JPH02199645A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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JPH02199645A
JPH02199645A JP2032489A JP2032489A JPH02199645A JP H02199645 A JPH02199645 A JP H02199645A JP 2032489 A JP2032489 A JP 2032489A JP 2032489 A JP2032489 A JP 2032489A JP H02199645 A JPH02199645 A JP H02199645A
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JP
Japan
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layer
magneto
optical recording
protective layer
recording medium
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Application number
JP2032489A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshimitsu Kobayashi
喜光 小林
Takashi Hashimoto
高志 橋本
Toshifumi Kawano
敏史 川野
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Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
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Publication date
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Publication of JPH02199645A publication Critical patent/JPH02199645A/en
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Abstract

PURPOSE:To improve corrosion resistance by forming a protective layer of the oxide or nitride of an element the galvanyl system of which in an aq. soln. is equal to or baser than the essential element constituting a reflecting layer. CONSTITUTION:The protective layer 5 consisting of the oxide MOx or nitride MNx is provided on the reflecting layer 4. The element M of the MOx or MNx constituting the protective layer 5 is the element the galvanyl system of which in the aq. soln. is equal to or baser than the essential element R constituting the reflecting layer. There is no case in which the R is easier to be oxidized than the M and the oxidation-reduction reaction to oxidize the reflecting layer 4 does not take place between the protective layer 5 and the reflecting layer 4 if the M is equal to the R or baser than the R. The excellent weatherability and corrosion resistance are obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光学的記録に用いる光磁気記録媒体に係り、特
に記録層上に反射層を有する反射膜型の光磁気記録媒体
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a magneto-optical recording medium used for optical recording, and particularly to a magneto-optical recording medium of reflective film type having a reflective layer on a recording layer.

[従来の技術] 高密度の記録媒体である光メモリーのなかで、光磁気記
録媒体は書き換え可能な媒体としては最も開発が進んで
いる媒体である。
[Prior Art] Among optical memories that are high-density recording media, magneto-optical recording media are the most developed rewritable media.

この光磁気記録媒体の特性を向上させる方法として、記
録層上に反射層を設ける方式が提案されている。この方
式は、カー効果とファラデー効果の併用により、高いC
/N比が得られるという点で優れている。この方式にお
いて、記録層上に設ける反射層としては、一般に、高反
射率の物質を用いる0例えば、Au、Ag、Pt、Al
2.Cu等であるが、コスト等の点から、Al1やA1
合金を用いることが多い。
As a method of improving the characteristics of this magneto-optical recording medium, a method of providing a reflective layer on the recording layer has been proposed. This method uses a combination of Kerr effect and Faraday effect to achieve high C.
It is excellent in that a /N ratio can be obtained. In this method, the reflective layer provided on the recording layer is generally made of a material with high reflectance, such as Au, Ag, Pt, Al, etc.
2. Cu, etc., but from the point of view of cost etc., Al1 and A1
Alloys are often used.

[発明が解決しようとする課題] このような反射層の膜を最外層とした場合には、その腐
食の問題が起ってくる。反射膜が不動態を形成しない場
合、腐食電流は反射膜を通って記録層を腐食する恐れが
あり、また、貴金属以外の反射膜では、それ自身の腐食
も問題になる。反射膜が不動態を形成する場合でも、−
度ビンホールが生成すると腐食電流の集中が起こり、ピ
ンホールの拡大をもたらす。この現象は特に水分の存在
下において顕著である。
[Problems to be Solved by the Invention] When such a reflective layer is used as the outermost layer, the problem of corrosion occurs. If the reflective film does not form a passive state, the corrosion current may pass through the reflective film and corrode the recording layer, and if the reflective film is made of a material other than noble metal, corrosion of itself may also be a problem. Even if the reflective film forms a passive state, −
When pinholes are formed, corrosion current concentrates, leading to enlargement of the pinholes. This phenomenon is particularly noticeable in the presence of moisture.

本発明は上記従来の問題点を解決し、耐腐食性に優れた
光磁気記録媒体を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and provide a magneto-optical recording medium with excellent corrosion resistance.

