JPH02166614A

JPH02166614A - 磁気ヘッド装置

Info

Publication number: JPH02166614A
Application number: JP32112688A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Shimada; 哲夫島田; Mineo Yorisumi; 頼住　美根生
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1988-12-20
Filing date: 1988-12-20
Publication date: 1990-06-27

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、例えばハードディスクに対して記録再生を行
う固定磁気ディスク駆動装置等に搭載さものである。

〔発明の概要〕

本発明は、フェライト等よりなる磁気ヘッドチップをチ
タン酸カルシウム等よりなるスライダ部材と接合するよ
うな、いわゆるコンポジット型の磁気ヘッド装置におい
て、接合に使用する融着ガラスを選択することで、信頬
性（耐水性、耐アルカリ性等の化学的耐久性）を大幅に
改善しようとするものである。

〔従来の技術〕

例えば、いわゆるコンポジット型の磁気ヘッド装置のよ
うに、磁気コア同士を接合一体化するギャップ融着（１
次融着）と磁気ヘッドチップとスライダ部材とを接合一
体化するガラス融＠（２次融着）の２回の融着を行う磁
気ヘッド装置では、２次融着ガラスには１次融着ガラス
の軟化点以下の温度で融着できる低融点ガラスを使用し
ている。

これは、２次融着の際にギャップ融着したガラスが溶は
出してギャツプ長やトラック幅が変化するのを防ぐ必要
があるからである。

ところで、一般に低融点ガラスはＳ２、、が少なくｐｂ
ｏやＢ　ｚ　Ｏａ　、アルカリ等が主成分となるため、
環境に対する信頬強度（耐水性等の化学的耐久性）が低
く、ガラス表面の変色、風化５失透や段差等が発生し易
いという問題を抱えている。

前述のコンポジット型の磁気ヘッド装置の場合、ハード
ディスク等の磁気記録媒体との摺接面における２次融着
ガラスの表面積は、１次融着ガラスや磁気ヘッドチップ
の表面積に比べてかなり大きく、ガラスの信顛強度の低
さは大きな問題となる。

したがって、コンポジット型の磁気ヘノド装置を加工す
る際には、例えば研削時以外はガラス表面を薬品でレジ
ストする等して、できるだけ水分やアルカリ（主に研削
液）のようなガラスを侵す物質を避けながら行い、磁気
へノド装置を固定ディスク駆動装置に組み込む工程まで
はガラス表面が変質しないように環境や取り扱いに十分
注意を払わなければならないが、それでも多くの場合２
次融着ガラスの表面は変質してしまうのが実情である。

このような状況から、例えば特開昭６２−１８９６１７
号公報に見られるように、２次融着の際に磁気ヘッドチ
ップとスライダ部材の隙間に高融点ガラスを配設し、こ
れを低融点ガラスで固定するという技術が検討されてい
る。

この場合、磁気記録媒体摺接面には隙間に配設された高
融点ガラスが露出することになり、ガラスの変質や段差
の発生等が抑制されるものと期待される。

しかしながら、磁気記録媒体摺接面に露出する高融点ガ
ラスは低融点ガラスで固定されているだけであるので強
度の点で不安が残ること、僅かではあるが磁気記録媒体
摺接面には信頼性の低い低融点ガラスも露出しており段
差や変質の原因となる虞れがあること等の問題を残して
おり、信頼性の点で十分なものとは言い雛い。さらには
、装造上の観点から見た場合にも、磁気へノドチップと
スライダ部材の隙間に高融点ガラスを入れこの上から低
融点ガラスを流し込もうとすると、高融点ガラスの下側
にガラスが入り込み難く、２次融着に長時間を要したり
、気泡が残って強度が大幅に低下する等の問題が発生ず
る。また、高融点ガラスの配設位置にも高い精度が要求
され、例えば研削位置と当該高融点ガラスの中心線位置
とがずれると、磁気記録媒体摺接面に露出する低融点ガ
ラスの面積が大きくなってしまうことになる。

