JPH02155690A - 強誘電性高分子光記録媒体 - Google Patents
強誘電性高分子光記録媒体Info
- Publication number
- JPH02155690A JPH02155690A JP63308797A JP30879788A JPH02155690A JP H02155690 A JPH02155690 A JP H02155690A JP 63308797 A JP63308797 A JP 63308797A JP 30879788 A JP30879788 A JP 30879788A JP H02155690 A JPH02155690 A JP H02155690A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ferroelectric
- recording medium
- recording layer
- optical recording
- macromolecular material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 7
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 25
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 3
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical compound FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000005621 ferroelectricity Effects 0.000 abstract description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 16
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 5
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- TWCAHZDBCHPECW-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluoroethene ethene trihydrofluoride Chemical compound C=C.C=C(F)F.F.F.F TWCAHZDBCHPECW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepropanedinitrile Chemical compound N#CC(=C)C#N FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N F.F.F.F.C=C Chemical compound F.F.F.F.C=C PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002999 depolarising effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 238000010094 polymer processing Methods 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000131 polyvinylidene Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006027 ternary co-polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 229920001959 vinylidene polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
- G11B7/248—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes porphines; azaporphines, e.g. phthalocyanines
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は光メモリ−、光センサ−、焦電センサー、デイ
スプレー等に用いる強誘電性高分子材料を記録層として
用いた可逆光記録媒体に関する。
スプレー等に用いる強誘電性高分子材料を記録層として
用いた可逆光記録媒体に関する。
[従来の技術]
強誘電性高分子材料を用いた記録媒体は既に種々の文献
及び公報等によって開示されているが、その記録方式は
具体的には以下に挙げる3柾類に分類することができる
。
及び公報等によって開示されているが、その記録方式は
具体的には以下に挙げる3柾類に分類することができる
。
まず第1の方式としては特開昭59−215098.5
9−215097.61−105792に開示されてい
るように交差型電極等により任意の部分に電界を印加し
て分極処理を施すことによって情報の記録を行った後に
光ビームを照射して焦電電流の発生の有無によって情報
