JPH02167428A - 格子干渉型変位計 - Google Patents
格子干渉型変位計Info
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- JPH02167428A JPH02167428A JP32258888A JP32258888A JPH02167428A JP H02167428 A JPH02167428 A JP H02167428A JP 32258888 A JP32258888 A JP 32258888A JP 32258888 A JP32258888 A JP 32258888A JP H02167428 A JPH02167428 A JP H02167428A
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
定ピツチの光学的な目盛が形成されたスケールを用いて
、周期的な検出信号を生成する光電型エンコーダが普及
している。この光電型エンコーダの分解能は、光学格子
の幅及びピッチと、光電変換後の信号を分割する電子回
路の特性により定まる。一般に、光学格子は、エツチン
グ法により製造されるので、４μｍ前後の光学格子が最
終測定精度上限界に近く、又、電子回路も大幅なコスト
アップを伴わない範囲で用いるとなると、最終的な分解
能は１μｍ前後であり、これを更に高精度化するのは困
難であった。 一方、光電型エンコーダが普及するにつれて、より高分
解能で高精度な検出信号を生成するものが求められてい
る。 光電型エンコーダの高分解能化を図ったものの１つとし
て、スケールにホログラフィの技術を用いて微細なピッ
チ（通常１μｍ程度）の目盛を形成し、その目盛を回折
格子として積極的に回折を生じさせて検出信号を得る格
子干渉型変位計が提案されている。 第３図は、特開昭４７−１００３４で提案された格子干
渉型変位計を示すものである。この格子干渉型変位計は
、ピッチｄの回折格子１０Ａが形成されたスケールと、
該回折格子１０Ａに光束としてのレーザビーム１４（波
長λ）を照射する目ｅ−Ｎｅレーザ光源１２と、前記回
折格子１０Ａによって生成された０次と１次の回折光（
光束）をそれぞれ反則するミラー１６．１８と、１次側
ミラー１８で反則された１次光の０次光と、０次側ミラ
ー１６で反射された０次光の１次光との混合波を３分す
るビームスプリッタ（粗い回折格子）２０と、該ビーム
スプリッタ２０で３分された混合波をそれぞれ光電変換
する受光素子２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｇとを含んで構成さ
れている。ここで、前記スケールを除く各要素は、検出
器を構成している。 なあ、第３図において、０次光及び１次光の光路中にそ
れぞれ挿入された偏光子２４．２６の偏光方向は、互い
に直交するように設定されており、３分された中央の混
合波を受光する受光素子２２Ａでは干渉縞が生じないよ
うにされている。従って、この受光素子２２Ａでは、干
渉縞ではなく、単なる和信号が得られるので、参照信号
Ｖｒとする。 又、受光素子２２Ｂの直前には干渉縞生成用の検光子２
８Ｂが配置され、この受光素子２２Ｂからは干渉縞によ
るＡ相検出信号φＡが生成される。 又、受光素子２２Ｃの直前には１／４波長板３０と検光
子２８Ｃが配置され、この受光素子２２Ｃからは、前記
Ａ相検出信号φＡと９０°位相の異なるＢ相検出信号φ
Ｂが生成される。 ここで、レーザビーム１４の入射角θと、１次光の回折
角φとは、次式で関係付けられる。 ｃｌ（ｓｉｎθ＋ｓｉｎψ）＝λ ・・・・・・・・・
（１）このような格子干渉型変位計によれば、例えば回
折格子１０Ａをホログラム方式で製造することによって
、１μｍ以下の光学格子を形成することができるので、
０．０１μｍの分解能を達成することも可能である。
、周期的な検出信号を生成する光電型エンコーダが普及
している。この光電型エンコーダの分解能は、光学格子
の幅及びピッチと、光電変換後の信号を分割する電子回
路の特性により定まる。一般に、光学格子は、エツチン
グ法により製造されるので、４μｍ前後の光学格子が最
終測定精度上限界に近く、又、電子回路も大幅なコスト
アップを伴わない範囲で用いるとなると、最終的な分解
能は１μｍ前後であり、これを更に高精度化するのは困
難であった。 一方、光電型エンコーダが普及するにつれて、より高分
解能で高精度な検出信号を生成するものが求められてい
る。 光電型エンコーダの高分解能化を図ったものの１つとし
て、スケールにホログラフィの技術を用いて微細なピッ
チ（通常１μｍ程度）の目盛を形成し、その目盛を回折
