学効果を有する基板1の一方の主
面に、例えばTi拡散法等により光導波路2を形成し、
この主面上に、バッファ層3を介在させて中心電極4お
よびアース電極5を有するコプレーナウェーブガイド電
極を形成することにより、光変調器が形成される。6は
電極4と5との間に接続した終端抵抗である。10およ
び11は電極4と5との間に形成されたギャップである
。この光変調器を駆動するにあたっては、マイクロ波信
号給電線7を通じて電気信号を電極4と5との間に印加
する。それにより、入力光が変調されて出力光信号を得
ることができる。
このような構成の光変調器の変調帯域(Δf)は、主に
光波とマイクロの伝搬速度により、決定される。その変
調帯域は、井筒等により、電子通信学会論文誌vo1.
J、 64−C,pp、 264−271.1981に
述べられているように、次式で与えられる。
Δf = 1.90/(7Clna+−nolL)C:
光速 n、:マイクロ波実効屈折率 no:光の実効屈折率 L:相互作用長 なお、ここで変調帯域Δfは光電力における3dB帯域
である。上記文献では、電気レベルにおける3dB帯域
で表していたため、参考文献における係数1.4を1.
9に変更している。
上記従来例のような構造では、一般にnmと00が大き
く異なっており、マイクロ波と光との速度差により帯域
制限を受ける。LiNbO5光変調器について、スペク
トル領域法(河野他: IEEE PhotonicT
echnol、 Lett、 、 vol、 1 、 
pp、 33−34.1989)を用いて計算を行なう
と、たとえマイクロ波伝搬損失αを無視しても3dB帯
域は9GHz程度である。
光変調素子の広帯域化を実現するためには、noとn。
を一致させるとともにマイクロ波伝搬損失αを低減する
ことが不可欠になってくる。
第9図(A)および(B)は、本発明者等が先の出願の
特願平1−39162号において開示した速度整合形の
光変調器の1実施例である。なお、第9図(A)の平面
図ではシールド導体9を省略している。この実施例では
、マツハツエンダ光導波路2を備えたZカットLiNb
O5基板1の一方の主面上に、厚いバッファ層3を介し
て進行波電極としての中心電極4およびアース電極5を
配置し、さらに光導波路2と進行波電極4,5とが相互
作用する領域の近傍にオーバレイ8を介してシールド導
体9を配置する。
この光変調器において、中心電極4の幅2Wを8μm、
中心電極4とアース電極5とのギャップ2Gを15μm
、SiO□バッファ層3の厚みを1.2μIとすると、
空気であるオーバレイ8の厚みをloLLm以下の適切
な値に設定すれば、数10から数]、00GHzの広帯
域光変調器を実現できることを、先のスペクトル領域法
を用いて明らかにした。
しかし、この先願の実施例では、マイクロ波伝搬損失を
低減するとともに、マイクロ波と光の速度不整合を軽減
するために、厚いバッファ層3を用いる必要があった。
従って、マイクロ波と光波との相互作用が疎となり、動
作波長1.5μm帯において駆動電圧を5v以下とする
ためには、マイクロ波と光との相互作用長りを2.7c
m程度と長(する必要があった。従って、マイクロ波伝
搬損失のため光変調帯域は高々20GHzに制限されて
いた。
第10図には佐原等により、電子通信学会論文誌vo1
. J、 69−C,pp、 1291−1296.1
986に提案された速度整合形光変調器を示す。ここで
は、基板1の一方の主面を、光導波路2の部分を除いて
掘り込み、その掘り込んで形成された溝部にバッファ層
3および中心電極4とアース電極5を配置する。
この構成は、掘り込み部分がある点で一見本発明に似て
いるが、電界強度が強い電極4,5のエツジが誘電率の
高い基板1 (基板の誘電率の値は異方性を考慮すると
、近似的に35となる)に接している点、あるいはシー
ルド導体を用いていない点で大きく異なっている。これ
らのため、マイクロ波実効屈折が充分に下がらず、その
結果、完全な速度整合は困難であるという欠点を有して
いた。
第11図には、井筒等により文献Picosecond
Electronics and 0ptelectr
onics(G、A、Mourouet al、 ed
、)pp、172−175. Springer−Ve
rlag、1985に提案された構造を示す。ここでは
