JPH03118512A - 光シャッタアレイ及びその製造方法 - Google Patents

光シャッタアレイ及びその製造方法

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JPH03118512A
JPH03118512A JP25529789A JP25529789A JPH03118512A JP H03118512 A JPH03118512 A JP H03118512A JP 25529789 A JP25529789 A JP 25529789A JP 25529789 A JP25529789 A JP 25529789A JP H03118512 A JPH03118512 A JP H03118512A
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JP
Japan
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substrate
electrode
common electrode
individual electrodes
electrodes
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Pending
Application number
JP25529789A
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English (en)
Inventor
Kazuo Kobayashi
一雄 小林
Hidenori Sukigara
鋤柄 英則
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nidec Instruments Corp
Original Assignee
Sankyo Seiki Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光シャッタアレイ及びその製造方法に関する
。更に詳述すると、本発明は電気光学効果を利用した光
シャッタアレイとその製法に関する。
(従来の技術) 電気光学効果として、印加電界に対して媒質の複屈折が
変化する現象が知られている。この現象を利用し、印加
する電界を制御することによって奴質′。光の透光“遮
光動作を行なわせるようにした光シャッタアレイが従来
提案されている。この光シャッタアレイは、板状の電気
光学効果を有する物質例えばP L Z Tに薄型電極
をくし歯状に配置し、個々の電・臣にかかる電圧を制御
してPLZ1′に所定の電界を印加するようにしたもの
である。
電極101は、従来、アルミ蒸着とエツチング処理によ
ってPLZT102の表面即ち光の通過方向に直交する
面に形成されている。例えば、第6図(A)に示すよう
にPLZT102の一方の面に取付けたり、第6図(B
)に示すようにPLZT102の両面に取付けなり(特
開昭62−42120号)、第6図(C)に示すように
PLZT102に溝加工を施してPLZT102の深さ
方向に電極101を一部埋め込むようにして取付けられ
ている。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、電極101が電気光学効果を有する物質
102の表面に形成されている場合、物質内部で均一に
電気光学効果が起こり難い、このため、駆動電圧を高く
しなくてはならない、′&な、電極の一部を物質102
内に埋め込む場合、狭隘な溝103を加工することが困
難であるし、この溝加工のため機械的強度が劣るという
問題がある。更に、上述の従来のシャッタアレイは、電
気光学効果を有する物質102上に電極101のリード
部分104も形成しているため、実際のシャッタ部分よ
りも広いものが必要となり、コスト高となる。
また、従来の光シャッタアレイは、一般に個別電極と共
通電極の端子電極が同一面上に形成されるため、後工程
における配線か複雑になる問題を含んでいる。更に、P
LZTの大型のものは作り難いことから、小さなブロッ
クのシャツタ列として複数のPLZTシャッタ列を繋げ
るときあるいは外部に電極として取出すとき、導電性接
着剤又はワイヤーボンドを使って行なっていたが、これ
らの方法では電気的接続の信頼性か低く、またシャッタ
アレイの上下に偏光板を取付ける必要から表面が平坦化
していることが望まれることから改善が必要である。ま
た、電極部を作製した後に光透過用の窓を電気光学効果
素子上に作製するためのプロセスが必要となる問題を含
んでいる。
本発明は、安価であると共に製作の容易な構造でかつ低
い駆動電圧によって確実に作動するシャッタアレイを提
供することを目的とする。また、本発明はそのような構