[課題を解決するための手段] 本発明の光磁気記録媒体は、基板上に記録層、反射層、
および保護層をこの順に積層してなる光磁気記録媒体に
おいて、前記保護層は、水溶液中でのガルバニ系列が反
射層を構成する主たる元素と同等又は該元素より卑であ
る元素の酸化物又は窒化物からなることを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] The magneto-optical recording medium of the present invention has a recording layer, a reflective layer, a
and a magneto-optical recording medium formed by laminating protective layers in this order, wherein the protective layer is an oxide or nitride of an element whose galvanic series in an aqueous solution is equal to or less base than the main element constituting the reflective layer. Characterized by being made of things.

即ち、本発明者等は前記従来の欠点を克服した高耐候性
を備える光磁気記録媒体を得るべく鋭意検討を重ねた結
果、反射層上に特定の物質よりなる保護層を形成するこ
とにより、非常に優れた耐候性を有し、腐食の問題が殆
どない光磁気記録媒体が得られることを見出し、本発明
を完成させた。
That is, the inventors of the present invention have made extensive studies to obtain a magneto-optical recording medium with high weather resistance that overcomes the above-mentioned conventional drawbacks, and as a result, by forming a protective layer made of a specific material on the reflective layer, The present invention was completed based on the discovery that a magneto-optical recording medium having excellent weather resistance and virtually no corrosion problems can be obtained.

以下に本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

本発明の光磁気記録媒体において、記録層等を形成する
基板としては、ポリカーボネート、PMMA等のプラス
チック又はガラス基板上に紫外線硬化樹脂層を形成した
ものなどが挙げられる。
In the magneto-optical recording medium of the present invention, examples of the substrate on which the recording layer and the like are formed include plastics such as polycarbonate and PMMA, or glass substrates on which an ultraviolet curing resin layer is formed.

このような基板上に形成する光磁気記録層の構成材料と
しては、希土類と遷移金属との合金、例えば、TbFe
、TbFeCo、GdFeCo。
The constituent material of the magneto-optical recording layer formed on such a substrate is an alloy of rare earth and transition metal, such as TbFe.
, TbFeCo, GdFeCo.

DyFeCo、GdTbFe等が主として用いられる。DyFeCo, GdTbFe, etc. are mainly used.

また、ガーネット、フェライト等の酸化物磁性体も利用
できる。記録層としては、隼−の層よりなるもので良く
、また、GdFeCo/TbFeのように2以上の層よ
りなるものでも良い、記録層の膜厚は250〜500A
程度とするのが好ましい。
Further, oxide magnetic materials such as garnet and ferrite can also be used. The recording layer may be made of a Hayabusa layer, or may be made of two or more layers such as GdFeCo/TbFe, and the thickness of the recording layer is 250 to 500 Å.
It is preferable to set it as approximately.

なお、記録層と基板との間には、干渉層として透明な誘
電体層を設けることもできる。この干渉l1I(以下「
第1干渉層」と言うことがある。)は、基板からの水分
透過の防止と、干渉効果による反射率の低減でノイズを
低下させることを目的として形成される。干渉効果を充
分に得るために、干渉層には高屈折率の物質を用いるの
が良く、その好ましい屈折率は1.5<n<2.6であ
る。干渉層としては、一般にSiO2゜Sin、AJ1
203.Ta205 、TiO2等の酸化物、313N
 41 A 42 N等の窒化物、又は、該酸化物と窒
化物との混合物等が用いられる。干渉層の膜厚は、膜の
屈折率、光の波長から、その反射率が最低となるように
調整する。通常の場合、干渉層の膜厚は、500〜1o
ooA程度である。
Note that a transparent dielectric layer may be provided as an interference layer between the recording layer and the substrate. This interference l1I (hereinafter “
It is sometimes referred to as the "first interference layer". ) is formed for the purpose of preventing moisture permeation from the substrate and reducing noise by reducing reflectance due to interference effects. In order to obtain a sufficient interference effect, it is preferable to use a material with a high refractive index for the interference layer, and the preferable refractive index is 1.5<n<2.6. The interference layer is generally SiO2゜Sin, AJ1
203. Oxides such as Ta205, TiO2, 313N
A nitride such as 41 A 42 N or a mixture of the oxide and nitride is used. The thickness of the interference layer is adjusted based on the refractive index of the film and the wavelength of light so that its reflectance is the minimum. In normal cases, the thickness of the interference layer is 500 to 10
It is about ooA.

