JPH0234953B2 - - Google Patents

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JPH0234953B2
JPH0234953B2 JP55092059A JP9205980A JPH0234953B2 JP H0234953 B2 JPH0234953 B2 JP H0234953B2 JP 55092059 A JP55092059 A JP 55092059A JP 9205980 A JP9205980 A JP 9205980A JP H0234953 B2 JPH0234953 B2 JP H0234953B2
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JP
Japan
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group
ester
groups
acid
formula
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JP55092059A
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Japanese (ja)
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JPS5716886A (en
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Shinji Hashimoto
Daijiro Hagiwara
Kozo Sawada
Matsuhiko Araya
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Priority to DE8181105077T priority patent/DE3173613D1/en
Priority to EP81105077A priority patent/EP0043546B1/en
Priority to US06/279,546 priority patent/US4369312A/en
Publication of JPS5716886A publication Critical patent/JPS5716886A/en
Publication of JPH0234953B2 publication Critical patent/JPH0234953B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D503/00Heterocyclic compounds containing 4-oxa-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxapenicillins, clavulanic acid derivatives; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D499/00Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D505/00Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

この発明は、オキソ基を有するアゼチジノン化
合物もしくはその塩類またはその水化物の新規な
製造法に関する。 さらに詳細には、本発明は抗菌作用を有するア
ゼチジノン化合物を合成する中間体として有用な
オキソ基を有するアゼチジノン化合物もしくはそ
の塩類またはその水化物の新規な製造法に関する
ものである。 従来、アミノ基または置換されたアミノ基を有
するアゼチジノン化合物からオキソ基を有するア
ゼチジノン化合物を得る方法は下記に示す文献に
よつて知られているが、これらの方法は収率が記
載されていないかまたは反応工程が長く、工業的
な面から満足できるものではなかつた。 (1) 特許公開公報昭和52年第102296号 (2) ジエー・シー・シーハン(J.C.Sheehan):
ジヤーナルオブジオガニツクケミストリ、第42
巻、第1012頁(1977年) 本発明の発明者らは鋭意研究の結果、抗菌作用
を有するアゼチジノン化合物を合成する中間体と
して有用なオキソ基を有するアゼチジノン化合物
の新規な製造法を発明することに成功した。 この発明で製造されるオキソ基を有するアゼチ
ジノン化合物は下記の一般式で示される。 [式中Aは基
The present invention relates to a novel method for producing an azetidinone compound having an oxo group, a salt thereof, or a hydrate thereof. More specifically, the present invention relates to a novel method for producing an azetidinone compound having an oxo group, a salt thereof, or a hydrate thereof, which is useful as an intermediate for synthesizing an azetidinone compound having antibacterial activity. Conventionally, methods for obtaining an azetidinone compound having an oxo group from an azetidinone compound having an amino group or a substituted amino group are known from the documents listed below, but the yields of these methods are not described. Alternatively, the reaction process is long and unsatisfactory from an industrial standpoint. (1) Patent Publication No. 102296 of 1972 (2) J.C. Sheehan:
Journal of Geoganic Chemistry, No. 42
Vol., p. 1012 (1977) As a result of intensive research, the inventors of the present invention have invented a new method for producing azetidinone compounds having an oxo group, which are useful as intermediates for synthesizing azetidinone compounds having antibacterial activity. succeeded in. The azetidinone compound having an oxo group produced by this invention is represented by the following general formula. [In the formula, A is a group

【式】または[expression] or

【式】 (基中、R3は水素もしくはアルキル、R4は水
素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アシルオ
キシメチルもしくは置換基を有していてもよい複
素環チオメチル、R5はカルボキシもしくは保護
されたカルボキシ、Xは―S―もしくは―O―を
それぞれ意味する) この発明の製造法を反応式で示すと、以下の通
りである。 〔式中、R1はトリハロメタンスルホニル基、
R2はアシル基、Aは基
[Formula] (In the group, R 3 is hydrogen or alkyl, R 4 is hydrogen, halogen, alkyl, alkoxy, acyloxymethyl or a heterocyclic thiomethyl which may have a substituent, R 5 is carboxy or protected carboxy , X means -S- or -O-, respectively) The reaction formula of the production method of this invention is as follows. [In the formula, R 1 is a trihalomethanesulfonyl group,
R 2 is an acyl group, A is a group

【式】または[expression] or

【式】 (基中、R3は水素もしくはアルキル、R4は水
素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アシルオ
キシメチルもしくは置換基を有していてもよい複
素環チオメチル、R5はカルボキシもしくは保護
されたカルボキシ、Xは―S―もしくは―O―を
それぞれ意味する)をそれぞれ意味する] オキソ基を有するアゼチジノン化合物()な
らびに製造法2〜4の出発物質()、(′)お
よび()における塩類としては例えば、ナトリ
ウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシ
ウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属
塩、アンモニウム塩などの無機塩基との塩、トリ
メチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン
塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、
N,N′―ジベンジルエチレンジアミン塩、N―
メチルグルカミン塩、ジエタノールアミン塩、ト
リエタノールアミン塩、トリス(ヒドロキシメチ
ルアミノ)メタン塩等の有機塩基との塩が挙げら
れる。 また製造法1の出発物質()における塩類と
しては例えば、上記の塩基との塩に加え、塩酸
塩、臭化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸との塩、ぎ
酸塩、酢酸塩、メタンスルホン酸塩、p―トルエ
ンスルホン酸塩等の有機酸との塩が挙げられる。 次に本発明の目的化合物()および製造法1
〜5で使用される出発物質()、()、(′)
および()における定義について、以下に詳述
する。 特にことわらない限り、「低級」の語は1ない
し6個の炭素原子を含む基を包含し、「高級」の
語は7ないし18個の炭素原子を含む基を包含す
る。 R1における「トリハロメタンスルホニル基」
としては例えば、トリフルオロメタンスルホニル
等が挙げられる。 R2における「アシル基」としては脂肪族アシ
ル基、芳香環を含むアシル基および複素環を含む
アシル基を包含し、このようなアシル基の適当な
例としては例えば、ホルミル、アセチル、ヘキサ
ノイル、ヘプタノイル、ステアロイル等の低級ま
たは高級アルカノイル基、メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、第3級ブトキシカルボニ
ル、第3級ペンチルオキシカルボニル、ヘプチル
オキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル等
の低級または高級アルコキシカルボニル基、メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル、オクタンスル
ホニル等の低級または高級アルカンスルホニル
基、カルバモイル基、モノ―、ジ―もしくはトリ
ハロアルカノイル(例えば、クロロアセチル、ジ
クロロアセチル、トリクロロアセチル等)等のア
ミノ保護基で保護されたカルボモイル基のような
脂肪族アシル基、ベンゾイル、トルオイル、ナフ
トイル等のアロイル基、フエニルアセチル、フエ
ニルプロピオニル等のフエニル(低級)アルカノ
イルなどのアル(低級)アルカノイル基、フエノ
キシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等の
アリールオキシカルボニル基、フエノキシアセチ
ル、フエノキシプロピオニル等のフエノキシ(低
級)アルカノイルなどのアリールオキシ(低級)
アルカノイル基、フエニルグリオキシロイル、ナ
フチルグリオキシロイル等のアリールグリオキシ
ロイル基、ベンゼンスルホニル、p―トルエンス
ルホニル等のアレーンスルホニル基のような芳香
族アシル基、テノイル、フロイル等の複素環カル
ボニル基、チエニルアセチル、フリルアセチル等
の複素環(低級)アルカノイル基、チエニルグリ
オキシロイル、フリルグリオキシロイル等の複素
環グリオキシロイル基のような複素環式アシル基
が含まれ、上記複素環カルボニル基、複素環(低
級)アルカノイル基、および複素環グリオキシロ
イル基における複素環部分としては、さらに詳細
には、例えば酸素、硫黄、窒素等の複素原子を少
なくとも1個有する飽和または不飽和、単環また
は多環複素環式基が含まれる。そのうち、特に好
ましい複素環式基としては、例えばチエニル、ジ
ヒドロチイニル等の1ないし2個の硫黄原子を含
む不飽和3ないし8員(好ましくは5または6
員)単環複素環式基、フリル基の酸素原子を含む
不飽和3ないし8員(好ましくは5ないし6員)
単環複素環式基等が含まれる。 上に述べたアシル基は、所望により、1ないし
5個の同一または異なる適当な置換基を有してい
てもよい。置換基としては、例えばメチル、エチ
ル等の低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ等の低級アルコキシ基、メチルチオ、エ
チルチオ等の低級アルキルチオ基、メチルアミノ
等の低級アルキルアミノ基、シクロペンチル、シ
クロヘキシル等のシクロ(低級)アルキル基、シ
クロヘキセニル、シクロヘキサジエニル等のシク
ロ(低級)アルケニル基、フルオロ、クロロ、ブ
ロモ等のハロゲン、アミノ基、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシ基、後述の保護されたカルボキシ
基、スルホ基、スルフアモイル基、イミノ基、オ
キソ基、アミノメチル、アミノエチル等のアミノ
(低級)アルキル基等が例示される。 このように定義されたR2におけるアシル基の
好ましい例としては、トリハロメタンスルホニル
基および低級アルカノイル基が挙げられる。 R3およびR4における「アルキル」は抵級また
は高級アルキル基を含み、このような基の具体例
としては例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、第3級ブチ
ル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、オクチ
ル等が挙げられ、好ましくは低級アルキル基が、
さらに好ましくはC1―C3アルキル基が挙げられ
る。 R4におけるハロゲンとしては例えば、クロロ、
ブロモ、ヨード等が挙げられる。 R4における「アルコキシ」は低級または高級
アルコキシ基を含み、このような基の具体例とし
ては例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、第3
級ブトキシ、ベンチルオキシ、ネオペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ等が挙げら
れ、好ましくは低級アルコキシ基が、さらに好ま
しくはC1―C3アルコキシ基が挙げられる。 R4における「アシルオキシメチル」のアシル
部分は脂肪族アシル基、芳香環を含むアシル基お
よび複素環を含むアシル基を包含し、このような
アシル基の具体例としては、前記R2で例示した