格子として積極的に回折を生じさせて検出信号を得る格
子干渉型変位計が提案されている。 第３図は、特開昭４７−１００３４で提案された格子干
渉型変位計を示すものである。この格子干渉型変位計は
、ピッチｄの回折格子１０Ａが形成されたスケールと、
該回折格子１０Ａに光束としてのレーザビーム１４（波
長λ）を照射する目ｅ−Ｎｅレーザ光源１２と、前記回
折格子１０Ａによって生成された０次と１次の回折光（
光束）をそれぞれ反則するミラー１６．１８と、１次側
ミラー１８で反則された１次光の０次光と、０次側ミラ
ー１６で反射された０次光の１次光との混合波を３分す
るビームスプリッタ（粗い回折格子）２０と、該ビーム
スプリッタ２０で３分された混合波をそれぞれ光電変換
する受光素子２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｇとを含んで構成さ
れている。ここで、前記スケールを除く各要素は、検出
器を構成している。 なあ、第３図において、０次光及び１次光の光路中にそ
れぞれ挿入された偏光子２４．２６の偏光方向は、互い
に直交するように設定されており、３分された中央の混
合波を受光する受光素子２２Ａでは干渉縞が生じないよ
うにされている。従って、この受光素子２２Ａでは、干
渉縞ではなく、単なる和信号が得られるので、参照信号
Ｖｒとする。 又、受光素子２２Ｂの直前には干渉縞生成用の検光子２
８Ｂが配置され、この受光素子２２Ｂからは干渉縞によ
るＡ相検出信号φＡが生成される。 又、受光素子２２Ｃの直前には１／４波長板３０と検光
子２８Ｃが配置され、この受光素子２２Ｃからは、前記
Ａ相検出信号φＡと９０°位相の異なるＢ相検出信号φ
Ｂが生成される。 ここで、レーザビーム１４の入射角θと、１次光の回折
角φとは、次式で関係付けられる。 ｃｌ（ｓｉｎθ＋ｓｉｎψ）＝λ ・・・・・・・・・
（１）このような格子干渉型変位計によれば、例えば回
折格子１０Ａをホログラム方式で製造することによって
、１μｍ以下の光学格子を形成することができるので、
０．０１μｍの分解能を達成することも可能である。
【発明が達成しようとする課題Ｊ
しかしながら、前記回折格子１０Ａが形成されたスケー
ル１０のガラス表面の平面度が悪いと、第３図に示した
ような透過型の格子干渉型変位計の場合、第４図（スケ
ール下面の平面度不良の場合）に矢印Ａで示す如く、屈
折角に差が生じて光束が曲ってしまい、受光素子２２Ｂ
、２２Ｃに入射する２本の光の進行方向は互いに傾斜し
、その方向に直交する光波面は縞状に合成された状態と
なり、ビームの重合断面全面に均一な光の干渉を得るこ
とができなかった。そのために従来はスケールの平面度
を５μｍ／１００ｍｍ以下に保持しなければならない上
、他の要因によって光軸方向が傾斜した場合信号が検出
できないという問題点を有していた。 本発明は、前記従来の問題点を解消するへくなされたも
ので、スケール表面の平面度不良や傾き、ピッチング等
による影響を少なくして、安定した干渉信号を得ること
ができることが可能な格子干渉型変位計を提供すること
を課題とする。 【課題を達成するための手段】 本発明は、回折格子が形成されたスケールと、前記回折
格子に光束を照射する光源、及び、前記回折格子によっ
て生成された複数の光束の混合波を光電変換する受光素
子を含む検出器とを備え、前記スケールと検出器の相対
変位に応じて、周期的に変化する検出信号を生成する格
子干渉型変位計において、前記光源からの光束を分割し
て前記回折格子に入射する光学要素と、前記回折格子を
透過した各０次光をそれぞれ同じ方向に返して回折格子
に再入射するための複数の反射手段とを備え、該複数の
反射手段から再入射されるＯ次反則光により回折格子で
それぞれ生成された１次回折光を混合することにより、
前記課題を達成したものである。
ル１０のガラス表面の平面度が悪いと、第３図に示した
ような透過型の格子干渉型変位計の場合、第４図（スケ
ール下面の平面度不良の場合）に矢印Ａで示す如く、屈
折角に差が生じて光束が曲ってしまい、受光素子２２Ｂ
、２２Ｃに入射する２本の光の進行方向は互いに傾斜し
、その方向に直交する光波面は縞状に合成された状態と
なり、ビームの重合断面全面に均一な光の干渉を得るこ
とができなかった。そのために従来はスケールの平面度
を５μｍ／１００ｍｍ以下に保持しなければならない上
、他の要因によって光軸方向が傾斜した場合信号が検出
できないという問題点を有していた。 本発明は、前記従来の問題点を解消するへくなされたも
ので、スケール表面の平面度不良や傾き、ピッチング等
による影響を少なくして、安定した干渉信号を得ること
ができることが可能な格子干渉型変位計を提供すること
