JPH02215786A - アシル化法 - Google Patents
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- JPH02215786A JPH02215786A JP1334678A JP33467889A JPH02215786A JP H02215786 A JPH02215786 A JP H02215786A JP 1334678 A JP1334678 A JP 1334678A JP 33467889 A JP33467889 A JP 33467889A JP H02215786 A JPH02215786 A JP H02215786A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/38—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof
- C07D501/46—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6536—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having nitrogen and sulfur atoms with or without oxygen atoms, as the only ring hetero atoms
- C07F9/6539—Five-membered rings
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、化学的アシル化法に関するものである。具体
的には、本発明は、抗生物質、セフタシダイムの製造の
ためのアシル化法に関するものである。
的には、本発明は、抗生物質、セフタシダイムの製造の
ためのアシル化法に関するものである。
広範スペクトルを有する半合成抗生物質、セフタシダイ
ムは、米国特許第4,258,041号に記載されてい
る。この抗生物質は、7−アミノ3−ピリジニウムメチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレートを2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−(2−カルボキシ
プロパン)オキシイミノ酢酸のアミノ保護およびカルボ
キシ保護誘導体でN−アシル化することによって製造す
ることができる。この様な誘導体の1つは酸クロリドで
あり、アシル化は酸結合剤の存在下で行われる。アシル
化後、アミノおよびカルボキシ保護基を除去し、抗生物
質を得る。
ムは、米国特許第4,258,041号に記載されてい
る。この抗生物質は、7−アミノ3−ピリジニウムメチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレートを2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−(2−カルボキシ
プロパン)オキシイミノ酢酸のアミノ保護およびカルボ
キシ保護誘導体でN−アシル化することによって製造す
ることができる。この様な誘導体の1つは酸クロリドで
あり、アシル化は酸結合剤の存在下で行われる。アシル
化後、アミノおよびカルボキシ保護基を除去し、抗生物
質を得る。
2−アミノチアゾールオキシイミノ酢酸および7−アミ
/−3−ピリジニウムメチル−3−セフェム−4−カル
ボキシレート核が非常に高価であるため、これらの2種
類の中間体を高収率でカップリングさせるための改良法
が非常に望ましい。
/−3−ピリジニウムメチル−3−セフェム−4−カル
ボキシレート核が非常に高価であるため、これらの2種
類の中間体を高収率でカップリングさせるための改良法
が非常に望ましい。
本発明は、7−アミノ−3−ピリジニウムメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート(核化合物)を2−(
2−トリチルアミ/チアゾール−4−イル)−2−(2
−t−ブチルオキシカルボニルプロパン)オキシイミノ
酢酸でN−アシル化し、両保護セフタシダイムを得るた
めの方法であって、該イミノ酢酸の混合無水物(この混
