JPH03136294A - ガラス配線基板 - Google Patents
ガラス配線基板Info
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- JPH03136294A JPH03136294A JP27417289A JP27417289A JPH03136294A JP H03136294 A JPH03136294 A JP H03136294A JP 27417289 A JP27417289 A JP 27417289A JP 27417289 A JP27417289 A JP 27417289A JP H03136294 A JPH03136294 A JP H03136294A
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- electrode
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- paste
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 21
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 29
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 7
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 abstract description 5
- 239000006071 cream Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 abstract 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 9
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 5
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004191 hydrophobic interaction chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
- H05K1/095—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4007—Surface contacts, e.g. bumps
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電子機器、特にハイブリッドIC(以後HIC
という)に使用するガラス配線基板に関するものである
。
という)に使用するガラス配線基板に関するものである
。
従来の技術
iに来の技術を第3図(a)、 (b) 、 (C)
、 (d)のHICの製造の各工程を説明する図により
説明する。
、 (d)のHICの製造の各工程を説明する図により
説明する。
第6図(a)は、アルカリ洗浄剤で超音波洗浄された後
、水道水で流水洗浄し、さらに純水で超音波洗浄した後
、充分に乾燥させたガラス基板1を示しており、次に第
6図(b)は、このガラス基板1上にAu、Agあるい
はインジウム ティン オキサイド等よりなる導体配線
2を印刷、焼成して形成した状態を示し、さらに、第6
図(C)は、上記導体配線2と一部重合するようにA
g + Cu等よりなる電極7を印刷、焼成して形成し
た状態を示したものである。なお、導体配線2と電極7
に同一材料を用いる場合は、通常導体配線と電極は同時
に形成している。第6図(d)は、上記電極7上に半田
4を半田付した状態を示している。
、水道水で流水洗浄し、さらに純水で超音波洗浄した後
、充分に乾燥させたガラス基板1を示しており、次に第
6図(b)は、このガラス基板1上にAu、Agあるい
はインジウム ティン オキサイド等よりなる導体配線
2を印刷、焼成して形成した状態を示し、さらに、第6
図(C)は、上記導体配線2と一部重合するようにA
g + Cu等よりなる電極7を印刷、焼成して形成し
た状態を示したものである。なお、導体配線2と電極7
に同一材料を用いる場合は、通常導体配線と電極は同時
に形成している。第6図(d)は、上記電極7上に半田
4を半田付した状態を示している。
発明が解決しようとする課題
前述した従来の技術では電極用の導体ペーストに、使用
するガラス基板と同様の熱膨張係数を持つガラス粉体を
混合している為通常は熱応力の影響を受けない。ところ
が、電極上に半田付けすると半田の熱膨張係数とガラス
基板の熱膨張係数に差違がある為、半田付は時の熱によ
って熱応力が発生し、その影響によって電極とガラス基
板との接着強度が劣化したり、あるいは電極近辺のガラ
ス基板表面に亀裂を生じるという危険性を有するもので
あった。
するガラス基板と同様の熱膨張係数を持つガラス粉体を
混合している為通常は熱応力の影響を受けない。ところ
が、電極上に半田付けすると半田の熱膨張係数とガラス
基板の熱膨張係数に差違がある為、半田付は時の熱によ
って熱応力が発生し、その影響によって電極とガラス基
