JPH03185900A - Semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents
Semiconductor device and manufacture thereofInfo
- Publication number
- JPH03185900A JPH03185900A JP1323745A JP32374589A JPH03185900A JP H03185900 A JPH03185900 A JP H03185900A JP 1323745 A JP1323745 A JP 1323745A JP 32374589 A JP32374589 A JP 32374589A JP H03185900 A JPH03185900 A JP H03185900A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ingot
- chips
- polyhedron
- cooling
- wiring metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 12
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 abstract description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 abstract 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012536 packaging technology Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は集積回路(IC)の高密度実装技術、特に、冷
却効率を損なうことなくシリコンICの高密度実装を行
うために用いて効果のある技術に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to high-density packaging technology for integrated circuits (ICs), and particularly to high-density packaging technology for silicon ICs without sacrificing cooling efficiency. It is about a certain technology.
従来、集積回路の実装は、−級に半導体チップをDIP
(デュアル・イン・ライン・パッケージ)あるいはL
CC(リードレス・チップキャリア)などのパフケージ
に封止し、このパッケージを樹脂系のプリント配線基板
上にはんだ付けすることにより行っている。Traditionally, integrated circuit packaging is done by DIPing semiconductor chips to
(dual in line package) or L
This is done by sealing it in a puff cage such as a leadless chip carrier (CC), and soldering this package onto a resin-based printed wiring board.
ところで、本発明者は、半導体装置の高密度実装の向上
について検討した。By the way, the present inventor has studied improvements in high-density packaging of semiconductor devices.
以下は、本発明者によって検討された技術であり、その
概要は次の通りである。The following are the techniques studied by the present inventor, and the outline thereof is as follows.
例えば、大型コンピュータなどのように、高密度に実装
された半導体装置にあっては、端子(あるいは電極)数
が多くなり、基板側との接続が従来の方法では難しい。For example, semiconductor devices that are densely packaged, such as large computers, have a large number of terminals (or electrodes), making it difficult to connect them to the substrate using conventional methods.
そこで、例えば、CCB (Controlled C
o11apse Bonding)法を用いて実装を行
っている。この方法は、半導体素子の表面に内部の入出
カバターンに接続させて銅ボールあるいはパッドを形成
し、!れを基板の導体に対しはんだ合金によってはんだ
付けするものである。Therefore, for example, CCB (Controlled C
It is implemented using the o11apse Bonding method. In this method, a copper ball or pad is formed on the surface of a semiconductor device by connecting it to an internal input/output cover pattern. This is soldered to the conductor of the board using a solder alloy.
このようなCCBに関する実装技術は、例えば、応用技
術出版(株式会社日立製作所半導体事業部鳩〉、「表面
実装形LSIパッケージの実装とその信頼性向上」に記
載がある。The mounting technology related to such a CCB is described in, for example, "Mounting of Surface Mount LSI Package and Improving Its Reliability" published by Applied Technology Publishing (Hitachi, Ltd., Semiconductor Division Hato).
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、前記の如<CCBを用いた実装手段は、DI
PやLCCに比べて高密度実装が図れるものの、平面上
に実装する点では変わらず、実装密度の向上に限界があ
る。この不具合を解消するものとして、LCC,ZIP
(ジグザグ・インラインパッケージ〉などを所定数装着
したサブ基板の複数をメイン基板に直立実装させて立体
的に実装する方法が提案されている(例えば、日経エレ
クトロニクス、198’7,9.7 (k429)に
記載がある)。しかし、この場合も平板状のものを立体
的に組み合わせることを基本としており、高実装化に限
界があると共に通風が阻害され、冷却方法が限られる(
風冷のみ)という問題のあることが本発明者によって見
出された。[Problems to be Solved by the Invention] However, the mounting means using CCB as described above is
Although it is possible to achieve higher density mounting than P or LCC, it is still mounted on a flat surface, and there is a limit to the improvement in mounting density. To solve this problem, LCC, ZIP
A method has been proposed in which a predetermined number of sub-boards (such as zigzag in-line packages) are mounted upright on the main board to three-dimensionally mount them (for example, Nikkei Electronics, 198'7, 9.7 (k429 ).However, in this case as well, flat plates are basically assembled three-dimensionally, which limits high mounting efficiency, obstructs ventilation, and limits cooling methods (
The inventors have discovered that there is a problem in that there is a problem (wind cooling only).