本発明の光磁気記録媒体において、前記記録層上に形成
する反射層の構成材料としては、−数的な高反射率の物
質が用いられ、例えば、Au。
In the magneto-optical recording medium of the present invention, a material having a numerically high reflectance is used as a constituent material of the reflective layer formed on the recording layer, such as Au.

Ag、Pt、Cu、AJZ又はこれらの合金等を用いる
ことができる。これらのうち、特にAl1又はA11.
合金がコスト及び耐候性の両面から好ましく、更に、A
fL又はA1合金にTa、Ti。
Ag, Pt, Cu, AJZ or an alloy thereof can be used. Among these, especially Al1 or A11.
Alloys are preferable in terms of both cost and weather resistance, and A
fL or A1 alloy with Ta and Ti.

Zr、Mo、Pt、V、Cr及びPdの少くとも1種を
o、i〜15原子%程度好ましくは1〜10原子%程度
添加した合金は、高反射率であると共に熱伝導度も低く
、C/N比及び感度が共に良好な高特性反射膜を形成す
ることができることから、極めて好適である。反射層は
、その膜厚が厚過ぎる場合には感度が低下し、薄過ぎる
場合には反射率が低下し、C/N比が落ちる。通常の場
合、反射層の膜厚は100〜toooA程度、好ましく
は200〜600八程度とする。
An alloy to which at least one of Zr, Mo, Pt, V, Cr and Pd is added in an amount of about 15 atomic %, preferably about 1 to 10 atomic %, has a high reflectance and low thermal conductivity. This is extremely suitable since it is possible to form a high-performance reflective film with good C/N ratio and sensitivity. If the reflective layer is too thick, the sensitivity will decrease, and if it is too thin, the reflectance will decrease and the C/N ratio will decrease. In normal cases, the thickness of the reflective layer is about 100 to 600 mm, preferably about 200 to 600 mm.

なお、記録層と反射層との間にも、干渉層を設けること
ができる。この干渉層(以下、「第2干渉層」と言うこ
とがある。)の構成材料としては、基板と記録層との間
に形成する前記第1干渉層と同様の物質を用いることが
できる。第2干渉層の膜厚は通常100〜500八程度
である。
Note that an interference layer can also be provided between the recording layer and the reflective layer. As a constituent material of this interference layer (hereinafter sometimes referred to as "second interference layer"), the same material as the first interference layer formed between the substrate and the recording layer can be used. The thickness of the second interference layer is usually about 100 to 500 mm.

本発明においては、反射層上に酸化物(以下、’ M 
Ox Jと言うことがある。)又は窒化物(以下rMN
xJと言うことがある。)よりなる保護層を設ける0本
発明において、この保護層を構成するMO!又はMN、
の元素Mは、水溶液中でのガルバニ系列が、反射層を構
成する主たる元素(以下、「R」と言うことがある。)
と同等であるか、又は、Rより卑である元素である。
In the present invention, an oxide (hereinafter referred to as 'M
Sometimes called Ox J. ) or nitride (hereinafter referred to as rMN
Sometimes it's called xJ. ) In the present invention, a protective layer consisting of MO! or MN,
Element M is the main element (hereinafter sometimes referred to as "R") whose galvanic series in an aqueous solution constitutes the reflective layer.
It is an element that is equivalent to or less base than R.

水溶液中のガルバニ系列を求めるには、水素電極を基準
とした標準電極電位を用いるのが便利である。即ち、M
の電位E”  (M)とRの電位E。
To determine the galvanic series in an aqueous solution, it is convenient to use a standard electrode potential based on a hydrogen electrode. That is, M
The potential E” (M) and the potential E of R.

(R)を比較して、E”  (M)≦E”  (R)の
関係が成り立つものであれば良い。
(R), as long as the relationship E"(M)≦E" (R) holds true.

具体的には、主としてA1で構成される反射層と組み合
わせが可能な保護層の酸化物としては、An203 、
MgO,Nd203.Y202等が挙げられ、窒化物と
してはAflN等が挙げられる。
Specifically, the oxides of the protective layer that can be combined with the reflective layer mainly composed of A1 include An203,
MgO, Nd203. Examples of the nitride include Y202, and examples of the nitride include AflN.