〔発明が解決しようとする課題〕

このように、従来の技術ではコンポジット型の磁気ヘッ
ド装置の信頼性を十分に確保することは難しく、その解
決が大きな課題となっている。

そこで本発明は、このような従来の実情に濫みて提案さ
れたものであって、磁気記録媒体摺接面の大部分が化学
的耐久性に優れた高融点ガラスで占められるとともに接
合強度も確保され、信頼性の点で大幅に改善された磁気
ヘノド装置を提供することを目的とする。さらに本発明
は、製造上の観点（例えば生産性や作業性等）からも存
利な＆ｆ気ヘッド装置を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段］上述の目的を達成するために、本発明の磁気ヘッド装置
は、第１の融着ガラスが埋め込まれトランク幅が規制さ
れた一対の磁気コアが第２の融着ガラスで接合一体化さ
れてなる磁気ヘントチツブが、非磁性体からなるスライ
ダ部材に嵌挿され第３の融着ガラスにより固定されてな
り、前記第１の融着ガラスのガラス転移点をＴ　ｇ　＋
　、第２の融着ガラスのガラス転移点をＴ　ｇ　ｚ　、
第３の融着ガラスの融着温度をＴｍ３としたときにＴｇ
ｌ　＜　Ｔｍｌ＜　Ｔｇｚであることを特徴とするもの
である。

〔作用］これまでのコンポジット型の磁気ヘッド装置では、磁気
へノドチソプとスライダ部材との接合を行う融着ガラス
をトラック幅の規制を行う溝の埋め込み材として兼用し
ていたので、低融点ガラスが磁気記録媒体摺接面で大き
な表面積を占めていた。

これに対して、本発明の（ｉｌ気ヘッド装置では、磁気
ヘッドチップとスライダ部材の接合を行う融着ガラスを
磁気記録媒体摺接面のガラス（磁気ヘッドチップのトラ
ック幅規制溝のガラス）と兼用しておらず、磁気記録媒
体２Ｈｙ接面で大きな表面積を占めるガラスは、高融点
の化学的耐久性の高いものとされ、摺接面の信頼性が大
幅に改善される。

また、前記高融点のガラス（第１の融着ガラス）のガラ
ス転移点Ｔ　ｇ　＋が磁気ヘッドチップとスライダ部材
の接合を行う融着ガラス（第３の融着ガラス）の融着温
度Ｔ−よりも低いので、３次融着時に第１の融着ガラス
が若干溶は出し、この影♂で磁気記録媒体摺接面近傍の
第３の融着ガラスの物性が改善され、段差や変質の虞れ
が解消される。

さらに、前記第１の融着ガラスは、磁気ヘッドチップに
対して直接融着されているので、ａ械的強度も十分に確
保される。

一方、磁気へ・ラドチップを接合一体化するための融着
ガラス（第２の融着ガラス）のガラス転移点Ｔｇｚは第
３の融着ガラスの融着温度Ｔ１よりも高いので、３次融
着時にこの第２の融着ガラスが溶は出してギャップ長や
トラック幅が変化することはない。

〔実施例〕

以下、本発明を適用した具体的な実施例を図面を参照し
ながら説明する。

本実施例の磁気ヘッド装置は、第１図及び第２図に示す
ように、一対の磁気コア（ｌ　ｌ）　、　（１２）を接
合一体化したル１１気ヘッドチップ（１）が、チタン酸
カルシウム等のセラミクス材料等よりなり所定の溝加工
等が施されたスライダ部材（２）に埋め込まれ、第３の
融着ガラス（３次融着ガラス）（３）で固定されてなる
ものである。

磁気ヘッドチップ（１）は、第３図に示すように、一対
の磁気コア（１１）　、　（１２）を第２の融着ガラス
（２次融着ガラス）　（１３）によりギャップ接合する
ことによって構成されるものであって、当該２次融着ガ
ラス（１３）あるいはギャップスペーサにより所定の間
隙の磁気ギヤノブ（作動ギャップ）ｇが形成されている
。勿論、前記磁気ヘッドチップ（１〕は、フェライト単
体よりなるものであってもよいし、磁気コア（１１）　
、　（１２）の接合界面に高飽和磁束密度を有する金属
磁性薄膜が被着形成された１いわゆるメタルインギャッ
プタイプのものであってもよい。