板との接着強度が劣化したり、あるいは電極近辺のガラ
ス基板表面に亀裂を生じるという危険性を有するもので
あった。
課題を解決するための手段
本発明では前記課題を解決する為に、金属粉体、可塑剤
樹脂、溶剤を混合して製造したペーストを、あらかじめ
基板表面を改質したガラス基板に印刷し、硬化して、電
極を形成するものである。
樹脂、溶剤を混合して製造したペーストを、あらかじめ
基板表面を改質したガラス基板に印刷し、硬化して、電
極を形成するものである。
作用
前述のごとく、金属粉体、可塑剤、樹脂、溶剤を混合し
て製造したペーストを使用することにより、やわらかな
樹脂層を持った電極を形成するこ七ができ、また、印刷
の前工程としてガラス基板表面の表面張力が増大するよ
うに表面改質するため、電極とガラス基板の接着強度を
増強することができるので、この電極に半田を面付けし
ても電極め樹脂層が熱応力を緩和する作用を有する為、
接着強度の劣化も、ガラス基板表面に亀裂を生じること
も防止することができるものである。
て製造したペーストを使用することにより、やわらかな
樹脂層を持った電極を形成するこ七ができ、また、印刷
の前工程としてガラス基板表面の表面張力が増大するよ
うに表面改質するため、電極とガラス基板の接着強度を
増強することができるので、この電極に半田を面付けし
ても電極め樹脂層が熱応力を緩和する作用を有する為、
接着強度の劣化も、ガラス基板表面に亀裂を生じること
も防止することができるものである。
実施例
本発明の第1の実施例を第1図のガラス配線基板の断面
図と、第3図の工程図、第4図のガラス基板の表面張力
の変化、第5図の熱衝撃テストの結果を用いて説明する
。まず、1はガラス基板であり、本実施例では、未ソー
ダガラスを用いたが、ソーダガラスの使用も可能である
。ただしソーダガラスを使用する場合は、ソーダがガラ
ス表面に析出しないようガラス表面を酸化シリコン(以
下5iO2)等の膜で被覆してソーダの析出を防止する
必要がある。次にこのガラス基板1を第3図の工程■に
示すように、トリクロロエタンで超音波洗浄を行なう。
図と、第3図の工程図、第4図のガラス基板の表面張力
の変化、第5図の熱衝撃テストの結果を用いて説明する
。まず、1はガラス基板であり、本実施例では、未ソー
ダガラスを用いたが、ソーダガラスの使用も可能である
。ただしソーダガラスを使用する場合は、ソーダがガラ
ス表面に析出しないようガラス表面を酸化シリコン(以
下5iO2)等の膜で被覆してソーダの析出を防止する
必要がある。次にこのガラス基板1を第3図の工程■に
示すように、トリクロロエタンで超音波洗浄を行なう。
これは次の工程ので微細導体配線を印刷するのに適した
表面状態にするために必要な前工程で、この洗浄によっ
てガラス表面の表面張力を減少させることができる。つ
まり、初期のガラス基板1の表面状態に比べ、液体を弾
きやすい表面に改質して、微細導体配線が印刷しやすい
状態にするものである。翼体的には、第4図に示すよう
に、初期の表面張力42.8d y n e / cr
ilから40.2dyne/cJに減少した。
表面状態にするために必要な前工程で、この洗浄によっ
てガラス表面の表面張力を減少させることができる。つ
まり、初期のガラス基板1の表面状態に比べ、液体を弾
きやすい表面に改質して、微細導体配線が印刷しやすい
状態にするものである。翼体的には、第4図に示すよう
に、初期の表面張力42.8d y n e / cr
ilから40.2dyne/cJに減少した。
なお、工程■の超音波洗浄は5分以上行ない、次の印刷
工程の前に完全にガラス基板表面が乾燥していることを
確認する必要がある。次に工程■で、A llあるいは
A gペーストを用いて微細導体配線を印刷し、工程■
で焼成して第1図の導体配線2を形成する。なお、本実
施例ではAuの金属有機ペーストを用いることによって
、線間90μm。
工程の前に完全にガラス基板表面が乾燥していることを
確認する必要がある。次に工程■で、A llあるいは
A gペーストを用いて微細導体配線を印刷し、工程■
で焼成して第1図の導体配線2を形成する。なお、本実
施例ではAuの金属有機ペーストを用いることによって
、線間90μm。
線幅90μmの導体配線を実現している。次に、工程■
においてカラス配線基板を純水で超音波洗浄を行なう。
においてカラス配線基板を純水で超音波洗浄を行なう。
この工程は、ガラス基板上に形成された電極と、ガラス
表面間の接着強度を強化するために必要な前工程で、電
極を印刷する直前に純水洗浄したものが最ら効果がある
ことがわかっている。具体的には、ガラス配線基板を5
分以上純水洗浄し、乾燥機で完全に乾燥させることによ
り、第4図に示すようにカラスの表面張力を最大で約5
2d y n e 、yC!まて高めたものである。つ
まり、初期の表面状態に比べて液体を引きっけやすい表
面状態に表面改質したものである。この工程の必要性に
ついては以下の樹脂結合型電極の説明中で述べる。次に
工程■で樹脂結合型金属ペーストを用いて電極を印刷し
、工程■で硬化して第1図の電極3を形成する。なお、
本実施例では電極に用いる樹脂結合型ペーストとして三
井金属鉱業株式会社製CuペーストS−5000を用い
てCu電極(膜厚杓20μm)を形成したものと、ES