保護層の膜厚は厚いほど保護効果が高いが、過度に厚い
と感度の低下を起こすことがある。十分な保護効果と感
度を得るためには、保護層の膜厚は、200〜1500
A、好ましくは300〜1000A程度とするのが適当
である。
The thicker the protective layer, the higher the protective effect, but if it is too thick, the sensitivity may decrease. In order to obtain sufficient protective effect and sensitivity, the thickness of the protective layer should be between 200 and 1500 mm.
A, preferably about 300 to 1000 A is appropriate.

なお、本発明において、基板上に前記干渉層、記録層、
反射層及び保護層を形成するには、例えば、電子ビーム
蒸着法、スパッタリング法等が用いられる。特に、干渉
層の形成には、金属ターゲットのArと02又はN2に
よる反応性スパッタリングが成膜速度、膜質等の点から
優れている。
Note that in the present invention, the interference layer, the recording layer,
To form the reflective layer and the protective layer, for example, an electron beam evaporation method, a sputtering method, or the like is used. In particular, for forming the interference layer, reactive sputtering using Ar and O2 or N2 using a metal target is excellent in terms of film formation speed, film quality, and the like.

[作用] 保護層を構成する酸化物MOつ又は窒化物MN、の元素
Mが反射層を構成する主たる元素Rよりも還元され易い
元素である場合、即ちRの方が酸化され易い場合には、
保護層よりも反射層の方が酸化し易くなり、反射層と保
護層との界面で、下記のような酸化還元反応が起り、保
護層はむしろ反射層を劣化させる要因となる。
[Function] When the element M of the oxide MO or nitride MN constituting the protective layer is an element that is more easily reduced than the main element R constituting the reflective layer, that is, when R is more easily oxidized, ,
The reflective layer becomes more easily oxidized than the protective layer, and the following oxidation-reduction reaction occurs at the interface between the reflective layer and the protective layer, and the protective layer actually becomes a factor in deteriorating the reflective layer.

M”+xe−→M R−4R”” +x’ e− このような反応が起るか否かは、水溶液中でのガルバニ
系列を考えれば良く、MがRと同等又はRよりも卑であ
れば、MよりもRが酸化され易いことはなく、従って、
保護層と反射層との間で、反射層を酸化させる酸化還元
反応は起こらず、優れた耐候性、耐腐食性が得られる。
M"+xe-→M R-4R""+x' e- Whether such a reaction occurs or not can be determined by considering the galvanic series in an aqueous solution, and if M is equal to or more base than R. For example, R is not more easily oxidized than M, and therefore,
No redox reaction that oxidizes the reflective layer occurs between the protective layer and the reflective layer, resulting in excellent weather resistance and corrosion resistance.

なお、水溶液を想定するのは、腐食は大部分水を介して
進むからである。
Note that the reason why an aqueous solution is assumed is that corrosion proceeds mostly through water.

[実施例] 以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが
、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限
定されるものではない。
[Examples] The present invention will be described in more detail with reference to Examples below, but the present invention is not limited to the following Examples unless it exceeds the gist thereof.

実施例1 第1図に示す、基板1上に、干渉層2、記録層3、反射
層4、保護層5を順次積層してなる光磁気記録媒体を作
製した。
Example 1 A magneto-optical recording medium was prepared by sequentially laminating an interference layer 2, a recording layer 3, a reflective layer 4, and a protective layer 5 on a substrate 1, as shown in FIG.

即ち、130mmφのポリカーボネート基板1をスパッ
タリング装置に導入し、まずa x t o −7to
rr以下まで排気し、Arを20sccm。
That is, a polycarbonate substrate 1 with a diameter of 130 mm is introduced into a sputtering apparatus, and first axt o -7to
Evacuate to below rr and 20 sccm of Ar.

