JPH02141566A - 超純水製造供給装置用機器配管材料 - Google Patents
超純水製造供給装置用機器配管材料Info
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- JPH02141566A JPH02141566A JP29558888A JP29558888A JPH02141566A JP H02141566 A JPH02141566 A JP H02141566A JP 29558888 A JP29558888 A JP 29558888A JP 29558888 A JP29558888 A JP 29558888A JP H02141566 A JPH02141566 A JP H02141566A
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、電子工業、医薬品製造、食品製造等の技術分
野において要求される純度の高い水、すなわち超純水を
多量に供給する超純水製造供給装置を構成する機器、配
管の構造材料に関する。
野において要求される純度の高い水、すなわち超純水を
多量に供給する超純水製造供給装置を構成する機器、配
管の構造材料に関する。
（従来の技術）
溶存物質を含まない超純水はまた溶解力の非常に強いも
のであり、超純水、製造供給プロセスを構成する機器、
配管等の構成材料、特に超純水の循環精製ラインを構成
する機器配管材料からの超純水中への溶出は、たとえ微
量であっても、供給する超純水の水質の低下を招き、プ
ロセスの各段階を遂行する施設の負担を大きくし継続使
用可能期間、寿命を短くする。
のであり、超純水、製造供給プロセスを構成する機器、
配管等の構成材料、特に超純水の循環精製ラインを構成
する機器配管材料からの超純水中への溶出は、たとえ微
量であっても、供給する超純水の水質の低下を招き、プ
ロセスの各段階を遂行する施設の負担を大きくし継続使
用可能期間、寿命を短くする。
従来、溶出を微量に留める機器、配管等の構成材料とし
ては、金属材料ではステンレス鋼を研磨して平滑表面と
して用いられ、非金属のプラスチック材、中でも優れた
ものとしてＰＦＡ（４弗化樹脂） 、ＰＶＤＩ’ （２
弗化樹脂）、ＰＥＲＫ（ポリエーテルエーテルケトン）
等が知られている。
ては、金属材料ではステンレス鋼を研磨して平滑表面と
して用いられ、非金属のプラスチック材、中でも優れた
ものとしてＰＦＡ（４弗化樹脂） 、ＰＶＤＩ’ （２
弗化樹脂）、ＰＥＲＫ（ポリエーテルエーテルケトン）
等が知られている。
（発明が解決しようとする課題）
例えば、電子工業では超純水製造装置の紫外線殺菌器、
ポリシャーおよび限外濾過装置を経てユースポイントに
送られる超純水がユースポイント直前にて９０℃に加熱
し半導体洗浄プロセス等に供される等の場合があり、こ
のような高温状態では材料からの溶出量は常温時の約１
０倍にもなる。従来技術の前出材料は高温状態での溶出
耐性が概ね不充分である。
ポリシャーおよび限外濾過装置を経てユースポイントに
送られる超純水がユースポイント直前にて９０℃に加熱
し半導体洗浄プロセス等に供される等の場合があり、こ
のような高温状態では材料からの溶出量は常温時の約１
０倍にもなる。従来技術の前出材料は高温状態での溶出
耐性が概ね不充分である。
（課題を解決するための手段）
本発明は、従来技術の上記問題点に解決を与えるために
なされたものである。
なされたものである。
本発明の超純水製造供給装置用機器配管材料は、構成と
しては、超純水と接触する機器、配管の表面を不動態化
処理を施したステンレス鋼製とし、具体的にはこの表面
をバフ仕上および電解研磨して光沢仕上面としこの面上
の電解研磨液、油分等の付着物を完全に除去したのち露
出面に３５０〜４５０℃の温度で１５〜３０分加熱処理
することにより着色酸化被膜を形成したのち、この被膜
表面を弱酸で洗浄したものであることを特徴とする。
しては、超純水と接触する機器、配管の表面を不動態化
処理を施したステンレス鋼製とし、具体的にはこの表面
をバフ仕上および電解研磨して光沢仕上面としこの面上
の電解研磨液、油分等の付着物を完全に除去したのち露
出面に３５０〜４５０℃の温度で１５〜３０分加熱処理
することにより着色酸化被膜を形成したのち、この被膜
表面を弱酸で洗浄したものであることを特徴とする。