を再生しようとする方式である。
9−215097.61−105792に開示されてい
るように交差型電極等により任意の部分に電界を印加し
て分極処理を施すことによって情報の記録を行った後に
光ビームを照射して焦電電流の発生の有無によって情報
を再生しようとする方式である。
また第2の方式としては同じく特開昭59−2.150
98.59−215097等に開示されているように、
あらかじめ分極処理を施した試料中の任意の部分の分極
を脱分極せしめることによって情報の記録を行い、第1
方式と同様に記録時よりも弱い光ビームを照射した時の
焦電電流のを無で情報を再生しようという方式である。
98.59−215097等に開示されているように、
あらかじめ分極処理を施した試料中の任意の部分の分極
を脱分極せしめることによって情報の記録を行い、第1
方式と同様に記録時よりも弱い光ビームを照射した時の
焦電電流のを無で情報を再生しようという方式である。
ただしこの方式による再生時の応答は第1方式と異なり
、該焦電電流が発生しない部分が記録されたビットとな
る。
、該焦電電流が発生しない部分が記録されたビットとな
る。
さらに第3の方式としてはIEEE Trans。
EIectr、Ins、 IEI−21,539,(1
98B)や高分子加工35.418. (1986)等
に開示されているように強誘電体が交流電界印加時に現
す誘電ヒステリシス曲線の抗電界が一定温度の上昇に伴
って減少する性質を利用して、あらかじめ分極処理を施
した試料に対して室温ではその分極が反転しない程度の
弱い逆電界を印加しながら当該試料中の任意の部分に対
して光ビームを照射して該光照射部の温度をキュリー点
近傍まで上昇させて当該光照射部の分極を反転せしめる
ことによって情報を記録し、さらに記録時よりも弱い光
ビームを照射した場合の焦電電流の位相の差(正負)に
よって記録された情報を再生する方式である。
98B)や高分子加工35.418. (1986)等
に開示されているように強誘電体が交流電界印加時に現
す誘電ヒステリシス曲線の抗電界が一定温度の上昇に伴
って減少する性質を利用して、あらかじめ分極処理を施
した試料に対して室温ではその分極が反転しない程度の
弱い逆電界を印加しながら当該試料中の任意の部分に対
して光ビームを照射して該光照射部の温度をキュリー点
近傍まで上昇させて当該光照射部の分極を反転せしめる
ことによって情報を記録し、さらに記録時よりも弱い光
ビームを照射した場合の焦電電流の位相の差(正負)に
よって記録された情報を再生する方式である。
[発明が解決しようとする課題]
上記3つの方式を比較すると、室温時の残留分極量をP
rとして表すとして、その再生信号である焦電電流の大
きさを分極量の変化に換算すると、第1方式及び第2方
式では最大Prであるのに対して、第3方式では最大2
Prに相当する電流が観n1される。また第1方式では
記録密度を向上するために電極の極微細加工を必要とし
てコスト的に不利であり、第2方式では情報の消去が全
面消去になるために可逆光メモリーとして使用上大きな
欠点を有するため、第3方式が最も望ましいと考えられ
る。
rとして表すとして、その再生信号である焦電電流の大
きさを分極量の変化に換算すると、第1方式及び第2方
式では最大Prであるのに対して、第3方式では最大2
Prに相当する電流が観n1される。また第1方式では
記録密度を向上するために電極の極微細加工を必要とし
てコスト的に不利であり、第2方式では情報の消去が全
面消去になるために可逆光メモリーとして使用上大きな
欠点を有するため、第3方式が最も望ましいと考えられ
る。
しかし、上記第3方式を採用した場合の試料の最適な構
成は確立されておらず、特にこの方式は照射される光に
よる熱記録、熱再生方式であるため照射光に対するその
吸収効率は重要な特性となるが、現状では強誘電性高分
子(特にビニリデン系重合体・・・以下PVDI合体と
略す)単独膜から成る記録層を有する従来の光記録媒体
では光透過性が高いために感度が低く、高出力のレーザ
ーを使用せねばならないために、実用性及び生産性の面
で問題があった。
成は確立されておらず、特にこの方式は照射される光に
よる熱記録、熱再生方式であるため照射光に対するその
吸収効率は重要な特性となるが、現状では強誘電性高分
子(特にビニリデン系重合体・・・以下PVDI合体と
略す)単独膜から成る記録層を有する従来の光記録媒体
では光透過性が高いために感度が低く、高出力のレーザ
ーを使用せねばならないために、実用性及び生産性の面
で問題があった。
また特開昭53−46H8に開示されているように強誘
電性高分子光記録媒体中に半導体レーザー光波長付近に
吸収を有する色素を分散した発明が提案されているが、
当該公報中に開示されているような一般的な色素を用い
て上記第3方式による記録を行った場合は記録時の色素
は高熱と高電圧という苛酷な環境下にさらされることに
なり、反復して使用することによって結果として色素分
子の解離、分解等による褪色現象が生じ、光記録媒体の
実用化までには至らなかった。
電性高分子光記録媒体中に半導体レーザー光波長付近に
吸収を有する色素を分散した発明が提案されているが、
当該公報中に開示されているような一般的な色素を用い
て上記第3方式による記録を行った場合は記録時の色素
