JPH01309045A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

ハロゲン化銀写真感光材料

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JPH01309045A
JPH01309045A JP13990388A JP13990388A JPH01309045A JP H01309045 A JPH01309045 A JP H01309045A JP 13990388 A JP13990388 A JP 13990388A JP 13990388 A JP13990388 A JP 13990388A JP H01309045 A JPH01309045 A JP H01309045A
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謙一 桑原
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    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は写真製版の分野で用いられる超硬調な写真特性
を有するハロゲン化銀写真感光材料に関するものであり
、待にランニング処理において、超硬調な写真特性がそ
こなわれることなく、安定して得られるハロゲン化鱗写
真感元材料に関するものである。
(従来技術) 写真製版の分野においては、印刷原版を作成する際に、
線画あるいは網点画像の再生を良好ならしめるために、
ハロゲン化銀写真感光材料として、画像部と非画像部が
明瞭に区別された高いコントラストと高い黒化濃度をも
つ、いわゆる超硬調な写真特性會示すものが必要とされ
、そのような感光材料および画像形成システムが提供さ
れている。
従来この目的を達成する一つのシステムとして、リス現
像システムとよばれる方法が用いられてきた。これは塩
化銀含有率の高いハロゲン化銀写真感光材料を、ハイド
ロキノンを現像主薬とする亜硫酸イオン濃度のきわめて
低い伝染現像液(いわゆるリス現像液)を用いて処理す
るシステムである。
超硬調な写真特性を得る別のシステムとして、米国特許
第4’、/gA、7≠2号、四≠、/乙g。
977号、同≠、2//、if!;7号、同°≠、22
t、≠O1号、同t、λ’73.739号、同≠。
、2’# 、606号、同≠、3//、7ざ7号等に記
載のヒドラジン誘導体を用いる方法がある。この方法に
よれば、亜硫酸イオン濃度の高い現像液で現像処理して
も高いコントラストラ有する画像を得ることができる。
この現像液はリス現像液にくらべて空気酸化に対して変
化全党けにくい現像液であるがゆえに、自動現像機に入
れて一定の補充量しつつ、連続してフィルムを処理する
(いわゆるランニング処理する)のに適したシステムと
言える。
超硬調な写真特性金得るさらに別のシステムとして特開
昭3;、2−11317号、同33−/77/り号、同
!;3−/77.20号等に開示されている、テドラゾ
リワム化合物を用いる方法が知られている。
このような実用システムではランニング処理において少
ない補充量で超硬調な写真特性が安定して得られるよう
にするために、感光材料にも処理液にもさまざまな改良
が加えられている。
通常現像液には現像主薬としてジヒドロキシベンゼン類
(たとえばハイドロキノン)補助現像主薬として、3−
ピラゾリドン類(たとえば/−フェニル−3−ピラゾリ
ドン)アミノフェノール類(たとえばN−メチル−p−
アミノフェノール)、保恒剤として亜硫酸塩(たとえば
に2S03、N a 2 S U 3 ) p l(緩
衝剤(たとえばホウ酸、第三リン酸ナトIJワム)現像
抑制剤、カブリ防止剤(たとえば臭化カリウム、jニド
Oインダゾール、!−メルカプトベンズイミダゾール、
j−メチルベンゾトリアゾール、/−フェニル−j−メ
ルカプトテトラゾール)、現像促進剤(たとえば特開昭
36−7OA、、!’l≠号記載のアミノ化合物)銀よ
ごれ防止剤(たとえば特開昭!;6−.211.3q7
号記載の化合物)などの化合物が含まれている。
