JPH029842A - 2−ニトロトルエン誘導体の製造法 - Google Patents

2−ニトロトルエン誘導体の製造法

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JPH029842A
JPH029842A JP15892688A JP15892688A JPH029842A JP H029842 A JPH029842 A JP H029842A JP 15892688 A JP15892688 A JP 15892688A JP 15892688 A JP15892688 A JP 15892688A JP H029842 A JPH029842 A JP H029842A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は、抗真菌剤として知られているビロールニド
リンの合成中間体として有用な2−ニトロトルエン誘導
体の新規製造法に関するものであり、医薬品等の製造分
野で利用される。
[従来の技術] 抗真菌剤として有用なビロールニドリンの合成中間体[
■コは、従来法のような方法で製造されていた。
[■コ [■コ 即チ、2−クロロ−6−メチルアニリン[■コを酸化し
て、2−クロロ−6−メチルニトロベンゼン[■]を得
るものである。
[発明が解決しようとする問題点] 上記の公知方法の出発物質である2−クロロ−6−メチ
ルアニリン[VrI]は、従来2−メチルアニリンをク
ロル化して得られる4−クロロ−2−メチルアニリン I の副生成物として得られていたものであるが、4−クロ
ロ−2−メチルアニリン[IK]が、膀胱癌を誘発する
恐れがあるとして、製造が中止され、それに伴って、2
−クロロ−6−メチルアニリン[■]も入手困難となっ
た。
また、2−クロロ−6−メチルアニリン[■]の一般式
な合成法はジル−ナル・才ブ・ジ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサイアテイ(J、 Am、 ChQn。
5oc、  )第77巻、第5700〜5702頁(1
955年)に記載されており、そのa18を示すと次の
通りである。
しかしながらこの合成法では、最後の工程におい〔スル
ホン酸基を除去する際に、加熱水蒸気を反応液に吹き込
む必要があり、工業的な操作としては極めて難しく、収
率も悪いという問題点があるため、従来の化合物[■コ
を酸化して化合物[■コを得る方法ではなく、化合物[
■コを用いない新しい合成経路により化合物〔■コを製
造する必要が生じてきた。
[問題点を解決するための手段コ この発明の発明者らは、2−ニトロトルエン誘導体の工
業的な製造法について鋭意研究した結果、以下に示す通
り化合物[I]を出発物質とし、中間体[111、[I
V]および[V]を経由することにより、ビロールニド
リンの合成中間体として有用な2−ニトロトルエン誘導
体[V[]を製造できることを見出して、この発明を完
成した。
o  H [■コ [■コ [1[] [IV] またはその塩 [Vコ [■] (式中、R1およびR2はそれぞれシアン基またはエス
テル化されたカルボキシ基、Xは)hロゲン原子をそれ
ぞれ意味する) この発明におけるrハロゲン原子」の好適な例としては
、塩素、臭素、沃素およびフッ素原子が挙げられる。
「低級アルキル基」の好適な例としては、メチル、エチ
ル、プロピノ呟 イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等のような直鎖状ま
たは分枝鎖状のアルキル基が挙げられる。
好適な1エステル化されたカルボキシ基」としては、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル カルボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシカル
ボニル等の低級アルコキシカルボニル基、例えばベンジ
ルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、フェネチルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオ
キシカルボニル、トリチルオキシカルボニル等の、ニト
ロ基を有していでもよいモノ(またはジまたはトリ)フ
ェニル(低級)アルコキシカルボニル基等が挙げられる
この発明における原料化合物[V]の塩としては、特に
限定きれないが、例えばナトリウム塩、カリウム塩等の
アルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のア
ルカリ土類金属塩、アルギニン塩、アスパラギン酸塩、
グルタミン酸塩等のアミノ酸塩等が挙げられる。
この発明により得られる2−ニトロトルエン誘導体[V
I]の製造法を以下に詳細に説明する。
(1)化合物[]Iコの製造 化合物[11]は化合物[1]を酸化することにより製
造することができる。
この酸化反応は、アミノ基を酸化してニトロ基を得る常
法、例えば塩酸、硫酸などの無機酸の存在下に、化合物
[!コを亜硝酸ナトリウムなどの亜硝酸塩化合物と反応
させてジアゾニウム塩を得たのち、次いで酸化第一銅な
どの銅化合物の存在下に、−ヒ記の亜硝酸塩化合物と反
応させることにより行なうことができる。
この反応は、例えば、水、メタノール、エタノール、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロ
ホルム、ベンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドのような常用の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、冷却下ないし常温下に反応