アシル基における具体例をそのまま挙げることが
でき、好ましくは低級アルカノイル基およびアミ
ノ保護基で保護されたカルバモイル基が、さらに
好ましくはC1―C3アルカノイル基およびトリハ
ロ(低級)アルカノイルカルバモイル基が挙げら
れる。 R4における「置換基を有していてもよい複素
環チオメチル」の複素環部分としては例えば酸
素、硫黄、窒素等の複素原子を少なくとも1個有
する飽和または不飽和、単環または多環複素環式
基が含まれる。そのうち、特に好ましい複素環式
基としては、例えばピロリル、ピロリニル、イミ
ダゾリル、ピラゾリル、ピリジンおよびそのN―
オキサイド、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、
ピラジニル、ピリダジニル、例えば、4H―1,
2,4―トリアゾリル、1H―1,2,3―トリ
アゾリル、2H―1,2,3―トリアゾリルのよ
うなトリアゾリル、例えば1H―テトラゾリル、
2H―テトラドリルのようなテトラゾリル等の1
ないし4個の窒素原子を含む不飽和3ないし8員
(好ましくは5または6員)単環複素環式基、ピ
ロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピ
ペラジニル等の1ないし4個の窒素原子を含む飽
和3ないし8員(好ましくは5または6員)単環
複素環式基、インドリル、イソインドリル、イン
ドリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリル、イ
ソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル
等の1ないし4個の窒素原子を含む不飽和縮合複
素環式基、オキサゾリル、イソオキサゾリル、例
えば1,2,4―オキサジアゾリル、1,3,4
―オキサジアゾリル、1,2,5―オキサジアゾ
リルのようなオキサジアゾリル等の1ないし2個
の酸素原子と1ないし3個の窒素原子とを含む不
飽和3ないし8員(好ましくは5または6員)単
環複素環式基、モルホリニル、シドノニル等の1
ないし2個の酸素原子と1ないし3個の窒素原子
とを含む飽和3ないし8員(好ましくは5または
6員)単環複素環式基、ベンズオキサゾリル、ベ
ンズオキサジアゾリル等の1ないし2個の酸素原
子と1ないし3個の窒素原子とを含む不飽和縮合
複素環式基、チアゾリル、イソチアゾリル、例え
ば1,2,3―チアジアゾリル、1,2,4―チ
アジアゾリル、1,3,4―チアジアゾリル、
1,2,5―チアジアゾリルのようなチアジアゾ
リル、ジヒドロチアジニル等の1ないし2個の硫
黄原子と1ないし3個の窒素原子とを含む不飽和
3ないし8員(好ましくは5または6員)単環複
素環式基、チアゾリジニル等の1ないし2個の硫
黄原子と1ないし3個の窒素原子とを含む飽和3
ないし8員(好ましくは5または6員)単環複素
環式基、チエニル、ジヒドロジチイニル等の1な
いし2個の硫黄原子を含む不飽和3ないし8員
(好ましくは5または6員)単環複素環式基、ベ
ンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等の1な
いし2個の硫黄原子と1ないし3個の窒素原子と
を含む不飽和縮合複素環式基、フリル等の酸素原
子を含む不飽和3ないし8員(好ましくは5ない
し6員)単環複素環式基、ジヒドロオキサチイニ
ル等の酸素原子と1ないし2個の硫黄原子とを含
む不飽和3ないし8員(好ましくは5ないし6
員)単環複素環式基、ベンゾチエニル、ベンゾジ
チイニル等の1ないし2個の硫黄原子を含む不飽
和縮合複素環式基、ベンゾオキサチイニル等の酸
素原子と1ないし2個の硫黄原子とを含む不飽和
縮合複素環式基等が含まれる。 このような複素環式基は、所望により、1ない
し5個の同一または異なる適当な置換基を有して
いてもよい。置換基としては、例えばメチル、エ
チル等の低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ等の低級アルコキシ基、メチルチオ、
エチルチオ等の低級アルキルチオ基、メチルアミ
ノ等の低級アルキルアミノ基、シクロペンチル、
シクロヘキシル等のシクロ(低級)アルキル基、
シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル等のシ
クロ(低級)アルケニル基、ヒドロキシ基、クロ
ロ、ブロモ等のハロゲン、アミノ基、シアノ基、
ニトロ基、カルボキシ基、後述の保護されたカル
ボキシ基等が挙げられ、好ましくは低級アルキル
を有していてもよい1ないし2個の硫黄原子と1
ないし3個の窒素原子とを含む不飽和5もしくは
6員単環複素環式基または低級アルキルを有して
いてもよい1ないし4個の窒素原子を含む不飽和
5もしくは6員単環複素環式基が、さらに好まし
くはチアジアゾリル基または低級アルキルを有す
るテトラゾリル基が挙げられる。 R5における「保護されたカルボキシ」として
は、通常のセフアロスポリンもしくはペニシリン
骨核の4位もしくは3位のカルボキシ保護基とし
て用いられる、適当な保護基で保護されたカルボ
キシ基が含まれ、そのように保護されたカルボキ
シ基としては例えば、エステル化されたカルボキ
シ基が含まれる。 上記エステル化されたカルボキシ基のエステル
部分の適当な例としては、メチルエステル、エチ
ルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエ
ステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、
第3級ブチルエステル、ペンチルエステル、第3
級ペンチルエステル、ヘキシルエステル等の低級
アルキルエステル、1―シクロプロピルエチルエ
ステル等の低級シクロアルキル(低級)アルキル
エステル、ビニルエステル、アリルエステル等の
低級アルケニルエステル、エチニルエステル、プ
ロピニルエステル等の低級アルキニルエステル、
メトキシメチルエステル、エトキシメチルエステ
ル、イソソプロポキシメチルエステル、1―メト
キシエチルエステル、1―エトキシジエチルエス
テル等の低級アルコキシアルキルエステル、メチ
ルチオメチルエステル、エチルチオメチルエステ
ル、エチルチオエチルエステル、イソプロピルチ
オメチルエステル等の低級アルキルチオアルキル
エステル、2―ヨードエチルエステル、2,2,
2―トリクロロエチルエステル等のモノ(もしく
はジもしくふはトリ)ハロ(低級)アルキルエス
テル、アセトキシメチルエステル、プロピオニル
オキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエ
ステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロ
イルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシ
メチルエステル、2―アセトキシエチルエステ
ル、2―プロピオニルオキシエチルエステル等の
低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエステ
ル、メシルメチルエステル、2―メシルエチルエ
ステル等の低級アルカンスルホニル(低級)アル
キルエステル、ベンジルエステル、4―メトキシ
ベンジルエステル、4―ニトロベンジルエステ
ル、フエネチルエステル、トリチルエステル、ジ
フエニルメチルエステル、ビス(メトキシフエニ
ル)メチルエステル、3,4―ジメトキシベンジ
ルエステル等の所望によりニトロ、ヒドロキシ、
低級アルコキシ基を1個またはそれ以上の適当な
置換基を有していてもよいフエニル(低級)アル
キルエステルのようなアル(低級)アルキルエス
テル、フエニルエステル、トリルエステル、第3
級ブチルフエニルエステル、キシリルエステル、
メシチルエステル、クメニルエステル、4―クロ
ロフエニルエステル、4―メトキシフエニルエス
テル等の1個またはそれ以上の置換基を有してい
てもよい、所望によりハロゲン、低級アルコキシ
基で置換されていてもよい置換または非置換フエ
ニルエステルのようなアリールエステル、トリメ
チルシリルエステル等のトリ(低級)アルキルシ
リルエステル、メチルチオエステル、エチルチオ
エステル等の低級アルキルチオエステル等が含ま
れる。 この発明の目的化合物()の製造法をさらに
詳しく説明すると次のとおりである。 (1) 製造法1: 化合物()またはその塩類は化合物()も
しくはそのアミノ基における反応性誘導体または
その塩類にトリハロメタンスルホニル化剤を反応
させることにより製造できる。 この反応で用いられる原料化合物()は公知
および新規化合物を含み、新規化合物は公知化合
物を合成する方法と同様か、または常法により製
造することができる。 化合物()のアミノ基における反応性誘導体
としては例えば、化合物()とビス(トリメチ
ルシリル)アセトアミド、トリメチルシリルアセ
トアミド等のシリル化合物との反応で得られるシ
リル誘導体、イソシアネート、イソチオシアネー
ト等、アミノ基とアセトアルデヒド、イソペント
アルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデ
ヒド、フエニルアセトアルデヒド、p―ニトロベ
ンズアルデヒド、m―クロロベンズアルデヒド、
p―クロロベンズアルデヒド、ヒドロキシナフト
アルデヒド、フルフラール、チオフエンカルボア
ルデヒド等のアルデヒド化合物、またはアセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等のケ
トン化合物との反応で得られるシツフ塩基または
そのエナミン型互変異性体が含まれる。 この反応で用いられるトリハロメタンスルホニ
ル化剤としては例えば、トリハロメタンスルホン
酸またはその酸ハライドもしくは酸無水物等のト
リハロメタンスルホン酸の反応性誘導体が含ま
れ、特に好ましいものとしては酸クロライド、酸
ブロマイド、対称型酸無水物が挙げられる。 この反応は好ましくは塩基の存在下で行なわ
れ、このような塩基としては例えば、水素化ナト
リウム等の水素化アルカリ金属、水素化カルシウ
ム等の水素化アルカリ土類金属、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金
属、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の
炭酸水素アルカリ金属、ナトリウムメトキシサイ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブト
キサイド等のアルカリ金属アルコキサイド、トリ
エチルアミン等のトリアルキルアミン、N―メチ
ルアニリン、N―エチルアニリン等のN―アルキ
ルアリールアミン、N―メチルベンジルアミン、
N―エチルベンジルアミン等のN―アルキルアラ
ルキルアミンのような第3級アミン、N―メチル
モルホリン等のN―アルキルモルホリン化合物、
ピリジン、ルチジン、ピコリン、4―(N,N―
ジメチルアミノ)ピリジンのような4―(N,N
―ジアルキルアミノ)ピリジン等のピリジン化合
物、1,5―ジアザビシクロ〔4,3,0〕―5
―ノネン、1,5―ジアザビシクロ〔5,4,
0〕―5―ウンデセン、1,4―ジアザビシクロ
〔2,2,2〕オクタン等のジアザビシクロ化合
物、トリトンB等の第4級アンモニウム塩等の無
機または有機塩基が含まれる。 この反応において、トリハロメタンスルホン酸
またはその塩の状態で使用する際は、例えばN,
N′―ジシクロヘキシルカルボジイミド、N―シ
クロヘキシル―N′―モルホリノエチルカルボジ
イミド、N―シクロヘキシル―N′―(4―ジエ
チルアミノシクロヘキシル)カルボジイミド、
N,N′―ジエチルカルボジイミド、N,N′―ジ
イソプロピルカルボジイミド、N―エチル―
N′―(3―ジメチルアミノプロピル)カルボジ
イミド等のカルボジイミド化合物、ポリ燐酸エチ
ル、ポリ燐酸イソプロピル、塩化ホスホリル、5
塩化燐等の燐化合物、塩化チオニル、塩化オキサ
リルの他、ジメチルホルムアミド、ジエチルアセ
トアミド、N―メチルホルムアミド等のアミド化
合物と塩化チオニル、塩化ホスホリル、ホスゲン
等のハロゲン化合物との反応でで得られるいわゆ
るビルスマイヤー試薬等の縮合剤の存在下に行な
うのが好ましい。 この反応は通常、塩化メチレン、クロロホル
ム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチ
ル等のこの反応に悪影響を与えない慣用溶媒また
はそれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温程度の緩和な条件で行なわれる。 (2) 製造法2: 化合物()またはその塩類は化合物()ま
たはその塩類にアシル化剤を反応させることによ
り製造できる。 この反応で用いるアシル化剤としては、前記
R2の定義で述べたアシル基を導入しうる有機カ
ルボン酸、有機スルホン酸およびそれらの反応誘
導体が含まれる。 アシル化剤の適当な反応性誘導体としては例え
ば、酸ハライド、酸無水物、活性アミド、活性エ
ステル等が含まれるが、特に好ましいものとして
は、酸クロライド、酸ブロマイド、置換燐酸(例
えば、ジアルキル燐酸、フエニル燐酸、ジフエニ
ル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等)混
合無水物、ジアルキル亜燐酸混合無水物、亜硫酸
混合無水物、チオ硫酸混合無水物、硫酸混合無水
物、アルキル炭酸(例えば、メチル炭酸、エチル
炭酸)混合無水物、脂肪族カルボン酸(例えば、
ピバル酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2―エ
チルブタン酸、トリクロロ酢酸)混合無水物、芳
香族カルボン酸(例えば、安息香酸)混合無水物
等の酸混合無水物、対称型酸無水物等が挙げられ
る。 このような反応性誘導体は、実際に用いる化合
物()の種類に応じて適宜選択される。 この反応は、製造法1と実質的に同じ方法で行
なわれ、従つて、反応態様(例えば、塩基、縮合
剤等)、反応条件(例えば、反応溶媒、反応温度
等)等は製造法1で述べた説明をそのまま援用で
きる。 (3) 製造法3: 化合物(′)またはその塩類は化合物()
もしくはそのアミノ基における反応性誘導体また
はその塩類にアシル化剤を反応させることにより
製造できる。 この反応は製造法2と実質的に同じ方法で行な
われ、従つてアシル化剤の具体例等は製造法2で
述べた例をそのまま挙げることができ、更に反応
態様(例えば、塩基、縮合剤等)、反応条件(例
えば、反応溶媒、反応温度等)等は製造法1で述
べた説明をそのまま援用できる。 (4) 製造法:4 化合物()またはその塩類は化合物(′)
またはその塩類にトリハロメタンスルホニル化剤
を反応させることにより製造できる。 この反応は製造法1と実質的に同じ方法で行な
われ、従つてトリハロメタンスルホニル化剤、反
応態様(例えば、塩基、縮合剤等)、反応条件
(例えば、反応溶媒、反応温度等)等は製造法1
で述べた説明をそのまま援用できる。 (5) 製造法5: 化合物()もしくはその塩類またはその水化
物は化合物()またはその塩類に塩基を反応さ
せ、次いで加水分解に付することにより行なわれ
る。 この反応は、下記の反応式に示される如く、化
合物()またはその塩類に塩基を反応させ、カ
ルバニオン化合物(′)を経由して一旦化合物
()が生成し、更に該化合物を加水分解に付す
ることにより目的化合物()を得るものであ
る。 この反応で用いられる塩基としては、上記製造
法で例示した有機塩基の具体例がそのまま挙げ
られ、好ましくはトリアルキルアミンのような第
3級アミンおよびジアザビシクロ化合物が挙げら
れる。 また、この反応における加水分解は通常のC
=N―基をC=O基に変換しうる加水分解が適
用され、このような加水分解としては例えば、塩
酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸、ぎ酸、
酢酸、プロピオン酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸等の有機酸のような酸存在下にお