また、前記磁気ヘッドチップ（１）の磁気記録媒体摺接
面近傍は、トランク幅規制溝（１４）　、　（１５）に
よってトラック幅相当分の幅Ｔｗを残して削除されてお
り、当該トラック幅規制溝（１４）　、　（１５）内に
は、高融点を有する第１の融着ガラス（１灰量着ガラス
）　（１６）が充填されている。

ここで、前記１灰量着ガラス（Ｉ６）は、磁気ヘッドチ
ップ（１）をスライダ部材（２）に嵌挿された時に、こ
れら磁気ヘッドチップ（１）のトラック部とスライダ部
材（２）の間を埋める形となり、この１灰量着ガラス（
１６）が磁気記録媒体摺接面に露呈することになる。

したがって、前記１灰量着ガラス（１６）には、段差や
変質が発生することがないように化学的耐久性（特に耐
水性）に優れること、このガラスを通してデプス長を測
定する必要があることから透明であること、ヒビ等の防
止を目的として熱膨張係数がフェライト等の磁気ヘッド
材に近いこと、フェライトや金属磁性薄膜との侵食拡散
反応が少ないこと等が要求され、信頼性の高い高融点ガ
ラスが使用される。

また、この１灰量着ガラス（１６）のガラス転移点Ｔｇ
＋（熱膨張係数が変化する温度）は、３次融着ガラス（
３）による融着時に若干溶は出してスライダ部材（２）
との隙間ができるだけ１灰量着ガラス（１６）で埋まる
ようにするために、３次融着ガラス（３）の融着温度Ｔ
ｍ３よりも５０°Ｃ前後低いことが好ましい。すなわち
、３次融着ガラス（３）の融着温度Ｔ−が５００〜５５
０°Ｃであれば、１灰量着ガラス（１６）のガラス転移
点Ｔ　ｇ　＋は４５０〜５００°Ｃ程度とすることが好
ましい。

１灰量着ガラスのガラス転移点Ｔｇ＋を３次融着ガラス
（３）の融着温度Ｔｍ３よりも低くすることで、第２図
に示すように、３次融着時に磁気記録媒体摺接面近傍の
３次融着ガラス（３ａ）中に１次融着ガラス（１６）が
溶は出し、３次融着ガラス（３）の表面が前記１次融着
ガラス（１６）あるいは１次融着ガラス（１６）の影響
で強化されたガラスで覆われた形になる。

１次融着ガラス（１６）には、前述の要件を満足するガ
ラスであればいかなる組成を有するものであっても使用
できるが、例えば５ｉ（ｈとＢａＯを合わせた割合が４
０〜５０重量％（ただしＢａＯは０〜５重量％）、Ｂｚ
（ｈまたはＧｅ０ｚ（両者混在でも可）の割合が０〜５
重量％、ｐｂｏとＢｉア０．を合わせた割合が３４〜４
０重量％（ただしＢｔｘＯｓは０〜５重世％）、Ｎａｎ
ｏまたはに、Ｏ（両者混在でも可）の割合が５〜１０重
■％、ＦｅｚｅｓとＺｎＯを合わせた割合が０〜１５重
量％（ただしＦｅｔＯ＊：Ｚｎ０＝４０：６０〜７０：
３０）なる組成を有するガラス等が好適である。

本実施例では、Ｓｉ０□４０．４重量％、ｐｂ。

３４．４重量％、Ｎａｚ０８．６重量％、Ｂｚｏ、２．
６重量％、Ｆｅ２０ｉ７．８重量％、Ｚｎ０６．２重量
％なる組成を有するガラスを使用した。かかるガラスの
熱膨張係数α（１００−４００’Ｃ）　＝　１００　Ｘ
　１０−’°ｃ　−１，ガラス転移点Ｔｇ＋＝４６０°
Ｃ８融着温度Ｔ＋ｍ＋　＝　７３０°Ｃであり、このガ
ラスを使った磁気ヘッドを純水中で３０分間煮沸しても
ガラス段差は未発生であった。