合無水物は、アルキルまたはアリールスルホン酸、例え
ばメタンスルホン酸、またはリン酸、例えばジフェニル
リン酸とで製造される)の溶液または懸濁液と、7ニア
ミノー3−ピリジニウムメチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレートの不活性有機溶媒中溶液または懸濁液を
、例えばトリエチルアミンの様な3級アミンの存在下で
混合するか、またはシリル化した7−アミノ核化合物の
溶液を混合することからなる方法を提供するものである
。この方法を約−15℃〜約20’Cの温度で行うと、
両保護セフタシダイムが高純度で得られる。生成物を結
晶性ビス−DMAC溶媒和物として単離するのが好まし
い。
セフェム−4−カルボキシレート(核化合物)を2−(
2−トリチルアミ/チアゾール−4−イル)−2−(2
−t−ブチルオキシカルボニルプロパン)オキシイミノ
酢酸でN−アシル化し、両保護セフタシダイムを得るた
めの方法であって、該イミノ酢酸の混合無水物(この混
合無水物は、アルキルまたはアリールスルホン酸、例え
ばメタンスルホン酸、またはリン酸、例えばジフェニル
リン酸とで製造される)の溶液または懸濁液と、7ニア
ミノー3−ピリジニウムメチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレートの不活性有機溶媒中溶液または懸濁液を
、例えばトリエチルアミンの様な3級アミンの存在下で
混合するか、またはシリル化した7−アミノ核化合物の
溶液を混合することからなる方法を提供するものである
。この方法を約−15℃〜約20’Cの温度で行うと、
両保護セフタシダイムが高純度で得られる。生成物を結
晶性ビス−DMAC溶媒和物として単離するのが好まし
い。
本発明の方法によると、式(■):
で示されるセフタシダイムのアミン保護およびカルボキ
シ保護誘導体は、式(IA): で示される7−アミノ−3−ピリジニウムメチル核を式
(IB): [式中、Rは式:−So、R’(ここに、R1はCI−
〇4アルキル、フェニル、メチルフェニル、ハロフェニ
ルまたはナフチルである)で示されるアルキルまたはア
リールスルホニル基であるか;またはRは式: −P
(0)(ORリバここに、R1はC,−C,アルキル、
フェニル、メチルフェニルまたはハロフェニルである)
で示されるリン酸エステル基であるコ で示される混合無水物でN−アシル化することによって
製造される。
シ保護誘導体は、式(IA): で示される7−アミノ−3−ピリジニウムメチル核を式
(IB): [式中、Rは式:−So、R’(ここに、R1はCI−
〇4アルキル、フェニル、メチルフェニル、ハロフェニ
ルまたはナフチルである)で示されるアルキルまたはア
リールスルホニル基であるか;またはRは式: −P
(0)(ORリバここに、R1はC,−C,アルキル、
フェニル、メチルフェニルまたはハロフェニルである)
で示されるリン酸エステル基であるコ で示される混合無水物でN−アシル化することによって
製造される。
この方法は、不活性有機溶媒中、−15°C〜約20’
C,好ましくは約−10℃〜約10℃の温度で行われる
。
C,好ましくは約−10℃〜約10℃の温度で行われる
。
この方法を行うために、スルホン酸無水物またはリン酸
無水物(IB)の不活性有機溶媒中スラリーまたは溶液
を調製し、7−アミノ−3−ピリジニウムメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート核(セフタシダイム核
XIA)、および例えばトリエチルアミンであるトリア
ルキルアミンまたは例えばN、N−ジエチルアニリンで
ある3級芳香族74/のような3級アミンをこの無水物
と混合スる。触媒量のジメチルアミノピリジン(DMA
P)はN−アシル化の速度を高めるので、混合物に加え
るのが好ましい。セフタシダイム核は、安定な2塩酸塩
または2臭化水素酸塩の形態、好ましくはその結晶性塩
とすることができる。
無水物(IB)の不活性有機溶媒中スラリーまたは溶液
を調製し、7−アミノ−3−ピリジニウムメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート核(セフタシダイム核
XIA)、および例えばトリエチルアミンであるトリア
