JPH0211508A - 毛髪化粧料 - Google Patents
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- A—HUMAN NECESSITIES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
童粟上例■朋立災
本発明は、毛髪の損傷を保護したり防止する効果や、し
っとり感、サラサラ感に富んだ毛髪に仕上げる効果に優
れた毛髪化粧料に関する。
っとり感、サラサラ感に富んだ毛髪に仕上げる効果に優
れた毛髪化粧料に関する。
の び が しようとする課
従来、毛髪化粧料には1毛髪に柔軟性及び滑沢性を与え
たり、毛髪の帯電を防止するための有効成分としてアル
キルトリメチルアンモニウムクロライド、ジアルキルジ
メチルアンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム
塩が用いられており、更に、この第4級アンモニウム塩
の性能を補うため、高級アルコールに代表される油脂類
が一般的に配合されている。
たり、毛髪の帯電を防止するための有効成分としてアル
キルトリメチルアンモニウムクロライド、ジアルキルジ
メチルアンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム
塩が用いられており、更に、この第4級アンモニウム塩
の性能を補うため、高級アルコールに代表される油脂類
が一般的に配合されている。
しかし、上記毛髪化粧料は、有効成分である第4級アン
モニウム塩の効果が毛髪に対して十分に発揮されないと
いう問題点がある。
モニウム塩の効果が毛髪に対して十分に発揮されないと
いう問題点がある。
更に近年、おしやれ、な識の高揚によりパーマ。
ヘアカラー、ヘアダイ、ドライヤー等の使用機会が増え
、ヘアケア時に毛髪がブラッシングによる通常の物理的
損傷に加えてパーマやヘアカラーに使用する薬剤による
損個、ドライヤーによる熱損傷などで絶えず損傷を受け
る危険にさらされており、このため毛髪が傷み、パサつ
いてしっとり感がなくなるといった不都合が多くなって
きている。
、ヘアケア時に毛髪がブラッシングによる通常の物理的
損傷に加えてパーマやヘアカラーに使用する薬剤による
損個、ドライヤーによる熱損傷などで絶えず損傷を受け
る危険にさらされており、このため毛髪が傷み、パサつ
いてしっとり感がなくなるといった不都合が多くなって
きている。
そこで、毛髪化粧料に対して、毛髪の保護剤としてセル
ロース系、ケラチン系、ビニル系の重合体等の種々の高
分子化合物を配合したり、しっとり感を向上させるため
に動植物油、炭化水素油。
ロース系、ケラチン系、ビニル系の重合体等の種々の高
分子化合物を配合したり、しっとり感を向上させるため
に動植物油、炭化水素油。
エステル油等の油分やタンパク誘導体などの保水性成分
を配合することなども行なわれているが、いずれにおい
てもその効果は十分とは言い難く、上述のような損傷か
ら毛髪を満足に保護したり、パサついた毛髪をしっとり
させることは困難であった・ それ故、毛髪表面の保護効果に優れ、かつ毛髪にしっと
り感を付与する効果の高い毛髪化粧料の開発が望まれて
いる。
を配合することなども行なわれているが、いずれにおい
てもその効果は十分とは言い難く、上述のような損傷か
ら毛髪を満足に保護したり、パサついた毛髪をしっとり
させることは困難であった・ それ故、毛髪表面の保護効果に優れ、かつ毛髪にしっと
り感を付与する効果の高い毛髪化粧料の開発が望まれて
いる。
また最近、毛髪の仕上りの嗜好性が軽い傾向にあり、し
っとり感と共にサラサラした感触を得ることの要望が強
い。しかし、毛髪のしっとり感とサラサラ感とは相反す
るものであり、例えば毛髪化粧料にシリコーン等の疎水
性油分を添加すると毛髪をある程度サラサラに仕上げる
ことはできるが、しっとり感がなくなり、また、タンパ
ク誘導体等の保水性成分を添加するとしっとり感を付与
することはできるものの、逆にサラサラ感は得られない
。特に、損傷を受けた毛髪においては、シリコーン等を
添加した毛髪化粧料を使用してもサラサラに仕上り難い
ものであり、従って、ダメージへアをもしっとりと、し
かもサラサラに仕上げることのできる毛髪化粧料が望ま
れる。
っとり感と共にサラサラした感触を得ることの要望が強
い。しかし、毛髪のしっとり感とサラサラ感とは相反す
るものであり、例えば毛髪化粧料にシリコーン等の疎水
性油分を添加すると毛髪をある程度サラサラに仕上げる
ことはできるが、しっとり感がなくなり、また、タンパ
ク誘導体等の保水性成分を添加するとしっとり感を付与
することはできるものの、逆にサラサラ感は得られない
。特に、損傷を受けた毛髪においては、シリコーン等を
添加した毛髪化粧料を使用してもサラサラに仕上り難い
ものであり、従って、ダメージへアをもしっとりと、し
かもサラサラに仕上げることのできる毛髪化粧料が望ま
れる。
更に、毛髪は、洗髪後の乾燥した状態で上述のような様
々な損傷を受けるが、洗髪後の濡れた状態から乾燥する
過程ではブラシ通りが悪く、乾燥時よりも大きな物理的
損傷を受けやすい。しかし、乾燥過程における物理的損
傷から毛髪を守る技術はほとんど開発されておらず、こ
のため、taれた状態の毛髪に優れたブラシ通り、手櫛
通り性を与え、乾燥過程における毛髪の物理的損傷を防
ぐことのできる毛髪化粧料が強く望まれていた。
々な損傷を受けるが、洗髪後の濡れた状態から乾燥する
過程ではブラシ通りが悪く、乾燥時よりも大きな物理的
損傷を受けやすい。しかし、乾燥過程における物理的損
傷から毛髪を守る技術はほとんど開発されておらず、こ
のため、taれた状態の毛髪に優れたブラシ通り、手櫛
通り性を与え、乾燥過程における毛髪の物理的損傷を防
ぐことのできる毛髪化粧料が強く望まれていた。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、毛髪表面の保
護効果に優れ、かつ毛髪にしっとり感を付与する効果の
高い毛髪化粧料、ダメージへアにしっとり感とサラサラ
感とを同時に付与し得る毛髪化粧料、及び洗髪後の乾燥
過程の毛髪に優れたブラシ通り、手櫛通り性を付与して
毛髪の損傷を防止し得る毛髪化粧料を提供することを目
的とする。
護効果に優れ、かつ毛髪にしっとり感を付与する効果の
高い毛髪化粧料、ダメージへアにしっとり感とサラサラ
感とを同時に付与し得る毛髪化粧料、及び洗髪後の乾燥
過程の毛髪に優れたブラシ通り、手櫛通り性を付与して
毛髪の損傷を防止し得る毛髪化粧料を提供することを目
的とする。
を するための び
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ね
た結果、陽イオン部として第4級アンモニウム、対イオ
ンとして重合性陰イオンを有する界面活性剤モノマー小
胞体を重合してなる高分子小胞体と共に51,2−アル
カンジオール誘導体をを配合することにより、毛髪表面