なお、融着温度は融着方式や被着物形状、融着雲囲気等
によって異なるが、ここでは通常の磁気ヘッドの流し込
み方式による温度とした。すなわち、幅約１５０μｍ、
深さ約１２０μｍのトラック幅規制溝を２０μｍ間隔で
設け、さらにガラス溝ならびに巻線溝を設けた幅４０ｍ
＋ｎのフェライトブロックを用意し、これをトランク幅
規制溝のみ設けたフェライトブロックとギヤツブ長約０
．５μｍで突き合わせ、前記ガラス溝にのみガラス棒を
入れ、約２０°傾けて加熱した時に前記各溝を全てガラ
スが満たすための温度を融着温度と決めた。

なお、融着に際しての雰囲気は窒素１００％とし、ガラ
ス溝からフェライトブロック先端までの距離（ガラスを
流す距離）は約３鴫とした。

一方、磁気コア（１１）　、　（１２）同士をギャップ
接合するのに使用される２灰量着ガラス（１３）は、３
次融着時に溶は出してしまうとギャップ長やトラック幅
がずれてしまうことになるので、そのガラス転移点Ｔｇ
ｘが３次融着ガラスの融着温度Ｔｌ１１３よりも高いこ
とが必要である。したがってＴｇｇ−Ｔｍ３〉０°Ｃ９
好ましくはＴｇｔ−Ｔｍｓ＞　２０°Ｃなる条件を満た
すガラスを使用する。

また、この２灰量着ガラス（１３）にもフェライト等の
磁気ヘッド材と同等の熱膨張係数を有すること、治具の
劣化を防止する意味で融着温度Ｔｎ＋１が８００″Ｃ以
下であること等が要求され、さらにはフロントギャップ
（作動ギャップ）側では磁気ヘッド材であるフェライト
との反応が少ないこと、バックギャップ側ではなるべく
耐熱接合強度を確保すること等も要求されることから、
フロントギャップ側とバックギャップ側とで異なる２灰
量着ガラスを使用することが好ましい。この場合、フロ
ントギャップ側のガラスもバックギャップ側のガラスも
先の温度条件（ＴＩ、ｚ　　ＴＩｎ３＞Ｏ″Ｃ）を満足
することが好ましいが、必ずしもこれに限らず、いずれ
か一方のガラスが前記条件を満足すればよい０通常は、
バンクギャップ側のガラスにガラス転移点のなるべく高
いものを使用し、したがってこのバックギャップ側の２
灰量着ガラスが本発明で言うところの２灰量着ガラスと
いうことになる。

このようにフロントギャップ側とバックギャップ側とで
異なるガラスを使用する場合、例えばフロントギャップ
側の２灰量着ガラス〔以下、２火遊着ガラスＡと称する
。）　（１３Ａ）に使用可能なガ−）ス材としては、Ｓ
ｉＯ，ａ重量％、Ｂ、Ｏ，ｂ重量％、Ｎａ、Ｏ及び／又
はに、Ｏｃ重量％、ｐｂＯ４重量％、Ｂａｂｅ重量％、
　　Ｆｅ、Ｏ，及びＺｎＯｆ重量％よりなり、その組成
範囲が３９≦ａ≦６０．１０≦ｂ≦２５．１２≦Ｃ≦２
００≦ｄ≦８．０≦ｅ≦１５．１４≦ｒ≦２５なるガラ
スが挙げられる。

上述の組成を有する２火照着ガラスＡは、ガラス転移点
Ｔｇ＾５００〜５６０“Ｃ９屈服点（それ以上温度を上
げると冷却してもガラス形状が復帰しない温度）５４０
〜６１０°Ｃ１融着温度ＴｍＡ（作業温度）６５０〜８
００°Ｃ１溶融温度（作製温度）１２００〜１３００°
Ｃであり、Ｎａ、Ｏ及びＫ　ｚ　Ｏの含有量を増減する
ことにより、熱膨張係数（１００〜４５０　’Ｃの値で
ある。）は９０Ｘ１０−’〜１１０　Ｘ　１０−’　（
’Ｃ”’）に設定される。上記２次像着ガラスＡは、Ｆ
ｅ、０１及びＺｎＯを含むことから、ガラス中へのフェ
ライト、金属の拡散あるいはフェライト中へのガラスの
侵食、すなわち磁気ギャップｇにおける侵食拡散反応が
有効に抑制される。なお、この２火照着ガラスＡも３次
融着の際に溶は始めないことが好ましいが、磁気コア同
士はバック側の２次融着ガラスＢで耐熱接合強度を確保
し固着しているので、若干溶は始めても問題はない。