ルキルアミンまたは例えばN、N−ジエチルアニリンで
ある3級芳香族74/のような3級アミンをこの無水物
と混合スる。触媒量のジメチルアミノピリジン(DMA
P)はN−アシル化の速度を高めるので、混合物に加え
るのが好ましい。セフタシダイム核は、安定な2塩酸塩
または2臭化水素酸塩の形態、好ましくはその結晶性塩
とすることができる。
本発明方法で使用し得る有機溶媒は、上記の無水物およ
び核化合物が少なくとも1部分溶解し得る溶媒である。
び核化合物が少なくとも1部分溶解し得る溶媒である。
好ましい溶媒は、ジメチルアセトアミドおよびジメチル
アセトアミドの様なアミド溶媒である。ジメチルアセト
アミドは、アシル化生成物である両保護セフタシダイム
(I)と低溶解性結晶性ビス溶媒和物を生じさせるので
、好ましい。
アセトアミドの様なアミド溶媒である。ジメチルアセト
アミドは、アシル化生成物である両保護セフタシダイム
(I)と低溶解性結晶性ビス溶媒和物を生じさせるので
、好ましい。
また、セフタシダイム核を不活性有機溶媒中でシリル化
して可溶性シリル化誘導体の溶液とし、この溶液を無水
物の溶液と混合してアシル化を行うこともできる。例え
ば、2塩酸塩2水和物としてのセフタシダイム核(IA
)を、塩化メチレン、クロロホルムまたはトリクロロエ
タンの様な塩素化炭化水素溶媒中、例えばビス−(トリ
メチルシリル)尿素(BSU)、モノ−またはビス−ト
リメチルシリルアセトアミドまたはN−1−リメチルシ
リルオキサゾリドンの様なシリル化剤でシリル化し、シ
リル化された核化合物の溶液を得ることができる。本発
明方法での使用に好適なその他の溶媒は、トルエン、酢
酸エチル、アセトン、テトラヒドロフランまたはアセト
ニトリルである。
して可溶性シリル化誘導体の溶液とし、この溶液を無水
物の溶液と混合してアシル化を行うこともできる。例え
ば、2塩酸塩2水和物としてのセフタシダイム核(IA
)を、塩化メチレン、クロロホルムまたはトリクロロエ
タンの様な塩素化炭化水素溶媒中、例えばビス−(トリ
メチルシリル)尿素(BSU)、モノ−またはビス−ト
リメチルシリルアセトアミドまたはN−1−リメチルシ
リルオキサゾリドンの様なシリル化剤でシリル化し、シ
リル化された核化合物の溶液を得ることができる。本発
明方法での使用に好適なその他の溶媒は、トルエン、酢
酸エチル、アセトン、テトラヒドロフランまたはアセト
ニトリルである。
核(IA)と混合無水物(IB)を等モル量で使用する
か、好ましくは混合無水物<IB)を過剰量で使用する
。混合無水物(IB)を核(IA)の溶液または懸濁液
に加えるか、または核の溶液または懸濁液を混合無水物
の溶液に加えることができる。
か、好ましくは混合無水物<IB)を過剰量で使用する
。混合無水物(IB)を核(IA)の溶液または懸濁液
に加えるか、または核の溶液または懸濁液を混合無水物
の溶液に加えることができる。
本発明の方法は、急速に進行し、実験室規模の反応では
通常、約1時間またはそれ以下で終了する。この方法に
よって、両保護セフタシダイムを高品質(高速液体クロ
マトグラフィー(HPLC)分析による)かつ、通常、
高収率で得られる。
通常、約1時間またはそれ以下で終了する。この方法に
よって、両保護セフタシダイムを高品質(高速液体クロ
マトグラフィー(HPLC)分析による)かつ、通常、
高収率で得られる。
本発明の好ましい方法は、シリル化されたセフタシダイ
ム核CI A’)の使用を含む。好ましい混合無水物は
、Rが基:−SO,R’であって、とりわけR1がメチ
ルである式(IB)で表される。好ましい方法の例では
、2−(2−)リチルアミ/チアゾールー4−イル)−
2−(2−t−ブチルオキシカルボニルプロパン)オキ
シイミノ酢酸をDMAC中、前記の如くメタンスルホン
酸とで形成された混合無水物に変換し、約O℃の温度に
て、シリル化された核(IA)の溶液と混合し、両保護
セフタシダイム(1)を得る。
ム核CI A’)の使用を含む。好ましい混合無水物は
、Rが基:−SO,R’であって、とりわけR1がメチ
ルである式(IB)で表される。好ましい方法の例では
、2−(2−)リチルアミ/チアゾールー4−イル)−
2−(2−t−ブチルオキシカルボニルプロパン)オキ
シイミノ酢酸をDMAC中、前記の如くメタンスルホン