を行うことができる。
また、この酸化反応は例えば、m−クロロ過安息香酸、
過安息香酸、過酢酸、オゾン、過酸化水素、過沃素酸、
過マンガン酸塩、過ホウ素酸塩のような酸化剤を使用す
る方法によっても行うことができる。
この反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニ
トリル、クロロホルム、塩化メチレン、酢酸エチルのよ
うな溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行うこと
ができる。
反応温度は特に限定されないが、冷却下または常温で反
応を行うのが好ましい。
この反応により得られる化合物[II]は常法により単
離できるが、単離することなく次の反応に付してもよい
(i)化合物[IV]の製造 化合物[IV]は、化合物[11]を、化合物[■コと
反応させることにより製造することができる。
化合物[1[[]の好適な例としては、例えばシアン酢
酸メチル、シアン酢酸エチル等のシアン酢酸工ステル、
マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル等のマロン酸ジエ
ステルのような活性メチレン化合物が挙げられる。
この反応は塩基の存在下に行うのが好ましく、使用され
る塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリ
ウム等のアルカリ金属水素化物、水素化カルシウム、水
素化マグネシウム等のアルカリ土類金属水素化物、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、炭酸ナトノウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭
酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアル
カリ金属炭酸水素塩、フッ化カリウム、フッ化セシウム
等のアルカリ金属フッ化物、ナトリウムエトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウム第三級ブトキシド等のア
ルカリ金属アルコキシド、トノメチルアミン、トリエチ
ルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、1.5−
ジアザビシクロ[4,3,0コノン−5−エン、1.4
−ジアザビシクロ[222コオクタンのような有機また
は無機塩基が挙げられる。
この反応は通常、例えばテトラヒドロフラン、アセトニ
トリル、ジオキサン、トルエン、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドンのよう
な溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定きれないが、通常は加温下または加
熱下に反応が行われる。
この反応により得られる化合物[IV]は常法により単
離できるが、単離することなく次の反応に付してもよい
(ii)化合物[■コの製造 化合物[V]またはその塩は、化合物[■]を加水分解
することにより製造することができる。
この反応は、慣用の方法で行なうことができ、通常酸ま
たは塩基の存在下に行なわれる。
好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸等の有機酸および塩酸、臭化水素酸、
硫酸、燐酸等の無機酸が挙げられる。
好適な塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等の水酸化アルカリ金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム等の炭酸アルカリ金属などが挙げられる。
この反応は通常、水溶液中で行われるが、液状の酸を溶
媒として使用することもできる。
反応温度は特に限定されないが、通常は常温、加温下ま
たは加熱下に反応が行われる。
(■)化合物[■]の製造 化合物[Vr]は化合物[V]またはその塩を脱炭酸反
応に付すことにより製造することができる。
この反応は通常、例えばジメチルホルムアミド、キノリ
ン、ピリジン、N、N−ジメチルアニノンのような溶媒
中で行われる。
反応温度は特に限定きれないが、通常加温または加熱下
に行われる。
このようにして得られる化合物[VI]は以下の公知の
工程によりビロールニドリンまたはその類似体に導くこ
とができる。
すなわち、まず化合物[VI]を、冷却下ないし加温下
に、テトラヒドロフラン、ブタノール、ジオキサン、ト
ルエン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、N−メチルピロリドンのような溶媒中で、塩基(例え
ばナトリウムエトキサイド、カリウム第3級ブトキサイ
ドなど)の存在ドに修酸ジ(低級)アルキル(例えば修
酸ジメチル、修酸ジエチルなど)と反応させて、2−ニ
トロフェニルピルビン酸エステル誘導体 (:式中、Xはハロゲン原子、R3は低級アルキル基を
それぞれ意味する) を得る。
次いで、アミノアセタールを用いた閉環工程、クロル化
工程、加水分解工程および脱炭酸工程を順次繰て、ビロ
ールニドリンまたはその類似体C式中、Xはハロゲン原
子を意味する)に導くことができる。
[効果] この発明によれば、発癌性を有する物質[IX]を製造
する際に副生成物として得られるか、または工業的に合
成が難しく、収率も悪い化合物[■]を出発物質として
用いることなしに、2−ニトロトルエン誘導体[■コを
収率よく製造することができるという優れた効果を奏す
る。
[実施例] 以下に、この発明を実施例および、参考例により説明す