の保護効果に優れ、かつ毛髪にしっとり感を付与する効
果が高い毛髪化粧料が得られること、また、上記高分子
小胞体と疎水性シリコーンとを併用することにより、ダ
メージへアをしっとりかつサラサラに仕上げることので
きる毛髪化粧料を得ることができ、更に、上記高分子小
胞体と、下記−最大(1)(但し、式中R工は炭素数3
〜22のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニ
ル基及びグリセリル基並びに炭素数4〜12のアルキル
基を有するアルキルフェニル基及びジアルキルフェニル
基から選ばれる置換基、R2は水素原子又はメチル基で
あり、Yは水素原子、アルカリ金属原子、アルキル置換
アンモニウム基又はヒドロキシアルキ基又はYと同様で
ある。また、nは0〜100の整数である。) で示されるリン酸エステルとを併用することにより、洗
髪後の乾燥過程の毛髪に優れたブラシ通り、手櫛通り性
を付与し、毛髪の損傷防止効果の高い毛髪化粧料を得る
ことができることを見出した。
た結果、陽イオン部として第4級アンモニウム、対イオ
ンとして重合性陰イオンを有する界面活性剤モノマー小
胞体を重合してなる高分子小胞体と共に51,2−アル
カンジオール誘導体をを配合することにより、毛髪表面
の保護効果に優れ、かつ毛髪にしっとり感を付与する効
果が高い毛髪化粧料が得られること、また、上記高分子
小胞体と疎水性シリコーンとを併用することにより、ダ
メージへアをしっとりかつサラサラに仕上げることので
きる毛髪化粧料を得ることができ、更に、上記高分子小
胞体と、下記−最大(1)(但し、式中R工は炭素数3
〜22のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニ
ル基及びグリセリル基並びに炭素数4〜12のアルキル
基を有するアルキルフェニル基及びジアルキルフェニル
基から選ばれる置換基、R2は水素原子又はメチル基で
あり、Yは水素原子、アルカリ金属原子、アルキル置換
アンモニウム基又はヒドロキシアルキ基又はYと同様で
ある。また、nは0〜100の整数である。) で示されるリン酸エステルとを併用することにより、洗
髪後の乾燥過程の毛髪に優れたブラシ通り、手櫛通り性
を付与し、毛髪の損傷防止効果の高い毛髪化粧料を得る
ことができることを見出した。
即ち1本発明者らは、従来の毛髪化粧料の効果が不十分
なのは各有効成分の毛髪への吸着性が乏しいためであり
、例えば毛髪化粧料に有効成分として配合される高分子
化合物は、凝集剤や増粘剤と同様に作用するので、この
毛髪化粧料は微細粒子状の分散液として供給できず、こ
のため毛髪表面に均一に吸着され得ない上、すすぎ操作
後の吸着残存率が低いものであり、毛髪化粧料中に配合
した第4級アンモニウム塩やシリコーンなどの効果が毛
髪に対して十分に発揮されないのもこれら成分の毛髪へ
の吸着性が低いことが原因であること、これらに対し、
均一な二分子膜−高分子複合体構造を有する微細な上記
高分子小胞体は、毛髪へ良好に吸若しで優れた毛髪表面
の保護効果を発揮する上、1,2−アルカンジオール誘
導体、疎水性シリコーン又は(1)式のリン酸エステル
と併用すると、これら有効成分の毛髪への吸着性を向上
させてこれらの効果を十分に発揮させ得る特性を有する
こと、従って、上記高分子小胞体と1.2−アルカンジ
オール誘導体、疎水性シリコーン又は(1)式のリン酸
エステルとを併用することにより、かかる各有効成分の
効果が満足に発揮され得る毛髪化粧料を得ることができ
ることを知見し、本発明をなすに至ったものである。
なのは各有効成分の毛髪への吸着性が乏しいためであり
、例えば毛髪化粧料に有効成分として配合される高分子
化合物は、凝集剤や増粘剤と同様に作用するので、この
毛髪化粧料は微細粒子状の分散液として供給できず、こ
のため毛髪表面に均一に吸着され得ない上、すすぎ操作
後の吸着残存率が低いものであり、毛髪化粧料中に配合
した第4級アンモニウム塩やシリコーンなどの効果が毛
髪に対して十分に発揮されないのもこれら成分の毛髪へ
の吸着性が低いことが原因であること、これらに対し、
均一な二分子膜−高分子複合体構造を有する微細な上記
高分子小胞体は、毛髪へ良好に吸若しで優れた毛髪表面
の保護効果を発揮する上、1,2−アルカンジオール誘
導体、疎水性シリコーン又は(1)式のリン酸エステル
と併用すると、これら有効成分の毛髪への吸着性を向上
させてこれらの効果を十分に発揮させ得る特性を有する
こと、従って、上記高分子小胞体と1.2−アルカンジ
オール誘導体、疎水性シリコーン又は(1)式のリン酸
エステルとを併用することにより、かかる各有効成分の
効果が満足に発揮され得る毛髪化粧料を得ることができ
ることを知見し、本発明をなすに至ったものである。
以下1本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の毛髪化粧料の第1必須成分は、陽イオンとして
第4級アンモニウム、対イオンとして重合性陰イオンを
有する界面活性剤モノマー小胞体を重合してなる高分子
小胞体である。
第4級アンモニウム、対イオンとして重合性陰イオンを
有する界面活性剤モノマー小胞体を重合してなる高分子
小胞体である。
ここで、上記高分子小胞体としては、下記−最大(2)
(但し1式中R3は炭素数8〜32の直鎖状もしくは分
岐状のアルキル基、アルキルアリール基、アルケニル基
又はヒドロキシアルキル基、R4は炭素数2〜3のアル
キル基、R5は炭素数1〜4のアルキル基又は−(○R
4)−1H基、mは0〜5の整数を表わす。また、対イ
オンA−は重合性基を有する有機酸系陰イオンを表わす
。) で示される陽イオン部が長鎖の二鎖型第4級アンモニウ
ムでかつ対イオン部が重合性陰イオンである高分子小胞
体形成能を有する第4級アンモニウム塩型界面活性剤モ
ノマーの小胞体を重合反応させたものが好適に使用し得
る。
岐状のアルキル基、アルキルアリール基、アルケニル基
又はヒドロキシアルキル基、R4は炭素数2〜3のアル
キル基、R5は炭素数1〜4のアルキル基又は−(○R
4)−1H基、mは0〜5の整数を表わす。また、対イ
オンA−は重合性基を有する有機酸系陰イオンを表わす
。) で示される陽イオン部が長鎖の二鎖型第4級アンモニウ
ムでかつ対イオン部が重合性陰イオンである高分子小胞
体形成能を有する第4級アンモニウム塩型界面活性剤モ
ノマーの小胞体を重合反応させたものが好適に使用し得
る。
この場合、(2)式中の置換基R1は、例えばオクチル
基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基
、ヘキサデシル基、オクタデシル基。
基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基
、ヘキサデシル基、オクタデシル基。
ヘキサコシル基、トリアコニチル基、ウンデシル基、ト
リデシル基、リルイル基、リルニル基。
リデシル基、リルイル基、リルニル基。
2−へキシルデカノイル基等、R4はエチル基。