は高熱と高電圧という苛酷な環境下にさらされることに
なり、反復して使用することによって結果として色素分
子の解離、分解等による褪色現象が生じ、光記録媒体の
実用化までには至らなかった。
この種の光記録媒体は前述したように記録時にレーザー
光による熱及び高電界の作用を受けるため、他のヒート
モード光メモリーに比べて極めて苛酷な環境下にさらさ
れる。そのような苛酷な環境下に耐え得る色素類として
はイオン系色素は不適当である。例えばカチオン系色素
であるシアニン染料をレーザー光吸収材として使用した
場合、熱及び電界の作用で解離、分解等が生じ、褪色し
半導体レーザー光吸収能が消失しやすいことが判明した
。
光による熱及び高電界の作用を受けるため、他のヒート
モード光メモリーに比べて極めて苛酷な環境下にさらさ
れる。そのような苛酷な環境下に耐え得る色素類として
はイオン系色素は不適当である。例えばカチオン系色素
であるシアニン染料をレーザー光吸収材として使用した
場合、熱及び電界の作用で解離、分解等が生じ、褪色し
半導体レーザー光吸収能が消失しやすいことが判明した
。
そこで、本発明では、低い照射パワーに対しても極めて
鋭敏に反応し、書き込み、読み出し及び消去という一連
の動作を行うことができる実用性の高い光記録媒体を提
供しようとするものである。
鋭敏に反応し、書き込み、読み出し及び消去という一連
の動作を行うことができる実用性の高い光記録媒体を提
供しようとするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、強誘電性高分子を記録材料として用いる光記
録媒体のうち、光照射によって加熱された部分が選択的
に外部から印加された逆電界によって分極反転する性質
を利用して情報を記録する光記録媒体において、当該光
記録媒体の記録層を形成する強誘電性高分子材料中に下
記構造式で示されるナフタロシアニン染料を含有する強
誘電性高分子光記録媒体である。
録媒体のうち、光照射によって加熱された部分が選択的
に外部から印加された逆電界によって分極反転する性質
を利用して情報を記録する光記録媒体において、当該光
記録媒体の記録層を形成する強誘電性高分子材料中に下
記構造式で示されるナフタロシアニン染料を含有する強
誘電性高分子光記録媒体である。
本発明で使用する上記構造式のナフタロシアニン染料は
、J、^、C,9,1984年、106巻P 7404
〜7410に記載されている公知の方法で合成すること
ができる。
、J、^、C,9,1984年、106巻P 7404
〜7410に記載されている公知の方法で合成すること
ができる。
第1図に本発明で使用するナフタロシアニン染料のテト
ラヒドロフラン(THF)溶液での吸収スペクトル、第
2図にフッ化ビニリデンー三フッ化エチレンに該染料を
溶解して作成した膜の吸収スペクトルを示す。第1図よ
り該染料のλ1.8は772nm、またモル吸収係数は
ε−4、G27X 105 Iloビト又−elm−
’であり、さらに第2図より、フッ化ビニリデン−三フ
フ化エチレンと相互作用し、若干吸収が長波長シフトし
、λsam−783nmとなっていることが判る。現在
量も一般的に使用されている半導体レーザーの発振波長
は、7B0nII±lOnmであり、非常に良いマツチ
ングができ、光の利用効率が上がる。
ラヒドロフラン(THF)溶液での吸収スペクトル、第
2図にフッ化ビニリデンー三フッ化エチレンに該染料を
溶解して作成した膜の吸収スペクトルを示す。第1図よ
り該染料のλ1.8は772nm、またモル吸収係数は
ε−4、G27X 105 Iloビト又−elm−
’であり、さらに第2図より、フッ化ビニリデン−三フ
フ化エチレンと相互作用し、若干吸収が長波長シフトし
、λsam−783nmとなっていることが判る。現在
量も一般的に使用されている半導体レーザーの発振波長
は、7B0nII±lOnmであり、非常に良いマツチ
ングができ、光の利用効率が上がる。
本発明記録媒体を構成する他の構成材料についても説明
する。
する。
本発明の基本的な構成の一例を示すと第3図のように、
記録層lを挾んで下部電極基板2と上部電極3を設けた
ものである。
記録層lを挾んで下部電極基板2と上部電極3を設けた
ものである。
記録層1を構成する強誘電性高分子材料には種々の化合
物が報告されているが、本記録媒体においては強誘電性
を有しかつ誘電ヒステリシスn1定で矩形を示すような
ものが望ましく、例えばポリ弗化ビニリデン、弗化ビニ
リデン及び三弗化エチレン共重合体、弗化ビニリデン及
び四弗化エチレン共重合体、弗化ビニリデン及び弗化ビ
ニル共重合体、弗化ビニリデン、四弗化エチレン及び六
弗化プロピレン三成分共重合体、ポリシアン化ビニリデ
ン、シアン化ビニリデン及び酢酸ビニル共重合体等が挙
げられるが、この中でも弗化ビニリデン及び三弗化エチ
レン共重合体[以下P (VDF−TrFE)と略す]
が最も好ましい。
物が報告されているが、本記録媒体においては強誘電性
を有しかつ誘電ヒステリシスn1定で矩形を示すような
ものが望ましく、例えばポリ弗化ビニリデン、弗化ビニ
リデン及び三弗化エチレン共重合体、弗化ビニリデン及
び四弗化エチレン共重合体、弗化ビニリデン及び弗化ビ
ニル共重合体、弗化ビニリデン、四弗化エチレン及び六