る。
夾1遭ユ (1)35%塩酸(1000g )および水(1001
00O)を32の三頚フラスコに入れ、2.6−シクロ
ロアニノン(500g)を加え、冷却する。亜硝酸ナト
リウム(277g)の水(750戚)中溶液を一5〜5
℃で30分間かけて滴下し、同温で1時間攪拌する。
一方10!の三頚フラスコに亜硝酸ナトリウム(128
0g )および水(sooomu )を入れて溶解させ
た後、酸化第−NiN11(150および酢酸エチル(
1500mm )を加え一10°Cに冷却する。この亜
硝酸水溶液に先のジアゾ化反応液を一10〜0°Cで滴
下し、同温で1時間攪拌する。
反応終了後酢酸エチル層を分液する。水層は更に酢酸エ
チル(500mQ )で抽出する。酢酸エチル層を合し
、17.5%・塩酸(10100O)、飽和食塩水(1
0100O)、飽和重曹水(1000+1111 )お
よび飽和食塩水(100OIILQ )で各々洗浄する
2.6−ジクロロニトロベンゼンを含む酢酸エチル層を
102の三頚フラスコに移し、ジメチルホルムアミド(
5000mm ) 、粉砕した炭酸カリウム(853g
)およびシアノ酢酸メチル(612g)を加え105〜
110°Cで6時間加熱する。
反応終了後室温まで冷却し、水(4500mm )およ
び酢酸エチル(1500mll )を加え、17.5%
塩酸(約1500mQ)で反応液のpttを2〜3とし
、酢酸エチル層を分液する。水層は更に酢酸エチル(1
000mm )で抽出する。酢酸エチル層を合し、飽和
食塩水(1soom )で洗浄後、減圧下濃縮乾固する
2−ンアノー2−(3−クロロ−2−二トロフェニル)
酢酸メチルを含む濃縮残渣に、酢酸(2000mll)
および35%塩酸(zooomBを加え5時間加熱還流
する6反応終了後、水(zooomu )およびメチル
イソブチルケトン(250011LQ )を加え、メチ
ルイソブチルケトン層を分取する。水層は更にメチルイ
ソブチルケトン(1soomu )で抽出する。メチル
イソブチルケトン層を合し、水(2000mm )およ
び24%水酸化ナトリウム水溶液(1500mm )を
加えpH12〜13とした後水層を分取する。メチルイ
ソブチルケトン層は10%水酸化ナトリウム水溶液(1
500mm)で抽出する。水層を合し、175%塩酸(
約3500mQ )を滴下しpH2,5に調整し、結晶
を析出させる。10°C以下まで冷却後、析出結晶を濾
過し、水(1500111Q )で洗浄した後真空乾燥
して、3−クロロ−2−ニトロフェニル酢酸(448,
5g )を得る。
IR(スジ1−ル)  ’  1720. 1530.
 1360. 1230  cm−’NMR(CDCl
2.δ) : 7.6〜7.3 (3H,m)、 3.
8 (2H,5)(2) (1)で得られた3−クロロ
−2−二トロフェニル酢酸(384g)にジメチルホル
ムアミド(2000m11)を加え、125〜130℃
で3時間加熱後、減圧下ツメチルホルムアミドを留去す
る。濃縮オイルにジクロロメタン(1344m11 )
を加え水洗し残存するジメチルホルムアミドを除去する
。ジクロロメタン層を減圧下に留去し、残渣オイルを真
空蒸留して、油状の3−クロロ−2−二トロトルエン(
269,5g )を得る。
沸点: 68−70℃/ 0.2mmHgNMR(CD
C13,S ) ’ 2.38 (3H,s)= 7.
23〜745(3H,m) 参考例1 実施例1−(2)で得られた3−クロロ−2−二トロト
ルエン(240g)およびジメチルホルムアミド(12
00mm)を、5りの三頚フラスコに入れ、室温まで冷
却し、この反応液に修酸ジエチル(410g)を加え、
次いでナトリウムエトキサイド(190,4g)を4分
割で加え、内温20〜30°Cで、4時間反応する。
反応液を水(2400mu )、メタノール(240m
A)、17.5%塩酸(960111Q )の溶液に1
時間を要して、内温25°C以下で滴下する0滴下後θ
〜10℃に冷却し、析出した結晶を濾過する。
水(480m11 )で洗浄した後、真空乾燥して、3
−クロロ−2−二トロフェニルビルビン酸エチル(36
8,6g )を得る。
IR(スジ1−ル)  :  3360. 1700.
 1660. 1540. 1420゜1370、12
50 cm−1

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xはハロゲン原子を意味する)で示される化合
    物を酸化して、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xは前と同じ意味)で示される化合物を得、次
    いでこれを一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2は、それぞれシアノ基また
    はエステル化されたカルボキシ基を意味する)で示され
    る化合物と反応させて、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびXはそれぞれ前と同じ意
    味)で示される化合物を得、次いでこれを加水分解反応
    に付して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xは前と同じ意味)で示される化合物またはそ
    の塩を得、さらにこれを脱炭酸反応に付して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xは前と同じ意味)で示される2−ニトロトル
    エン誘導体を得ることを特徴とする2−ニトロトルエン
    誘導体の製造法。
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