プロピル基等、R9はメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ペンチル基等であり、このような(2)式
の陽イオン部として、具体的にはジステアリルジメチル
アンモニウム、ジステアリルジメチルアンモニウム、ジ
ドデシルジメチルアンモニウム、ジドデシルジメチルア
ンモニウム。
、ブチル基、ペンチル基等であり、このような(2)式
の陽イオン部として、具体的にはジステアリルジメチル
アンモニウム、ジステアリルジメチルアンモニウム、ジ
ドデシルジメチルアンモニウム、ジドデシルジメチルア
ンモニウム。
ジステアリルジメチルアンモニウム、ジドデシルジメチ
ルアンモニウム等が例示される。
ルアンモニウム等が例示される。
また、(2)式中の対イオン部A−は、重合性を有する
有機酸系の陰イオンであることが好ましく、例えばカル
ボン酸系としてはアクリル酸、メタクリル酸、フマル酸
、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸等が、硫酸系陰
イオンとしてはビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸
、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸
等が挙げられるが、このうち、好ましくはカルボン酸系
のアクリル酸、メタクリル酸等、更に好ましくはメタク
リル酸が用いられる。
有機酸系の陰イオンであることが好ましく、例えばカル
ボン酸系としてはアクリル酸、メタクリル酸、フマル酸
、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸等が、硫酸系陰
イオンとしてはビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸
、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸
等が挙げられるが、このうち、好ましくはカルボン酸系
のアクリル酸、メタクリル酸等、更に好ましくはメタク
リル酸が用いられる。
なお、(2)式の高分子小胞体形成能を有する第4級ア
ンモニウム塩型界面活性剤モノマーの合成には、ハロゲ
ン化第4級アンモニウム塩のハロゲンイオンをイオン交
換樹脂を用いたイオン交換により重合性基を有する有機
酸系陰イオンに交換する方法(J、 Am、 Chem
、 Soc、、 106.2446−2447(198
4)、 J、 Am、 Chem、 Soc、、 10
8.2321−2327(1986))を用いることが
できる。また、有機酸のアルカリ金尺塩とハロゲン化第
4級アンモニウム塩とから脱塩法によりハロゲン化アル
カリ金腐塩を除去する方法を用いてもよい。
ンモニウム塩型界面活性剤モノマーの合成には、ハロゲ
ン化第4級アンモニウム塩のハロゲンイオンをイオン交
換樹脂を用いたイオン交換により重合性基を有する有機
酸系陰イオンに交換する方法(J、 Am、 Chem
、 Soc、、 106.2446−2447(198
4)、 J、 Am、 Chem、 Soc、、 10
8.2321−2327(1986))を用いることが
できる。また、有機酸のアルカリ金尺塩とハロゲン化第
4級アンモニウム塩とから脱塩法によりハロゲン化アル
カリ金腐塩を除去する方法を用いてもよい。
本発明の高分子小胞体は、上記第4級アンモニウム塩型
界面活性剤の小胞体分散液を調製した後にこれを常法に
従って重合せしめることで得ることができる。なお、こ
の小胞体分散液の調製は超音波処理にて行なうことが好
ましく、超音波処理時の温度は50°C以上、界面活性
剤の濃度は0.1〜5重景置火望ましい。
界面活性剤の小胞体分散液を調製した後にこれを常法に
従って重合せしめることで得ることができる。なお、こ
の小胞体分散液の調製は超音波処理にて行なうことが好
ましく、超音波処理時の温度は50°C以上、界面活性
剤の濃度は0.1〜5重景置火望ましい。
更に、本発明において上記高分子小胞体の配合量は、別
に限定されないが、第2必須成分として1.2−アルカ
ンジオール誘導体を用いる場合は、化粧料全体の0.0
2〜10%(重量%、以下同様)、特に0.05〜5%
、疎水性シリコーンを用いる場合は、化粧料全体の0.
1〜5%、特に0.1〜3%、(1)式のリン酸エステ
ルを用いる場合は、化粧料全体の0.1〜10%、特に
0.1〜5%とすることが好ましい。高分子小胞体の配
合量が上記値に満たないと、本発明の効果が十分に発揮
されない場合があり、上記値を越えると毛髪にベタつき
が生じて重い仕上りになる場合がある。
に限定されないが、第2必須成分として1.2−アルカ
ンジオール誘導体を用いる場合は、化粧料全体の0.0
2〜10%(重量%、以下同様)、特に0.05〜5%
、疎水性シリコーンを用いる場合は、化粧料全体の0.
1〜5%、特に0.1〜3%、(1)式のリン酸エステ
ルを用いる場合は、化粧料全体の0.1〜10%、特に
0.1〜5%とすることが好ましい。高分子小胞体の配
合量が上記値に満たないと、本発明の効果が十分に発揮
されない場合があり、上記値を越えると毛髪にベタつき
が生じて重い仕上りになる場合がある。
本発明の毛髪化粧料は、第2の必須成分として、1.2
−アルカンジオール誘導体、疎水性シリコーン又は上記
(1)式のリン酸エステルを含有する。
−アルカンジオール誘導体、疎水性シリコーン又は上記
(1)式のリン酸エステルを含有する。
ここで、1,2−アルカンジオール誘導体としては、下
記−最大(3) %式% (式中、XI;t、酸素原子、またはカルボニルオキシ
基の炭素原子の遊離結合手を介して基R6と結合R5は
水素原子あるいは炭素数1〜21の飽和アルキル基、ま
たはXが一〇〇〇−の場合にはR1はラノリン酸の炭化
水素残基であり、R7及びR。
記−最大(3) %式% (式中、XI;t、酸素原子、またはカルボニルオキシ
基の炭素原子の遊離結合手を介して基R6と結合R5は
水素原子あるいは炭素数1〜21の飽和アルキル基、ま
たはXが一〇〇〇−の場合にはR1はラノリン酸の炭化
水素残基であり、R7及びR。
のいずれか一方は炭素数8乃至24の線状アルキル基で
、かつ他方は水素原子である。)で示される分子内に2
個のOH基又は親水基を有する化合物が好適に使用でき
、具体的には、1゜2−ヘキサデカンジオール、1,2
−オクタデカンジオール、1,2−エイコサンジオール
等やそれらの誘導体が挙げられる。
、かつ他方は水素原子である。)で示される分子内に2
個のOH基又は親水基を有する化合物が好適に使用でき
、具体的には、1゜2−ヘキサデカンジオール、1,2
−オクタデカンジオール、1,2−エイコサンジオール
等やそれらの誘導体が挙げられる。
なお、上記−最大(3)で表わされる化合物は、次のよ
うな方法により得ることが可能である。
うな方法により得ることが可能である。
即ち、−最大R’−X−Hで表わされる一種或いは複数