このような第1々の化合@全添加することによって超硬
調な写真特性を安定に保つ工夫がなされているが、それ
でも感光材料の処理量の異なるランニング処理において
は高い安定性を保つことが不十分であった。
ハロゲン化釧写真感光材料のランニング処理における安
定性上、感光材料にほどこすことによって、向上させる
手段としては、特開昭32−♂002≠号等に記載され
/こ方法がある。この方法はランニング処理中に現像液
に溶出蓄積して感光材料の写真特性に影響を与える化合
物を、ハロゲン化銀写X感元材料の支持体裏面層に含有
せしめることによって、複数の感光材料を同一ランニン
グ処理する場合にも安定した写真特性を得られるように
したものである。支持体裏面層に官有することのできる
化合物としては、■塩素、臭素、沃素イオン等の無機ハ
ロゲン化物 ■ポリアルキレンオキサイド化合物類 ■
/−フェニルーj−メルカプトテトラゾール、j−二ト
ロインダゾール、λ−メルカプトベンゾチアゾール、ニ
ーメルカプトイミダゾール、2−メルカプトベンズイミ
ダゾール、ニトロペンズイミタソール、!;−jfルベ
ンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、ニトロベンゾ
トリアゾール、テトラザインデン化合物などの現像コン
トロール剤があげられている。
前述した現像抑制剤、かぶり防止剤としてインダゾール
、ベンズイミダゾール、又はベンゾトリアゾール系化合
物を含有した現像液で感光材料をランニング処理する場
合に処理量の異なるランニング処理において、安定した
写真特性が得られない原因の一つとして、処理した感光
材料が液中のインダゾール、ベンズイミダゾール、又は
ベンゾトリアゾール類を持ち出してしまい、液中のこれ
らの薬品濃度が一定に保たれないことが考えられる。イ
ンダゾール、ベンズイミダゾール、又はべンゾトリアゾ
ール類が感光材料の処理によって現像液中から持ち出さ
れた分を補う手段として、これらの化合物を感光材料の
支持体裏面1−に含有させること全検討したが、このよ
うな方法では現像液中に溶出してこないため、補う手段
としては不適当であることがわかった。これは、たとえ
ばベンゾトリアゾール類を支持体裏面層に16710し
た場合裏面層のゼラチン全硬化させるために洛加されて
いる硬膜剤化合物と反応しているためと考えられる。
(発明の目的) 本発明は、ランニング処理において、現像液中から感光
材料が持ち出す化合物を、感光材料自身が補うことによ
って、写真特性が安定に維持されるハロゲン化@感元材
料を提供することである。
特にヒドラジン誘導体を用いた超硬調な現像処理システ
ムおよびテトラゾリワム硬調現像システムにおいて、ラ
ンニング処理したときに安定性の艮い写真性を有するハ
ロゲン化銀写真、感光材料を提供することである。
(発明の開示) 本発明の目的は、ハロゲン化銀写真感光材料のランニン
グ処理において現像液から持ち出されるインダゾール系
化合物、ベンズイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾ
ール系化合物をそのプレカーサー化合物としてハロゲン
化嫁写真感元材料の支持体裏面層に含有せしめることに
よって達、成された。
本発明に係るハロゲン化錯感元材料の支持体裏面層に含
有せしめられる化@物は、現像液中に含■されているイ
ンダゾール系、ベンズイミダゾール系、又はベンゾトリ
アゾール系化合物全現像時に放出して現像液に溶出させ
ることのできる化合物であり、一般式(I)で表わすこ
とができる。
一般式(I) 式中、CAは処理時にインダゾール系化合物、ベンズイ
ミダゾール系化@物、ベンゾトリアゾール系化@I吻あ
るいはその前駆体七席出可能なブロック基全表わし、L
)はへテa原十全介して結合しているインダゾール系化
合物、ベンズイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾー
ル系化合物あるいはその前駆体を表わす。
CAで表わされるブロック基としては既に知られている
いくつかのもの金挙げることができる。