、基板1のうち、電極4と5との間に対応する部分を掘
り込んでからバッファ層3を形成しているが、かかる掘
り込み部分があるという点で、この構造も本発明と一見
似ているものの、電極4,5の直近を掘り込んでおらず
、またシールド導体を用いておらず、マイクロ波実効屈
折率の大幅な低減効果は得られず、その結果、完全な速
度整合は困難であるという欠点を有していた。
〔発明が解決しようとする課題] そこで、本発明の目的は、以上に述べた従来例および先
願例の欠点を解決し、マイクロ波伝搬損失の増加に起因
する帯域制限や、電極が誘電率の高い基板に接触してい
るために充分にはマイクロ波実効屈折率が下がらないこ
とに起因する帯域制限を解決して、速度整合形広帯域光
変調素子を提供することにある。
[課題を解決するための手段] このような目的を達成するために、本発明は、少なくと
も1本の先導波路を有する基板と、該基板の一方の主面
上に配置されたバッファ層と、該バッファ層の上に配置
された中心電極およびアース電極からなるマイクロ波電
極とを備えて構成された光変調素子において、マイクロ
波の伝搬損失を低減するとともに前記マイクロ波電極を
伝搬するマイクロ波の実効屈折率が前記光導波路を伝搬
する光の実効屈折率に近くなり、かつ前記マイクロ波電
極の特性インピーダンスが外部回路の特性インピーダン
スに近くなるように、前記基板のうち前記マイクロ波電
極の近傍の部分の厚さを少くして前記少なくとも1本の
光導波路を前記基板に形成された突起部分に配置するよ
うになして、前記マイクロ波電極の近傍における前記バ
ッファ層の厚さを厚(なし、および光とマイクロ波が相
互作用する領域において、前記マイクロ波電極が前記基
板に接触しないように前記マイクロ波電極と前記基板と
を配置したことを特徴とする。
ここで、前記マイクロ波電極と前記光導波路とが相互作
用する領域の近傍に、オーバレイを介して、シールド導
体を配置したことを特徴とすることができる。
あるいはまた、前記少なくとも1本の先導波路のうちの
少なくとも1本の光導波路を前記バッファ層を介して前
記中心電極の直下に配置するとともに、前記中心電極の
幅を当該中心電極の直下に配置された少なくとも1本の
光導波路に対応する前記突起部分の幅にほぼ等しいかあ
るいはごく僅かに広(定めることができる。
あるいはまた、前記少なくとも1本の光導波路を前記中
心電極と前記アース電極とのほぼ中間の付近に配置する
ことができる。
[作 用] 本発明によれば、基板のうち、マイクロ波電極の少なく
とも真近の部分を、掘り込むなどしてその基板厚を小さ
くして光導波路を含む基板部分を突起状となしたことに
よって、電極の直下に誘電率が低く、かつ厚さの厚いバ
ッファ層が配置されることとなる。従って、中心電極と
アース電極とを結ぶ電気力線は誘電率の低い厚いバツツ
ファ層(例えばSiOxの誘電率は約4)を感じるので
、均一にバッファ層が厚い場合と同様にマイクロ波実効
屈折率を低減できる。一方、空気とバッファ層との界面
から光導波路までの深さは、バッファ層が均一に厚い場
合と比較して浅くできる。従って、マイクロ波と光との
相互作用の効率は大きくなり、駆動電圧を低減できる。
その結果、相互作用長りを短くすることができるので、
最終的に広帯域化できることになる。
[実施例] 第1図(A)および(B)は本発明をXカットLiNb
0m基板に適用した一実施例を示す。ここで、第8図と
同様の個所には同一符合を付す。
この第1の実施例では、基板1のうち、マイクロ波電極
、すなわち中心電極4とアース電極5の近傍の部分、こ
こではこれら電極4,5の直下の部分をエツチングなど
で掘り込んでその直下部分の厚さを薄くなし、ギャップ
lOおよび11に対応する基板部分を突起状になし、そ
の突起部分2Aに先導波路2を配置する。すなわち、光
導波路2は中心電極4とアース電極5とのほぼ中間付近
に配置される。このようにして突起部分2Aの形成され
た基板1の表面上に、表面が平坦になるようにバッファ
層3を配置する。これにより、バッファ層3のうち、電
極4,5の直下における部分の厚さは厚くなる。
すなわち、この実施例では、電極4および5の直下に誘
電率の低い厚いバッファ層3が配置されるとともに、電
極4.5において強い電気力線を発するエツジが基板1
に接触していないため、誘電率の低減効果が著しい。