また、バックギャップ側の２次像着ガラス〔以下、２灰
量若ガラスＢと称する）　（１３Ｂ）は、このガラスの
ガラス転移点をＴｇｓとしたときに、少なくともＴｇｍ
　　Ｔｍ３＞Ｑ℃、好ましくは’ｒｇ、−Ｔｔｓ２＞　
２０　’Ｃなる条件を満足する必要があり、したがって
使用可能なガラス材としては、Ｓｉｇｔａ重量％、Ｂｉ
ａ３ｂ重量％、Ｎａ、Ｏ及び／又はＫ　ｔ　００重量％
、Ｂａｌｄ重量％、Ｆｅ２０ｓ及びＺｎｏｅ重■％より
なり、その組成範囲が４４≦ａ≦６０．１０≦ｂ≦２５
．１２≦Ｃ≦２０．１０≦ｄ≦１５．０≦ｅ　＜　１４
なるガラスが挙げられる。

上述の組成を有する２次融着ガラスＢは、ガラス転移点
Ｔｌ５ｚ５６０〜６００°Ｃ２屈服点６００〜６５０°
Ｃ１融着温度Ｔｍ１７００〜８００”Ｃ，溶融温度１２
５０〜１３００°Ｃであり、Ｎａ、Ｏ及びにオ０の含有
量を増減することにより熱膨張係数は９０ｘｌＯ−’　
〜１１０ｘｌ　Ｏ−’　（’Ｃ−’）　に設定される。

この２次融着ガラスＢは、２火照着ガラスＡよりも高い
ガラス転移点を有するにもかかわらず、２火照着ガラス
Ａと同等の低い融着温度を示す。

本実施例では、２火照着ガラスＡとしてＳｉＯ□４２．
８重量％、ＢｚＯｚ　１４．９重量％、Ｎａ、０１３．
０重量％、Ｂａ０９．３重量％、Ｆｅｚｅｓ１１．１重
量％、ＺｎＯ３，９重量％よりなるガラスを、２次融着
ガラスＢとして５ｉＯｚ５３．５重量％、ＢａＯ３１Ｂ
、６ｍｆｔ％、ＮａｔＯ１６，３重量％、ＢａＯ１１，
６重量％よりなるガラスを使用した。この２火照着ガラ
スＡの熱膨張係数α（１００−４５０’Ｃ）　＝　１０
０　Ｘ　１０−”Ｃ−’、ガラス転移点Ｔｇａ＝　５３
０℃、融着温度ＴｍＡ＝　７４０°Ｃであり、また２次
融着ガラスＢの熱膨張係数α（１００−５００°Ｃ）＝
ｌＯＯｘｌＯ°り℃−１．ガラス転移点Ｔｇ。

＝５８６°Ｃ１融着温度Ｔｍｍ＝　７４０°Ｃである。

なお、磁気ギャップｇのギャップ材として２次像着ガラ
スを利用せず、例えばＳ２、、やＺｒＯ□等のギャップ
スペーサを予め磁気ギャツプ面に形成する場合には、必
ずしも２次像着ガラスに前述の２種類の融着ガラスを使
用する必要はなく、ガラス転移点の高いガラス（例えば
前述の２次融着ガラスＢ）によってフロントギャップ側
、バックギャップ側を接合すれば良いことになる。

最後に、磁気ヘッドチップ（１）とスライダ部材（２）
とを固定するための３次数着ガラス（３）であるが、当
該３次融着ガラス（３）には２次像着ガラス（１３）を
溶かさない温度で磁気ヘッドチップ（１）とスライダ部
材（２）の隙間に入り込むこ□と、熱膨張係数がフェラ
イト等の磁気ヘッド材やスライダ材と適合していること
等が要求される。