造のシャッタアレイを簡単に製造できる製造方法を提供
することを目的とする。
(課題を解決するための手段) かかる目的を達成するため、本発明の光シャッタアレイ
は、電気光学効果を有する基板と、前記基板の光の通過
方向に平行な面の一方に設けられた複数の個別電極と、
前記基板の他方の面に設けられた共通電極と、上記個別
電極及び共通電極を上記基板との間で挟む支持部材と、
上記支持部材の光の通過方向と直交する面の一方に設け
られて上記個別電極に個々に接続される端子電極と、上
記支持部材の他方の面に設けられて上記共通電極に接続
されると共に上記個別電極と共通電極に挟まれるR I
L’Uに光通過用の開口部を設けた共通端子電極とを設
けるようにしている。
また、本発明の光シャッタアレイは、電気光学効果を有
する基板の光の通過方向に平行な面の一方に相互に独立
した複数の個別電極を形成する工程と、前記基板の他方
の面に共通電極を形成する工程と、前記個別電極側と共
通電極側を前記基板との間で挟むように支持部材を積層
して1つのブロックを形成する工程と、このブロックを
積層方向と直交する面でスライスしてチップを得る工程
と、このチップの支持部材の光の通過方向と直交する面
の一方に前記個別電極に接続される端子電極を形成する
工程と、前記チップの他方の面の全面に、個別電極と共
通電極との間の前記基板上に光通過用の開口部を形成し
て共通電極に接続される端子電極を形成する工程によっ
て製造されている。
(作用) したがって、電気光学効果素子の光の透過方向に平行な
面に形成された個別電極と共通電極との間で電界が印加
され、電気光学効果が厚み方向に均一に現れる。
(実施例) 以下、本発明の構成を図面に示す実施例に基づいて詳細
に説明する。
第1図(A)、(B)及び(C)に本発明の光シャッタ
アレイの一実施例を示す。このシャッタアレイ1は、電
気光学効果を有する物質から成る基板2と、この基板2
の光の通過方向に平行な面の一方2aに設けられた複数
の個別電極3.・・・3と、光の通過方向に平行な基板
2の他方の面2bに設けられた共通電極4と、個別電極
3.・・・3及び共通な極4を前記基板2との間で挾む
支持部材5.5と、支持部材5,5の光の通過方向と直
交する面の一方5aに設けられて各個別tli3゜・・
、3に個々に接続されている端子電極6.・・・6並び
に光の通過方向に直交する支持部材5の他方の面5bに
形成されて共通な極4と接続される端子電極7とから構
成されている。
前記個別な極3.・・・、3には支持部材5の一方の面
5a上に形成された端子電極6.・・・、6が夫々接続
され、個別電極毎に制御し得るように設けられている。
また、共通電極4,4には支持部材5の他方の面5b上
に、個別電極と共通電極との間の基板2上に光通過用の
開口部・窓8を形成するようにして他方の面5b全面を
被覆する端子電極7が接続されている。尚、電極3,4
及び端子型)ffA6,7にはアルミニウム、銅、金、
銀等の電極材が使用され、真空蒸着、スパッタリング、
めっき等の薄膜形成技術によって所望の形状及び厚みに
形成されている。
電気光学効果を有する基板2は、印加電界に対して複屈
折が変化する現象を呈する媒質であり、例えばPLZT
の使用が好適である。PLZTは(Pb、La)(Zr
、Ti )03の化学式で表わされるセラミックスであ
る。このPLZTは、透過率が高く大きな電気光学係数
を有し、応答速度が速く可動部がない等の高速光シャッ
タとして有利な条件を備えている。また、支持部材5と
しては通常セラミックスが使用可能であり、好ましくは
アルミナセラミックスが使用される。
以上のように構成されたシャッタアレイによれば、次の
ように光シャッタとして作動する。
任意の個別電極3.・・・、3と共通電極4との間に所
定の電圧を印加して電界を形成すれば、それらの間のP
LZT2が複屈折を起す。そこで、このシャッタアレイ
の前後に偏光板で開光子、検光子を構成すると、シャッ
タとして動作する0例えば第1図(A)において上側の
右端の個別電極3と共通な極4との間に電界を加えると
、それらの間のPLZT2のシャッタ部分りが動作し光
を通過させる。
次に上述の構成の光シャッタアレイの製造方法について
説明する。
まず、PLZTの基板(ウェハー)2の光が透過する方
向と平行な面の一方2aの全面にアルミニウム、銅、金
、銀等の電極材を真空蒸着、スパッタリング等によって
固着させ、一定厚さの薄膜10を形成する[第2図(A
)]、その薄Il!10にフォトリソグラフィによりス
トライブ状の個別電極3.・・・、3を形成する[第2
図(B)]、フォトリソグラフィは、例えばポジ型フォ
トレジストを電極材薄膜10の上に塗布し、電極材を必
要としない箇所だけに光が照射されるようにフォトマス
クを通して紫外線を照射し、現像液により感光剤を取り