を課題とする。 【課題を達成するための手段】 本発明は、回折格子が形成されたスケールと、前記回折
格子に光束を照射する光源、及び、前記回折格子によっ
て生成された複数の光束の混合波を光電変換する受光素
子を含む検出器とを備え、前記スケールと検出器の相対
変位に応じて、周期的に変化する検出信号を生成する格
子干渉型変位計において、前記光源からの光束を分割し
て前記回折格子に入射する光学要素と、前記回折格子を
透過した各０次光をそれぞれ同じ方向に返して回折格子
に再入射するための複数の反射手段とを備え、該複数の
反射手段から再入射されるＯ次反則光により回折格子で
それぞれ生成された１次回折光を混合することにより、
前記課題を達成したものである。
従来、スケール表面の平面度不良やスケールの傾きによ
り屈折角（透過型の場合）や回折角（反射型の場合）に
差が生じた場合、受光素子２２Ｂ、２２Ｃに入射する２
本の光の進行方向は互いに傾斜し、その方向に直交する
光波面は縞状に合成された状態となり、ビームの重合断
面全面に均一な光の干渉を得ることができなかった。そ
のためにスケールの平面度を高精度に保持しなければな
らない上、他の要因によって、両ビームの相対的進行方
向が傾斜した場合、信号が検出できないことがあり、測
定誤差が発生するという問題があった。 ところで、前出第４図に示した如く、スケール１０を透
過した０次光も、回折格子１０Ａで回折した１次光と同
じように平面度の影響を受けており、回折効率の点で、
０次光の光量（８０％程度）は、１次光の光量（２０％
程度〉よりも非常に大きい。 本発明は、この点に着目してなされたもので、第２図に
示す如く、回折格子（１０）を透過した０次光を、例え
ば直角プリズム４０や、コーナーキューブ、キャッツア
イ等の三角プリズムを用いて同じ方向に返して回折格子
に再入射することで、回折格子によって生成された複数
の光束が各々の設計上の進行方向に対して平行に進むよ
うにしたので、スケールの平面度が１５μｍ／１００ｍ
ｍ以上であっても、安定した干渉信号を得ることができ
るようになった。又、他の要因によって光軸が傾斜して
も安定した信号が得られるようになった。 このようにして、スケール表面の平面度不良やスケール
取付は時のアライメント変動によるピッチング（傾き）
によらず、回折後の光束を常に同じ方向に進ませること
ができ、安定した干渉を保つことが可能となる。このよ
うにして、光学系をより安定なものにすれば、スケール
表面の平面度不良やピッチング等の影響が少なくなり、
より安定した信号を得ることができる。従って、使用ス
ケールの平面度や取付は時のアライメントの許容値が向
上し、安価なスケールを使用することができ、アライメ
ントを簡単なものとすることができる。更に、光源から
照射された光束が光源に戻らないので、レーザダイオー
ド等の戻り光の影響を受ける光源を用いた場合でも、発
振が安定し、ノイズが少なくなる。 なお、第３図に示した従来例において、ミラ１６及び１
８を例えば直角プリズムに変更することも考えられるが
、その場合には、ミラー１８によって反射される光が１
次回折光であり、既に光源の光量の２０％程度となって
いるので、これを更に回折させた場合の１−１次回折光
の光量は光源光量の４％程度となってしまうため、検出
器として高感度なものを用いたり、光源の容量を大きく
する必要がある。これに対して本発明によれば０次光を
反射するようにしているので、０−１次回折光の光量は
光源光量の１６％程度確保でき、検出器の応答速度を向
上したり、光源を小型化することが可能である。
り屈折角（透過型の場合）や回折角（反射型の場合）に
差が生じた場合、受光素子２２Ｂ、２２Ｃに入射する２
本の光の進行方向は互いに傾斜し、その方向に直交する
光波面は縞状に合成された状態となり、ビームの重合断
面全面に均一な光の干渉を得ることができなかった。そ
のためにスケールの平面度を高精度に保持しなければな
らない上、他の要因によって、両ビームの相対的進行方
向が傾斜した場合、信号が検出できないことがあり、測
定誤差が発生するという問題があった。 ところで、前出第４図に示した如く、スケール１０を透
過した０次光も、回折格子１０Ａで回折した１次光と同
じように平面度の影響を受けており、回折効率の点で、
０次光の光量（８０％程度）は、１次光の光量（２０％
程度〉よりも非常に大きい。 本発明は、この点に着目してなされたもので、第２図に
示す如く、回折格子（１０）を透過した０次光を、例え
ば直角プリズム４０や、コーナーキューブ、キャッツア
イ等の三角プリズムを用いて同じ方向に返して回折格子
に再入射することで、回折格子によって生成された複数