そこで、本発明の目的は、半導体装置の高密度実装及び
高効率冷却を同時に達成することのできる技術を提供す
ることにある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a technology that can simultaneously achieve high-density packaging and high-efficiency cooling of semiconductor devices.
本発明の他の目的は、高密度実装及び高効率冷却を同時
に連成することのできる半導体装置の製造技術を提供す
ることにある。Another object of the present invention is to provide a semiconductor device manufacturing technique that can simultaneously combine high-density packaging and high-efficiency cooling.
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、以下の通りである。A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、多面体、円柱体または球体を成したインゴッ
トの外表面に所定のパターンによる配線金属を形成し、
さらに該配線金属に接続される半導体チップを前記イン
ゴットの外表面に実装するようにしている。That is, wiring metal is formed in a predetermined pattern on the outer surface of an ingot in the form of a polyhedron, cylinder, or sphere.
Further, a semiconductor chip connected to the metal wiring is mounted on the outer surface of the ingot.
上記した手段によれば、基板として機能し、更には冷却
用部材として機能するインゴットに配線金属を形成なら
びにICチップを実装し、立体構造にして単位面積当た
りの実装密度を上げている。According to the above-mentioned means, wiring metal is formed on an ingot which functions as a substrate and further functions as a cooling member, and an IC chip is mounted thereon to form a three-dimensional structure to increase the packaging density per unit area.
したがって、パッケージを不要にし、実装密度の向上な
らびに小型軽量化、さらには高速化を図ることが可能に
なる。Therefore, it becomes possible to eliminate the need for a package, improve packaging density, reduce size and weight, and further increase speed.
〔実施例1〕 第1図は本発明の一実施例を示す斜視図である。[Example 1] FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention.
また、第21!Iは本発明に係るインゴットの外観を示
す斜視図、第3図はICチップの1つに接続するための
配線パターンを示す平面図である。Also, the 21st! I is a perspective view showing the appearance of an ingot according to the present invention, and FIG. 3 is a plan view showing a wiring pattern for connection to one of the IC chips.
第1図に示すように、中空で多面体のシリコンインゴッ
ト1の外表面の全周に所定の配置間隔によりICチップ
2が貼着されている。インゴット1は、例えば第2図に
示すように、面取り加工によって6角柱に外形が整えら
れ、その外径及び長さは実装密度に応じた寸法にされる
が、中空部3の径は後記する冷却の効果をよくするため
に比較的大きくとられている。As shown in FIG. 1, IC chips 2 are attached at predetermined intervals around the entire outer surface of a hollow polyhedral silicon ingot 1. As shown in FIG. For example, as shown in Fig. 2, the ingot 1 is shaped into a hexagonal prism by chamfering, and its outer diameter and length are determined according to the packaging density, but the diameter of the hollow part 3 will be described later. It is made relatively large to improve the cooling effect.
ICチップ2は、後記するように周辺部にパッドを有し
、このパッドとインゴットlの表面に形成された第3図
の様なパターンによる配線金属4とがボンディングワイ
ヤによって電気的に接続さレル。配線金属4の各先端に
は、ボンディングワイヤを接続するためのパッド4aが
形成されている。また、配線金属4はAI(アルミニウ
ム)、Au (金)などが用いられ、回路構成に応じて
隣接するインゴツト面などの他の面にまで布線されるこ
とも、更には一周するように布線されることもある。As will be described later, the IC chip 2 has a pad on its periphery, and this pad is electrically connected to a wiring metal 4 formed on the surface of the ingot 1 in a pattern as shown in FIG. 3 by a bonding wire. . A pad 4a for connecting a bonding wire is formed at each tip of the wiring metal 4. Further, the wiring metal 4 is made of AI (aluminum), Au (gold), etc., and depending on the circuit configuration, it may be wired to other surfaces such as the adjacent ingot surface, or it may be wired all the way around. Sometimes there is a line.