ける加水分解が挙げられる。 この反応は通常この反応に悪影響を与えない溶
媒中で行なわれ、そのような溶媒としては例え
ば、前記製造法1で述べた溶媒の具体例をそのま
ま挙げることができる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温程度の緩和な条件で行なわれる。 この反応において、式()で示されるオキソ
基を有するアゼチジノン化合物は次の式(′)
で示される水化物の形として単離されることもあ
るが、このような化合物も目的化合物に含まれ
る。 この発明の製造法において、上記製造法1〜4
の目的化合物()、()および(′)を単離
せずにそのまま次の製造法に付すこともできる。 この発明により製造されるオキソ基を有するア
ゼチジノン化合物もしくはその塩類またはその水
化物は例えば、下記に示す文献記載の方法によ
り、抗菌剤として有用な物質に変換できる。 (1) ジエー・シー・シーハン(J.C.Sheehan)等 ジヤーナルオブジオーガニツクケミストリー
第38巻第3227頁(1973年) (2) ジエー・シー・シーハン等、 ジヤーナルオブジオーガニツクケミストリー
第42巻 第1012頁(1977年) (3) 特許公開公報昭和52年第5788号 次にこの発明を実施例により詳細に説明する。 実施例 1 (1) 7―アミノ―3―(1―メチル―1H―テト
ラゾール―5―イルチオメチル)―3―セフエ
ム―4―カルボン酸ベンズヒドリルエステル
(3.96g)の塩化メチレン(60ml)溶液を−60
℃に冷却した後トリエチルアミン(3.35ml)お
よびトリフルオロメタンスルホン酸無水物
(4.71ml)を加え、同温度で1時間、−50〜−30
℃で30分間、次いで−30〜−10℃で30分間撹拌
する。反応液を冷塩化ナトリウム水溶液に注加
し、ジエチルエーテル(250ml)および酢酸エ
チル(50ml)の混合溶媒で抽出する。抽出液を
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後溶媒を留去する。得られる結
晶性固体をジイソプロピルエーテルおよびヘキ
サンの混合溶媒で洗浄すると、7―〔N,N―
ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミ
ノ〕―3―(1―メチル―1H―テトラゾール
―5―イルチオメチル)―3―セフエム―4―
カルボン酸ベンズヒドリルエステル(5.40g)
を得る。 mp125〜127℃(分解) IR(ヌジヨール):1800,1720,1240cm-1 MNR δ ppm(CDCl3):3.84(2H,ABq,
J=14Hz)、4.60(2H,ABq,J=13Hz)、
5.14(1H,d,J=5Hz)、5.90(1H,d,J
=5Hz)、7.07(1H,s)、7.3―7.7(10H,
m) (2) 7―アミノ―3―(1―メチル―1H―テト
ラゾール―5―イルチオメチル)―3―セフエ
ム―4―カルボン酸ベンズヒドリルエステル
(5.00g)の塩化メチレン(100ml)溶液を−65
℃に冷却した後トリエチルアミン(1.55ml)お
よびトリフルオロメタンスルホン酸無水物
(1.87ml)を加え、同温度で30分間撹拌する。
反応液を1N塩酸を含む塩化ナトリウム水溶液
および塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し硫酸
マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。得
られる油状物を酢酸エチルおよびジエチルエー
テルの混合溶媒で結晶化し取すると7―(N
―トリフルオロメタンスルホニルアミノ)―3
―(1―メチル―1H―テトラゾール―5―イ
ルチオメチル)―3―セフエム―4―カルボン
酸ベンズヒドリルエステル(4.90g)を得る。 mp100―105℃ IR(ヌジヨール):1780,1720,1240cm-1 NMR δppm(CDCl3):3.73(2H,ブロード
s)、3.80(3H,s)、4.33(2H,ABq,J=
13Hz)、5.00(1H,d,J=5Hz)、5.40(1H,
d,J=5Hz)、6.93(1H,s)、7.2―7.6
(10H,m) 上記で得られた化合物(1.00g)を塩化メチレ
ン(20ml)に溶解し、−60℃に冷却する。この溶
液にトリエチルアミン(0.32g)およびトリフル
オロメタンスルホン酸無水物(0.90g)を加え、
同温度で1時間、次いで−50〜−30℃で1時間撹
拌する。反応液を塩化ナトリウム水溶液に注加し
酢酸エチルで抽出する。抽出液を塩化ナトリウム
水溶液で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥した後溶
媒を留送する。得られる油状残渣をジイソプロピ
ルエーテルで結晶化すると7―〔N,N―ビス
(トリフルオロメタンスルホニル)アミノ〕―3
―(1―メチル―1H―テトラゾール―5―イル
チオメチル)―3―セフエム―4―カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル(0.85g)を得る。 IR(ヌジヨール):1800,1720,1240cm-1 (3) 7―〔N,N―ビス(トリフルオロメタンス
ルホニル)アミノ〕―3―(1―メチル―1H
―テトラゾール―5―イルチオメチル)―3―
セフエム―4―カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル(1.27g)の塩化メチレン(15ml)溶液を
−60℃に冷却した後トリエチルアミン(0.408
ml)を加え、同温度で1.5時間撹拌する。ベン
ゼンおよび0.1N塩酸の混液に注加した後有機
溶媒層を分取する。塩化ナトリウム水溶液で洗
浄し硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去
する。得られる油状物をシリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフイーに付しベンゼンおよび
アセトン(容量比100:2〜100:8)の混液で
溶出する。目的物を含む画分を集め、減圧下で
濃縮乾固すると、油状の7―オキソ―3―(1
―メチル―1H―テトラゾール―5―イルチオ
メチル)―3―セフエム―4―カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル(0.58g)を得る。 IR(CHCl3):1820,1780,1720cm-1 NMR δppm(CDCl3):3.76(2H,ブロード
s)、3.80(3H,s)、4.34(2H,ABq,J
=14Hz)、5.28(1H,s)、7.00(1H,s)、
7.1―7.5(10H,m) 実施例 2 (1) 7―アミノセフアロスポラン酸ベンズヒドリ
ルエステル(1.71g)の塩化メチレン(20ml)
溶液を−65℃に冷却した後トリエチルアミン
(1.06g)およびトリフルオロメタンスルホン
酸無水物(2.80g)を加える。2時間を要して
反応温度を徐々に0℃まで昇温させながら撹拌
する。この溶液を−60℃に冷却した後トリフル
オロメタンスルホン酸(0.57g)およびトリエ
チルアミン(0.21g)を加え、1時間40分を要
して反応温度を徐々に−10℃まで昇温させなが
ら撹拌する。反応液を酢酸エチルおよび水の混
液に注加した後有機溶媒層を分取する。この溶
液を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を
留去すると、7―〔N,N―ビス(トリフルオ
ロメタンスルホニル)アミノ〕セフアロスポラ
ン酸ベンズヒドリルエステル(2.49g)を得
る。 IR(CH2Cl2):1810,1750,1220,1160cm-1 (2) 7―アミノセフアロスポラン酸ベンズヒドリ
ルエステル(1.0g)の塩化メチレン(15ml)
溶液を−60℃に冷却した後窒素気流中でトリエ
チルアミン(0.277g)およびトリフルオロメ
タンスルホン酸無水物(0.708g)を加え、同
温度で10分間撹拌する。反応液を酢酸エチルお
よび希塩酸の混液に注加した後有機溶媒層を分
取する。この溶液を1N塩酸次いで塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥し
た後溶媒を留去する。得られる残渣をシリカゲ
ル(16g)を用いたカラムクロマトグラフイー
に付し、塩化メチレンおよび酢酸エチル(容量
比15:1)の混合溶媒で溶出する。目的物を含
む画分を集め溶媒を留去すると、7―(N―ト
リフルオロメタンスルホニルアミノ)セフアロ
スポラン酸ベンズヒドリルエステル(1.03g)
を得る。 IR(CH2Cl2):3300,1790,1730,1210cm-1 NMR δppm(DMSO―d6):1.95(3H,s)、
3.64(2H,m)、4.74(2H,ABq,J=13Hz)、
5.15(1H,d,J=4.5Hz)、5.67(1H,d,
J=4.5Hz)、6.89(1H,s)、7.2―7.5(10H,
m) このようにして得られた化合物(1.40g)を塩
化メチレン(20ml)に溶解し、−60℃に冷却した
後トリエチルアミン(0.264g)およびトリフル
オロメタンスルホン酸無水物(0.669g)を加え、
1時間20分を要して反応温度を−20℃まで徐々に
昇温させながら撹拌し、一夜冷蔵庫内で放置す
る。反応液を約3分の1まで濃縮し、濃縮液を酢
酸エチルに注加する。この溶液を1N塩酸、炭酸
水素ナトリウム水溶液、水次いで塩化ナトリウム
水溶液で順次洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去し得られる残渣(1.38g)をシリ
カゲル(25g)を用いたカラムクロマトグラフイ
ーに付し、塩化メチレンで溶出する。目的物を含
む画分を集め溶媒を留去すると、7―〔N,N―
ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミノ〕
セフアロスポラン酸ベンズヒドリルエステル
(0.64g)を得る。 IR(CH2Cl2):1810,1750,1220,1160cm-1 NMR δppm(CDCL3):2.03(3H,s)、3.50
(2H,ABq,J=16Hz)、5.00(1H,d,J
=4Hz)、5.10(2H,ABq,J=14Hz)、5.80
(1H,d,J=4Hz)、6.93(1H,s)、7.33
(10H,s) (3) 7―〔N,N―ビス(トリフルオロメタンス
ルホニル)アミノ〕セフアロスポラン酸ベンズ
ヒドリルエステル(2.49g)の塩化メチレン
(20ml)溶液を−60℃に冷却した後トリエチル
アミン(0.394g)を一度に加える。同温度で
40分間撹拌した後トリエチルアミン(0.073g)
を−50℃で加え、撹拌しながら30分を要して反
応温度を−35℃まで昇温させる。反応液を酢酸
エチルおよび希塩酸の混液に注加し、有機溶媒
層を分取する。この溶液を希塩酸次いで飽和塩
化ナトリウム水溶液で洗浄した後硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。得られる残渣(2.22g)をシ
リゲル(22g)を用いたカラムクロマトグラフ
イーに付し、塩化メチレン次いで塩化メチレン
および酢酸エチル(容量比10:1)の混合溶媒
で溶出する。目的物を含む画分を集め、溶媒を
留去すると油状の7―オキソセフアロスポラン
酸ベンズヒドリルエステル(1.40g)を得る。 IR(CH2Cl2):1830,1790,1740cm-1 NMR δppm(CDCl3):2.00(3H,s)、3.50
(2H,ABq,J=18Hz)、4.93(2H,ABq,
J=14Hz)、5.27(1H,s)、7.00(1H,s)、
7.33(10H,s) 実施例 3 (1) 6―アミノペニシラン酸ベンジルエステルの
p―トルエンスルホン酸塩(478mg)を酢酸エ
チルおよび炭酸水素ナトリウム水溶液の混液に
加える。酢酸エチル層を分取し残留する水溶液
を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を合し
飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、得られ
る残渣(320mg)を塩化メチレン(6ml)に溶
解した後トリエチルアミン(242mg)およびト
リフルオロメタンスルホン酸無水物(795mg)
を−60℃で加え、撹拌しながら約2時間半を要
して反応温度を0℃まで昇温させ、さらに0℃
で30分間撹拌を続ける。反応液に酢酸エチルを
加え希炭酸水素ナトリウム水溶液、1二塩酸お
よび飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し硫
酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去する
と、6―〔N,N―ビス(トリフルオロメタン
スルホニル)アミノ〕ペニシラン酸ベンジルエ
ステル(467mg)を得る。 IR(ヌジヨール):1800,1735,1725cm-1 NMR δppm(アセトン―d6):1.50(3H,
s)、1.73(3H,s)、4.52(1H,s)、5.25
(2H,s)、5.45(1H,d,J=3.5Hz)、6.26
(1H,d,J=3.5Hz)、7.38(5H,s) (2) 6―〔N,N―ビス(トリフルオロメタンス
ルホニル)アミノ〕ペニシラン酸ベンジルエス
テル(467mg)を塩化メチレン(6ml)に溶か
し−60℃に冷却する。この溶液にトリエチルア
ミン(71mg)を加え30分間撹拌した後さらにト
リエチルアミン(22mg)を加え、10分間撹拌す
る。反応液を酢酸エチルおよび1N塩酸の混液
に加えた後有機溶媒層を分取する。この溶液を
飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去し得られる
残渣(423mg)をシリカゲル(4.5g)を用いた
カラムクロマトグラフイーに付し、塩化メチレ
ンおよび酢酸エチル(容量比9:1)の混合溶
媒で溶出する。目的物を含む画分を集め溶媒を
留去すると、油状の6―オキソペニシラン酸ベ
ンジルエステル(239mg)を得る。 IR(CH2Cl2):1830,1780,1735cm-1 NMR δppm(CDCl3):1.48(3H,s)、1.55
(3H,s)、4.82(1H,s)、5.24(2H,s)、
5.79(1H,s)、7.36(5H,s)、 実施例 4 7―アミノセフアロスポラン酸ベンズヒドリル
エステル(1.71g)の塩化メチチレン(20ml)溶
液を−60℃に冷却した後トリエチルアミン(1.29
ml)およびトリフルオロメタンスルホル酸無水物
(1.52ml)を加え、撹拌しながら2.5時間を要して
反応温度を−8℃まで徐々に昇温させる。反応液
を−60℃に冷却し、トリエチルアミン(0.62ml)
を加えた後更に50分間撹拌する。この撹拌中に反
応温度を徐々に−30℃まで昇温させる。反応液を
酢酸エチルおよび水の混液に注加し、有機溶媒層
を分取する。この溶液を1N塩酸次いで飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を留去し、得られる残渣(2.34g)
をシリカゲル(25g)を用いたカラムクロマトグ
ラフイーに付し塩化メチレン、次いで塩化メチレ
ンおよびアセトン(容量比19:1)の混合溶媒で
溶出する。目的物を含む画分を集め、減圧下で濃
縮乾固すると、7―オキソセフアロスポラン酸ベ
ンズヒドリルエステル(0.86g)の粗製物を得
る。 IR(CH2Cl2):1830,1790,1740cm-1 実施例 5 7―アミノ―3―メトキシ―3―セフエム―4
―カルボン酸4―ニトロベンジルエステルにトリ
フルオロメタンスルホン酸無水物、トリエチルア
ミンおよび塩酸を実施例1〜4と同様に反応さ
せ、7―オキソ―3―メトキシ―3―セフエム―
4―カルボン酸4―ニトロベンジルエステル(1
水化物)を得る。 mp115〜120℃(分解) IR(ヌジヨール):1770,1750cm-1 NMR δppm(DMSO―d6):3.56(2H,ABq,