種のアルコール又は酸を下記−最大(4)で表わされる
1、2−エポキシドの一種又は複数種と反応させること
により得ることができる。
種のアルコール又は酸を下記−最大(4)で表わされる
1、2−エポキシドの一種又は複数種と反応させること
により得ることができる。
Rg−CH−CH2
\ / ・・・(4)
(式中R3は炭素数8乃至24の線状アルキル基又はそ
の混合物である。) この場合、式R’−X−Hで表わされるアルコール(X
が酸素原子)としては、例えば2−エチルヘキサノール
、オクタツール、デカノール、ヘキサデカノール、2−
オクチルデカノール、オクチルオクタツール及び2−オ
クチルドデカノール等が挙げられ1式R’ −X −H
で表われさる酸ル酪酸、2−エチルヘキサン酸、オクタ
ン醜、デカン酸、テトラデカン酸、ヘキサデカン酸、イ
ソステアリン酸、エイコサン酸、トコサン酸又はラノリ
ン酸等が挙げられる。
の混合物である。) この場合、式R’−X−Hで表わされるアルコール(X
が酸素原子)としては、例えば2−エチルヘキサノール
、オクタツール、デカノール、ヘキサデカノール、2−
オクチルデカノール、オクチルオクタツール及び2−オ
クチルドデカノール等が挙げられ1式R’ −X −H
で表われさる酸ル酪酸、2−エチルヘキサン酸、オクタ
ン醜、デカン酸、テトラデカン酸、ヘキサデカン酸、イ
ソステアリン酸、エイコサン酸、トコサン酸又はラノリ
ン酸等が挙げられる。
また、式(4)で表わされるエポキシドとしては、例え
ばデセン、ウンデセン、ドデセン、トリデセン、テトラ
デセン、ペンタデセン、ヘキサデセン、ヘプタデセン、
オクタデセン、ノナデセン。
ばデセン、ウンデセン、ドデセン、トリデセン、テトラ
デセン、ペンタデセン、ヘキサデセン、ヘプタデセン、
オクタデセン、ノナデセン。
エイコセン、ヘンエイコセン、トコセン、トリコセン、
テトラコセン、ベンタコセン、ヘキサデセンのオキシド
等を挙げることができる。
テトラコセン、ベンタコセン、ヘキサデセンのオキシド
等を挙げることができる。
更に、上記R’−X−Hで表わされるアルコール又は酸
と(4)式の1,2−エポキシドとの反応は、R’−X
−Hがアルコールである場合には三弗化硼素のようなル
イス酸型の酸性触媒あるいはナトリウムメチラートのよ
うなアルカリ性触媒の存在下で行なうことが好ましく、
R’−X−Hが酸である場合には、ナトリウムメチラー
ト又はトリエチルアミンのような塩基性触媒の存在下で
行なうことが好ましい。
と(4)式の1,2−エポキシドとの反応は、R’−X
−Hがアルコールである場合には三弗化硼素のようなル
イス酸型の酸性触媒あるいはナトリウムメチラートのよ
うなアルカリ性触媒の存在下で行なうことが好ましく、
R’−X−Hが酸である場合には、ナトリウムメチラー
ト又はトリエチルアミンのような塩基性触媒の存在下で
行なうことが好ましい。
更にまた、式R’−X−HのR′がHでXが○の場合に
は、過酢酸等を用いて下記反応式に従い、−最大(5)
で表わされる化合物を合成し、次いで酸で開環させるこ
とにより、1,2−アルカンジオール誘導体を生成させ
ることができる。
は、過酢酸等を用いて下記反応式に従い、−最大(5)
で表わされる化合物を合成し、次いで酸で開環させるこ
とにより、1,2−アルカンジオール誘導体を生成させ
ることができる。
CH,C00OH
R−CH=CH2RCH−CH2
\/ ・・・(5)
○
なお、反応条件は適宜調節することができる。
また、1,2−アルカンジオール誘導体の配合量は、毛
髪化粧料全体の0.05〜10%、特に0.05〜5%
であることが好ましく、0.05%に満たないと毛髪に
しっとり感を付与する効果が十分に得られない場合があ
り、10%を越えると毛髪にへたつきが生じる場合があ
る。
髪化粧料全体の0.05〜10%、特に0.05〜5%
であることが好ましく、0.05%に満たないと毛髪に
しっとり感を付与する効果が十分に得られない場合があ
り、10%を越えると毛髪にへたつきが生じる場合があ
る。
次いで、疎水性シリコーンとしては、特に制限されない
が、25℃の水に対する溶解度が1重量%以下、特に0
.5重量%以下のもので、かっ25°Cにおける粘度が
1から1000センチストークス(cs)、特に5〜5
00センチストークスの範囲のものが好適に使用できる
。
が、25℃の水に対する溶解度が1重量%以下、特に0
.5重量%以下のもので、かっ25°Cにおける粘度が
1から1000センチストークス(cs)、特に5〜5
00センチストークスの範囲のものが好適に使用できる
。
なお、シリコーンのうち、親水性シリコーンは保水性が
強く、親水性シリコーンを毛髪化粧料に使用すると、水
気を多く含んだ風乾中又は湿気の多い気候下では毛髪が
重くなりべたつくものであるが、これに対し、疎水性シ
リコーンは毛髪の臨界表面張力に極めて近いかあるいは
それ以下の表面張力を有するため、疎水性シリコーンを
毛髪化粧料に使用すると、毛髪表面に均一に拡張し、毛
髪がべたついたり重くならない仕上りは勿論のこと、な
めらかでサラサラした仕上りとなるもので、それ故、本
発明では疎水性シリコーンを使用するものである。
強く、親水性シリコーンを毛髪化粧料に使用すると、水
気を多く含んだ風乾中又は湿気の多い気候下では毛髪が
重くなりべたつくものであるが、これに対し、疎水性シ
リコーンは毛髪の臨界表面張力に極めて近いかあるいは
それ以下の表面張力を有するため、疎水性シリコーンを
毛髪化粧料に使用すると、毛髪表面に均一に拡張し、毛
髪がべたついたり重くならない仕上りは勿論のこと、な
めらかでサラサラした仕上りとなるもので、それ故、本
発明では疎水性シリコーンを使用するものである。
この場合、疎水性シリコーンとしては、例えばメチルポ
リシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、脂肪酸
変性ポリシロキサン、脂肪族アルコール変性ポリシロキ
サン、ポリオキシアルキレン変性ポリシロキサンなどが
好適に使用し得、具体的には下記式で表わされる■〜■
のものが好ましく用いられる。
リシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、脂肪酸
変性ポリシロキサン、脂肪族アルコール変性ポリシロキ
サン、ポリオキシアルキレン変性ポリシロキサンなどが
好適に使用し得、具体的には下記式で表わされる■〜■
のものが好ましく用いられる。
■メチルポリシロキサン
(C4−L)3SiO((CH3)2510)nSi(
CH3)3n=3〜350 粘度: 1〜1OOOc s (25℃)(かメチルフ
ェニルポリシロキサン a+b+c= 1−250 粘度: 10〜1OOOcs (25℃)〈■脂肪酸変
性ポリシロキサン a+b+c=1−200、x = O〜5、R=CsH
xs〜Cz□H43粘度:10〜1000cs (25
℃)また、疎水性シリコーンの配合量は、毛髪化粧料全
体の0.1〜5%、特に0.1〜3%とすることが好ま