02を5secm導入し、圧力を0.8Paに調整した
。この状態で500Wのパワーで4インチφのTaター
ゲットを直流スパッタリングし、4A/秒の速度で、膜
厚800Aの酸化タンタルの干渉層2を形成した0次に
、TbターゲットとFe9゜COIeツタ−ットの同時
スパッタリングを行いT b23 (F e9oC01
6) 77の記録層3を干渉層2の上に膜厚300Aで
形成した。
02 was introduced for 5 seconds, and the pressure was adjusted to 0.8 Pa. In this state, a 4 inch φ Ta target was DC sputtered with a power of 500 W, and an 800 A tantalum oxide interference layer 2 was formed at a speed of 4 A/sec. T b23 (F e9oC01
6) 77 recording layers 3 were formed on the interference layer 2 to a thickness of 300 Å.

この記録層3上に、反射層4としてAn。On this recording layer 3, An is formed as a reflective layer 4.

Ta、Cuの3種類を膜厚300Aで形成し、更に保f
f1ffi5としてMgO,AIL20a 、ZnO。
Three types of Ta and Cu are formed with a film thickness of 300A, and
MgO, AIL20a, ZnO as f1ffi5.

Cr2 o2 、NiOの5 fl類を膜厚300Aで
形成した。なお、反射層4及び保護層5の構成元素の標
準電極電位を第1表に示す。
A film of 5 fl of Cr2 o2 and NiO was formed to a thickness of 300 Å. Note that the standard electrode potentials of the constituent elements of the reflective layer 4 and the protective layer 5 are shown in Table 1.

第1表 反射層、保護層の構成元素の 標準電極電位(Eo) (「化学便覧基礎MII J日本化学会線(1984年
)) 得られた光磁気記録媒体を60℃、85%RHの条件で
300時間の加速試験を行なってドロップ・イン・エラ
ーレートの測定を行ない、下記式によりその増加率を求
めた。
Table 1 Standard electrode potential (Eo) of constituent elements of reflective layer and protective layer ("Basic Chemical Handbook MII J Chemical Society of Japan Line (1984)") The obtained magneto-optical recording medium was stored at 60°C and 85%RH. A 300-hour accelerated test was conducted to measure the drop-in error rate, and the rate of increase was determined using the following formula.

結果を第2表に示 す。The results are shown in Table 2. vinegar.

エラーレートの増加率 1層による反射層の劣化のおそれがないため、耐候性、
耐腐食性に著しく優れる。
Since there is no risk of deterioration of the reflective layer due to the increase rate of error rate in one layer, weather resistance,
Excellent corrosion resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は実施例1で作製した光磁気記録媒体の構成を示
す断面図である。 1・・・基板、      2・・・干渉層3・・・記
録層、     4・・・反射層、5・・・保護層。 (*は比較例、その他は本発明例) 第2表より、反射層構成元素Rの電位E。 (R)と保護層の元素Mの電位E”  (M)を比較し
て、E”  (M)≦E’  (R)の場合にエラーレ
ートの増加が小さい、即ち、耐候性に優れることが明ら
かである。 [発明の効果] 以上詳述した通り、本発明の光磁気記録媒体は、反射層
に対する保護層の保護効果が高く、保代理人  弁理士
  重 野  剛
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of the magneto-optical recording medium manufactured in Example 1. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Substrate, 2... Interference layer 3... Recording layer, 4... Reflective layer, 5... Protective layer. (* indicates a comparative example, others are examples of the present invention) From Table 2, the potential E of the element R constituting the reflective layer. (R) and the potential E" (M) of the element M in the protective layer. When E"(M)≦E' (R), the increase in the error rate is small, that is, the weather resistance is excellent. it is obvious. [Effects of the Invention] As detailed above, in the magneto-optical recording medium of the present invention, the protective layer has a high protective effect against the reflective layer, and the protection agent and patent attorney Tsuyoshi Shigeno

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板上に記録層、反射層、および保護層をこの順
に積層してなる光磁気記録媒体において、前記保護層は
、水溶液中でのガルバニ系列が反射層を構成する主たる
元素と同等又は該元素より卑である元素の酸化物又は窒
化物からなることを特徴とする光磁気記録媒体。
(1) In a magneto-optical recording medium in which a recording layer, a reflective layer, and a protective layer are laminated in this order on a substrate, the protective layer has a galvanic series in an aqueous solution equal to or equal to the main element constituting the reflective layer. 1. A magneto-optical recording medium comprising an oxide or nitride of an element less base than the above element.
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