の光束が各々の設計上の進行方向に対して平行に進むよ
うにしたので、スケールの平面度が１５μｍ／１００ｍ
ｍ以上であっても、安定した干渉信号を得ることができ
るようになった。又、他の要因によって光軸が傾斜して
も安定した信号が得られるようになった。 このようにして、スケール表面の平面度不良やスケール
取付は時のアライメント変動によるピッチング（傾き）
によらず、回折後の光束を常に同じ方向に進ませること
ができ、安定した干渉を保つことが可能となる。このよ
うにして、光学系をより安定なものにすれば、スケール
表面の平面度不良やピッチング等の影響が少なくなり、
より安定した信号を得ることができる。従って、使用ス
ケールの平面度や取付は時のアライメントの許容値が向
上し、安価なスケールを使用することができ、アライメ
ントを簡単なものとすることができる。更に、光源から
照射された光束が光源に戻らないので、レーザダイオー
ド等の戻り光の影響を受ける光源を用いた場合でも、発
振が安定し、ノイズが少なくなる。 なお、第３図に示した従来例において、ミラ１６及び１
８を例えば直角プリズムに変更することも考えられるが
、その場合には、ミラー１８によって反射される光が１
次回折光であり、既に光源の光量の２０％程度となって
いるので、これを更に回折させた場合の１−１次回折光
の光量は光源光量の４％程度となってしまうため、検出
器として高感度なものを用いたり、光源の容量を大きく
する必要がある。これに対して本発明によれば０次光を
反射するようにしているので、０−１次回折光の光量は
光源光量の１６％程度確保でき、検出器の応答速度を向
上したり、光源を小型化することが可能である。
以下図面を参照して、本発明の実施例を詳細に説明する
。 本実施例は、第１図に示す如く、前記従来例と同様の、
回折格子が形成された透過型のスケール＝８− １０と、光源としてのレーザダイオード（ＬＤ）４２と
、例えばＰＩＮフォトダイオードから成る受光素子２２
Ａ＋、２２Ａ２．２２Ｂ、２２Ｇ。 偏光板２４．２６、検光子２８Ｂ、２８Ｇ、１／４波長
板３０を含む検出器とを備え、前記スケール１０と検出
器の相対変位に応じて周期的に変化する検出信号を生成
する透過型の格子干渉型の変位計において、前記レーザ
ダイオード４２からのレーザビーム１４を２分して前記
スケール１０上の回折格子に入射するビームスプリッタ
４４と、スケール１０に対して同一の入射角θ〈θΣφ
となるようにθを設定することにより、φはより安定す
る）でそれぞれ左右対称にスケール１０に入射され、該
スケール１０上の回折格子を通過した各０次光をそれぞ
れ同じ方向に返して回折格子に再入射するための直角プ
リズム４０Ａ、４０Ｂと、該直角プリズム４０Ａ、４０
Ｂから再入射される０次反則光により、回折格子でそれ
ぞれ生成された１次回折光をそれぞれ反射しつつ分離す
るビムスプリンタ４６Ａ、４６Ｂと、該ビームスプリツ
タ４６Ａ、４６Ｂで分離された回折光を光電変換して参
照信号Ｖｒ ＝ （Ｖｒａ＋Ｖｒｂ） ÷２を得るため
の前記受光素子２２Ａ＋、２２Ａ２と、前記ビームスプ
リッタ４６Ａ、４６Ｂで反射された回折光を再び混合す
るためのハーフミラ−４８とを備えたものである。 このように、直角プリズム４０Ａ１４０Ｂを設けて、回
折格子を透過した各０次光をそれぞれ同じ方向に返して
回折格子に再入射することによって、スケール１０の平
面度によって屈折した光を同じ角度で再入射させるので
、屈折の影響が相殺され、左右２本の光束の回折角φは
常に等しくなる。従って、スケール表面の平面度不良や
アライメント不良によるスケールのピッチング等に拘ら
ず、常に一定方向の１次回折光を得ることができ、安定
した干渉信号を得ることができる。 本実施例においては、回折光を、ビームスプリッタ４６
Ａ、４６Ｂを用いて１度反射した後、ハーフミラ−４８
により混合する、左右対称のいわゆる多段型の構成とし
ているので、レーザダイオード４２の波長２が変化して
も、１次光の回折光φが共通であるため、各受光素子２
２Ｂ、２２Ｇに入射する方向はほぼ一定である。従って
、光源の波長変動や、スケール１０上のローリング及び
ギャップ変動といった、大きいが対称的な変動も吸収さ
れ、このような変動の影響を受けることがない。 又、スケール１０表面での反射光も、直接受光素子に入
側することがない。 本実施例においては、回折格子を透過した０次光を反射
する手段として直角プリズムが用いられていたが、コー
ナーキューブやキャッツアイ等の角プリズムを用いるこ
とも可能である。この場合には、第１図の紙面と垂直方
向に回折点を横ずらしすることができる。 なお前記実施例においては、光源としてレーザダイオー