弗化プロピレン三成分共重合体、ポリシアン化ビニリデ
ン、シアン化ビニリデン及び酢酸ビニル共重合体等が挙
げられるが、この中でも弗化ビニリデン及び三弗化エチ
レン共重合体[以下P (VDF−TrFE)と略す]
が最も好ましい。
この記録層のPVD重合体膜を製造する方法としては浸
漬コーティング、スプレーコーティング、スピナーコー
ティング、ブレードコーティング、ローラコーティング
、カーテンコーティング等の溶液塗布法によって形成す
ることができる。この中でも浸漬コーティングやスピナ
ーコーティング、ローラーコーティング等によるものが
PVDI合体膜を均一な膜厚に形成する上に、超薄膜が
得られる点からも好ましい。
漬コーティング、スプレーコーティング、スピナーコー
ティング、ブレードコーティング、ローラコーティング
、カーテンコーティング等の溶液塗布法によって形成す
ることができる。この中でも浸漬コーティングやスピナ
ーコーティング、ローラーコーティング等によるものが
PVDI合体膜を均一な膜厚に形成する上に、超薄膜が
得られる点からも好ましい。
本発明の強誘電性高分子記録媒体が光メモリーとして機
能するためには記録層lを挾む電極の少なくとも一方が
照射光に対してできる限り透明であることが必要で、特
に本発明では下部電極基板2に透明電極又は半透明電極
を採用することが好ましい。勿論下部電極基板2及び上
部電極3の両方が透明であっても良く、また上部電極、
3のみが透明であっても構わない。
能するためには記録層lを挾む電極の少なくとも一方が
照射光に対してできる限り透明であることが必要で、特
に本発明では下部電極基板2に透明電極又は半透明電極
を採用することが好ましい。勿論下部電極基板2及び上
部電極3の両方が透明であっても良く、また上部電極、
3のみが透明であっても構わない。
本発明で採用される透明電極とはスズをドープした酸化
インジウム(ITO)や酸化スズ、アンドープの酸化イ
ンジウム、酸化亜鉛等の蒸着、CVD、スパッタリング
膜等が挙げられ、半透明電極には金、白金、銀、銅、鉛
、亜鉛、アルミニウム、ニッケル、タンタル、コバルト
、ニオブ、パラジウム、スズ等の各種金属の蒸着、CV
D、スパッタリング膜等が挙げられるが本発明は特にこ
れらに限定されるものではない。
インジウム(ITO)や酸化スズ、アンドープの酸化イ
ンジウム、酸化亜鉛等の蒸着、CVD、スパッタリング
膜等が挙げられ、半透明電極には金、白金、銀、銅、鉛
、亜鉛、アルミニウム、ニッケル、タンタル、コバルト
、ニオブ、パラジウム、スズ等の各種金属の蒸着、CV
D、スパッタリング膜等が挙げられるが本発明は特にこ
れらに限定されるものではない。
またこれらの電極の支持体材料としては、ポリエチレン
、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリアミド、
ポリイミド、ポリオレフィン、アクリル樹脂、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂及び上記の誘導体等の各種プラス
チックやガラス、石英板、セラミックなどが好適である
が、電極同様照射光に対して透明であることが望ましく
、又電極との絶縁を兼ねているものであることが好まし
いが、電極同様本発明は特にこれらに限定されるもので
はない。
、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリアミド、
ポリイミド、ポリオレフィン、アクリル樹脂、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂及び上記の誘導体等の各種プラス
チックやガラス、石英板、セラミックなどが好適である
が、電極同様照射光に対して透明であることが望ましく
、又電極との絶縁を兼ねているものであることが好まし
いが、電極同様本発明は特にこれらに限定されるもので
はない。
[実施例]
実施例I
P (VDF−TrFE)(VDF/TrFE−85/
35単位モル比)のTHF溶液にナフタロシアニン染料
を樹脂に対して3重量26加え、厚さ 1.2mmのI
TO蒸着ガラス基板上にスピンコード法により、乾燥後
の膜厚が2μmになるように塗布した。60℃で10分
間減圧乾燥後、140”Cで1時間アニール処理をし、
上部電極としてアルミニウムを蒸若し、染料含有強誘電
性、高分子光記録媒体を作成した。該記録媒体の記録層
に200Vの電圧を印加し、ポーリング処理を施した。
35単位モル比)のTHF溶液にナフタロシアニン染料
を樹脂に対して3重量26加え、厚さ 1.2mmのI
TO蒸着ガラス基板上にスピンコード法により、乾燥後
の膜厚が2μmになるように塗布した。60℃で10分
間減圧乾燥後、140”Cで1時間アニール処理をし、
上部電極としてアルミニウムを蒸若し、染料含有強誘電
性、高分子光記録媒体を作成した。該記録媒体の記録層
に200Vの電圧を印加し、ポーリング処理を施した。
次に50Vの逆電界を印加しながら、発振波長780n
mの半導体レーザーを用いて照射光強度8IIWで下部
電極側から該記録層内の数箇所を加熱して情報を記録し
た。その後半導体レーザー光強度を0.1mWに弱め、
15kllzでチョッピングしながら再度上記記録層に
半導体レーザーを照射して電極間に生じる焦電電流を計