（作 用）
本発明によると電解研磨によりステンレス鋼の鏡面に仕
上げられた表面は特定の温度、時間の加熱による不動態
化処理により鏡面光沢を保ったままでフィルム状の着色
酸化被膜が薄く形成され、この被膜で仕上面が不動態化
されており、弱酸洗浄により鉄分の多い着色酸化被膜の
表面層が除去されるために高温の超純水に長時間接触し
ても溶出が殆ど起こらない。後記実施例のように代表的
成分の溶出レベルは従来技術材料のそれの１〜３桁低い
。
上げられた表面は特定の温度、時間の加熱による不動態
化処理により鏡面光沢を保ったままでフィルム状の着色
酸化被膜が薄く形成され、この被膜で仕上面が不動態化
されており、弱酸洗浄により鉄分の多い着色酸化被膜の
表面層が除去されるために高温の超純水に長時間接触し
ても溶出が殆ど起こらない。後記実施例のように代表的
成分の溶出レベルは従来技術材料のそれの１〜３桁低い
。
本発明における不動態化処理の温度が３５０℃より低温
では被膜の形成が不充分である。また４５０℃より高温
では、着色酸化被膜が過度に厚くなり同時に脆くなる。
では被膜の形成が不充分である。また４５０℃より高温
では、着色酸化被膜が過度に厚くなり同時に脆くなる。
そしてステンレス鋼は４５０〜７５０℃の温度でクロム
炭化物の析出が起り得るので基材の孔線、応力腐蝕が起
こり易くなる。
炭化物の析出が起り得るので基材の孔線、応力腐蝕が起
こり易くなる。
またこの処理時間が１５分より短いと着色酸化被膜の形
成が不充分で、３０分より長いと被膜が過厚となる。
成が不充分で、３０分より長いと被膜が過厚となる。
（実施例）
添付図は、半導体洗浄のためユースポイント直前で超純
水を加熱して供する加熱器（１）を示す。
水を加熱して供する加熱器（１）を示す。
容量４０ ｆｆｉ ／ｈで、概略寸法径Ｉ Ｑ ｃｍ
、長さ１ｍで、１．９ＫＩ（電熱ヒータ２本により最高
９０℃±ｉ ”ｃに制御して加熱する。
、長さ１ｍで、１．９ＫＩ（電熱ヒータ２本により最高
９０℃±ｉ ”ｃに制御して加熱する。
本発明の実施例としては、器内面および出入口配管（２
）（３）とも５ＵＳ３１６ステンレス鋼を充当し、＃６
００研磨剤のバフ仕上後、電解研磨により鏡面光沢表面
とし、この表面を３５０〜４５０℃１１５〜３０分加熱
して形成された着色酸化被膜を３００ｐｐｍの乳酸水溶
液で洗浄する不動態化処理を施した。
）（３）とも５ＵＳ３１６ステンレス鋼を充当し、＃６
００研磨剤のバフ仕上後、電解研磨により鏡面光沢表面
とし、この表面を３５０〜４５０℃１１５〜３０分加熱
して形成された着色酸化被膜を３００ｐｐｍの乳酸水溶
液で洗浄する不動態化処理を施した。
この容量、定格の加熱器を用い、器内面に本発明材料お
よび比較従来技術材料を充当し、超純水を８０℃に５日
間封入保持して、器内面の比較溶出試験を実施した。加
熱器の内面積０．２９１が、保有水量７．４１である。
よび比較従来技術材料を充当し、超純水を８０℃に５日
間封入保持して、器内面の比較溶出試験を実施した。加
熱器の内面積０．２９１が、保有水量７．４１である。
第１表は本発明材料と従来技術の５ＵＳ３１６ステンレ
ス鋼＃６００バフ仕上との比較溶出試験結果を示す。分
析は溶出成分に応じ測定誤差が最少となるようフレーム
レス原子吸光法、ＩＣＰ−ＭＳ法、イオンクロマト法、
湿式酸化法ＴＯＣ計で行った。
ス鋼＃６００バフ仕上との比較溶出試験結果を示す。分
析は溶出成分に応じ測定誤差が最少となるようフレーム
レス原子吸光法、ＩＣＰ−ＭＳ法、イオンクロマト法、
湿式酸化法ＴＯＣ計で行った。
溶出成分濃度の単位はμｇ／ｌである。
第１表
８０℃，５日間溶出試験結果（単位μｇ／ｊ２）分析値
のＯ以下、差値のマイナスは分析誤差である。分析誤差
を考慮しても従来技術例と比較し溶出量の低下は特にＦ
ｅ、 Ｍｎ、 ＮＨ４等について顕著である。
のＯ以下、差値のマイナスは分析誤差である。分析誤差
を考慮しても従来技術例と比較し溶出量の低下は特にＦ
ｅ、 Ｍｎ、 ＮＨ４等について顕著である。
第２表は本発明材料の溶出量をｍｇ／ｎｆ単位に換算し
く１ｐｐｂ＝０．２５４ｍｇ／ ｒｒｒ） 、従来技術
の合成樹脂材であルＰＦＡ 、 ＰＶＤＦ、 ＰＥＥＫ
と８０℃，５日間の溶出量を換算比較した結果を示す。
く１ｐｐｂ＝０．２５４ｍｇ／ ｒｒｒ） 、従来技術
の合成樹脂材であルＰＦＡ 、 ＰＶＤＦ、 ＰＥＥＫ