J=16Hz)、3.77(3H,s)、4.75(1H,s)、
5.33(2H,s)、7.78(2H,d,J=9Hz)、
8.33(2H,d,J=9Hz) 実施例 6 7―アミノ―3―クロロー3―セフエム―4―
カルボン酸4―ニトロベンジルエステルにトリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物、トリエチルアミ
ンおよび塩酸を実施例1〜4と同様に反応させ、
7―オキソ―3―クロロ―3―セフエム―4―カ
ルボン酸4―ニトロベンジルエステル(1水化
物)を得る。 mp105〜106℃(分解) IR(ヌジヨール):1760,1735cm-1 NMR δppm(DMSO―d6):3.83(2H,ABq,
J=17Hz)、4.97(1H,s)、5.50(2H,s)、
7.75(2H,d,J=9Hz)、8.30(2H,d,J=
9Hz) 実施例 7 7―アミノ―3―セフエム―4―カルボン酸4
―ニトロベンジルエステルにトリフルオロメタン
スルホン酸無水物、トリエチルアミンおよび塩酸
を実施例1〜4と同様に反応させ、7―オキソ―
3―セフエム―4―カルボン酸4―ニトロベンジ
ルエステルを得る。 mp141〜142℃(分解) IR(CH2Cl2):1830,1790,1730,1520cm-1 NMR δppm(CDCl3):3.60(2H,m)、5.29
(1H,s)、5.40(2H,s)、6.69(1H,dd,J
=5Hz,6Hz)、7.60,8.19(4H,ABq,J=
8Hz) 実施例 8 7―アミノ―2―メチル―3―セフエム―4―
カルボン酸2,2,2―トリクロロエチルエステ
ルにトリフルオロメタンスルホン酸無水物、トリ
エチルアミンおよび塩酸を実施例1〜4と同様に
反応させ、7―オキソ―2―メチル―3―セフエ
ム―4―カルボン酸2,2,2―トリクロロエチ
ルエステルを得る。 mp98℃ IR(CH2Cl2):1820,1780,1730cm-1 NMR δppm(CDCl3):1.52(3H,d,J=
7Hz)、3.75(1H,dq,J=6Hz,7Hz)、
4.93(2H,s)、5.25(1H,s)、6.79(1H,
d,J=6Hz) 実施例 9 7―アミノ―1―オキサデチア―3―セフエム
―4―カルボン酸ベンジルエステルにトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物、トリエチルアミンお
よび塩酸を実施例1〜4と同様に反応させ、7―
オキソ―1―オキサデチア―3―セフエム―4―
カルボン酸ベンジルエステルを得る。 IR(CH2Cl2):1820,1780,1720cm-1 NMR δppm(CDCl3):4.66(2H,m)、5.26
(1H,s)、5.33(2H,s)、6.45(1H,m)、
7.37(5H,s) 実施例 10 7―アミノ―3―〔N―(2,2,2―トリク
ロロアセトル)カルバモイルオキシメチル〕―3
―セフエム―4―カルボン酸ベンズヒドリルエス
テルにトリフルオロメタンスルホン酸無水物、ト
リエチルアミンおよび塩酸を実施例1〜4と同様
に反応させ、7―オキソ―3―〔N―(2,2,
2―トリクロロアセチル)カルバモイルオキシメ
チル〕―3―セフエム―4―カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステルを得る。 IR(CH2Cl2):3380,1825(肩)、1805,1790,
1750(肩)、1730cm-1 NMR δppm(CDCl3):3.60(2H,ABq,J
=20Hz)、5.15(2H,ABq,J=14Hz)、5.33
(1H,s)、7.10(1H,s)、7.44(10H,s)、
8.73(1H,ブロード s) 実施例 11 7―アミノ―3―メチル―3―セフエム―4―
カルボン酸2,2,2―トリクロロエチルエステ
ルにトリフルオロメタンスルホン酸無水物、トリ
エチルアミンおよび塩酸を実施例1〜4と同様に
反応させ、7―オキソ―3―メチル―3―セフエ
ム―4―カルボン酸2,2,2―トリクロロエチ
ルエステルを得る。 IR(CH2Cl2):1820,1780,1740cm-1 NMR δppm(CDCl3):2.37(3H,s)、3.50
(2H,ABq,J=18Hz)、4.93(2H,ABq,
J=11Hz)、5.38(1H,s) 実施例 12 7―アミノ―3―(1,3,4―チアジアゾー
ル―2―イルチオメチル)―3―セフエム―4―
カルボン酸ベンズヒドリルエステルにトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物、トリエチルアミンお
よび塩酸を実施例1〜4と同様に反応させ、7―
オキソ―3―(1,3,4―チアジアゾール―2
―イルチオメチル)―3―セフエム―4―カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステルを得る。 IR(CHCl3):1825,1780,1720,1665cm-1 実施例 13 7―アミノセフアロスポラン酸にトリフルオロ
メタンスルホン酸無水物、トリエチルアミンおよ
び塩酸を実施例1〜4と同様に反応させ、7―オ
キソセフアロスポラン酸を得る。 IR(ヌジヨール):3450〜3150,1835,1780,
1735,1710(肩)、1640cm-1 実施例 14 6―〔N,N―ビス(トリフルオロメタンスル
ホニル)アミノ〕ペニシラン酸ベンジルエステル
(0.80g)のテトラヒドロフラン(8ml)溶液を
−60℃に冷却した後1,5―ジアザビシクロ
〔5,4,0〕ウンデセン―5(0.298g)を加え、
同温度で30分間撹拌する。この反応液にp―トル
エンスルホン酸(1水化物)(0.32g)を加え、−
52℃で10分間撹拌する。反応液を酢酸エチルおよ
び水の混液に注加し、有機溶媒層を分取した後希
塩酸、次いで塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し得られ
る油状物(0.67g)に四塩化炭素を加え析出する
固体を去する。液を濃縮した後シリカゲル
(6.5g)を用いたカラムクロマトグラフイーに付
し、塩化メチレンおよび酢酸エチル(容量比6:
1)の混合溶媒で溶出する。目的物を含む画分を
集め、減圧下で濃縮乾固すると、黄色油状の6―
オキソペニシラン酸ベンジルエステル(280mg)
を得る。 IR(CH2Cl2):1830,1780,1735cm-1 実施例 15 (1) 7―(N―トリフルオロメタンスルホニルア
ミノ)セフアロスポラン酸ベンズヒドリルエス
テル(290mg)の塩化メチレン(6ml)溶液を
−60℃に冷却した後トリエチルアミン(199
mg)、次いで酢酸クロリド(150mg)を加え−40
℃で2時間撹拌する。反応液に酢酸エチルおよ
び氷水を加えた後有機溶媒層を分取する。この
溶液を水次いで塩化ナトリウム水溶液で洗浄し
硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去す
る。得られる残渣(510mg)をシリカゲル(3.5
g)を用いたカラムクロマトグラフイーに付し
塩化メチレンで溶出する。目的物を含む画分を
集め溶媒を留去すると、7―(N―アセチル―
N―トリフルオロメタンスルホニルアミノ)セ
フアロスポラン酸ベンズヒドリルエステル
(334mg)を得る。 IR(CH2Cl2):1800,1740,1215cm-1 NMR δppm(CDCl3):2.02(3H,s)、2.58
(3H,s)、3.36(2H,ABq,J=16Hz)、
4.99(1H,d,4.5Hz)、5.06(2H,ABq,J
=13Hz)、5.45(1H,d,J=4.5Hz)、6.92
(1H,s)、7.3(10H,s)
[Formula] (In the group, R 3 is hydrogen or alkyl, R 4 is hydrogen, halogen, alkyl, alkoxy, acyloxymethyl or a heterocyclic thiomethyl which may have a substituent, R 5 is carboxy or protected carboxy , X means -S- or -O-, respectively] The azetidinone compound () having an oxo group and the salts in the starting materials (), (') and () of Production Methods 2 to 4 are For example, alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts, alkaline earth metal salts such as calcium salts and magnesium salts, salts with inorganic bases such as ammonium salts, trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridine salts, picoline salts, and dicyclohexylamine. salt,
N,N'-dibenzylethylenediamine salt, N-
Examples include salts with organic bases such as methylglucamine salt, diethanolamine salt, triethanolamine salt, and tris(hydroxymethylamino)methane salt. Examples of salts in the starting material () of Production Method 1 include, in addition to the above-mentioned salts with bases, salts with inorganic acids such as hydrochlorides, hydrobromides, and sulfates, formates, acetates, Examples include salts with organic acids such as methanesulfonate and p-toluenesulfonate. Next, the object compound of the present invention () and manufacturing method 1
Starting materials (), (), (′) used in ~5
The definitions in and () are detailed below. Unless otherwise specified, the term "lower" includes groups containing 1 to 6 carbon atoms and the term "higher" includes groups containing 7 to 18 carbon atoms. "Trihalomethanesulfonyl group" in R 1
Examples include trifluoromethanesulfonyl. The "acyl group" in R 2 includes an aliphatic acyl group, an acyl group containing an aromatic ring, and an acyl group containing a heterocycle, and suitable examples of such acyl groups include formyl, acetyl, hexanoyl, Lower or higher alkanoyl groups such as heptanoyl and stearoyl, methoxycarbonyl,
Lower or higher alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, tertiary pentyloxycarbonyl, heptyloxycarbonyl, octyloxycarbonyl, lower or higher alkanesulfonyl groups such as methanesulfonyl, ethanesulfonyl, octanesulfonyl, carbamoyl groups, aliphatic acyl groups such as carbomoyl groups protected with amino-protecting groups such as mono-, di- or trihaloalkanoyl (e.g. chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl etc.), aroyl groups such as benzoyl, toluoyl, naphthoyl etc. alkanoyl groups such as phenyl (lower) alkanoyl such as phenyl acetyl and phenylpropionyl, aryloxycarbonyl groups such as phenoxycarbonyl and naphthyloxycarbonyl, phenoxyacetyl, phenoxypropionyl, etc. Aryloxy (lower) such as phenoxy (lower) alkanoyl
Alkanoyl groups, arylglyoxyloyl groups such as phenylglyoxyloyl and naphthylglyoxyloyl, aromatic acyl groups such as arenesulfonyl groups such as benzenesulfonyl and p-toluenesulfonyl, and heterocyclic carbonyl groups such as thenoyl and furoyl. , heterocyclic (lower) alkanoyl groups such as thienyl acetyl, furyl acetyl, heterocyclic glyoxyloyl groups such as thienylglyoxyloyl and furyl glyoxyloyl, and the above-mentioned heterocyclic carbonyl groups. , a heterocyclic (lower) alkanoyl group, and a heterocyclic glyoxyloyl group, more specifically, examples include saturated or unsaturated, monocyclic rings having at least one hetero atom such as oxygen, sulfur, or nitrogen. or a polycyclic heterocyclic group. Among these, particularly preferred heterocyclic groups include unsaturated 3- to 8-membered (preferably 5- or 6-membered) groups containing 1 to 2 sulfur atoms, such as thienyl and dihydrothienyl.
member) monocyclic heterocyclic group, unsaturated 3- to 8-membered (preferably 5- to 6-membered) containing oxygen atom of furyl group