酸とで形成された混合無水物に変換し、約O℃の温度に
て、シリル化された核(IA)の溶液と混合し、両保護
セフタシダイム(1)を得る。
両保護セフタシダイム生成物(I)は、常法により、結
晶性ビス−D’MAC溶媒和物として反応混合物から容
易に単離される。シリル化された核を使用する方法の好
ましい態様では、アシル化後に反応混合物を水で希釈し
、この水性混合物のpHを塩基でほぼ中性に調節する。
晶性ビス−D’MAC溶媒和物として反応混合物から容
易に単離される。シリル化された核を使用する方法の好
ましい態様では、アシル化後に反応混合物を水で希釈し
、この水性混合物のpHを塩基でほぼ中性に調節する。
その後、生成物を含有している有機相を分離し、DMA
Cで処理して溶媒和物を形成させる。別法として、中和
した反応混合物から抽出することによって、生成物を非
溶媒和形態で単離することもできる。
Cで処理して溶媒和物を形成させる。別法として、中和
した反応混合物から抽出することによって、生成物を非
溶媒和形態で単離することもできる。
式(IB)で示される混合無水物は以下の様にして容易
に製造され、本発明方法に使用される。2−(2−)リ
チルアミノチアゾールー4−イル)=2−(2−t−ブ
チルオキシカルボニルプロパン)オキシイミノ酢酸を、
DMF、)ルエン、エーテル、または好ましくはDMA
Cまたはジクロロメタンの様な溶媒に懸濁し、懸濁液を
アルキルスルホニルクロリド、アリールスルホニルクロ
リドまたはリン酸クロリド、およびトリエチルアミンの
様な3級アルキルアミンで処理する。この製造工程は、
冷却下、約−15℃〜10℃の温度で行われるのが最も
好ましい。この混合無水物の溶液または懸濁液は、その
まま反応に使用するのが好都合であり、無水物を単離す
る必要はない。
に製造され、本発明方法に使用される。2−(2−)リ
チルアミノチアゾールー4−イル)=2−(2−t−ブ
チルオキシカルボニルプロパン)オキシイミノ酢酸を、
DMF、)ルエン、エーテル、または好ましくはDMA
Cまたはジクロロメタンの様な溶媒に懸濁し、懸濁液を
アルキルスルホニルクロリド、アリールスルホニルクロ
リドまたはリン酸クロリド、およびトリエチルアミンの
様な3級アルキルアミンで処理する。この製造工程は、
冷却下、約−15℃〜10℃の温度で行われるのが最も
好ましい。この混合無水物の溶液または懸濁液は、その
まま反応に使用するのが好都合であり、無水物を単離す
る必要はない。
(IB)を製造するために使用されるスルホニルクロリ
ドの%! (1、メタンスルホニルクロリド、エタンス
ルホニルクロリド、n−ブタンスルホニルクロリド、ベ
ンゼンスルホニルクロリド、p−クロロベンゼンスルホ
ニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリド等であ
る。リン酸クロリドのシェフ、 f /L/、Cl2−
P(0)(OR1)、(7)例は、ジエチルリン酸クロ
リド、ジメチルリン酸クロリド、ジフェニルリン酸クロ
リドおよびジー(4−メチルフェニル)リン酸クロリド
である。混合無水物の製造において、対応するスルホニ
ルプロミド類およびリン酸プロミド類を使用してもよい
。本発明の好ましい無水物は、Rが一3O,RIであり
R1がメチルである式(IB)の化合物である。その池
の好ましい混合無水物(IB)は、R意がエチルである
無水物である。
ドの%! (1、メタンスルホニルクロリド、エタンス
ルホニルクロリド、n−ブタンスルホニルクロリド、ベ
ンゼンスルホニルクロリド、p−クロロベンゼンスルホ
ニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリド等であ
る。リン酸クロリドのシェフ、 f /L/、Cl2−
P(0)(OR1)、(7)例は、ジエチルリン酸クロ
リド、ジメチルリン酸クロリド、ジフェニルリン酸クロ
リドおよびジー(4−メチルフェニル)リン酸クロリド
である。混合無水物の製造において、対応するスルホニ
ルプロミド類およびリン酸プロミド類を使用してもよい
。本発明の好ましい無水物は、Rが一3O,RIであり
R1がメチルである式(IB)の化合物である。その池
の好ましい混合無水物(IB)は、R意がエチルである
無水物である。