除き、残った感光剤を保護膜にしてエツチングにより電
極材10を部分的に取除く。その後、感光剤は除去され
る。また、光が透過する方向と平行なPLZT基板2の
他方の面(裏面)2bにAβ等の電極材を真空蒸着等に
よって固着し、共通電極4を全面に形成する[第2図(
C)〕。
次いで、上述の個別電極3.・・・、3と共通電極4と
を基板2との間で挟みつけるようにアルミナ等のセラミ
ックスの支持部材5を両側から低融点ガラス、エポキシ
等の樹脂等を用いて貼り合せる[第2図(D)]。
次いで、このブロック11を積層方向と直交する面で即
ちPLZT基板2の光の通過する方向と直角方向に所望
の厚さのチップ12にスライスする[第2図(E)]。
そして、このチップ12を研磨する6 研磨したチップ12の片面(即ち光の通過する方向と直
交する面の一方)5aにアルミニウム等の電極材から成
る導電膜を真空蒸着等によって成膜し、フォトリングラ
フィにより個別電極3.・・・3と個々に接続される所
望の端子電極パターン6゜・・・、6を形成する[第2
図(F)]。この工程は、フォトリソグラフィ工程を行
いパターンを形成した後導電膜を成膜し、レジストを除
去する所謂リフトオフ工法を用いても可能である。
次に、シャッタアレイでは通常散乱光などをカットする
ため、電界が印加され複屈折する部分即ちシャッタ部9
を残しマスクを付ける0本実施例ではこのマスクとなる
部分と、共通電極4の端子な極7とを共用する。即ち、
チップ12の個別な極3.・・・、3は裏にも表にも露
出しているわけであるから、片面を端子電極の個別部、
片面を窓8を兼ねた端子電極の共通部とする。工程とし
ては、フォトリングラフィ、リフトオフ、マスク蒸着等
の方法を用いて窓8部分を開けるようにして導電膜の共
通端子電極7を形成する[第2図(C−+)。
G−2)]、また、上述の方法でも良いが、個別電極3
.・・・、3も裏面5bllllに露出するため、共通
端子電極7と短絡しないように窓8を広く開けなければ
ならない。この問題を解決するため、透明の絶縁膜例え
ば5i02を裏面5bの全面に膜付けし[第2図(H)
]、共通電極4部分のみをエツチングし、絶縁[15を
除去する[第2図(N]、絶縁膜15は透明の場合が多
い0次に、共通端子電極7を作製するため、導電膜を膜
付けし、シャッタ9の部分となる窓部分8をフォトリン
グラフィによって作製する[第2図(J)]。
尚、上述の実施例は本発明の好適な実施の一例ではある
がこれに限定されるものではなく本発明の要旨を逸脱し
ないN囲において種々変形実施可能である6例えば、第
3図(A)、(B)及び(C)に本発明の光シャッタア
レイの他の実施例を示す、この実施例は二組のシャッタ
アレイ11を、それらの共通電極4が背中合せになるよ
うに接合して1つのブロックとしたものである。この二
組のシャッタアレイ1.1は、向い合う各共通電極4,
4の間および各個別部f!3.・・・、3と支持部材5
との間に低融点ガラス等の接着剤を兼ねた絶縁層が形成
されて1つのブロックを構成するように固められている
。また、基板2,2を挟んで配置される2列の個別電極
3.・・・、3は、方が他方の個別電極間に位置するよ
うに千鳥状に配置されている。そして、各個別電極3.
・・・、3には対応する端子電極6.・・・、6が夫々
支持部材5の一方の面5a上に形成されて各々接続され
ている。また、支持部材5の反対側の面・裏側5bには
共通電極4,4の端子電極7がシャツタ窓8部分を除い
て全面に形成されている。
この構成の光シャッタアレイの製造は、第2図(A)〜
(C)の工程を経て製作された二つの基板2の共通t 
’ii 4 、4同士が向い合うように背中合せに突合
せ、それらを挟むようにセラミックス等の支持部材を夫
々重ね、低融点ガラスで全体を1つのブロック状に固め
る。
次いで、このブロックをスライスして研磨した後、前述
方法によって導電膜を形成し、所望の端子な極6.・・
・、6を支持部材5の一面5aに形成し、また共通電極
4,4の端子電極7を裏面5bの全面にシャツタ窓8を
開けて形成する。
また、第4図(A)、(B)に示すように、個別電極3
.・・・、3同士を背中合せに内側に設け、各個別電極
3.・・・、3に対応させるように分割された共通な極
4.・・・、4を外側に設ける構造にすると、一方の面
5aにおいて隣合せの2本の個別電極3.3を合せて端
子電極6を引き出し、他方の面5bにおいて共通部8i
!4の端子電極を第1のPLZT2と第2のPLZT2
’に別々7A、7Bに形成することができる。この場合
、引き出された第1の端子電極6と、共通端子電極7A
との間に電界をかけた場合には、Aの窓がシャッタを開
け、また同様に第2の共通端子電極7Bにかけた場合は
Bの窓がシャッタを開ける。このなめ、引き出し端子電
極6の数を1/2に減らせるので、パターン間隔が大き