Includes monocyclic heterocyclic groups and the like. The acyl groups mentioned above may optionally carry 1 to 5 suitable substituents, which may be the same or different. Examples of substituents include lower alkyl groups such as methyl and ethyl, lower alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, and propoxy, lower alkylthio groups such as methylthio and ethylthio, lower alkylamino groups such as methylamino, and cyclopentyl groups such as cyclopentyl and cyclohexyl. (Lower) alkyl groups, cyclo (lower) alkenyl groups such as cyclohexenyl and cyclohexadienyl, halogens such as fluoro, chloro and bromo, amino groups, cyano groups, nitro groups, carboxy groups, protected carboxy groups as described below, Examples include a sulfo group, a sulfamoyl group, an imino group, an oxo group, and an amino (lower) alkyl group such as aminomethyl and aminoethyl. Preferred examples of the acyl group in R 2 defined in this way include a trihalomethanesulfonyl group and a lower alkanoyl group. "Alkyl" in R 3 and R 4 includes lower or higher alkyl groups, and specific examples of such groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl, neopentyl. , hexyl, octyl, etc., preferably a lower alkyl group,
More preferred is a C 1 -C 3 alkyl group. Examples of halogen in R 4 include chloro,
Examples include bromo and iodine. "Alkoxy" in R 4 includes lower or higher alkoxy groups, and specific examples of such groups include methoxy, ethoxy, propoxy,
Isopropoxy, butoxy, isobutoxy, tertiary
Examples include butoxy, benzyloxy, neopentyloxy, hexyloxy, octyloxy, etc., preferably a lower alkoxy group, and more preferably a C 1 -C 3 alkoxy group. The acyl moiety of "acyloxymethyl" in R 4 includes an aliphatic acyl group, an acyl group containing an aromatic ring, and an acyl group containing a heterocycle, and specific examples of such acyl groups include those exemplified in R 2 above. Specific examples of the acyl group can be listed directly, and preferred are lower alkanoyl groups and carbamoyl groups protected with amino-protecting groups, and more preferred are C 1 - C 3 alkanoyl groups and trihalo (lower) alkanoyl carbamoyl groups. . The heterocyclic moiety of "optionally substituted heterocyclic thiomethyl" in R 4 is, for example, a saturated or unsaturated, monocyclic or polycyclic heterocyclic ring having at least one heteroatom such as oxygen, sulfur, or nitrogen. Contains formula groups. Among these, particularly preferred heterocyclic groups include, for example, pyrrolyl, pyrrolinyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyridine, and their N-
oxide, dihydropyridyl, pyrimidinyl,
Pyrazinyl, pyridazinyl, e.g. 4H-1,
Triazolyl such as 2,4-triazolyl, 1H-1,2,3-triazolyl, 2H-1,2,3-triazolyl, for example 1H-tetrazolyl,
1 of tetrazolyl such as 2H-tetradolyl
unsaturated 3- to 8-membered (preferably 5- or 6-membered) monocyclic heterocyclic groups containing 1 to 4 nitrogen atoms; saturated 3- to 8-membered (preferably 5 or 6-membered) monocyclic heterocyclic groups containing 1 to 4 nitrogen atoms, such as pyrrolidinyl, imidazolidinyl, piperidino, piperazinyl; 8-membered (preferably 5- or 6-membered) monocyclic heterocyclic group, unsaturated condensation containing 1 to 4 nitrogen atoms, such as indolyl, isoindolyl, indolizinyl, benzimidazolyl, quinolyl, isoquinolyl, indazolyl, benzotriazolyl, etc. Heterocyclic groups, oxazolyl, isoxazolyl, such as 1,2,4-oxadiazolyl, 1,3,4
-Unsaturated 3- to 8-membered (preferably 5- or 6-membered) monocyclic ring containing 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as oxadiazolyl, 1,2,5-oxadiazolyl, etc. 1 of heterocyclic groups, morpholinyl, cydononyl, etc.
a saturated 3- to 8-membered (preferably 5- or 6-membered) monocyclic heterocyclic group containing 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as benzoxazolyl, benzoxadiazolyl, etc. Unsaturated fused heterocyclic groups containing 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, thiazolyl, isothiazolyl, such as 1,2,3-thiadiazolyl, 1,2,4-thiadiazolyl, 1,3,4 -Thiadiazolyl,
Unsaturated 3- to 8-membered (preferably 5- or 6-membered) monocyclic ring containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as thiadiazolyl such as 1,2,5-thiadiazolyl, dihydrothiazinyl, etc. Saturated 3 containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as a heterocyclic group, thiazolidinyl, etc.
to 8-membered (preferably 5- or 6-membered) monocyclic heterocyclic groups; Ring heterocyclic group, unsaturated fused heterocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms such as benzothiazolyl and benzothiadiazolyl, unsaturated 3 containing oxygen atom such as furyl unsaturated 3- to 8-membered (preferably 5- to 6-membered) monocyclic heterocyclic group, containing an oxygen atom and 1 to 2 sulfur atoms, such as dihydrooxathinyl;
members) monocyclic heterocyclic groups, unsaturated fused heterocyclic groups containing 1 to 2 sulfur atoms such as benzothienyl and benzodithinyl, and oxygen atoms and 1 to 2 sulfur atoms such as benzoxathinyl; and unsaturated fused heterocyclic groups containing. Such heterocyclic groups may optionally have 1 to 5 suitable substituents, which may be the same or different. Examples of substituents include lower alkyl groups such as methyl and ethyl, methoxy, ethoxy,
Lower alkoxy groups such as propoxy, methylthio,
Lower alkylthio groups such as ethylthio, lower alkylamino groups such as methylamino, cyclopentyl,
Cyclo (lower) alkyl groups such as cyclohexyl,
Cyclo (lower) alkenyl groups such as cyclohexenyl and cyclohexadienyl, hydroxy groups, halogens such as chloro and bromo, amino groups, cyano groups,
Examples include a nitro group, a carboxy group, a protected carboxy group described below, and preferably one or two sulfur atoms which may have a lower alkyl group and one
an unsaturated 5- or 6-membered monocyclic heterocyclic group containing 1 to 3 nitrogen atoms or an unsaturated 5- or 6-membered monocyclic heterocyclic group containing 1 to 4 nitrogen atoms optionally having lower alkyl; The formula group is more preferably a thiadiazolyl group or a tetrazolyl group having lower alkyl. The "protected carboxy" in R 5 includes a carboxy group protected with an appropriate protecting group, which is used as a carboxy protecting group at the 4- or 3-position of a normal cephalosporin or penicillin core. Protected carboxy groups include, for example, esterified carboxy groups. Suitable examples of the ester moiety of the esterified carboxy group include methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester,
Tertiary butyl ester, pentyl ester, tertiary
Lower alkyl esters such as pentyl esters and hexyl esters, lower cycloalkyl (lower) alkyl esters such as 1-cyclopropylethyl esters, lower alkenyl esters such as vinyl esters and allyl esters, lower alkynyl esters such as ethynyl esters and propynyl esters. ,
Lower alkoxyalkyl esters such as methoxymethyl ester, ethoxymethyl ester, isopropoxymethyl ester, 1-methoxyethyl ester, 1-ethoxydiethyl ester, methylthiomethyl ester, ethylthiomethyl ester, ethylthioethyl ester, isopropylthiomethyl ester Lower alkylthioalkyl esters, 2-iodoethyl esters, 2,2, etc.