例えば、特公昭4g−9,96g号、特開昭3.2−g
、12g号、同37−f2.13≠号、米国特許3.3
/ / 、4/76号、特公昭177−1≠。
♂03号(米国特許3.Al1,6/7号)に記載され
ているアシル基、スルホニル基等のブロック基金利用す
るもの;特公昭33−/7,31aY号(米国特許31
gざざ、677号)、同jJ−9,696号(米国特許
3.791 、ざ30号)、同3に−314,9,27
号(米国特許≠、009 。
029号)、特開昭36−77、gヶ2号(米国特許μ
、307./73号)、向39−t03゜A4’2号、
同5q−ios 、btto号に記載のいわゆる逆マイ
ケル反応により現像抑制剤全放出するブロック基を利用
するもの;特公昭!;IA−3り。
727号、米国特許用3.6711.≠7g号、同第3
.り3ノ、≠にθ号、同第3.り93.167号、特開
昭37−/3!j、9−IIII号、同j7−/3j2
)If号、1司J7−iJl、、AQO号に記載の分子
内電子移動によりキノンメチド又はキノンメチド類化合
物の生成に伴って現像抑制剤を放出するブロック基金利
用するもの;特開昭jj−33,330号、同39−2
/l!、≠39号に記載の分子内閉環反応を利用するも
の:特開昭37−7A 、iJl1号(米国特許4(、
333、200号)、回37−/3J、?≠9号、同J
7−/7り、gグ2号、同jデー137.り17j号、
同39−/≠Q、リダj号、同39−2/9,7171
号、同60−’AI 、03≠号に記載のj員又は6員
の環開製を利用するもの:あるいは特開昭jター20/
 、037号、%願昭39−1≠j、3り3号、同39
−2/乙、タコ6号、同j9−21乙、デλg号、に記
載の不飽和結合への求核剤の付加により現像抑制剤を放
出するブロック基を利用するものを挙げることができる
一般式(I)はさらに詳しくは一般式(If)で表わす
ことができる。
一般式(II) C人+Xチー−E 式中、EはEのヘテロ原子を介してXに結合しているイ
ンダゾール系化合9勿、ベンズイミダゾール系化合物、
べ/シトリアゾール系化合?l!I全表わし、XはXの
ヘテロ原子を介して0人に結合して1.2価の連結基金
表わし、rTl 1は0まfcは/全表わす。
(り j−ニドロインターゾール (2)  乙−二トaインダゾール (3)5−アミ/インダゾール (4)4−アミノインダゾール (5)  インダゾール (6)3−ニドOインダゾール +7+  4−二トロー3−クロロインタソールfll
  べ/ズイミダゾール (0,)  、!;−クロaベンズイミダゾール(3)
副−二トロペンズイミダゾール (41J−n−プチルベ/ズイミダゾール(5) S−
メチルベンズイミダゾール16)  ≠−りooベンズ
イミダゾール(7)J、6−シメチルベンズイミダゾー
ル3、ベンゾトリアゾール系化合物 (I) J、A−ジメチルベンゾトリアゾール(2)j
−ブチルベンシト・リアゾール(3)j−メチルベンゾ
トリアゾール (4)j−クロロベンゾトリアゾール (5)j−ブロモベンゾl−IJアゾール(I3+J、
A−ジクロロベンゾトリアゾール(7)  ≠、乙−ジ
クロロベンン°トリアソ°−ル(81J−ニトロベンゾ
トリアゾール (9)q−ニトロ−6−クロO−ベンゾトリアゾール θ〔≠、j、乙−トリクロ口ペンゾトリアゾール αυ j−カルボキシベンゾトリアゾール02.5−ス
ルホベンゾトリアゾール Na[Q3  J−メトキシ
カルボニルベンゾl−IJアゾール +141 4−アミノベンゾトリアゾール093−ブト
キシベンゾトリアゾール (IG  !;−9シー9レイドベリアゾール01  
ベンゾトリアゾール Eで表わされる化合vJはヘテロ原子を介して0人と直
接結合していても(m l= 0 )、あるいはXヶ介
して結合していてもよい(m1=/ )。
Xは、2価の連結基金表わし、ヘテロ原子を介して結合
しており、処理時にX−Eとして開裂した後、速やかに
Eを放出する基を表わす。
この様な連結基としては、特開昭jグー/lAJ。
133号(英国特許、2.010.If/ざA号)に記
載の分子内閉環反応によりEi放出するもの、特開昭!