しく、0.1%に満たないと毛髪にしっとり感及びサラ
サラ感を付与する効果が十分発揮されない場合があり、
5%を越えると毛髪が重く仕上がって本発明の目的が達
成できない場合がある。
CH3)3n=3〜350 粘度: 1〜1OOOc s (25℃)(かメチルフ
ェニルポリシロキサン a+b+c= 1−250 粘度: 10〜1OOOcs (25℃)〈■脂肪酸変
性ポリシロキサン a+b+c=1−200、x = O〜5、R=CsH
xs〜Cz□H43粘度:10〜1000cs (25
℃)また、疎水性シリコーンの配合量は、毛髪化粧料全
体の0.1〜5%、特に0.1〜3%とすることが好ま
しく、0.1%に満たないと毛髪にしっとり感及びサラ
サラ感を付与する効果が十分発揮されない場合があり、
5%を越えると毛髪が重く仕上がって本発明の目的が達
成できない場合がある。
更に、リン酸エステルは、下記式(1)(但し、式中R
ユは炭素数3〜22のアルキル基、ヒドロキシアルキル
基、アルケニル基及びグリセリル基並びに炭素数4〜1
2のアルキル基を有するアルキルフェニル基及びジアル
キルフェニル基から選ばれる置換基、R2は水素原子又
はメチル基であり、Yは水素原子、アルカリ金属原子、
アルキル置換アンモニウム基又はヒドロキシアルキ基又
はYと同様である。また、nはO〜100の整数である
。) で示されるものである。なお、リン酸エステルが下記式
(1′) で示される場合は、両R1はそれぞれ互に同一でも異な
っていてもよい。
ユは炭素数3〜22のアルキル基、ヒドロキシアルキル
基、アルケニル基及びグリセリル基並びに炭素数4〜1
2のアルキル基を有するアルキルフェニル基及びジアル
キルフェニル基から選ばれる置換基、R2は水素原子又
はメチル基であり、Yは水素原子、アルカリ金属原子、
アルキル置換アンモニウム基又はヒドロキシアルキ基又
はYと同様である。また、nはO〜100の整数である
。) で示されるものである。なお、リン酸エステルが下記式
(1′) で示される場合は、両R1はそれぞれ互に同一でも異な
っていてもよい。
(1)式のリン酸エステルとして具体的には、デシルリ
ン酸、ミリスチルリン酸、セチルリン酸。
ン酸、ミリスチルリン酸、セチルリン酸。
オレイ、ルリン酸、トコシルリン酸、ポリオキシエチレ
ン(3)デシルリン酸、ポリオキシエチレン(3)ラウ
リルリン酸、ポリオキシエチレン(5)ミリスチルリン
酸、ポリオキシエチレン(3)セチルリン酸、ポリオキ
シエチレン(5)ステアリルリン酸、ポリオキシエチレ
ン(3)オレイルリン酸、ポリオキシエチレン(3)エ
イコシルリンは、ポリオキシエチレン(5)トコシルリ
ン酸。
ン(3)デシルリン酸、ポリオキシエチレン(3)ラウ
リルリン酸、ポリオキシエチレン(5)ミリスチルリン
酸、ポリオキシエチレン(3)セチルリン酸、ポリオキ
シエチレン(5)ステアリルリン酸、ポリオキシエチレ
ン(3)オレイルリン酸、ポリオキシエチレン(3)エ
イコシルリンは、ポリオキシエチレン(5)トコシルリ
ン酸。
ポリオキシエチレン(3)トコセニルリン酸、ポリオキ
シエチレン(5)1.2−ヒドロキシスアアリルリン酸
、ポリオキシプロピレン(5)セチルリン酸、ポリオキ
シエチレン(3)ポリオキシプロピレン(5)ステアリ
ルリン酸、ポリオキシプロピレン(21)ブチルリン酸
、ポリオキシプロピレン(60)グリセリルリン酸、ポ
リオキシエチレン(7)ノニルフェニルリン酸、ポリオ
キシエチレン(7)ジノニルフェニルリン酸、及びそれ
らのナトリウム塩、カリウム塩、トリメチルアミン塩、
トリエチルアミン塩、モノエタノールアミン塩。
シエチレン(5)1.2−ヒドロキシスアアリルリン酸
、ポリオキシプロピレン(5)セチルリン酸、ポリオキ
シエチレン(3)ポリオキシプロピレン(5)ステアリ
ルリン酸、ポリオキシプロピレン(21)ブチルリン酸
、ポリオキシプロピレン(60)グリセリルリン酸、ポ
リオキシエチレン(7)ノニルフェニルリン酸、ポリオ
キシエチレン(7)ジノニルフェニルリン酸、及びそれ
らのナトリウム塩、カリウム塩、トリメチルアミン塩、
トリエチルアミン塩、モノエタノールアミン塩。
ジェタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩等を挙
げることができ、これらの1種又は2種以上が用いられ
る。
げることができ、これらの1種又は2種以上が用いられ
る。
なお、本発明ではリン酸エステルとして部分もしくは完
全中和物を使用することができる。この場合、毛髪化粧
料成分中にリン酸エステルの部分もしくは完全中和物を
そのまま配合してもよいが、リン酸エステルを溶解、分
散又は乳化の後、中和剤を添加して部分もしくは完全中
和してもよい。
全中和物を使用することができる。この場合、毛髪化粧
料成分中にリン酸エステルの部分もしくは完全中和物を
そのまま配合してもよいが、リン酸エステルを溶解、分
散又は乳化の後、中和剤を添加して部分もしくは完全中
和してもよい。
また、上記リン酸エステルの配合量は、特に限定されな
いが、毛髪化粧料全体の0.1〜10%、特に0.1〜
5%とすることが好ましく、配合量が0.1%に満たな
いと洗髪後の乾燥過程の毛髪のブラシ通り、手櫛通りが
悪くなる場合があり、10%を越えると毛髪にべたつき
が生じる場合がある。
いが、毛髪化粧料全体の0.1〜10%、特に0.1〜
5%とすることが好ましく、配合量が0.1%に満たな
いと洗髪後の乾燥過程の毛髪のブラシ通り、手櫛通りが
悪くなる場合があり、10%を越えると毛髪にべたつき
が生じる場合がある。
本発明化粧料中には、その種類、使用目的等に応じ、本
発明の効果に影響を与えない範囲で、任意の他の成分を
配合することができる。任意成分としては1例えば流動
パラフィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワラン及
びオレフィンオリゴマーなとの炭化水素;イソプロピル
ミリステート。
発明の効果に影響を与えない範囲で、任意の他の成分を
配合することができる。任意成分としては1例えば流動
パラフィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワラン及
びオレフィンオリゴマーなとの炭化水素;イソプロピル
ミリステート。
イソプロピルパルミテート、2−エチルヘキサン酸トリ
グリセライドなどのエステル;ツバキ油。
グリセライドなどのエステル;ツバキ油。
オリーブ油、アボガド油、パーシック油等の植物油;ベ
ヘニルアルコール及びヘキシルデカノールなどの高級ア
ルコール;グリセリル脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリ
グリセリン脂肪酸エステル及びポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸工ステルなどの乳化剤;メチルセルロース
、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセ
ルロース及びカチオン化セルロースなどのセルロース誘
導体;天然高分子類等の増粘剤;エチレングリコール、
プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、
グリセリン及びソルビトールなどの保湿剤;ポリエチレ
ングリコール、高級脂肪酸エタノールアミド、雲母チタ
ン及び魚すン箔等のパール光沢付与剤;その他溶剤、殺
菌剤、キレート剤、紫外線吸収剤、着色剤、香料などを
配合することができ、これらの配合量は通常量とするこ
とができる。
ヘニルアルコール及びヘキシルデカノールなどの高級ア
ルコール;グリセリル脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリ
グリセリン脂肪酸エステル及びポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸工ステルなどの乳化剤;メチルセルロース
、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセ
ルロース及びカチオン化セルロースなどのセルロース誘
導体;天然高分子類等の増粘剤;エチレングリコール、
プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、
グリセリン及びソルビトールなどの保湿剤;ポリエチレ
ングリコール、高級脂肪酸エタノールアミド、雲母チタ
ン及び魚すン箔等のパール光沢付与剤;その他溶剤、殺
菌剤、キレート剤、紫外線吸収剤、着色剤、香料などを
配合することができ、これらの配合量は通常量とするこ
とができる。
本発明の毛髪化粧料は、上記必須成分と共に任意成分を
配合して、ヘアーリンス剤、スプレー型又はデイスペン
サー型のへアーコンディショナーへアートリートメント
、ヘアーローションなど様々な用途に用いることができ
る。
配合して、ヘアーリンス剤、スプレー型又はデイスペン
サー型のへアーコンディショナーへアートリートメント
、ヘアーローションなど様々な用途に用いることができ
る。
見匪夏免釆
本発明では、上記高分子小胞体と1,2−アルカンジオ
ール誘導体とを配合したことにより、毛髪表面の保護効
果と毛髪のしっとり感向上効果とを併せ持つ毛髪化粧料
を得ることができ、また、上記高分子小胞体と疎水性シ
リコーンとを配合したことにより、ダメージへアにしっ
とり感とサラサラ感とを同時に付与できる毛髪化粧料を
得ることができる。更に、本発明では、上記高分子小胞
体と上記(1)式のリン酸エステルとを配合したことに
より、均一状態、不均一状態、乳化状態等のいずれの状
態のおいても、またすすぎを必要とするタイプ、しない
タイプのいずれのタイプにおいても濡れた状態の毛髪を
乾燥する過程において、毛髪に優れたブラシ通り、手櫛
通り性を与え、毛髪の損傷を防ぐことのできる毛髪化粧
料を得ることができる。
ール誘導体とを配合したことにより、毛髪表面の保護効
果と毛髪のしっとり感向上効果とを併せ持つ毛髪化粧料
を得ることができ、また、上記高分子小胞体と疎水性シ
リコーンとを配合したことにより、ダメージへアにしっ
とり感とサラサラ感とを同時に付与できる毛髪化粧料を
得ることができる。更に、本発明では、上記高分子小胞
体と上記(1)式のリン酸エステルとを配合したことに
より、均一状態、不均一状態、乳化状態等のいずれの状
態のおいても、またすすぎを必要とするタイプ、しない
タイプのいずれのタイプにおいても濡れた状態の毛髪を
乾燥する過程において、毛髪に優れたブラシ通り、手櫛
通り性を与え、毛髪の損傷を防ぐことのできる毛髪化粧
料を得ることができる。
以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明
するが1本発明は下記実施例に制限されるものではない
。
するが1本発明は下記実施例に制限されるものではない
。
なお、以下の例において%はいずれも重量%である。
また、各側で使用する高分子小胞体分散液の合成は、以
下の通り行なった。
下の通り行なった。
〈高分子小胞体の合成〉
出発物質である第4級アンモニウム塩としては、ジステ
アリルジメチルアンモニウムクロライド(LACO社製
、アーカード2HT−=75)をアセトンから再結晶し
たものを用いた。このジステアリルジメチルアンモニウ
ムクロライドは、実際には炭素数18の直鎖アルキル基
を70%、炭素数16の直鎖アルキル基を30%含むも
のである。
アリルジメチルアンモニウムクロライド(LACO社製
、アーカード2HT−=75)をアセトンから再結晶し
たものを用いた。このジステアリルジメチルアンモニウ
ムクロライドは、実際には炭素数18の直鎖アルキル基
を70%、炭素数16の直鎖アルキル基を30%含むも
のである。
陰イオン交換樹脂アンバーリストA−27,(オルガノ
社H’l をカラムに充満し、メタクリル酸(純正化学
(株)製)のメタノール溶液を通過させてメタクリレー
ト型イオン交換樹脂とした。次に前記ジステアリルジメ
チルアンモニウムクロライドのメタノール溶液を通過さ
せてその対イオンを交換し、溶媒であるメタノールを濃
縮した後にアセトンから再結晶させることにより、対イ
オン部にメタクリレートが導入された重合性第4級アン
モニウム界面活性剤2HTメタクリレートの白色結晶を
得た。
社H’l をカラムに充満し、メタクリル酸(純正化学
(株)製)のメタノール溶液を通過させてメタクリレー
ト型イオン交換樹脂とした。次に前記ジステアリルジメ
チルアンモニウムクロライドのメタノール溶液を通過さ
せてその対イオンを交換し、溶媒であるメタノールを濃
縮した後にアセトンから再結晶させることにより、対イ
オン部にメタクリレートが導入された重合性第4級アン
モニウム界面活性剤2HTメタクリレートの白色結晶を
得た。
この2HTメタクリレ一ト5gと水、250 gをエル
レインマイヤーフラスコにとって密栓をし。
レインマイヤーフラスコにとって密栓をし。
湯浴型超音波処理装置(BRANSONIC社製、52
1型)を用いて、70〜8o℃に加熱しながら2〜4時
間超音波処理を行なうことにより、小胞体分散液を得た
。この分散液の二分子膜小胞体構造は、凍結割断レプリ
カ法による透過型電子顕微鏡(日立H−600型)wA
察より確認した。
1型)を用いて、70〜8o℃に加熱しながら2〜4時
間超音波処理を行なうことにより、小胞体分散液を得た
。この分散液の二分子膜小胞体構造は、凍結割断レプリ
カ法による透過型電子顕微鏡(日立H−600型)wA
察より確認した。
以上のようにして調製した小胞体分散液250−を反応
容器に取り、低圧水銀灯(理工科学産業(株)製、UV
L−32LB型、32W、波長254nm)を用いた内
部照射法にて重合を行なった。NMRを用いることによ
り、オレフィンプロトンピークとメタクリレートメチル
プロトンピークの消失を追跡したところ1重合反応は6
時間で完全に終了した。この重合反応により、サブミク
ロンサイザー(BROOKHAVEN社製、B1−90