本発明方法で得られる両保護セフタシダイムは、既知の
方法により、臭化水素酸とギ酸の混合物でトリチル保護
基およびt−ブチル保護基を除去することによって、抗
生物質セフタシダイムに変換される。
方法により、臭化水素酸とギ酸の混合物でトリチル保護
基およびt−ブチル保護基を除去することによって、抗
生物質セフタシダイムに変換される。
以下に実施例を挙げ、本発明の方法を更に詳細に説明す
るが、本発明はこれらによって限定されるものではない
。
るが、本発明はこれらによって限定されるものではない
。
実施例1 メタンスルホン酸と2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(t−プチルオキシ力
ルボニルブロバン)オキシイミノ酢酸の混合無水物によ
るアシル化 2−(2−1−ジチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−(t−プチルオ牛ジカルボニルプロパン)オキシイ
ミノ酢酸(8,0g、14 ミリモル)のジメチルアセ
トアミド(DMAC)44iQ中スラリーを約2℃に冷
却し、メタンスルホニルクロリド(1゜08m9,14
ミリモル)を加え、次いで、トリエチルアミン(3,9
mg、28 ミリモル)を5分間で滴下した。スラリー
を約1℃で2時間撹拌し、更にトリエチルアミン3.9
3!12を1度で加え、次いで、7−アミノ−3−ピリ
ジニウムメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
2塩酸塩2永和物5.69(14ミリモル)および触媒
量のジメチルアミノピリジンを加えた。反応混合物を冷
却下で2時間撹拌し、塩化メチレン80xQ、次いで水
10011IQで希釈した。有機層を分離し、酢酸エチ
ル100xQ、ジエチルエーテル C50M(lで処理し、結晶性両保護セフタシダイム種
結晶を加えた。結晶化が起こり、室温で1時間放置後、
スラリーを一夜冷却した。冷スラリーを濾過し、生成物
をDMAC/ジエチルエーテル(l/1)25x+2お
よびジエチルエーテル25m12で洗浄した。洗浄した
生成物を30℃で一夜風乾し、両保護セフタシダイム6
ど6 29(5 2. 4%収率)をビス−DMAC溶
媒和物(H P L C分析によると93ニア%)とし
て得た。
ノチアゾール−4−イル)−2−(t−プチルオキシ力
ルボニルブロバン)オキシイミノ酢酸の混合無水物によ
るアシル化 2−(2−1−ジチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−(t−プチルオ牛ジカルボニルプロパン)オキシイ
ミノ酢酸(8,0g、14 ミリモル)のジメチルアセ
トアミド(DMAC)44iQ中スラリーを約2℃に冷
却し、メタンスルホニルクロリド(1゜08m9,14
ミリモル)を加え、次いで、トリエチルアミン(3,9
mg、28 ミリモル)を5分間で滴下した。スラリー
を約1℃で2時間撹拌し、更にトリエチルアミン3.9
3!12を1度で加え、次いで、7−アミノ−3−ピリ
ジニウムメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
2塩酸塩2永和物5.69(14ミリモル)および触媒
量のジメチルアミノピリジンを加えた。反応混合物を冷
却下で2時間撹拌し、塩化メチレン80xQ、次いで水
10011IQで希釈した。有機層を分離し、酢酸エチ
ル100xQ、ジエチルエーテル C50M(lで処理し、結晶性両保護セフタシダイム種
結晶を加えた。結晶化が起こり、室温で1時間放置後、
スラリーを一夜冷却した。冷スラリーを濾過し、生成物
をDMAC/ジエチルエーテル(l/1)25x+2お
よびジエチルエーテル25m12で洗浄した。洗浄した
生成物を30℃で一夜風乾し、両保護セフタシダイム6
ど6 29(5 2. 4%収率)をビス−DMAC溶
媒和物(H P L C分析によると93ニア%)とし
て得た。
実施例2 エタンスルホン酸の混合無水物によるアシル
化 オキシイミノ酢酸16,9ミリモル(10.19)、お
よびメタンスルホニルクロリドの代わりにエタンスルホ
ニルクロリド、およびピリジニウム核5。
化 オキシイミノ酢酸16,9ミリモル(10.19)、お
よびメタンスルホニルクロリドの代わりにエタンスルホ