ド４２が用いられていたが、光源の種類はこれに限定さ
れない。
。 本実施例は、第１図に示す如く、前記従来例と同様の、
回折格子が形成された透過型のスケール＝８− １０と、光源としてのレーザダイオード（ＬＤ）４２と
、例えばＰＩＮフォトダイオードから成る受光素子２２
Ａ＋、２２Ａ２．２２Ｂ、２２Ｇ。 偏光板２４．２６、検光子２８Ｂ、２８Ｇ、１／４波長
板３０を含む検出器とを備え、前記スケール１０と検出
器の相対変位に応じて周期的に変化する検出信号を生成
する透過型の格子干渉型の変位計において、前記レーザ
ダイオード４２からのレーザビーム１４を２分して前記
スケール１０上の回折格子に入射するビームスプリッタ
４４と、スケール１０に対して同一の入射角θ〈θΣφ
となるようにθを設定することにより、φはより安定す
る）でそれぞれ左右対称にスケール１０に入射され、該
スケール１０上の回折格子を通過した各０次光をそれぞ
れ同じ方向に返して回折格子に再入射するための直角プ
リズム４０Ａ、４０Ｂと、該直角プリズム４０Ａ、４０
Ｂから再入射される０次反則光により、回折格子でそれ
ぞれ生成された１次回折光をそれぞれ反射しつつ分離す
るビムスプリンタ４６Ａ、４６Ｂと、該ビームスプリツ
タ４６Ａ、４６Ｂで分離された回折光を光電変換して参
照信号Ｖｒ ＝ （Ｖｒａ＋Ｖｒｂ） ÷２を得るため
の前記受光素子２２Ａ＋、２２Ａ２と、前記ビームスプ
リッタ４６Ａ、４６Ｂで反射された回折光を再び混合す
るためのハーフミラ−４８とを備えたものである。 このように、直角プリズム４０Ａ１４０Ｂを設けて、回
折格子を透過した各０次光をそれぞれ同じ方向に返して
回折格子に再入射することによって、スケール１０の平
面度によって屈折した光を同じ角度で再入射させるので
、屈折の影響が相殺され、左右２本の光束の回折角φは
常に等しくなる。従って、スケール表面の平面度不良や
アライメント不良によるスケールのピッチング等に拘ら
ず、常に一定方向の１次回折光を得ることができ、安定
した干渉信号を得ることができる。 本実施例においては、回折光を、ビームスプリッタ４６
Ａ、４６Ｂを用いて１度反射した後、ハーフミラ−４８
により混合する、左右対称のいわゆる多段型の構成とし
ているので、レーザダイオード４２の波長２が変化して
も、１次光の回折光φが共通であるため、各受光素子２
２Ｂ、２２Ｇに入射する方向はほぼ一定である。従って
、光源の波長変動や、スケール１０上のローリング及び
ギャップ変動といった、大きいが対称的な変動も吸収さ
れ、このような変動の影響を受けることがない。 又、スケール１０表面での反射光も、直接受光素子に入
側することがない。 本実施例においては、回折格子を透過した０次光を反射
する手段として直角プリズムが用いられていたが、コー
ナーキューブやキャッツアイ等の角プリズムを用いるこ
とも可能である。この場合には、第１図の紙面と垂直方
向に回折点を横ずらしすることができる。 なお前記実施例においては、光源としてレーザダイオー
ド４２が用いられていたが、光源の種類はこれに限定さ
れない。
第１図は、本発明に係る格子干渉型変位計の実流側の構
成を示す正面図、 第２図は、本発明の詳細な説明するための光路図、 第３図は、従来の格子干渉型変位計の一例の構成を示す
正面図、 第４図は、従来例において、平面度不良により光束が曲
っている状態を示す断面図である。 −１２＝ １０・・・スケール、 １０Ａ・・・回折格子、 １４・・・レーザビーム（光束〉、 ４０．４０Ａ、４０Ｂ・・・直角プリズム、４２・・・
レーザダイオード（ＬＬＤ）、４４・・・ビームスプリ
ッタ、 ４８・・・ハーフミラ−
成を示す正面図、 第２図は、本発明の詳細な説明するための光路図、 第３図は、従来の格子干渉型変位計の一例の構成を示す
正面図、 第４図は、従来例において、平面度不良により光束が曲
っている状態を示す断面図である。 −１２＝ １０・・・スケール、 １０Ａ・・・回折格子、 １４・・・レーザビーム（光束〉、 ４０．４０Ａ、４０Ｂ・・・直角プリズム、４２・・・
レーザダイオード（ＬＬＤ）、４４・・・ビームスプリ
ッタ、 ４８・・・ハーフミラ−
Claims (1)
- （１）回折格子が形成されたスケールと、 前記回折格子に光束を照射する光源、及び、前記回折格
子によつて生成された複数の光束の混合波を光電変換す
る受光素子を含む検出器とを備え、前記スケールと検出
器の相対変位に応じて、周期的に変化する検出信号を生
成する格子干渉型変位計において、 前記光源からの光束を分割して前記回折格子に入射する
光学要素と、 前記回折格子を透過した各Ｏ次光をそれぞれ同じ方向に
返して回折格子に再入射するための複数の反射手段とを