ICチップ2の各々は、通常の半導体素子の動作と同様
にインゴット1上に直接に形威される。Each of the IC chips 2 is directly formed on the ingot 1 in the same way as a normal semiconductor device operates.
ICチップ2の数が多く、かつインゴット1の全周にI
Cチップ2が形成された場合、その動作時の発熱はかな
りのものとなる。そこで、インゴット1の中空内には、
冷却媒体(空気などの気体あるいは水などの液体)が通
流され、これによって冷却が行われるようにしている。The number of IC chips 2 is large, and the I
When the C chip 2 is formed, considerable heat is generated during its operation. Therefore, inside the hollow of ingot 1,
A cooling medium (a gas such as air or a liquid such as water) is passed through, thereby performing cooling.
次に、上記構成による実施例の製造工程について、第2
図〜第7肉を参照して説明する。Next, regarding the manufacturing process of the example with the above configuration, the second
This will be explained with reference to Fig. 7.
まず、第2図に示すように、シリコンによるインゴット
1が多面体となるように面取り加工(本実施例では6面
体)を行うと共に、軸心を中心にして内部を貫通するよ
うにくり抜いて中空にする。First, as shown in Fig. 2, a silicon ingot 1 is chamfered so that it becomes a polyhedron (in this example, a hexahedron), and the inside is hollowed out to form a hollow part centered on the axis. do.
また、面取りしたインゴット表面5は、普通のシリコン
ウェハと同様に、鏡面仕上げを行う。Further, the chamfered ingot surface 5 is mirror-finished in the same way as a normal silicon wafer.
次に、第3図に示すような配線金属4を、第4図のよう
に形成する。すなわち、まずインゴット表面5に、IC
チップ2が装着される部分を除いてPSG (リンガラ
ス〉による層間膜6を形成し、この層間膜6上に配線金
属4を形成する。ついで、配線金属4上にPSGによる
保護膜7を形成する。Next, the wiring metal 4 as shown in FIG. 3 is formed as shown in FIG. That is, first, an IC is placed on the ingot surface 5.
An interlayer film 6 made of PSG (phosphorus glass) is formed except for the part where the chip 2 is attached, and a wiring metal 4 is formed on this interlayer film 6. Then, a protective film 7 made of PSG is formed on the wiring metal 4. do.
この配線金属4を形成するプロセスとしては、絶縁膜デ
ポジション、ホトリソグラフィ、エツチング、配線金属
デポジションなどを用いて行うことができる。なお、層
間膜6及び保護膜7は、PSGのほか5insや5iN
(窒化膜〉を用いることもできる。The process for forming the wiring metal 4 can be performed using insulating film deposition, photolithography, etching, wiring metal deposition, or the like. Note that the interlayer film 6 and the protective film 7 are made of 5ins or 5iN in addition to PSG.
(Nitride film) can also be used.
次に、第5図に示すように、インゴット1のインゴット
表面5の各々に対し、9J4図で配線金属4が形成され
なかった領域にICチップ2が、Agペースト、Au−
3n共晶などを用いて貼着される。この後、第6図に示
すように、ポンディングワイヤ8によってICチップ2
のパッド9と配線金*4のパッド4aとを電気的に接続
することにより、第1図で示した半導体装置が完成する
。Next, as shown in FIG. 5, an IC chip 2 is placed on each of the ingot surfaces 5 of the ingot 1 using Ag paste, Au-
It is attached using 3n eutectic or the like. After this, as shown in FIG. 6, the IC chip 2 is
The semiconductor device shown in FIG. 1 is completed by electrically connecting the pad 9 and the pad 4a of the wiring gold *4.
この状態を側面から見たのが第7図(断面図)である。FIG. 7 (cross-sectional view) shows this state viewed from the side.
なお、実際の機器への設置においては、中空部3に冷却
媒体を通流させるための配管などが接続され、また、配
管には冷却媒体を強制循環させるためのポンプが接続さ
れる。In addition, in the case of installation in an actual device, piping and the like for causing a cooling medium to flow through the hollow portion 3 are connected, and a pump for forcibly circulating the cooling medium is connected to the piping.