本実施例の光変調素子を製作するには、基板1上に通常
の手法でTi熱拡散により光導波路2を製作した後、基
板1の表面のうち、光導波路2のご(近傍を残して、残
りの部分の一部もしくは全部をエツチングして除去すれ
ばよい。
第2図にはその掘り込みの深さとマイクロ波実効屈折率
および特性インピーダンスとの関係を示す。第2図から
、掘り込みの深さが深くなればマイクロ波実効屈折率が
低減されていくことがわかる。
第3図には掘り込みの深さとマイクロ波伝搬損失αとの
関係を示す。第3図から、掘り込みの深さが深(なれば
マイクロ波伝搬損失が低減されていくことがわかる。
第4図には光導波路2の直上のバッファ層3の厚みと■
π・L(Vπ:半波長電圧、L:相互作用長)との関係
を示す。本発明では先導波路2の部分のバッファ層3の
厚みが薄いので、駆動電圧を低(抑えることができる。
つまり、本実施例では、マイクロ波電極に対応して部分
的に厚膜のバッファ層を用いることによるマイクロ波の
実効屈折率および伝搬損失の低減効果と、光導波路に対
応しては薄いバッファ層を用いることにより駆動電圧の
上昇を抑える効果の双方を発揮させることができる。
第5図(A)および(B)は、本発明の第2の実施例で
あり、第1の実施例の構成に加えて、電極5の上に、電
極4をまたいでシールド導体9を設ける。これにより、
掘り込みが比較的浅くても、マイクロ波と光の実効屈折
率の完全整合を達成できる。本実施例では、駆動電圧が
第1の実施例と同程度に低いため、所望の駆動電圧を得
るための相互作用長しが短くてすむ。従って、その分だ
け光変調の広帯域化を図ることができることになる。
第6図(A)および(B)は本発明の第3実施例であり
、基板1としてZカットLiNb0.基板を用いる。こ
こでは、2つの光導波路2のうちの一方をバッファ層3
を介して中心電極4の真下に配置し、他方の光導波路2
をアース電極5の真下に配置する。したがって、バッフ
ァ層3の厚さは、アース電極5の真下およびギャップl
Oと11の真下において厚(、アース電極5のうち光導
波路2に対応する部分の真下および中心電極4の真下に
おいて薄い。
この実施例における広帯域化の原理について中心電極4
を例にとって述べる。中心電極4の近傍、つまりバッフ
ァ層3が存在するような浅い領域では、深さ方向の電界
強度Eyは中心電極4の幅2Wの中で一定となっておら
ず、電極4のエツジ付近で急峻に強くなる。従って、深
さ方向の電界Eyの強い領域に厚いバッファ層3があれ
ば、マイクロ波実効屈折率を低減する効果があることに
なる。実際には、電極4のエツジ付近の急峻な電界がバ
ッファ層3を感じるように、中心電極4の幅2WをLz
NbOs基板lのう基板溝波路2とともに残された部分
の幅にほぼ等しいか、あるいはごくわずか広くしておけ
ば、マイクロ波実効屈折率の低減効果がある。
第7図(A)および(B)は本発明の第4の実施例であ
り、ここでは第3の実施例の構成に加えて、電極5の上
に、電極4をまたいでシールド導体9を配置する。これ
により、基板1の掘り込みが比較的浅くても、マイクロ
波と光の実効屈折率の完全整合を達成できる0本実施例
では、駆動電圧が第3の実施例と同程度に低いため、所
望の駆動電圧を得るための相互作用長しが短くてすむ。
従って、その分だけ光変調の広帯域化を図ることができ
ることになる。
以上では、先導波路2としてマツハツエンダ形先導波路
の場合を例にとって説明したが、本発明はかかる実施例
に限られるものではなく、第1および第2の実施例にお
いて、中心電極4の直下の先導波路2のみを用いた場合
、あるいは第3および第4の実施例において、いずれか
1本の先導波路2のみを用いた場合には位相変調器を実
現できる。
これまでの説明では、電極4,5としてコプレーナウェ
ーでガイドの場合について説明したが、非対称コプレー
ナストリップなど、その他の形態の電極でもよい。また
、基板2として、yカットLJbOsを用いることもで
きるし、LiNbO5以外の電気光学効果を有するその
他の基板であってもよい。さらに、シールド導体9は、
電気壁として作用すればよいので、アース電極5に接地
させなくてもスペーサを介して保持してもよいことはも
ちろんである。
[発明の効果〕 以上に述べたように、本発明では、基板のうち、マイク