したがって、３次数着ガラスには特にその融着温度Ｔｌ
１１３が２次像着ガラスのガラス転移点よりも低い、い
わゆる低融点ガラスが使用されるが、かかる条件を満た
すガラスであればその組成は問わない。ここではＰｂＯ
６７，８重世％、ＳｉＯ□１４．１重量％、Ｂ、０３　
９．０重量％、Ｂｉｔ’ｓ７．２重量％、　ＮａｔＯ１
，９ｆｆｉｆＦｔ％よりなり、熱膨張係数α（１００−
３５０″Ｃ）−１００ＸＩＯ−’″ｃ−１ガラス転移点
Ｔ　ｇｘ　−４０５°Ｃ１融着温度Ｔ　１１３−５３０
℃なるガラスを使用した。このガラスは、通常の低融点
ガラスに比べて耐アルカリ性に格段に優れたものである
。

この３次数着ガラス（３）は、３火遊着時に溶出する１
火遊着ガラス（１６）の影響で磁気記録媒体摺接面近傍
で物性的に補強され、磁気記録媒体摺接面に直接露出す
ることはほとんどないものと考えられる。

そこで次に、本実施例の磁気ヘッド装置の構成をより明
確なものとするため、その製造方法について説明する。

先の第１図、第２図に示す磁気ヘッド装置を製造するに
は、先ず第４図（Ａ）に示すように、フェライトブロッ
ク（２１）を準備し、その上面にフェライト材が所定の
トラック幅相当の幅Ｔｗを有して残存するように、複数
のトラック幅規制溝（２２）を切削加工する。

同時に、ガラス埋め込み溝（２３）や後述のガラスロッ
ドを載置するための断面略三角形状のガラス載置溝（２
４）を、前記トラック幅規制溝（２２）とは直交する方
向に切削する。

次いで、第４図（Ｂ）に示すように、耐水性に優れた高
融点ガラスを１火遊着ガラス（２５）とし、そのロッド
（円柱状のガラス棒）を前記ガラス載置溝（２４）上に
載置するか、あるいはペースト状の１灰量若ガラス（２
５）を前記トランク幅規制溝（２２）　。

ガラス埋め込み溝（２３）に埋め込み、この１火遊着ガ
ラス（２５）の融着温度まで加熱して、これら溝（２２
）　、　（２３）が全て埋まるように１火遊着ガラス（
２５）を流し込む。

ガラスの盛り上がった部分やフェライトブロックの不要
部分を削り落とした後、第４図（Ｃ）に示すように、ギ
ャップ部となる位置〔例えば前記ガラス載置溝（２４）
の中央部〕でトラック幅規制溝（２２）と直交する方向
で切断し、フェライトブロック（２１）を２分する。

以下、便宜上この２分されたフェライトブロックのうち
一方をＷ側ブロック（２６）、他方を■］側ブロック（
２７）と呼ぶ。

次に、これらＷ側ブロック（２６）及びＨ側ブロック（
２７）の切断面（２６ａ）　、　（２７ａ）をトラック
部のフェライト（２１ａ）が現れるまで研磨する。この
研磨された切断面がギャップ接合面（２６ｂ）　、　（
２７ｂ）となる。

さらに、第４図（Ｄ）に示すように、一方のブロック、
ここではＷ側ブロック（２６）のギャップ接合面（２６
ｂ）に、巻線溝（２８）ならびにガラス溝（２９）を形
成し、これらギャップ接合面（２６ｂ）　、　（２７ｂ
）を鏡面仕上げする。

続いて、ギャップ長を規制するスペーサ（例えばＳ２、
膜等）をいずれか一方のブロックのギャップ接合面上下
部分の長手方向に所定幅で蒸着し、ギャップ接合を行う
。

ギャップ接合は、第４図（Ｅ）に示すように、前述のＷ
側ブロック（２６）のギャップ接合面（２６ｂ）とＨ側
ブロック（２７）のギャップ接合面（２７ｂ）とを突き
合わせ、２灰量着ガラスのロッド（３０）　、　（３１
）をそれぞれ巻線溝（２８）、ガラス溝（２９）に挿入
し、この２灰量着ガラスの融着温度まで加熱することで
行う。