上記の実施例によれば、パッケージを用いることなく、
ICチップを直接実装しているため、パッケージのため
に取られていたスペースが節約でき、この分を実装スペ
ースに活用できると共に小型軽量化を図ることができる
。また、インゴットlの多面体の各面を1枚の基板と見
なすと、これらが円形に密着固定されたことになり、か
つ隣接間を配線金属4で接続できるため、配線を最短に
することができる。この結果、配線長に起因する信号遅
延をなくすことができ、高速処理が可能になる。According to the above embodiment, without using a package,
Since the IC chip is directly mounted, the space taken up by the package can be saved, and this space can be used for mounting, making it possible to reduce the size and weight. Furthermore, if each face of the polyhedron of ingot L is regarded as one board, they are tightly fixed in a circular shape, and adjacent parts can be connected with wiring metal 4, so the wiring can be made as short as possible. . As a result, signal delays caused by wiring length can be eliminated, and high-speed processing becomes possible.
また、多面体の1面ごとにコンピュータの1または複数
の機能ブロックを構成する回路を割当て(例えば、第1
面にCPU部、第2面にメモリ部、第3面に周辺回路な
ど)、1つのインゴットが全体として少なくとも1つの
コンピユータを形成することにより、上記したように信
号遅延のない高性能のコンピュータを得ることができる
。特に、スーパーコンピュータの構築に適している。In addition, a circuit constituting one or more functional blocks of the computer is assigned to each face of the polyhedron (for example, the first
(CPU part on one side, memory part on the second side, peripheral circuits on the third side, etc.), one ingot forms at least one computer as a whole, so as mentioned above, a high-performance computer without signal delay can be realized. Obtainable. It is particularly suitable for building supercomputers.
C実施例2〕 第8図は本発明の他の実施例を示す斜視図である。C Example 2] FIG. 8 is a perspective view showing another embodiment of the present invention.
本実施例は、前記実施例がインゴット1に中空の角柱筒
を用いていたのに対し、円柱形としく材料はインゴット
lと同一〉、そのインゴット10の両端の平坦面にIC
チップ2を装着し、軸心に対し直交する貫通孔11 (
1または複数)を胴部に形威し、この貫通孔11を冷却
通路として用いるようにしたことを特徴とする。In this example, whereas the previous example used a hollow prismatic cylinder for the ingot 1, the ingot 10 is cylindrical and made of the same material as the ingot 1, and ICs are placed on the flat surfaces of both ends of the ingot 10.
The chip 2 is installed in the through hole 11 perpendicular to the axis (
One or more of the through holes 11 are formed in the body, and the through holes 11 are used as cooling passages.
この実施例は、前記実施例に比べ実装面積が少ないので
実装密度は低下するが、面取り加工が不要であるため、
製作は容易になる。なお、製造方法は第2図〜第6図に
準じて行われる。This example has a smaller mounting area than the previous example, so the packaging density is lower, but since chamfering is not required,
Manufacturing becomes easier. Note that the manufacturing method is performed according to FIGS. 2 to 6.
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることは言うまでもない。Above, the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples, but it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. stomach.
例えば、上記実施例においては、インゴット1を6面に
する例を示したが、これに限らず任意にすることができ
る。また、インゴット1の各面の全域を平坦にして必要
数のICチップ2を貼着するものとしたが、全面を平坦
にせず、ICチップ2の貼着面のみを平坦にするように
してもよい。For example, in the above embodiment, an example is shown in which the ingot 1 has six sides, but the ingot 1 is not limited to this and can be formed arbitrarily. Furthermore, although the entire area of each surface of the ingot 1 is made flat and the necessary number of IC chips 2 are attached, it is also possible to flatten only the surface to which the IC chips 2 are attached without making the entire surface flat. good.
さらに、インゴット1は、角柱形のほか球体、四角形な
どの多面体にすることができる。Further, the ingot 1 can be made into a polyhedron such as a sphere or a quadrilateral in addition to a prismatic shape.
また、中空部3に冷却媒体を、強制的に通流させるもの
としたが、自、黙過風であってもよい。Further, although the cooling medium is forced to flow through the hollow portion 3, silent air may be used instead.