L日本株式会社製Agペースト1100−8を用いてA
g電極を形成したものの2種類について実施した。この
ような樹脂結合型ペーストを用いて電極を形成すると、
電極に含まれる樹脂の弾力によって半田付時及びその後
に生じる熱応力を緩和することができる。しかし、工程
■の純水洗浄を行なわずに電極形成し、半田を直付けし
た後に熱衝撃テスト(−40℃−85℃)を行なった時
のガラス基板と電極の接着強度の劣化状況を見ると、第
5図のように長時間高接着強度を維持できないことがわ
かった。そこで、電極形成の前工程とじて接着強度を高
めるようなガラス表面の改質が必要となるわけである。
表面間の接着強度を強化するために必要な前工程で、電
極を印刷する直前に純水洗浄したものが最ら効果がある
ことがわかっている。具体的には、ガラス配線基板を5
分以上純水洗浄し、乾燥機で完全に乾燥させることによ
り、第4図に示すようにカラスの表面張力を最大で約5
2d y n e 、yC!まて高めたものである。つ
まり、初期の表面状態に比べて液体を引きっけやすい表
面状態に表面改質したものである。この工程の必要性に
ついては以下の樹脂結合型電極の説明中で述べる。次に
工程■で樹脂結合型金属ペーストを用いて電極を印刷し
、工程■で硬化して第1図の電極3を形成する。なお、
本実施例では電極に用いる樹脂結合型ペーストとして三
井金属鉱業株式会社製CuペーストS−5000を用い
てCu電極(膜厚杓20μm)を形成したものと、ES
L日本株式会社製Agペースト1100−8を用いてA
g電極を形成したものの2種類について実施した。この
ような樹脂結合型ペーストを用いて電極を形成すると、
電極に含まれる樹脂の弾力によって半田付時及びその後
に生じる熱応力を緩和することができる。しかし、工程
■の純水洗浄を行なわずに電極形成し、半田を直付けし
た後に熱衝撃テスト(−40℃−85℃)を行なった時
のガラス基板と電極の接着強度の劣化状況を見ると、第
5図のように長時間高接着強度を維持できないことがわ
かった。そこで、電極形成の前工程とじて接着強度を高
めるようなガラス表面の改質が必要となるわけである。
第5図に示すように純水で超音波洗浄することにより、
初期の1kg/mm”の接着強度がほとんど劣化するこ
となく維持されていることがわかる。また電極の膜厚は
接着強度には影響しないこともわかった。次に、工程■
で電極上にクリーム半田4を塗布し、電子部品の実装さ
れる電極には電子部品5を実装する。本実施例ではクリ
ーム半田として通常よ(用いられる5n−pb手半田、
半田付後の熱応力緩和を考えて、実装後もやわらかさの
保てるIn−Pb半田を用いた。結果としては、In−
Pb半田の方が熱応力緩和性が良く高接着強度を長時間
係てることが確認された。また第1図のようなチップ部
品だけではなく、リード線付の部品についても実装を行
ない、良好な結果が得られた。そして最後に、工程■で
ガラス配線基板と実装された部品をリフロー炉に投入し
半田付けして第1図のガラス配線基板を完成するもので
ある。
初期の1kg/mm”の接着強度がほとんど劣化するこ
となく維持されていることがわかる。また電極の膜厚は
接着強度には影響しないこともわかった。次に、工程■
で電極上にクリーム半田4を塗布し、電子部品の実装さ
れる電極には電子部品5を実装する。本実施例ではクリ
ーム半田として通常よ(用いられる5n−pb手半田、
半田付後の熱応力緩和を考えて、実装後もやわらかさの
保てるIn−Pb半田を用いた。結果としては、In−
Pb半田の方が熱応力緩和性が良く高接着強度を長時間
係てることが確認された。また第1図のようなチップ部
品だけではなく、リード線付の部品についても実装を行
ない、良好な結果が得られた。そして最後に、工程■で
ガラス配線基板と実装された部品をリフロー炉に投入し
半田付けして第1図のガラス配線基板を完成するもので
ある。
第2図は本発明の第2の実施例を示す断面図であり、こ
れは、第1の実施例のガラス基板1と樹脂結合型電極3
の間に樹脂接着剤の層6を形成したものである。このよ
うな二重構造の電極を形成することによって、熱応力を
緩和する能力が増大できる。製造工程としては、第3図
のように微細導体配線を形成した後、工程■としてガラ
ス配線基板の純水洗浄(接着強度を高めるため)、工程
[相]で樹脂接着剤の印刷、工程■で硬化して樹脂接着
剤の層6を形成する。後の工程は第1の実施例と同様で
ある。本実施例2は多少工程が増すが、実施例1より長
寿命、高信頼性を得ることのできるものである。
れは、第1の実施例のガラス基板1と樹脂結合型電極3
の間に樹脂接着剤の層6を形成したものである。このよ
うな二重構造の電極を形成することによって、熱応力を
緩和する能力が増大できる。製造工程としては、第3図
のように微細導体配線を形成した後、工程■としてガラ
ス配線基板の純水洗浄(接着強度を高めるため)、工程
[相]で樹脂接着剤の印刷、工程■で硬化して樹脂接着
剤の層6を形成する。後の工程は第1の実施例と同様で
ある。本実施例2は多少工程が増すが、実施例1より長
寿命、高信頼性を得ることのできるものである。
発明の効果
本発明は、前記のごとくガラス基板表面の表面改質処理
を施した後、熱応力を緩和することのできる半田直付は