ここで、フロントギャップに相当する部分に予めＳ２、
、膜等をギャップスペーサとして成膜しておく場合には
、巻線溝（２８）に挿入するガラスロッド（３０）にも
、またガラス溝（２９）に挿入するガラスロッド（３１
）にも、ガラス転移点が後述の３次融着ガラスの融着温
度よりも高い同じ種類のガラス（例えば前述の２火遊着
ガラスＢ）を用いる。

これに対して、ギャップ材として融着ガラスを兼用する
場合には、フロントギャップ側とバックギャップ側とを
異なる２種類のガラスで融着する。

すなわち、フロントギャップ側〔巻線溝（２８））に挿
入されるガラスロッド（３０）には、フェライトとの侵
食拡散反応の少ない２灰量着ガラス（前述の２次数着ガ
ラスＡ）を、バックギャップ側〔ガラス溝（２９））に
挿入されるガラスロッド（３１）には、耐熱接合強度を
確保するためガラス転移点が高い２灰量着ガラス（前述
の２火遊着ガラスＢ）を使用することが好ましい。

なお、１火遊着ガラス（２５）のガラス転移点が２灰量
着ガラスの融着温度よりも低いことから、２灰量着時に
１火遊着ガラス（２５）が先に熔は出しＷ側、Ｈ側で混
ざり合うが、粘性が裔いためにギャップ接合面（２６ｂ
）　、　（２７ｂ）にまで流れ込むことはなく、ギャッ
プ接合は前記２灰量着ガラスにより行われる。また、２
灰量着時に溶は出して変形した１人助着ガラス（２５）
は、後述の磁気ヘンドチンプ加工で形状を修正されるの
で、何ら問題はない。

次に、第４図（Ｅ）においてｘ−Ｘ線で示す位置で切断
し、第４図（Ｆ）に示すように形状を整え、第４図（Ｇ
）に示すように各磁気ヘントチツブ（３２）に分割する
。ただし、この時点では磁気ヘッドチップ（３２）のデ
プスは長めに残しておき、また取り扱い性等を考慮して
脚部（３２ａ＞も残しておく。

一方、チタン酸カルシウム（ＣａＴｉ０３）等よりなる
スライダ材（３３）を用意し、第４図（１１）に示すよ
うに、磁気ヘッドチップ（３２）のヘッド部（３２ｂ）
が嵌合される嵌挿溝（３４）や、当該ヘッド部（３２ｂ
）への巻線を可能とする巻線補助溝（３５）、　　３火
遊着〔磁気ヘッドチップ（３２）とスライダ材（３３）
のガラス融着〕の際にガラス載置溝を載置するガラスＩ
ｖ２置溝（３６）等の溝加工を施す。

そして、第４図（Ｔ）に示すように、この溝加工を施し
たスライダ材（３３）の嵌挿溝にＥｉｌ気ヘッドチップ
（３２）を嵌め込み、円柱状の３吹射着ガラス（３７）
をガラス載置溝（３６）に載置して、上からこの３吹射
着ガラス（３７）を流し込む。融着に際しては、ｃｎ気
ヘッドチップ（３２）とスライダ材（３３）との隙間に
３吹射着ガラス（３７）が流れ込むような温度で融着す
る。

この３火遊着の際、磁気ヘッドチップ（３２）のトラッ
ク幅規制溝（２２）に充填される１人助着ガラス（２５
）のガラス転移点が３吹射着ガラス（３７）の融着温度
よりも低いことから、当該１次融着ガラス（２５）も若
干溶は始めるが、磁気ヘントチツブ（３２）とスライダ
材（３３）との隙間を低融点ガラス〔３吹射着ガラス（
３７）　）が埋めた後に溶は出すので、却って耐水性の
優れた高融点ガラス〔１人助着ガラス（２５））が低融
点ガラス〔３吹射着ガラス（３７））を上からカバーし
て保護することになり、磁気記録媒体摺接面に露出する
ガラスの特性を考えた場合には良い傾向である。