さらに、インゴットにシリコン(Si)を用いたが、こ
れに限定されるものではない。また、円柱状のインゴッ
トから面取りをして角柱にする例を示したが、面数に応
じた数の板(6面体であれば6枚〉を張り合わせて中空
円筒形にしてもよい。Furthermore, although silicon (Si) is used for the ingot, it is not limited to this. Further, although an example has been shown in which a cylindrical ingot is chamfered to form a square column, a hollow cylinder may be formed by pasting together a number of plates corresponding to the number of faces (six in the case of a hexahedron).
この場合、板の材料としては、熱膨張係数が各々等しく
、かつ熱抵抗の低いもの、例えば、SiC。In this case, the material for the plates is one that has the same coefficient of thermal expansion and low thermal resistance, such as SiC.
AINなどを用いるのが望ましい。It is desirable to use AIN or the like.
本願において開示される発明のうち、代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りであ
る。Among the inventions disclosed in this application, the effects obtained by typical ones are as follows.
すなわち、多面体、円柱体または球体を威したインゴッ
トの外表面に所定のパターンによる配線金属を形威し、
さらに核配線金属に接続される半導体チップを前記イン
ゴットの外表面に実装するようにしたので、パッケージ
を不要にし、実装密度の向上ならびに小型軽量化、さら
には高速化を図ることが可能になる。In other words, wiring metal is formed in a predetermined pattern on the outer surface of an ingot in the form of a polyhedron, cylinder, or sphere.
Furthermore, since the semiconductor chip connected to the nuclear wiring metal is mounted on the outer surface of the ingot, a package is not required, and it is possible to improve the packaging density, reduce the size and weight, and further increase the speed.
第1図は本発明の一実施例を示す斜視図、第2図は本発
明に係るインゴットの外観を示す斜視図、
第3図はICチップの1つに接続するための配線パター
ンを示す平面図、
第4図は層間膜、配線金属、保護膜の各々の形成機の状
態を示す断面図、
第5図はインゴットにICチップを実装した状態を示す
斜視図、
第6図はICチップのパッドと配線金属のパッドとをポ
ンディングワイヤで接続した状態を示す平面図、
第7図は第6図の■−■矢視断面図、
第8図は本発明の他の実施例を示す斜視図である。
1.10・・・インゴット、2・・・ICチップ、3・
・・中空部、4・・・配線金属、4a。
9・・・パッド、5・・・インゴット表面、6・・・層
間膜、7・・・保護膜、8・・・ボンディングワイヤ、
11・・・貫通孔。
第
図
第2図
2:ICチップ
5:インコット表印
第3図
1/14図
第5図
第6図FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing the external appearance of an ingot according to the present invention, and FIG. 3 is a plan view showing a wiring pattern for connection to one of the IC chips. Figure 4 is a cross-sectional view showing the state of the interlayer film, wiring metal, and protective film forming machines, Figure 5 is a perspective view showing the state in which the IC chip is mounted on the ingot, and Figure 6 is the A plan view showing a state in which a pad and a wiring metal pad are connected with a bonding wire, FIG. 7 is a sectional view taken along the ■-■ arrow in FIG. 6, and FIG. 8 is a perspective view showing another embodiment of the present invention. It is a diagram. 1.10... Ingot, 2... IC chip, 3.
...Hollow part, 4...Wiring metal, 4a. 9... Pad, 5... Ingot surface, 6... Interlayer film, 7... Protective film, 8... Bonding wire,
11...Through hole. Figure 2 Figure 2: IC chip 5: Incot front seal Figure 3 Figure 1/14 Figure 5 Figure 6
Claims (5)
表面に所定のパターンによる配線金属を形成し、さらに
該配線金属に接続される半導体チップを前記インゴット
の外表面に実装することを特徴とする半導体装置。1. A semiconductor device characterized in that a wiring metal is formed in a predetermined pattern on the outer surface of an ingot in the form of a polyhedron, a cylinder, or a sphere, and a semiconductor chip connected to the wiring metal is further mounted on the outer surface of the ingot. .
構成されることを特徴とする請求項1記載の半導体装置
。2. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the polyhedron is constructed by pasting together a number of plates according to the number of faces.
通路として用いることを特徴とする請求項1記載の半導
体装置。3. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a through hole is provided in the center of said polyhedron, and the through hole is used as a cooling medium passage.