くなり、駆動ICとの接続が容易となり、ICの数も減
らすことができる。
更に、第5図(A)、(B)に示すように、第3図(A
)、(B)に示されたシャッタ列1,1を2列並設し、
裏面の共通端子電極を外部基板13で接続することも可
能となる。外部基板13には導体14が設けられており
、この導体14によって共通端子電極7,7を導通させ
ている。このため、シャッタアレイ同士で直接導通を取
る必要がなく、構造が簡単になる。
(発明の効果) 以上の説明より明らかなように、本発明の光シャッタア
レイは、電気光学効果を有する基板と、前記基板の光の
通過方向に平行な面の一方に設けられた複数の個別な極
ど、前記基板の他方の而に設けられた共通電極と、上記
個別電極及び共通電極を上記基板との間で挟む支持部材
と、上記支持部材の光の通過方向と直交する面の一方に
設けられて上記個別電極に個々に接続される端子電極と
、上記支持部材の他方の面に設けられて上記共通電極に
接続されると共に上記個別電極と共通電極に挟まれる領
域に光通過用の開口部を設けた共通端子電極とから構成
されているので、電気光学効果素子の光の透過方向に平
行な面に形成された個別電、極と共通電極との間で電界
が印加され、電気光学効果が厚み方向に均一に現れて低
電圧で駆動できるし、個別端子電極の引き回し自由度が
増し、配線が簡単になる。更に、本発明の光シャッタア
レイは、共通端子電極を裏側に配置し、個別電極と共通
電極との間の前記基板上に光通過用の開口部を共通電極
の端子電極で形成するようにしなので、同時に光シャッ
タの窓部分を作製することができ、プロセスの合理化と
なる。更に、複数のシャッタアレイを接続して使うとき
、簡単に外部との導通が可能でシャッタ面の凹凸がない
ので、偏光板が取付は易い、しかも、シャッタ部分にだ
け電気光学効果を有する物質例えばPLZTを使用し、
端子電極を配線する部分には別のセラミックス部材を使
用するため、P L Z ’I’の使用量が少なく低コ
スト化が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)、(B)、(C)は本発明の光シャッタア
レイの一実施例を示す図で、(A)は正面図、(B)は
I−I線断面図、(C)は裏面図である。第2図(A)
〜(J)は本発明に係る光シャッタアレイの製造プロセ
スの一例を示す加工工程図である。第3図(A)、(B
)、(C)は他の実施例を示す図で、<A)は正面図、
(B)は裏面図、(C)は■−■線斯而図面ある。第4
図(A)、(B)は更に池の実施例を示す図で、(A)
は正面図、(B)は裏面図である。第5図(A)、(B
)は更に他の実施例を示す図で、(A)は裏面図、(B
)はV−V線断面図、第6図(A)、(B)、(c)は
従来の光シャッタアレイの電極の配置の仕方を説明する
断面図である。 1・・・シャッタアレイ、 2・・・電気光学効果を有する基板、3・・・個別電極
、4・・・共通電価、5・・・支持部材、6・・・個別
端子電極、7・・・共通端子電極、8・・・窓、9・・
・シャッタ部、11・・・ブロック、12・・・チップ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電気光学効果を有する基板と、前記基板の光の通
    過方向に平行な面の一方に設けられた複数の個別電極と
    、前記基板の他方の面に設けられた共通電極と、上記個
    別電極及び共通電極を上記基板との間で挟む支持部材と
    、上記支持部材の光の通過方向と直交する面の一方に設
    けられて上記個別電極に個々に接続される端子電極と、
    上記支持部材の他方の面に設けられて上記共通電極に接
    続されると共に上記個別電極と共通電極に挟まれる領域
    に光通過用の開口部を設けた共通端子電極とを有してな
    る光シャッタアレイ。
  2. (2)電気光学効果を有する基板の光の通過方向に平行
    な面の一方に相互に独立した複数の個別電極を形成する
    工程と、前記基板の他方の面に共通電極を形成する工程
    と、前記個別電極側と共通電極側を前記基板との間で挟
    むように支持部材を積層して1つのブロックを形成する
    工程と、このブロックを積層方向と直交する面でスライ
    スしてチップを得る工程と、このチップの支持部材の光
    の通過方向と直交する面の一方に前記個別電極に接続さ
    れる端子電極を形成する工程と、前記チップの他方の面
    の全面に、個別電極と共通電極との間の前記基板上に光
    通過用の開口部を形成して共通電極に接続される端子電
    極を形成する工程とから成ることを特徴とする光シャッ
    タアレイの製造方法。
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