Mono (or di or tri) halo (lower) alkyl esters such as 2-trichloroethyl ester, acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, lower alkanoyloxy (lower) alkyl ester such as hexanoyloxymethyl ester, 2-acetoxyethyl ester, 2-propionyloxyethyl ester, lower alkanesulfonyl (lower) alkyl ester such as mesylmethyl ester, 2-mesylethyl ester, etc. , benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, trityl ester, diphenylmethyl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, etc. as desired. Hydroxy,
Al (lower) alkyl esters such as phenyl (lower) alkyl esters, phenyl esters, tolyl esters, tertiary
class butyl phenyl ester, xylyl ester,
It may have one or more substituents such as mesityl ester, cumenyl ester, 4-chlorophenyl ester, 4-methoxyphenyl ester, etc., and is optionally substituted with halogen or lower alkoxy group. Examples include aryl esters such as substituted or unsubstituted phenyl esters, tri(lower) alkylsilyl esters such as trimethylsilyl ester, and lower alkylthioesters such as methylthioester and ethylthioester. The method for producing the object compound () of the present invention will be explained in more detail as follows. (1) Production method 1: Compound () or its salts can be produced by reacting compound (), its reactive derivative at the amino group, or its salt with a trihalomethanesulfonylating agent. The raw material compounds () used in this reaction include known and novel compounds, and the new compounds can be produced by the same methods as those for synthesizing known compounds or by conventional methods. Examples of reactive derivatives of the amino group of the compound () include silyl derivatives obtained by reacting the compound () with silyl compounds such as bis(trimethylsilyl)acetamide and trimethylsilylacetamide, isocyanates, isothiocyanates, etc.; amino groups and acetaldehyde; Isopentaldehyde, benzaldehyde, salicylaldehyde, phenyl acetaldehyde, p-nitrobenzaldehyde, m-chlorobenzaldehyde,
Schiff base or its enamine type obtained by reaction with aldehyde compounds such as p-chlorobenzaldehyde, hydroxynaphthaldehyde, furfural, and thiophenecarbaldehyde, or ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone, and ethyl acetoacetate. Contains tautomers. The trihalomethanesulfonylating agent used in this reaction includes, for example, trihalomethanesulfonic acid or reactive derivatives of trihalomethanesulfonic acid such as its acid halide or acid anhydride, and particularly preferred are acid chloride, acid bromide, symmetric type Examples include acid anhydrides. This reaction is preferably carried out in the presence of a base, such as, for example, an alkali metal hydride such as sodium hydride, an alkaline earth metal hydride such as calcium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc. Alkali metal hydroxides such as, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate, alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tertiary butoxide, etc. , trialkylamines such as triethylamine, N-alkylarylamines such as N-methylaniline and N-ethylaniline, N-methylbenzylamine,
Tertiary amines such as N-alkylaralkylamines such as N-ethylbenzylamine, N-alkylmorpholine compounds such as N-methylmorpholine,
Pyridine, lutidine, picoline, 4-(N,N-
4-(N,N) such as dimethylamino)pyridine
pyridine compounds such as -dialkylamino)pyridine, 1,5-diazabicyclo[4,3,0]-5
-Nonene, 1,5-diazabicyclo[5,4,
0]-5-undecene, diazabicyclo compounds such as 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane, and inorganic or organic bases such as quaternary ammonium salts such as Triton B. In this reaction, when using trihalomethanesulfonic acid or its salt, for example, N,
N'-dicyclohexylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N'-morpholinoethylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N'-(4-diethylaminocyclohexyl)carbodiimide,
N,N'-diethylcarbodiimide, N,N'-diisopropylcarbodiimide, N-ethyl-
Carbodiimide compounds such as N'-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide, ethyl polyphosphate, isopropyl polyphosphate, phosphoryl chloride, 5
In addition to phosphorus compounds such as phosphorus chloride, thionyl chloride, and oxalyl chloride, amide compounds such as dimethylformamide, diethylacetamide, and N-methylformamide are reacted with halogen compounds such as thionyl chloride, phosphoryl chloride, and phosgene. It is preferable to carry out the reaction in the presence of a condensing agent such as Ear's reagent. This reaction is usually carried out in conventional solvents or mixtures thereof that do not adversely affect the reaction, such as methylene chloride, chloroform, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl acetate, and the like. Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out under mild conditions such as cooling or heating. (2) Production method 2: Compound () or its salts can be produced by reacting compound () or its salts with an acylating agent. As the acylating agent used in this reaction, the above-mentioned
Included are organic carboxylic acids, organic sulfonic acids, and reaction derivatives thereof into which the acyl group described in the definition of R 2 can be introduced. Suitable reactive derivatives of acylating agents include, for example, acid halides, acid anhydrides, active amides, active esters, etc., but particularly preferred are acid chlorides, acid bromides, substituted phosphoric acids (e.g., dialkyl phosphoric acids), etc. , phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, etc.) mixed anhydrides, dialkyl phosphorous mixed anhydrides, sulfurous mixed anhydrides, thiosulfuric acid mixed anhydrides, sulfuric acid mixed anhydrides, alkyl carbonates (e.g. methyl carbonic acid, ethyl carbonate) mixed anhydrides, aliphatic carboxylic acids (e.g.
Acid mixed anhydrides such as pivalic acid, pentanoic acid, isopentanoic acid, 2-ethylbutanoic acid, trichloroacetic acid) mixed anhydride, aromatic carboxylic acid (e.g. benzoic acid) mixed anhydride, symmetrical acid anhydrides, etc. . Such reactive derivatives are appropriately selected depending on the type of compound () actually used. This reaction is carried out in substantially the same manner as Production Method 1, and therefore the reaction mode (e.g. base, condensing agent, etc.), reaction conditions (e.g. reaction solvent, reaction temperature, etc.) are the same as Production Method 1. The explanation given can be used as is. (3) Production method 3: Compound (') or its salts are compound ()
Alternatively, it can be produced by reacting a reactive derivative at the amino group or a salt thereof with an acylating agent. This reaction is carried out in substantially the same manner as Production Method 2, and therefore, the specific examples of the acylating agent can be the same as those described in Production Method 2, and the reaction mode (e.g., base, condensing agent, etc.) can be cited as is. etc.), reaction conditions (for example, reaction solvent, reaction temperature, etc.), etc., the explanation given in Production Method 1 can be used as is. (4) Manufacturing method: 4 Compound () or its salts are compound (')
Alternatively, it can be produced by reacting a salt thereof with a trihalomethanesulfonylating agent. This reaction is carried out in substantially the same manner as Production Method 1, and therefore the trihalomethanesulfonylating agent, reaction mode (e.g., base, condensing agent, etc.), reaction conditions (e.g., reaction solvent, reaction temperature, etc.), etc. Law 1
The explanation given in can be used as is. (5) Production method 5: The compound () or its salt or its hydrate is produced by reacting the compound () or its salt with a base and then subjecting it to hydrolysis. In this reaction, as shown in the reaction formula below, compound () or a salt thereof is reacted with a base to form compound () via carbanion compound ('), and then the compound is subjected to hydrolysis. By doing so, the target compound () is obtained. As the base used in this reaction, the specific examples of the organic bases exemplified in the above production method can be mentioned as they are, and preferably tertiary amines such as trialkylamines and diazabicyclo compounds are mentioned. In addition, the hydrolysis in this reaction is a normal C
Hydrolysis that can convert =N- groups into C=O groups is applied, and examples of such hydrolysis include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, formic acid,
Examples include hydrolysis in the presence of acids such as organic acids such as acetic acid, propionic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, and the like. This reaction is usually carried out in a solvent that does not have an adverse effect on the reaction, and examples of such a solvent include the specific examples of the solvents mentioned in Production Method 1 above. Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out under mild conditions such as cooling or heating. In this reaction, the azetidinone compound having an oxo group represented by the formula () is expressed by the following formula (')
Although these compounds are sometimes isolated in the form of hydrates, such compounds are also included in the target compounds. In the production method of this invention, the above production methods 1 to 4
The target compounds (), () and (') can also be subjected to the next production method as they are without isolation. The azetidinone compound having an oxo group, its salt, or its hydrate produced by the present invention can be converted into a substance useful as an antibacterial agent, for example, by the method described in the following literature. (1) JC Sheehan et al., Journal of Organic Chemistry Vol. 38, p. 3227 (1973) (2) J.C. Sheehan et al., Journal of Organic Chemistry Vol. 42, p. 1012 (1977) (3) Patent Publication No. 5788 of 1972 Next, this invention will be explained in detail with reference to Examples. Example 1 (1) A solution of 7-amino-3-(1-methyl-1H-tetrazol-5-ylthiomethyl)-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (3.96 g) in methylene chloride (60 ml) - 60
After cooling to ℃, triethylamine (3.35 ml) and trifluoromethanesulfonic anhydride (4.71 ml) were added, and the mixture was heated at the same temperature for 1 hour at −50 to −30° C.
Stir for 30 minutes at °C, then for 30 minutes at -30 to -10 °C. The reaction mixture was poured into a cold aqueous sodium chloride solution and extracted with a mixed solvent of diethyl ether (250 ml) and ethyl acetate (50 ml). The extract is washed with an aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and then the solvent is distilled off. When the resulting crystalline solid is washed with a mixed solvent of diisopropyl ether and hexane, 7-[N,N-
Bis(trifluoromethanesulfonyl)amino]-3-(1-methyl-1H-tetrazol-5-ylthiomethyl)-3-cepheme-4-
Carboxylic acid benzhydryl ester (5.40g)
get. mp125-127℃ (decomposition) IR (Nujiol): 1800, 1720, 1240cm -1 MNR δ ppm (CDCl 3 ): 3.84 (2H, ABq,
J = 14Hz), 4.60 (2H, ABq, J = 13Hz),
5.14 (1H, d, J = 5Hz), 5.90 (1H, d, J
=5Hz), 7.07 (1H, s), 7.3-7.7 (10H,
m) (2) A solution of 7-amino-3-(1-methyl-1H-tetrazol-5-ylthiomethyl)-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (5.00 g) in methylene chloride (100 ml) at -65
After cooling to ℃, triethylamine (1.55 ml) and trifluoromethanesulfonic anhydride (1.87 ml) were added, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes.