備え、 該複数の反射手段から再入射されるＯ次反射光により回
折格子でそれぞれ生成された１次回折光を混合すること
を特徴とする格子干渉型変位計。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32258888A JPH0615977B2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 格子干渉型変位計 |
| US07/448,954 US5035507A (en) | 1988-12-21 | 1989-12-12 | Grating-interference type displacement meter apparatus |
| GB8928402A GB2227558B (en) | 1988-12-21 | 1989-12-15 | Grating-interference type displacement meter apparatus |
| DE3942385A DE3942385B4 (de) | 1988-12-21 | 1989-12-21 | Beugungsgitter-Verschiebungsmeßgerät |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32258888A JPH0615977B2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 格子干渉型変位計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02167428A true JPH02167428A (ja) | 1990-06-27 |
| JPH0615977B2 JPH0615977B2 (ja) | 1994-03-02 |
Family
ID=18145374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32258888A Expired - Fee Related JPH0615977B2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 格子干渉型変位計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0615977B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005121539A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Sony Manufacturing Systems Corp | 変位検出装置 |
| EP2000782A2 (en) | 2007-05-28 | 2008-12-10 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder |
-
1988
- 1988-12-21 JP JP32258888A patent/JPH0615977B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005121539A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Sony Manufacturing Systems Corp | 変位検出装置 |
| EP2000782A2 (en) | 2007-05-28 | 2008-12-10 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder |
| US7642505B2 (en) | 2007-05-28 | 2010-01-05 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder with a transparent protective material having a thickness equal to or greater than a depth of focus of an image forming optical system disposed on the surface of a scale |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0615977B2 (ja) | 1994-03-02 |
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