7TllI L、メモリー特性を評価したところ、S/
N比が約40dBで、C/N比は約55dBに達するこ
とが判明した。
mの半導体レーザーを用いて照射光強度8IIWで下部
電極側から該記録層内の数箇所を加熱して情報を記録し
た。その後半導体レーザー光強度を0.1mWに弱め、
15kllzでチョッピングしながら再度上記記録層に
半導体レーザーを照射して電極間に生じる焦電電流を計
7TllI L、メモリー特性を評価したところ、S/
N比が約40dBで、C/N比は約55dBに達するこ
とが判明した。
[発明の効果]
本発明の強誘電性高分子光記録媒体は、照射光に対して
従来のものよりも高い光吸収率を持ち、低い照射パワー
に対しても極めて鋭敏に反応し、書き込み、読み出しお
よび消去という一連の動作を行うことができる。
従来のものよりも高い光吸収率を持ち、低い照射パワー
に対しても極めて鋭敏に反応し、書き込み、読み出しお
よび消去という一連の動作を行うことができる。
第1図は本発明に使用する染料のTHF溶液での吸収ス
ペクトルを示すグラフ、第2図は同染料をフッ化ビニリ
デン−三フッ化エチレンに溶解して作成した膜の吸収ス
ペクトルを示すグラフ、第3図は本発明の基本構成の説
明図である。 ■・・・記録層、2・・・下部電極基板、3・・・上部
電極。 ィ・1[j 第3図 第2図 刈 w lIuJ
ペクトルを示すグラフ、第2図は同染料をフッ化ビニリ
デン−三フッ化エチレンに溶解して作成した膜の吸収ス
ペクトルを示すグラフ、第3図は本発明の基本構成の説
明図である。 ■・・・記録層、2・・・下部電極基板、3・・・上部
電極。 ィ・1[j 第3図 第2図 刈 w lIuJ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 強誘電性高分子を記録材料として用いる光記録媒体のう
ち、光照射によって加熱された部分が選択的に外部から
印加された逆電界によって分極反転する性質を利用して
情報を記録する光記録媒体において、当該光記録媒体の
記録層を形成する強誘電性高分子材料中に下記構造式で
示されるナフタロシアニン染料を含有することを特徴と
する強誘電性高分子光記録媒体。 ▲数式、化学式、表等があります▼
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63308797A JPH02155690A (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 強誘電性高分子光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63308797A JPH02155690A (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 強誘電性高分子光記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02155690A true JPH02155690A (ja) | 1990-06-14 |
Family
ID=17985424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63308797A Pending JPH02155690A (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 強誘電性高分子光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02155690A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007037594A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-04-05 | Iferro Co., Ltd. | Organic material for ferroelectric semiconductor device |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59215096A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-04 | Rikagaku Kenkyusho | 高分子強誘電体材料に情報を記録する方法 |
JPS59215097A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-04 | Rikagaku Kenkyusho | 高分子強誘電体材料による情報の記録及び読出し方法 |
JPS61177287A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-08 | ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション | 発色団を含有する情報記録媒体 |
JPS635093A (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-11 | Hitachi Chem Co Ltd | ビス(トリアルキルシロキシ)シリコンナフタロシアニン及びその製造法 |