数の機能ブロックを構成する回路を割当て、1つの多面
体が全体として少なくとも1つのコンピュータを形成す
ることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。4. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a circuit constituting one or more functional blocks of a computer is assigned to each side of the polyhedron, and one polyhedron forms at least one computer as a whole.
たインゴットの外表面に、要求する回路に応じた配線パ
ターンを形成すると共に前記ICチップを実装し、該I
Cチップのパッドと前記配線パターンのパッドとをボン
ディングワイヤで電気的に接続することを特徴とする半
導体装置の製造方法。5. A wiring pattern corresponding to the required circuit is formed on the outer surface of the ingot, where at least the area where the IC chip is to be mounted is flattened, and the IC chip is mounted.
A method for manufacturing a semiconductor device, comprising electrically connecting pads of a C chip and pads of the wiring pattern with bonding wires.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1323745A JPH03185900A (en) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | Semiconductor device and manufacture thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1323745A JPH03185900A (en) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | Semiconductor device and manufacture thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03185900A true JPH03185900A (en) | 1991-08-13 |
Family
ID=18158147
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1323745A Pending JPH03185900A (en) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | Semiconductor device and manufacture thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03185900A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5270485A (en) * | 1991-01-28 | 1993-12-14 | Sarcos Group | High density, three-dimensional, intercoupled circuit structure |
EP0729659A4 (en) * | 1992-09-18 | 1995-11-07 | Krissman Stephen | Improved semiconductor architecture and application therefor |
JP2003530053A (en) * | 2000-03-24 | 2003-10-07 | リッテルフューズ,インコーポレイティド | Integrated overcurrent and overvoltage device for use in protecting telecommunications circuits |
JP2006310515A (en) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Citizen Electronics Co Ltd | Light emitting unit |
-
1989
- 1989-12-15 JP JP1323745A patent/JPH03185900A/en active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5270485A (en) * | 1991-01-28 | 1993-12-14 | Sarcos Group | High density, three-dimensional, intercoupled circuit structure |
EP0729659A4 (en) * | 1992-09-18 | 1995-11-07 | Krissman Stephen | Improved semiconductor architecture and application therefor |
EP0729659A1 (en) * | 1992-09-18 | 1996-09-04 | KRISSMAN, Stephen | Improved semiconductor architecture and application therefor |
JP2003530053A (en) * | 2000-03-24 | 2003-10-07 | リッテルフューズ,インコーポレイティド | Integrated overcurrent and overvoltage device for use in protecting telecommunications circuits |
JP2006310515A (en) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Citizen Electronics Co Ltd | Light emitting unit |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20020038908A1 (en) | Thermal enhanced ball grid array package | |
US5113314A (en) | High-speed, high-density chip mounting | |
JPH01253942A (en) | Semiconductor package and computer using the same | |
JPH05206338A (en) | Assembly of semiconductor device provided with heat sink | |
JPH0445981B2 (en) | ||
JPH0642525B2 (en) | Multi-chip carrier and manufacturing method | |
TW200410380A (en) | Leadless semiconductor packaging structure with inverted flip chip and methods of manufacture | |
US5243497A (en) | Chip on board assembly | |
JP3113005B2 (en) | Integrated circuit package without carrier | |
JPH10284544A (en) | Semiconductor device and producing method therefor | |
JPH01235264A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JPH02276264A (en) | Ceramic package provided with heat sink | |
JPH03185900A (en) | Semiconductor device and manufacture thereof | |
JP2570645B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2771104B2 (en) | Lead frame for semiconductor device | |
JPH0864730A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JPH08250628A (en) | Semiconductor integrated circuit device and its manufacture | |
JPH10321670A (en) | Semiconductor device | |
JP3016380B2 (en) | Semiconductor device | |
JPH02291154A (en) | Ceramic package provided with heat sink | |
JPH11163230A (en) | Semiconductor device, manufacture thereof, and mounting structure | |
JPS6184043A (en) | Plug-in package | |
JPH0770671B2 (en) | Semiconductor chip carrier and semiconductor chip mounting method using the same | |
JPH01140749A (en) | Semiconductor device | |
JPH11297738A (en) | Structure for mounting of semiconductor chip on substrate |