その後は通常の加工を行い、磁気ヘッドチップ（３２）
の脚部（３２ａ）や、磁気ヘッドチップ（３２）上部の
３吹射着ガラス（３７）は削り取ってしまう。

したがって、得られる磁気ヘッド装置の磁気記録媒体摺
接面には、スライダ材（３３）と磁気ヘッドチップ（３
２）の極微小な隙間以外は高融点ガラス〔１人助着ガラ
ス（２５））、フェライト　スライダ材が露呈するのみ
で、また前記隙間の低、融点ガラスも１人助着ガラス（
２５）の影響で補強されていることから、耐水性、耐ア
ルカリ性等の化学的耐久性が大きく、信頼性の高いコン
ポジット型の磁気ヘッド装置となる。

以上、本発明の実施例について説明したが、本発明がこ
の実施例に限定されるものではなく、例えばヘッド形状
やへノド材、スライダ材の材質等は適宜変更可能である
。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明の磁気ヘッド
装置では、予め磁気ヘッドチップのトラック周辺に化学
的耐久性に優れた高融点ガラスが埋め込まれるとともに
、接合に使用する融着ガラスの選択に工夫が凝らされて
いるので、磁気記録媒体摺接面の信頼性を大幅に改善す
ることができ、段差の発生やガラスの変質を解消し機械
的強度を十分に確保することができる。

また、特に２火遊着ガラスのガラス転移点が３吹射着ガ
ラスの融着温度よりも高いことから、ギャップ長やトラ
ック幅が変化することもなく、これらのバラツキが少な
い高品質の磁気ヘッド装置を提供することが可能である
。

さらに、製造上の観点から見たときにも、ガラスの流し
込みが容易で、また特にガラス融着や研磨の際に高精度
を要求されることもなく、作業性。

生産性の点で優れたものである。

このように、本発明の磁気ヘッド装置は、信頼性の点か
ら見ても製造上の点から見ても極めて有用であり、その
工業的利用価値は非常に大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用した磁気ヘッド装置の一例を示す
外観斜視図であり、第２図はその磁気ヘッドチップ嵌合
部を拡大して示す要部断面図、第３図は磁気ヘッドチッ
プの概略斜視図である。第４図（Ａ）ないし第４図（Ｉ）は磁気ヘッド装置の製
造工程の一例を工程順に従って示す概略斜視図であり、
第４図（Ａ）はフェライトブロック溝加工工程、第４図
（Ｂ）は１次融着工程、第４図（Ｃ）はフェライトブロ
ック切断工程、第４図（Ｄ）は巻線溝加工工程、第４図
（Ｅ）は２次融着工程、第４図（Ｆ）は磁気ヘッド部形
状加工工程、第４図（Ｇ）は磁気ヘッドチップへの切断
工程、第４図（Ｈ）はスライダ材溝加工工程、第４図（
１）は３次融着工程をそれぞれ示す。ｌ　・２　・３　・１１゜ｌ　３　・ｌ　６　・・磁気ヘッドチップ・スライダ部材・３火遊着ガラス２・・・磁気コア・２次融着ガラス・１次融着ガラス第２図第３図第４図Ａ第４図Ｂ第４図Ｃ第４図Ｄ２角第４図Ｅ

Claims

【特許請求の範囲】第１の融着ガラスが埋め込まれトラック幅が規制された
一対の磁気コアが第２の融着ガラスで接合一体化されて
なる磁気ヘッドチップが、非磁性体からなるスライダ部
材に嵌挿され第３の融着ガラスにより固定されてなり、前記第１の融着ガラスのガラス転移点をＴｇ＿１、第２
の融着ガラスのガラス転移点をＴｇ＿２、第３の融着ガ
ラスの融着温度をＴｍ＿３としたときに、Ｔｇ＿１＜Ｔ
ｍ＿３＜Ｔｇ＿２であることを特徴とする磁気ヘッド装置。