ロ波電極の少なくとも真近の部分を、掘り込むなどして
その基板厚を小さ(して光導波路を含む基板部分を突起
状となしたことによって、電極の直下に誘電率が低(、
かつ厚さの厚いバッファ層が配置されることとなる。従
って、中心電極とアース電極とを結ぶ電気力線は誘電率
の低い厚いバッッファ層(例えばSLO□の誘電率は約
4)を感じるので、均一にバッファ層が厚い場合と同様
にマイクロ波実効屈折率を低減できる。−方、空気とバ
ッファ層との界面から光導波路までの深さは、バッファ
層が均一に厚い場合と比較して浅くできる。従って、本
発明によれば、マイクロ波と光との速度整合を確保しつ
つ、駆動電圧を低減できる。従って、相互作用長を短く
できるので、広帯域光変調が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)および(B)は本発明の第1の実施例を示
す、それぞれ、平面図およびAA’線断面図、 第2図はその掘り込みの深さとマイクロ波実効屈折率お
よび特性インピーダンスとの関係を表す図、 第3図は同じく掘り込みの深さとマイクロ波伝−損失α
との関係を表す図、 第4図は光導波路の真上のバッファ層の厚みとVπ佳と
の関係を示す図、 第5図(A)および(B)は本発明の第2実施例を示す
、それぞれ、平面図およびAA’線断面図、第6図(A
)および(B)は本発明の第3実施例を示す、それぞれ
、平面図およびAA’線断面図、第7図は(A)および
(B)は本発明の第4実施例を示す、それぞれ、平面図
およびAA’線断面図、 第8図(A)および(B)は従来例を示す、それぞれ、
平面図およびAA’線断面図、 第9図(A) Sよび(B)は先願例な示す、それぞれ
、平面図およびAA’線断面図、 第1O図および第11図は従来例のさらに他の2例を示
す断面図である。 1・・・基板、 2・・・光導波路、 2A・・・突起部分、 3・・・バッファ層、 4・・・中心電極、 5・・・アース電極、 6・・・終端抵抗、 7・・・変調用マイクロ波信号給電線、8・・・オーバ
レイ、 9・・・シールド導体、 10、11・・・ギャップ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)少なくとも1本の光導波路を有する基板と、 該基板の一方の主面上に配置されたバッファ層と、 該バッファ層の上に配置された中心電極およびアース電
    極からなるマイクロ波電極とを備えて構成された光変調
    素子において、マイクロ波の伝搬損失を低減するととも
    に前記マイクロ波電極を伝搬するマイクロ波の実効屈折
    率が前記光導波路を伝搬する光の実効屈折率に近くなり
    、かつ前記マイクロ波電極の特性インピーダンスが外部
    回路の特性インピーダンスに近くなるように、前記基板
    のうち前記マイクロ波電極の近傍の部分の厚さを少くし
    て前記少なくとも1本の光導波路を前記基板に形成され
    た突起部分に配置するようになして、前記マイクロ波電
    極の近傍における前記バッファ層の厚さを厚くなし、お
    よび光とマイクロ波が相互作用する領域において、前記
    マイクロ波電極が前記基板に接触しないように前記マイ
    クロ波電極と前記基板とを配置したことを特徴とする光
    変調素子。 2)請求項1記載の光変調素子において、前記マイクロ
    波電極と前記光導波路とが相互作用する領域の近傍に、
    オーバレイを介して、シールド導体を配置したことを特
    徴とする光変調素子。 3)請求項1または2記載の光変調素子において、前記
    少なくとも1本の光導波路のうちの少なくとも1本の光
    導波路を前記バッファ層を介して前記中心電極の直下に
    配置するとともに、前記中心電極の幅を当該中心電極の
    直下に配置された少なくとも1本の光導波路に対応する
    前記突起部分の幅にほぼ等しいかあるいはごく僅かに広
    く定めたことを特徴とする光変調素子。 4)請求項1または2記載の光変調素子において、前記
    少なくとも1本の光導波路を前記中心電極と前記アース
    電極とのほぼ中間の付近に配置したことを特徴とする光
    変調素子。
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