ニルクロリド、およびピリジニウム核5。
6g(14ミリモル)で製造された(IB)(式中、R
’=C*)(S)を使用し、実施例1に記載のアシル化
を行った。両保護セフタシダイムビス〜DMAC溶媒和
物6. 0 89(4 9. 3%収率)を得た:HP
LC分析値90.7%。
’=C*)(S)を使用し、実施例1に記載のアシル化
を行った。両保護セフタシダイムビス〜DMAC溶媒和
物6. 0 89(4 9. 3%収率)を得た:HP
LC分析値90.7%。
実施例3 p−)ルエンスルホン酸の混合無水物によ
るアシル化 オキシイミノ酢酸8.Oy(14ミリモル)と、p−ト
ルエンスルホニルクロリド2.79(14ミリモル)で
製造された無水物を使用し、セフタシダイム核5. 6
9(1 4 ミリモル)を、実施例1に記載の方法でア
シル化した。両保護セフタシダイムビスーDMAC溶媒
和物4.59を得た:HPLC分析値93.2%。
るアシル化 オキシイミノ酢酸8.Oy(14ミリモル)と、p−ト
ルエンスルホニルクロリド2.79(14ミリモル)で
製造された無水物を使用し、セフタシダイム核5. 6
9(1 4 ミリモル)を、実施例1に記載の方法でア
シル化した。両保護セフタシダイムビスーDMAC溶媒
和物4.59を得た:HPLC分析値93.2%。
実施例4 ジフェニルリン酸の混合無水物によるアシル
化 オキシイミノ酢酸8.09(14ミリモル)と、ジフェ
ニルリン酸クロリド2.9112(14ミリモル)で製
造された無水物を使用し、セフタシダイム核(I A)
5.6g(14ミリモル)を、実施例1に記載の方法で
アシル化した。両保護セフタシダイムビスーDMAC溶
媒和物5、Oay(39,5%収率)を得た:HPLC
分析値92.1%。
化 オキシイミノ酢酸8.09(14ミリモル)と、ジフェ
ニルリン酸クロリド2.9112(14ミリモル)で製
造された無水物を使用し、セフタシダイム核(I A)
5.6g(14ミリモル)を、実施例1に記載の方法で
アシル化した。両保護セフタシダイムビスーDMAC溶
媒和物5、Oay(39,5%収率)を得た:HPLC
分析値92.1%。
g メタンスルホン酸で形成された混合無水物による
シリル化された核化合物のアシル化オキシイミノ酢酸8
.319の塩化メチレン50jIQ中スラリーを0℃に
冷却し、トリエチルアミン3.6112を加え、この溶
液を一10°Cに冷却した。
シリル化された核化合物のアシル化オキシイミノ酢酸8
.319の塩化メチレン50jIQ中スラリーを0℃に
冷却し、トリエチルアミン3.6112を加え、この溶
液を一10°Cに冷却した。
メタンスルホニルクロリド1.7村の塩化メチレン5i
&中溶液をこの冷溶液に2分間で加え、添加後、溶液を
一10℃〜−5℃で5分間撹拌した。
&中溶液をこの冷溶液に2分間で加え、添加後、溶液を
一10℃〜−5℃で5分間撹拌した。
別の反応容器で、ビス−(トリメチルシリル)尿素15
.19を塩化メチレン50xQにスラリー化し、(IA
)3.5gを加え、この混合物を室温で2.5時間撹拌
した。このシリル化された核化合物の溶液をOoCに冷
却し、上記の様にして製造した混合無水物の冷溶液と一
度に混合した。反応混合物を冷却下で45分間撹拌し、
水85に4を加え、トリエチルアミン約5x(lを加え
ることによりpHを2〜6.5に調節した。エマルシヨ
ンが生成したが、DMAC25x(lを加え、混合物を
25℃に加熱することによって、これを消失させた。有
機層を水相から分離し、後者を塩化メチレン10村で抽
出した。抽出物を有機層と合し、これを蒸発させて40
9に濃縮した。濃縮物をDMAC10iffおよび酢酸
エチル10xQで希釈し、種結晶を加え、次いで、45
分間撹拌して、結晶性スラリーを得た。DMA C(1
5xQ>とジエf /L/ :− f ル(50祿)の
混合物を1時間で滴下し、添加後、スラリーを室温で0
.5時間、次いで、水浴中で0.75時間撹拌した。得
られた結晶生成物を濾過し、DMAC15翼Qと酢酸エ
チル15x&の混合物、最後に酢酸エチル30RQで洗
浄した。洗浄した結晶を30℃で減圧乾燥し、両保護セ
フタシダイムDMAC溶媒和物9.069を得た。
.19を塩化メチレン50xQにスラリー化し、(IA