型)で測定した粒径が67nm、重合度が30〜4を主
分布とする高分子小胞体分散液が得られた。
容器に取り、低圧水銀灯(理工科学産業(株)製、UV
L−32LB型、32W、波長254nm)を用いた内
部照射法にて重合を行なった。NMRを用いることによ
り、オレフィンプロトンピークとメタクリレートメチル
プロトンピークの消失を追跡したところ1重合反応は6
時間で完全に終了した。この重合反応により、サブミク
ロンサイザー(BROOKHAVEN社製、B1−90
型)で測定した粒径が67nm、重合度が30〜4を主
分布とする高分子小胞体分散液が得られた。
〔実施例1〜4〕
第1表に示す組成の毛髪化粧料を調製し、下記方法でそ
の性能を評価した。
の性能を評価した。
結果を第1表に示す。
亙11−可m例果
保護効果の代用特性として、プーリーによる耐摩擦性を
測定した。
測定した。
毛髪を試料(毛髪化粧料)で処理した後、アルミ製のプ
ーリーに一定荷重を加えた毛髪をセットし、2 、5
rpm及び50rpmでの5分後の摩擦係数を測定し1
合わせて電子顕微鏡による表面観察を行なった。表面観
察の結果は、処理前の毛髪を基準として以下の通り評価
した。
ーリーに一定荷重を加えた毛髪をセットし、2 、5
rpm及び50rpmでの5分後の摩擦係数を測定し1
合わせて電子顕微鏡による表面観察を行なった。表面観
察の結果は、処理前の毛髪を基準として以下の通り評価
した。
◎:基準と同等レベルである。
O:少し傷みが見られる。
Δ:明かに傷んでいる。
X:傷みがひどい。
玉災列旦ユ(四匹
20(!I+、10gの毛束を市販のシャンプーで洗っ
た後、1gの試料(毛髪化粧料)を塗布し、約40℃の
湯で軽くすすぎ、25°Cかつ湿度65%の条件下で一
昼夜放置した。この毛束のしっとり感を20名のパネラ
−により官能評価した。
た後、1gの試料(毛髪化粧料)を塗布し、約40℃の
湯で軽くすすぎ、25°Cかつ湿度65%の条件下で一
昼夜放置した。この毛束のしっとり感を20名のパネラ
−により官能評価した。
なお、評価は、下記組成の標準試料を用いて同様の処理
を行なった毛束を基準として下記評価基準に従って行な
い、パネラ−20名の評価平均を求めて結果とした。
を行なった毛束を基準として下記評価基準に従って行な
い、パネラ−20名の評価平均を求めて結果とした。
く標準試料〉
ステアリルトリメチルアンモニウム 1%クロライ
ド セチルアルコール 3プロピレン
グリコール 10計 100、 0% 〈評価基準〉 ◎:基準と比べてよい。
ド セチルアルコール 3プロピレン
グリコール 10計 100、 0% 〈評価基準〉 ◎:基準と比べてよい。
○:基準と比べてややよい。
△:基準と同等。
×:基準と比べてやや劣る。
××:基準と比べて劣る。
第1表の結果より、本発明に係る高分子小胞体と1,2
−アルカンジオール誘導体とを配合した毛髪化粧料は、
毛髪の摩擦係数、表面観察及びしっとり感のいずれにお
いても高い効果が認められた。
−アルカンジオール誘導体とを配合した毛髪化粧料は、
毛髪の摩擦係数、表面観察及びしっとり感のいずれにお
いても高い効果が認められた。
〔実施例5〜8、比較例1〜3〕
第2表に示す組成の毛髪化粧料を調製し、下記方法でそ
の性能を評価した。
の性能を評価した。
結果を第2表に示す。
毛 のしっとり感、サラサラ感
毛髪を5%チオグリコール酸アンモニウム(pH9,6
,浴比30倍)で処理した後、3%臭素酸カリウム(浴
比:40倍)に5分浸漬し、水洗し、風乾してダメージ
毛髪を得た。
,浴比30倍)で処理した後、3%臭素酸カリウム(浴
比:40倍)に5分浸漬し、水洗し、風乾してダメージ
毛髪を得た。
毛髪として、5g、20■の上記ダメージ毛束を用い、
この毛束を市販のシャンプーで処理した後、試料0.5
gを直接毛束に塗布して手で均一に伸ばし、25’C,
湿度65%の雰囲気で乾燥させ、−昼夜放置したものを
20名のパネラ−により官能評価した。
この毛束を市販のシャンプーで処理した後、試料0.5
gを直接毛束に塗布して手で均一に伸ばし、25’C,
湿度65%の雰囲気で乾燥させ、−昼夜放置したものを
20名のパネラ−により官能評価した。
なお、評価は、前記標準試料で同様の処理を行なった毛
髪を基準として、前記基準に従って行ない、パネラ−の
評価平均を結果とした。
髪を基準として、前記基準に従って行ない、パネラ−の
評価平均を結果とした。
* 疎水性シリコーンA
大 疎水性シリコーンB
本 疎水性シリコーンC
第2表の結果より、本発明に係る高分子小胞体と疎水性
シリコーンとを配合した毛髪化粧料は、いずれも毛髪へ
しっとり感及びサラサラ感を付与する性能に優れている
ことがわかった。
シリコーンとを配合した毛髪化粧料は、いずれも毛髪へ
しっとり感及びサラサラ感を付与する性能に優れている
ことがわかった。
〔実施例9〜13、比較例4〜6〕
第3表に示す組成の毛髪化粧料を調製し、下記方法でそ
の効能を試験した。
の効能を試験した。
結果を第3表に示す。
ブラッシング の毛 の
シャンプー処理された毛束(Log、20an)に試料
1gを直接塗布し、手で毛束全体に均一に伸ばした。次
いで、約40°Cの湯で軽くすすいだ後、毛髪の水分量
が30%になるようにタオルで水を拭き取った。
1gを直接塗布し、手で毛束全体に均一に伸ばした。次
いで、約40°Cの湯で軽くすすいだ後、毛髪の水分量
が30%になるようにタオルで水を拭き取った。
この毛束を市販のスタイリングブラシを用い、3カ所(
角度120°間隔)をそれぞれ30回ずつブラッシング
処理した。
角度120°間隔)をそれぞれ30回ずつブラッシング
処理した。
ブラッシング後、スンプ法で毛髪のレプリカをとり、位
相差型顕微鏡で表面を観察した。
相差型顕微鏡で表面を観察した。
なお、評価は、前記標準試料で同様の処理を行なった毛
髪を基準として、前記基準に従って行なった。
髪を基準として、前記基準に従って行なった。
毛 の のブラシ
ハーフヘッド一対比較法を採用し、20名のパネラ−の
頭髪全体を市販シャンプーで処理した後、左右半分ずつ
に分け、片方に標準試料を他方に試験試料をそれぞれ5
g塗布し、毛束全体に均一に伸ばした。次いで、約40
’Cの湯で軽くすすいだ後、タオルで頭髪の水分を拭き
取り、更にIKWのドライヤーと市販のスタイリングブ
ラシを用いて乾燥スタイリングを行なった。
頭髪全体を市販シャンプーで処理した後、左右半分ずつ
に分け、片方に標準試料を他方に試験試料をそれぞれ5
g塗布し、毛束全体に均一に伸ばした。次いで、約40
’Cの湯で軽くすすいだ後、タオルで頭髪の水分を拭き
取り、更にIKWのドライヤーと市販のスタイリングブ
ラシを用いて乾燥スタイリングを行なった。
なお、評価は、前記標準試料で同様の処理を行なった毛
髪を基準として、前記基準に従って行なった・ 第3表の結果より、本発明に係る高分子小胞体とリン酸
エステルとを含有する毛髪化粧料(実施例9・〜13)
は、ブラッシング後の毛髪表面の損傷状態及び毛髪の乾
燥中のブラシ通り性が共に優れていることが確認された