と８０℃，５日間の溶出量を換算比較した結果を示す。
第２表 溶出量比較（単位ｍｇ／ｒｒｆ）すなわち本発
明材の溶出は、ＴＯＣに関してはＰＦＡ 、 ＰＶＤＦ
、 ＰＥＥＫニ対し各１／１９０．１／６７０．１／１
４０であり、Ｎａ、 Ｋ 、 Ｃａ、 ＣＩ！、に関
しＰＥＥＫに本発明によると超純水製造供給装置におい
て装置、配管よりの超純水の各成分の溶出は顕著に減少
し、水質の低下が長期にわたって最低レベルに維持でき
る。
明材の溶出は、ＴＯＣに関してはＰＦＡ 、 ＰＶＤＦ
、 ＰＥＥＫニ対し各１／１９０．１／６７０．１／１
４０であり、Ｎａ、 Ｋ 、 Ｃａ、 ＣＩ！、に関
しＰＥＥＫに本発明によると超純水製造供給装置におい
て装置、配管よりの超純水の各成分の溶出は顕著に減少
し、水質の低下が長期にわたって最低レベルに維持でき
る。
添付図は本発明材料で構成した超純水製造供給装置の加
熱器の側面図である。 （１）・・・超純水加熱装置、（２）・・・超純水入口
配管、（３）・・・加熱超純水出口配管、（４）・・・
測温調節計、（５）・・・計測器、（６）・・・サンプ
ル水採取系、（７）・・・比抵抗計、（８）・・・ブロ
ー系。 手続補 正 書（自 発） 事件の表示 発明の名称 昭和６３ 年 特 許 願第２９５５８８ 超純水製造供給装置用機器配管材料 補正をする者事件との関係 特 許
熱器の側面図である。 （１）・・・超純水加熱装置、（２）・・・超純水入口
配管、（３）・・・加熱超純水出口配管、（４）・・・
測温調節計、（５）・・・計測器、（６）・・・サンプ
ル水採取系、（７）・・・比抵抗計、（８）・・・ブロ
ー系。 手続補 正 書（自 発） 事件の表示 発明の名称 昭和６３ 年 特 許 願第２９５５８８ 超純水製造供給装置用機器配管材料 補正をする者事件との関係 特 許
Claims (2)
- （１）超純水と接触する機器、配管の表面をステンレス
鋼製とし、この表面をバフ仕上げおよび電解研磨して光
沢仕上面としこの面上の電解研磨液、油分等の付着物を
完全に除去したのち、高温加熱により仕上面に不動態化
処理を施したことを特徴とする超純水製造供給装置用機
器配管材料。 - （２）前記不動態化処理が、酸化性雰囲気中で３５０〜
４５０℃の温度で１５〜３０分間の加熱処理により仕上
面に着色酸化被膜を形成し、この着色酸化被膜表面を弱
酸で洗浄したものである機器配管材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63295588A JP2862546B2 (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | 超純水製造供給装置用機器配管材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63295588A JP2862546B2 (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | 超純水製造供給装置用機器配管材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02141566A true JPH02141566A (ja) | 1990-05-30 |
| JP2862546B2 JP2862546B2 (ja) | 1999-03-03 |
Family
ID=17822572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63295588A Expired - Lifetime JP2862546B2 (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | 超純水製造供給装置用機器配管材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2862546B2 (ja) |
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1988
- 1988-11-21 JP JP63295588A patent/JP2862546B2/ja not_active Expired - Lifetime
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