可能な樹脂結合型電極を形成することによって、 (1)樹脂結合型電極に含まれる樹脂、あるいは電極下
部に設けられた樹脂が、半田とガラス基板の間に生じる
熱応力を緩和するため、ガラス基板の亀裂の発生やガラ
ス基板とCu電極の接着強度の劣化を防ぐことができる
。
を施した後、熱応力を緩和することのできる半田直付は
可能な樹脂結合型電極を形成することによって、 (1)樹脂結合型電極に含まれる樹脂、あるいは電極下
部に設けられた樹脂が、半田とガラス基板の間に生じる
熱応力を緩和するため、ガラス基板の亀裂の発生やガラ
ス基板とCu電極の接着強度の劣化を防ぐことができる
。
(2)金属粉体と可塑剤、樹脂、溶剤を混合した金属ペ
ーストを用いることにより、非常に半田直付は性の良い
かつ酸化されにくい、電極を実現できる。
ーストを用いることにより、非常に半田直付は性の良い
かつ酸化されにくい、電極を実現できる。
(3)ガラス基板の表面を表面改質して表面張力を変化
させることにより、微細な配線パターンの印刷や接着強
度の強化を実現できる。
させることにより、微細な配線パターンの印刷や接着強
度の強化を実現できる。
という、産業上有用なものである。
第1図は本発明の第1の実施例のガラス配線基板の断面
図、第2図は同第2の実施例の断面図、第3図は本発明
の実施例の工程図、第4図は本実施例の各工程後のガラ
ス基板の表面張力の変化を示す図、第5図は本実施例の
熱衝撃テストの結果を示す図、第6図(a)〜(d)は
従来の方法の各工程におけるガラス配線基板の断面図で
ある。 ■・・・・・・ガラス基板、2・・・・・・導体配線、
3・・・・・・樹脂結合型電極、4・・・・・・半田、
5・・・・・・電子部品、6・・・・・・樹脂接着剤の
層、7・・・・・・電極。
図、第2図は同第2の実施例の断面図、第3図は本発明
の実施例の工程図、第4図は本実施例の各工程後のガラ
ス基板の表面張力の変化を示す図、第5図は本実施例の
熱衝撃テストの結果を示す図、第6図(a)〜(d)は
従来の方法の各工程におけるガラス配線基板の断面図で
ある。 ■・・・・・・ガラス基板、2・・・・・・導体配線、
3・・・・・・樹脂結合型電極、4・・・・・・半田、
5・・・・・・電子部品、6・・・・・・樹脂接着剤の
層、7・・・・・・電極。
Claims (1)
- ガラス基板と、このガラス基板に金属ペーストを印刷,
焼成して形成されるガラス結合型の導体配線と、この導
体配線の一部と重合するように少なくともCu,Ag,
Ag−Pdのいずれかの金属粉体と可塑剤と樹脂と溶剤
を混合して形成したペーストを上記ガラス基板の表面改
質後印刷,硬化して形成された樹脂結合型電極と、この
樹脂結合型電極上に予備半田層あるいは、電子部品を半
田実装してなるガラス配線基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27417289A JPH03136294A (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | ガラス配線基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27417289A JPH03136294A (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | ガラス配線基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03136294A true JPH03136294A (ja) | 1991-06-11 |
Family
ID=17538043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27417289A Pending JPH03136294A (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | ガラス配線基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03136294A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001194546A (ja) * | 2000-01-11 | 2001-07-19 | Toppan Printing Co Ltd | 光配線フィルムの製造方法 |
WO2002032199A1 (de) * | 2000-10-13 | 2002-04-18 | Ppc Electronic Ag | Leiterplatte sowie verfahren zum herstellen einer solchen leiterplatte und eines schichtverbundmaterials für eine solche leiterplatte |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 1989-10-20 JP JP27417289A patent/JPH03136294A/ja active Pending
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