。
髪を基準として、前記基準に従って行なった・ 第3表の結果より、本発明に係る高分子小胞体とリン酸
エステルとを含有する毛髪化粧料(実施例9・〜13)
は、ブラッシング後の毛髪表面の損傷状態及び毛髪の乾
燥中のブラシ通り性が共に優れていることが確認された
。
〔実施例14〕
下記組成のへアートリートメントを調製し、その性能を
評価したところ、優れた毛髪表面保護効果及びしっとり
感付与効果を有していた。
評価したところ、優れた毛髪表面保護効果及びしっとり
感付与効果を有していた。
高分子小胞体5%分散液 20%セトステアリ
ルアルコール 5.01.2−ドデカンジオー
ル 1.0セスキオレイン酸ソルビタン
0.5モノステアリン酸グリセリン 0.5エ
ステル プロピレングリコール 10.0香 料
適 量殺菌剤 精製水 残部 計 100.0%〔実施例15
〕 下記組成のへアーコンディショナー(デイスペンサータ
イプ)を調製し、その性能を評価したところ、優れた毛
髪表面保護効果及びしっとり感付与効果を有していた。
ルアルコール 5.01.2−ドデカンジオー
ル 1.0セスキオレイン酸ソルビタン
0.5モノステアリン酸グリセリン 0.5エ
ステル プロピレングリコール 10.0香 料
適 量殺菌剤 精製水 残部 計 100.0%〔実施例15
〕 下記組成のへアーコンディショナー(デイスペンサータ
イプ)を調製し、その性能を評価したところ、優れた毛
髪表面保護効果及びしっとり感付与効果を有していた。
高分子小胞体5%分散液 10%1.2−ドデ
カンジオール 0.5プロピレングリコール
5.0P OE (10)ステアリルエー
テル 3.0エチルアルコール
10.0香 料
適 量精製水 残部 計 100.0%〔実施例16
〕 下記組成のへアートリートメントを!l!I製し、その
性能を評価したところ、ダメージ毛髪に対する優れたし
っとり感及びサラサラ感付与効果を有していた。
カンジオール 0.5プロピレングリコール
5.0P OE (10)ステアリルエー
テル 3.0エチルアルコール
10.0香 料
適 量精製水 残部 計 100.0%〔実施例16
〕 下記組成のへアートリートメントを!l!I製し、その
性能を評価したところ、ダメージ毛髪に対する優れたし
っとり感及びサラサラ感付与効果を有していた。
高分子小胞体2%分散液 60%疎水性シリコ
ーンA 1.5流動パラフイン(粘度
〜70秒)15 セタノール 2.0ステアリ
ン酸 0.5P OE (15)
ステアリン酸エステル 0.8プロピレングリコール
5.0精製水 残部 計 100.0%〔実施例17
〕 下記組成のヘアローションを調製し、その性能を評価し
たところ、ダメージ毛髪に対する優れたしっとり感及び
サラサラ感付与効果を有していた。
ーンA 1.5流動パラフイン(粘度
〜70秒)15 セタノール 2.0ステアリ
ン酸 0.5P OE (15)
ステアリン酸エステル 0.8プロピレングリコール
5.0精製水 残部 計 100.0%〔実施例17
〕 下記組成のヘアローションを調製し、その性能を評価し
たところ、ダメージ毛髪に対する優れたしっとり感及び
サラサラ感付与効果を有していた。
高分子小胞体2%分散液 50%疎水性シリコ
ーンB 1.0スクワラン
1.0セタノール
0・ 5ソルビタンモノステアレート 0
.7P OE (8)ステアリルエーテル 0.
5プロピレングリコール 5.0精製水
残部 計 100.0%〔実施例18
〕 下記組成のヘアブラッシング剤を調製し、その性能を評
価したところ、ダメージ毛髪に対する優れたしっとり感
及びサラサラ感付与効果を有していた。
ーンB 1.0スクワラン
1.0セタノール
0・ 5ソルビタンモノステアレート 0
.7P OE (8)ステアリルエーテル 0.
5プロピレングリコール 5.0精製水
残部 計 100.0%〔実施例18
〕 下記組成のヘアブラッシング剤を調製し、その性能を評
価したところ、ダメージ毛髪に対する優れたしっとり感
及びサラサラ感付与効果を有していた。
高分子小胞体2%分散液 lO%疎水性シリコ
ーンCO,5 イソプロピルパルミテート 0,3ジクロルジ
フルオロメタン 35エタノール
残 部出願人 ラ イ オ ン 株式会社 代理人 弁理士 小 島 隆 司
ーンCO,5 イソプロピルパルミテート 0,3ジクロルジ
フルオロメタン 35エタノール
残 部出願人 ラ イ オ ン 株式会社 代理人 弁理士 小 島 隆 司
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、陽イオン部として第4級アンモニウム、対イオンと
して重合性陰イオンを有する界面活性剤モノマー小胞体
を重合してなる高分子小胞体と、1,2−アルカンジオ
ール誘導体とを含有してなる毛髪化粧料。 2、請求項1記載の高分子小胞体と、疎水性シリコーン
とを含有してなる毛髪化粧料。 3、請求項1記載の高分子小胞体と、下記一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (但し、式中R_1は炭素数3〜22のアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基、アルケニル基及びグリセリル基並
びに炭素数4〜12のアルキル基を有するアルキルフェ
ニル基及びジアルキルフェニル基から選ばれる置換基、
R_2は水素原子又はメチル基であり、Yは水素原子、
アルカリ金属原子、アルキル置換アンモニウム基又はヒ
ドロキシアルキル置換アンモニウム基、Zは▲数式、化
学式、表等があります▼ 基又はYと同様である。また、nは0〜100の整数で
ある。) で示されるリン酸エステルとを含有することを特徴とす
る毛髪化粧料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16359788A JP2576198B2 (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 毛髪化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16359788A JP2576198B2 (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 毛髪化粧料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0211508A true JPH0211508A (ja) | 1990-01-16 |
JP2576198B2 JP2576198B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=15776947
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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