The reaction solution is washed successively with an aqueous sodium chloride solution containing 1N hydrochloric acid and an aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and then the solvent is distilled off. The resulting oil was crystallized from a mixed solvent of ethyl acetate and diethyl ether to give 7-(N
-trifluoromethanesulfonylamino)-3
-(1-Methyl-1H-tetrazol-5-ylthiomethyl)-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (4.90 g) was obtained. mp100-105℃ IR (nujiol): 1780, 1720, 1240 cm -1 NMR δppm (CDCl 3 ): 3.73 (2H, broad s), 3.80 (3H, s), 4.33 (2H, ABq, J=
13Hz), 5.00 (1H, d, J=5Hz), 5.40 (1H,
d, J=5Hz), 6.93 (1H, s), 7.2-7.6
(10H, m) The compound obtained above (1.00g) was dissolved in methylene chloride (20ml) and cooled to -60°C. Add triethylamine (0.32 g) and trifluoromethanesulfonic anhydride (0.90 g) to this solution,
Stir at the same temperature for 1 hour, then at -50 to -30°C for 1 hour. The reaction solution was poured into an aqueous sodium chloride solution and extracted with ethyl acetate. The extract is washed with an aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and then the solvent is distilled off. The resulting oily residue is crystallized with diisopropyl ether to give 7-[N,N-bis(trifluoromethanesulfonyl)amino]-3
-(1-Methyl-1H-tetrazol-5-ylthiomethyl)-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (0.85 g) was obtained. IR (Nudiyol): 1800, 1720, 1240cm -1 (3) 7-[N,N-bis(trifluoromethanesulfonyl)amino]-3-(1-methyl-1H
-tetrazol-5-ylthiomethyl)-3-
A solution of cefem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (1.27 g) in methylene chloride (15 ml) was cooled to -60°C, and then triethylamine (0.408
ml) and stir at the same temperature for 1.5 hours. After pouring into a mixture of benzene and 0.1N hydrochloric acid, separate the organic solvent layer. After washing with an aqueous sodium chloride solution and drying with magnesium sulfate, the solvent is distilled off. The resulting oil was subjected to column chromatography using silica gel and eluted with a mixture of benzene and acetone (volume ratio 100:2 to 100:8). Fractions containing the target product were collected and concentrated to dryness under reduced pressure to form an oily 7-oxo-3-(1
-Methyl-1H-tetrazol-5-ylthiomethyl)-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (0.58 g) was obtained. IR (CHCl 3 ): 1820, 1780, 1720 cm -1 NMR δppm (CDCl 3 ): 3.76 (2H, broad s), 3.80 (3H, s), 4.34 (2H, ABq, J
= 14Hz), 5.28 (1H, s), 7.00 (1H, s),
7.1-7.5 (10H, m) Example 2 (1) 7-Aminocephalosporanic acid benzhydryl ester (1.71g) in methylene chloride (20ml)
After cooling the solution to -65°C, triethylamine (1.06 g) and trifluoromethanesulfonic anhydride (2.80 g) are added. Stirring is carried out while the reaction temperature is gradually raised to 0° C. over a period of 2 hours. After cooling this solution to -60°C, add trifluoromethanesulfonic acid (0.57g) and triethylamine (0.21g), and stir while gradually increasing the reaction temperature to -10°C over 1 hour and 40 minutes. . After pouring the reaction solution into a mixture of ethyl acetate and water, the organic solvent layer is separated. This solution was washed successively with water and a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off, yielding 7-[N,N-bis(trifluoromethanesulfonyl)amino]cephalosporanic acid benzhydryl ester (2.49 g). get. IR (CH 2 Cl 2 ): 1810, 1750, 1220, 1160 cm -1 (2) 7-aminocephalosporanic acid benzhydryl ester (1.0 g) in methylene chloride (15 ml)
After cooling the solution to -60°C, triethylamine (0.277 g) and trifluoromethanesulfonic anhydride (0.708 g) were added in a nitrogen stream, and the mixture was stirred at the same temperature for 10 minutes. After pouring the reaction solution into a mixture of ethyl acetate and dilute hydrochloric acid, the organic solvent layer is separated. This solution was washed with 1N hydrochloric acid and then with an aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off. The resulting residue was subjected to column chromatography using silica gel (16 g) and eluted with a mixed solvent of methylene chloride and ethyl acetate (volume ratio 15:1). Fractions containing the target product were collected and the solvent was distilled off to obtain 7-(N-trifluoromethanesulfonylamino)cephalosporanic acid benzhydryl ester (1.03 g).
get. IR (CH 2 Cl 2 ): 3300, 1790, 1730, 1210 cm -1 NMR δppm (DMSO-d 6 ): 1.95 (3H, s),
3.64 (2H, m), 4.74 (2H, ABq, J=13Hz),
5.15 (1H, d, J = 4.5Hz), 5.67 (1H, d,
J=4.5Hz), 6.89 (1H, s), 7.2-7.5 (10H,
m) The compound thus obtained (1.40 g) was dissolved in methylene chloride (20 ml), and after cooling to -60°C, triethylamine (0.264 g) and trifluoromethanesulfonic anhydride (0.669 g) were added,
The mixture was stirred while gradually raising the reaction temperature to -20°C over 1 hour and 20 minutes, and left in the refrigerator overnight. The reaction solution is concentrated to about one third, and the concentrated solution is poured into ethyl acetate. This solution is washed successively with 1N hydrochloric acid, an aqueous sodium bicarbonate solution, water, and an aqueous sodium chloride solution, and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the resulting residue (1.38 g) was subjected to column chromatography using silica gel (25 g) and eluted with methylene chloride. When fractions containing the target product are collected and the solvent is distilled off, 7-[N,N-
Bis(trifluoromethanesulfonyl)amino]
Cephalosporanic acid benzhydryl ester (0.64 g) is obtained. IR (CH 2 Cl 2 ): 1810, 1750, 1220, 1160 cm -1 NMR δppm (CDCL 3 ): 2.03 (3H, s), 3.50
(2H, ABq, J = 16Hz), 5.00 (1H, d, J
= 4Hz), 5.10 (2H, ABq, J = 14Hz), 5.80
(1H, d, J=4Hz), 6.93 (1H, s), 7.33
(10H,s) (3) A solution of 7-[N,N-bis(trifluoromethanesulfonyl)amino]cephalosporanic acid benzhydryl ester (2.49 g) in methylene chloride (20 ml) was cooled to -60°C, and then triethylamine (0.394 Add g) all at once. at the same temperature
After stirring for 40 minutes triethylamine (0.073g)
was added at -50°C, and the reaction temperature was raised to -35°C over 30 minutes while stirring. The reaction solution is poured into a mixture of ethyl acetate and dilute hydrochloric acid, and the organic solvent layer is separated. This solution is washed with dilute hydrochloric acid and then with saturated aqueous sodium chloride solution, and then dried over magnesium sulfate. The resulting residue (2.22 g) was subjected to column chromatography using silgel (22 g) and eluted with methylene chloride and then with a mixed solvent of methylene chloride and ethyl acetate (volume ratio 10:1). Fractions containing the desired product were collected and the solvent was distilled off to obtain oily 7-oxocephalosporanic acid benzhydryl ester (1.40 g). IR (CH 2 Cl 2 ): 1830, 1790, 1740 cm -1 NMR δppm (CDCl 3 ): 2.00 (3H, s), 3.50
(2H, ABq, J=18Hz), 4.93 (2H, ABq,
J=14Hz), 5.27 (1H, s), 7.00 (1H, s),
7.33 (10H, s) Example 3 (1) Add p-toluenesulfonate of 6-aminopenicillanic acid benzyl ester (478 mg) to a mixture of ethyl acetate and aqueous sodium bicarbonate solution. The ethyl acetate layer is separated and the remaining aqueous solution is extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layers were combined, washed with saturated aqueous sodium chloride solution, and then dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the resulting residue (320 mg) was dissolved in methylene chloride (6 ml), followed by triethylamine (242 mg) and trifluoromethanesulfonic anhydride (795 mg).
was added at -60°C, the reaction temperature was raised to 0°C over about 2 and a half hours with stirring, and then further raised to 0°C.
Continue stirring for 30 minutes. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed successively with a dilute aqueous sodium hydrogen carbonate solution, 1-dihydrochloric acid and a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off to give 6-[N,N-bis(trifluoromethanesulfonyl). Amino]penicillanic acid benzyl ester (467 mg) is obtained. IR (nujiol): 1800, 1735, 1725 cm -1 NMR δppm (acetone-d 6 ): 1.50 (3H,
s), 1.73 (3H, s), 4.52 (1H, s), 5.25
(2H, s), 5.45 (1H, d, J=3.5Hz), 6.26
(1H, d, J = 3.5Hz), 7.38 (5H, s) (2) Dissolve 6-[N,N-bis(trifluoromethanesulfonyl)amino]penicillanic acid benzyl ester (467 mg) in methylene chloride (6 ml). Cool to -60℃. Add triethylamine (71 mg) to this solution and stir for 30 minutes, then add triethylamine (22 mg) and stir for 10 minutes. After adding the reaction solution to a mixture of ethyl acetate and 1N hydrochloric acid, the organic solvent layer is separated. This solution is washed with a saturated aqueous sodium chloride solution and then dried over magnesium sulfate. The residue (423 mg) obtained by distilling off the solvent was subjected to column chromatography using silica gel (4.5 g) and eluted with a mixed solvent of methylene chloride and ethyl acetate (volume ratio 9:1). Fractions containing the target product were collected and the solvent was distilled off to obtain oily benzyl 6-oxopenicillanic acid ester (239 mg). IR (CH 2 Cl 2 ): 1830, 1780, 1735 cm -1 NMR δppm (CDCl 3 ): 1.48 (3H, s), 1.55
(3H, s), 4.82 (1H, s), 5.24 (2H, s),
5.79 (1H, s), 7.36 (5H, s), Example 4 A solution of 7-aminocephalosporanic acid benzhydryl ester (1.71 g) in methylene chloride (20 ml) was cooled to -60°C, and then triethylamine (1.29
ml) and trifluoromethanesulfonic anhydride (1.52 ml), and the reaction temperature was gradually raised to -8°C over 2.5 hours while stirring. The reaction solution was cooled to -60℃, and triethylamine (0.62ml) was added.