JPS63133329A (ja) * | 1986-11-25 | 1988-06-06 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体 |
JPS63299990A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-07 | Ricoh Co Ltd | 強誘電性高分子メモリ− |
-
1988
- 1988-12-08 JP JP63308797A patent/JPH02155690A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59215096A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-04 | Rikagaku Kenkyusho | 高分子強誘電体材料に情報を記録する方法 |
JPS59215097A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-04 | Rikagaku Kenkyusho | 高分子強誘電体材料による情報の記録及び読出し方法 |
JPS61177287A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-08 | ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション | 発色団を含有する情報記録媒体 |
JPS635093A (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-11 | Hitachi Chem Co Ltd | ビス(トリアルキルシロキシ)シリコンナフタロシアニン及びその製造法 |
JPS63133329A (ja) * | 1986-11-25 | 1988-06-06 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体 |
JPS63299990A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-07 | Ricoh Co Ltd | 強誘電性高分子メモリ− |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007037594A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-04-05 | Iferro Co., Ltd. | Organic material for ferroelectric semiconductor device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3856472T2 (de) | Datenaufzeichnungsträger | |
JPH02155690A (ja) | 強誘電性高分子光記録媒体 | |
JP2725806B2 (ja) | 強誘電性高分子光記録媒体 | |
US5326678A (en) | High dielectric polymeric optical recording medium | |
JPH02277069A (ja) | 強誘電性高分子光記録媒体 | |
JPH05128841A (ja) | 強誘電性高分子光記録媒体 | |
WO1990009661A1 (en) | Erasable optical information storage system | |
JP2783816B2 (ja) | 強誘電性高分子光記録媒体 | |
JP2930955B2 (ja) | 強誘電性高分子光メモリー | |
JP2780782B2 (ja) | 強誘電性高分子光メモリー | |
JP2758400B2 (ja) | 強誘電性高分子光記録媒体 | |
JPH0224851A (ja) | 強誘電性高分子光記録媒体 | |
JP2810070B2 (ja) | 強誘電性高分子光メモリー | |
JP2703913B2 (ja) | 記録再生装置及び記録再生方法 | |
JPH03225322A (ja) | 記録媒体 | |
JPS63299990A (ja) | 強誘電性高分子メモリ− | |
JPS6348628A (ja) | 光情報記録担体 | |
JPH0229958A (ja) | 有機可逆光記録媒体 | |
JP2758401B2 (ja) | 強誘電性高分子光記録媒体 | |
JPH02257492A (ja) | 強誘導性高分子光記録媒体 | |
JPH01173342A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH03222129A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2696697B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
JPH0243090A (ja) | 光記録媒体 | |
JPS63133329A (ja) | 光記録媒体 |