)3.5gを加え、この混合物を室温で2.5時間撹拌
した。このシリル化された核化合物の溶液をOoCに冷
却し、上記の様にして製造した混合無水物の冷溶液と一
度に混合した。反応混合物を冷却下で45分間撹拌し、
水85に4を加え、トリエチルアミン約5x(lを加え
ることによりpHを2〜6.5に調節した。エマルシヨ
ンが生成したが、DMAC25x(lを加え、混合物を
25℃に加熱することによって、これを消失させた。有
機層を水相から分離し、後者を塩化メチレン10村で抽
出した。抽出物を有機層と合し、これを蒸発させて40
9に濃縮した。濃縮物をDMAC10iffおよび酢酸
エチル10xQで希釈し、種結晶を加え、次いで、45
分間撹拌して、結晶性スラリーを得た。DMA C(1
5xQ>とジエf /L/ :− f ル(50祿)の
混合物を1時間で滴下し、添加後、スラリーを室温で0
.5時間、次いで、水浴中で0.75時間撹拌した。得
られた結晶生成物を濾過し、DMAC15翼Qと酢酸エ
チル15x&の混合物、最後に酢酸エチル30RQで洗
浄した。洗浄した結晶を30℃で減圧乾燥し、両保護セ
フタシダイムDMAC溶媒和物9.069を得た。
特許出願人 イーライ・リジー・アンド・カンパ:−
代理人 弁理士 青白 葆外1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I B): ▲数式、化学式、表等があります▼( I B) [式中、Rは式:−SO_2R^1(ここに、R^1は
C_1−C_4アルキル、フェニル、メチルフェニル、
ハロフェニルまたはナフチルである)で示されるスルホ
ニル基であるか;またはRは式:−P(O)−(OR^
2)_2(ここに、R^2はC_1−C_4アルキル、
フェニル、メチルフェニルまたはハロフェニルである゛
で示されるリン酸エステル基である] で示される混合無水物と式( I A): ▲数式、化学式、表等があります▼( I A) で示されるアミノピリジニウム化合物を、不活性有機溶
媒中、約−15℃〜約20℃の温度で混合することから
なる、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で示される化合物の製造方法。 2、アミノピリジニウム核化合物と混合無水物を3級ア
ミンの存在下で混合する請求項1に記載の方法。 3、不活性有機溶媒がDMFまたはDMACである請求
項2に記載の方法。 4、アミノピリジニウム核化合物がトリアルキルシリル
化誘導体の形態である請求項1に記載の方法。 5、シリル化誘導体がトリメチルシリル化誘導体である
請求項4に記載の方法。 6、混合無水物のRがスルホニル基:−SO_2R^1
である請求項1に記載の方法。 7、R^1がメチルまたはエチルである請求項6に記載
の方法。 8、混合無水物のRが基:−P(O)(OR^2)_2
である請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US29068088A | 1988-12-27 | 1988-12-27 | |
US290680 | 1988-12-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02215786A true JPH02215786A (ja) | 1990-08-28 |
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Family
ID=23117097
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (5)
Country | Link |
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EP (1) | EP0377987A3 (ja) |
JP (1) | JP3068143B2 (ja) |
KR (2) | KR0159760B1 (ja) |
CA (1) | CA2006341A1 (ja) |
IL (1) | IL92810A (ja) |
Families Citing this family (4)
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