After adding, stir for an additional 50 minutes. During this stirring, the reaction temperature is gradually raised to -30°C. The reaction solution is poured into a mixture of ethyl acetate and water, and the organic solvent layer is separated. This solution is washed with 1N hydrochloric acid and then with saturated aqueous sodium chloride solution, and dried over magnesium sulfate. Residue obtained by distilling off the solvent (2.34 g)
The product was subjected to column chromatography using silica gel (25 g) and eluted with methylene chloride and then with a mixed solvent of methylene chloride and acetone (volume ratio 19:1). Fractions containing the desired product were collected and concentrated to dryness under reduced pressure to obtain crude 7-oxocephalosporanic acid benzhydryl ester (0.86 g). IR (CH 2 Cl 2 ): 1830, 1790, 1740 cm -1 Example 5 7-amino-3-methoxy-3-cephem-4
-Reacting carboxylic acid 4-nitrobenzyl ester with trifluoromethanesulfonic anhydride, triethylamine and hydrochloric acid in the same manner as in Examples 1 to 4 to obtain 7-oxo-3-methoxy-3-cepheme-
4-Carboxylic acid 4-nitrobenzyl ester (1
hydrate). mp115-120℃ (decomposition) IR (Nujiol): 1770, 1750cm -1 NMR δppm (DMSO―d 6 ): 3.56 (2H, ABq,
J=16Hz), 3.77 (3H, s), 4.75 (1H, s),
5.33 (2H, s), 7.78 (2H, d, J=9Hz),
8.33 (2H, d, J = 9Hz) Example 6 7-amino-3-chloro3-cephem-4-
Carboxylic acid 4-nitrobenzyl ester is reacted with trifluoromethanesulfonic anhydride, triethylamine and hydrochloric acid in the same manner as in Examples 1 to 4,
7-oxo-3-chloro-3-cefem-4-carboxylic acid 4-nitrobenzyl ester (monohydrate) is obtained. mp105-106℃ (decomposition) IR (Nujiol): 1760, 1735cm -1 NMR δppm (DMSO―d 6 ): 3.83 (2H, ABq,
J=17Hz), 4.97 (1H, s), 5.50 (2H, s),
7.75 (2H, d, J = 9Hz), 8.30 (2H, d, J =
9Hz) Example 7 7-amino-3-cefem-4-carboxylic acid 4
-Nitrobenzyl ester is reacted with trifluoromethanesulfonic anhydride, triethylamine and hydrochloric acid in the same manner as in Examples 1 to 4 to obtain 7-oxo-
3-Cefem-4-carboxylic acid 4-nitrobenzyl ester is obtained. mp141-142℃ (decomposition) IR (CH 2 Cl 2 ): 1830, 1790, 1730, 1520 cm -1 NMR δppm (CDCl 3 ): 3.60 (2H, m), 5.29
(1H, s), 5.40 (2H, s), 6.69 (1H, dd, J
=5Hz, 6Hz), 7.60, 8.19 (4H, ABq, J=
8Hz) Example 8 7-amino-2-methyl-3-cephem-4-
Carboxylic acid 2,2,2-trichloroethyl ester is reacted with trifluoromethanesulfonic anhydride, triethylamine and hydrochloric acid in the same manner as in Examples 1 to 4 to obtain 7-oxo-2-methyl-3-cephem-4-carboxylic acid. 2,2,2-trichloroethyl ester is obtained. mp98℃ IR (CH 2 Cl 2 ): 1820, 1780, 1730 cm -1 NMR δppm (CDCl 3 ): 1.52 (3H, d, J=
7Hz), 3.75 (1H, dq, J = 6Hz, 7Hz),
4.93 (2H, s), 5.25 (1H, s), 6.79 (1H,
d, J = 6 Hz) Example 9 7-amino-1-oxadethia-3-cephem-4-carboxylic acid benzyl ester was reacted with trifluoromethanesulfonic anhydride, triethylamine and hydrochloric acid in the same manner as in Examples 1 to 4, 7-
Oxo-1-Oxadethia-3-Cefem-4-
A carboxylic acid benzyl ester is obtained. IR (CH 2 Cl 2 ): 1820, 1780, 1720 cm -1 NMR δppm (CDCl 3 ): 4.66 (2H, m), 5.26
(1H, s), 5.33 (2H, s), 6.45 (1H, m),
7.37 (5H, s) Example 10 7-amino-3-[N-(2,2,2-trichloroacetol)carbamoyloxymethyl]-3
-Cefem-4-carboxylic acid benzhydryl ester was reacted with trifluoromethanesulfonic anhydride, triethylamine and hydrochloric acid in the same manner as in Examples 1 to 4 to obtain 7-oxo-3-[N-(2,2,
2-Trichloroacetyl)carbamoyloxymethyl]-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester is obtained. IR (CH 2 Cl 2 ): 3380, 1825 (shoulder), 1805, 1790,
1750 (shoulder), 1730 cm -1 NMR δppm (CDCl 3 ): 3.60 (2H, ABq, J
= 20Hz), 5.15 (2H, ABq, J = 14Hz), 5.33
(1H, s), 7.10 (1H, s), 7.44 (10H, s),
8.73 (1H, Broad s) Example 11 7-amino-3-methyl-3-cephem-4-
Carboxylic acid 2,2,2-trichloroethyl ester is reacted with trifluoromethanesulfonic anhydride, triethylamine and hydrochloric acid in the same manner as in Examples 1 to 4 to obtain 7-oxo-3-methyl-3-cephem-4-carboxylic acid. 2,2,2-trichloroethyl ester is obtained. IR (CH 2 Cl 2 ): 1820, 1780, 1740 cm -1 NMR δppm (CDCl 3 ): 2.37 (3H, s), 3.50
(2H, ABq, J=18Hz), 4.93 (2H, ABq,
J = 11Hz), 5.38 (1H, s) Example 12 7-amino-3-(1,3,4-thiadiazol-2-ylthiomethyl)-3-cephem-4-
7-
Oxo-3-(1,3,4-thiadiazole-2
-ylthiomethyl)-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester is obtained. IR (CHCl 3 ): 1825, 1780, 1720, 1665 cm -1 Example 13 7-Aminocephalosporanic acid was reacted with trifluoromethanesulfonic anhydride, triethylamine and hydrochloric acid in the same manner as in Examples 1 to 4, and 7- Oxocephalosporanic acid is obtained. IR (Nujiyor): 3450-3150, 1835, 1780,
1735, 1710 (shoulder), 1640 cm -1 Example 14 After cooling a solution of 6-[N,N-bis(trifluoromethanesulfonyl)amino]penicillanic acid benzyl ester (0.80 g) in tetrahydrofuran (8 ml) to -60°C Add 1,5-diazabicyclo[5,4,0]undecene-5 (0.298g),
Stir at the same temperature for 30 minutes. Add p-toluenesulfonic acid (monohydrate) (0.32g) to this reaction solution, and -
Stir for 10 minutes at 52°C. The reaction solution was poured into a mixture of ethyl acetate and water, and the organic solvent layer was separated, washed with dilute hydrochloric acid, then with an aqueous sodium chloride solution, and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and carbon tetrachloride was added to the resulting oil (0.67 g) to remove the precipitated solid. After concentrating the liquid, it was subjected to column chromatography using silica gel (6.5 g), and methylene chloride and ethyl acetate (volume ratio 6:
Elute with the mixed solvent of 1). Fractions containing the target product were collected and concentrated to dryness under reduced pressure, resulting in a yellow oily 6-
Oxopenicillanic acid benzyl ester (280mg)
get. IR (CH 2 Cl 2 ): 1830, 1780, 1735 cm -1 Example 15 (1) A solution of 7-(N-trifluoromethanesulfonylamino)cephalosporanic acid benzhydryl ester (290 mg) in methylene chloride (6 ml) was heated to -60°C. Triethylamine (199
mg), then acetic acid chloride (150 mg) was added to −40
Stir at ℃ for 2 hours. After adding ethyl acetate and ice water to the reaction solution, the organic solvent layer is separated. This solution is washed with water and then with an aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, and then the solvent is distilled off. The resulting residue (510 mg) was dissolved in silica gel (3.5
g) and eluted with methylene chloride. Fractions containing the target product are collected and the solvent is distilled off, resulting in 7-(N-acetyl-
N-trifluoromethanesulfonylamino)cephalosporanic acid benzhydryl ester (334 mg) is obtained. IR (CH 2 Cl 2 ): 1800, 1740, 1215 cm -1 NMR δppm (CDCl 3 ): 2.02 (3H, s), 2.58
(3H, s), 3.36 (2H, ABq, J=16Hz),
4.99 (1H, d, 4.5Hz), 5.06 (2H, ABq, J
= 13Hz), 5.45 (1H, d, J = 4.5Hz), 6.92
(1H, s), 7.3 (10H, s)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 [式中、R1はトリハロメタンスルホニル基、
R2はアシル基、Aは基【式】または 【式】 (基中、R3は水素もしくはアルキル、R4は水
素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アシルオ
キシメチルもしくは置換基を有していてもよい複
素環チオメチル、R5はカルボキシもしくは保護
されたカルボキシ、Xは―S―もしくは―O―を
それぞれ意味する)をそれぞれ意味する] で示されるジ置換アミノ基を有するアゼチジノン
化合物またはその塩類に塩基を作用させ、次いで
加水分解に付し、一般式 (式中、Aは前記と同じ意味) で示されるオキソ基を有するアゼチジノン化合物
もしくはその塩類またはその水化物を得ることを
特徴とするオキソ基を有するアゼチジノン化合物
もしくはその塩類またはその水化物の製造法。 2 一般式 [式中、Aは基【式】または 【式】 (基中、R3は水素もしくはアルキル、R4は水
素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アシルオ
キシメチルもしくは置換基を有していてもよい複
素環チオメチル、R5はカルボキシもしくは保護
されたカルボキシ、Xは―S―もしくは―O―を
それぞれ意味する)を意味する] で示されるアミノ基を有するアゼチジノン化合物
もしくはそのアミノ基における反応性誘導体また
はその塩類にトリハロメタンスルホニル化剤、次
いでアシル化剤を作用させるか、またはアシル化
剤次いでトリハロメタンスルホニル化剤を作用さ
せ、得られる一般式 (式中、R1はトリハロメタンスルホニル基、
R2はアシル基を意味し、Aは前記と同じ意味) で示されるジ置換アミノ基を有するアゼチジノン
化合物またはその塩類に塩基を作用させ、次いで
加水分解に付し、一般式 (式中、Aは前記と同じ意味) で示されるオキソ基を有するアゼチジノン化合物
もしくはその塩類またはその水化物を得ることを
特徴とするオキソ基を有するアゼチジノン化合物
もしくはその塩類またはその水化物の製造法。
[Claims] 1. General formula [In the formula, R 1 is a trihalomethanesulfonyl group,
R 2 is an acyl group, A is a group [Formula] or [Formula] (In the group, R 3 is hydrogen or alkyl, and R 4 is hydrogen, halogen, alkyl, alkoxy, acyloxymethyl, or may have a substituent. Heterocyclic thiomethyl, R 5 is carboxy or protected carboxy, X means -S- or -O-, respectively] ] and then subjected to hydrolysis to form the general formula (In the formula, A has the same meaning as above) A method for producing an azetidinone compound having an oxo group, a salt thereof, or a hydrate thereof, characterized by obtaining an azetidinone compound having an oxo group, a salt thereof, or a hydrate thereof . 2 General formula [In the formula, A is a group [Formula] or [Formula] (In the group, R 3 is hydrogen or alkyl, R 4 is hydrogen, halogen, alkyl, alkoxy, acyloxymethyl, or a heterocycle that may have a substituent) thiomethyl, R 5 means carboxy or protected carboxy, X means -S- or -O-, respectively)] or a reactive derivative at the amino group, or a salt thereof is reacted with a trihalomethanesulfonylating agent and then an acylating agent, or is reacted with an acylating agent and then a trihalomethanesulfonylating agent to obtain the general formula (In the formula, R 1 is a trihalomethanesulfonyl group,
R 2 means an acyl group, A has the same meaning as above) An azetidinone compound having a di-substituted amino group or a salt thereof represented by the following is treated with a base, then subjected to hydrolysis, and the general formula (In the formula, A has the same meaning as above) A method for producing an azetidinone compound having an oxo group, a salt thereof, or a hydrate thereof, characterized by obtaining an azetidinone compound having an oxo group, a salt thereof, or a hydrate thereof .
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