;7−/!i≠、23グ号等に記載の分子内を氏子移動
によってE6放出するもの、特開昭37−/79.gμ
2号等に記載の炭酸ガスの離脱を伴ってEを放出するも
の、あるいは特開昭jター93、≠≠2号に記載のホル
マリンの脱@全伴つてEi放出するもの等の連結基金挙
げることが出来る。以上述べた代表的Xについて、それ
らの構造式を次に示した。
(E) 本発明に使用されるブロックされた現像抑制剤\   
/  \ として好ましいものは e=c、、基、/C=O基、/ 少なくとも1つ′ft有し、該官能基の炭素原子上への
求核性物質(代表的なものとしてはOHθイオン)の攻
撃とそれに続く反応によってインダゾール系化合物、ベ
ンズイミダゾール系化合物及びベンゾトリアゾール系化
合物を放出する化合物であり、その中でも特に好ましい
化合物としては、下記の一般式(Ill)、(fV)、
(V)で表わされるもの′に挙げることができる。
一般式(III) 一般式(IV) ゝ”、z−” 一般式(V) 一般式(l[l)において、)もlは水素原子または置
換可能な基を表わし、置換可能な基としてはそれぞれハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、アシルオキシ基、炭酸エステル基、アミ
ノ基、カルボンアミド基、ワレイド基、カルボキシ基、
オキシカルボニル基、カルバモイル基、アシル基、スル
ホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルファモイル
基、シアノ基、ニトロ基など’に表わし、さらに詳しく
はハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素)、アルキル基(
好ましくは炭素数/〜−〇のもの)、アリール基(好ま
しくは炭素数6〜.20のもの)、アルコキシ基(好ま
しくは炭素数/〜20のもの)、アリールオキシ基(好
ましくは炭素数6〜)0のもの)、アルキルチオ基(好
ましくは炭素数7〜20のもの)、アリールチオ基(好
ましくは炭素数6〜20のもの)、アシルオキシ基(好
ましくは炭素数、2〜20のもの)、アミン基(無置換
アミノ、好ましくは炭素数1−)Oのアルキル基、また
は炭素数6〜20のアリール基で置換した2級または3
級のアミン:jIE、)、カルボ/アミド基(好ましく
は炭素数/〜、20のアルキルカルボンアミド基、炭素
数6〜2Qのアリールカルボンアミド基)、ワレイド基
(好ましくは炭素数/ −JOのアルキルワレイド基、
炭素数6〜20の了り−ルワレイド基)、カルボキシ基
、炭酸エステル基(好着しくは炭素数/−,20のアル
キル炭酸エステル基、炭素数6〜20のアリール炭酸エ
ステル基)、オキシカルボニル基(好ましくは炭素数/
〜20のアルキルオキシカルボニル基、炭素数6〜20
のアリールオキシカルボニル基)、カルバモイル基(好
ましくは炭素数/〜、!0のアルキルカルバモイル基、
炭素数6〜.20のアリールカルバモイル基)、アシル
基(好ましくは炭素数/〜!Oのアルキルカルボニル基
、炭素数6〜1゜のアリールカルボニル基)、スルホ基
、スルホニル基(好tt、<は炭素数1−20のアルキ
ルスルホニル基、炭素数6〜.20のアリールスルホニ
ル基)、スルフィニル基(好ましくは炭素I51〜20
のアルキルスルフィニル基、炭素数6〜20のアリール
スルフィニル?に、)、スルファモイル基(好ましくは
炭iff/−20のアルキルスルファモイル基、炭素数
6〜.20のアリールスルファモイル基)、シアノ基、
ニトロ基ヶ表わす。以上述べたアルキル基、アルケニル
基、アリール基は前述の」々のWL換基が史に1直換し
ているものも包含する。
としては前記)tlとIO’Jじものを挙げることが出
来るが、几7、l七8の特に好ましいものとしてはオキ
ンカルボニル基、カルバモイル基、アシル基、スルホニ
ル基、スルフィニル基、スルファモイル基、シアノ基、
ニトロ基全挙げることが出来る。
口は/またはl全表わす。
Zは炭素環、または複素環全形成するのに必要な原子群
を表わす。
具体的には、たとえばj員環、乙負環、あるいは7員環
の炭素環、あるいは7個以上の窒累、酸素あるいは饋黄
原子等を含むj員環、A員環あるいは7員環の複素環で
あり、これらの炭素塊あるいは複索環は通肖な位置で縮
合環全形成しているものも包含する。
4体的には、シクロベンテノン、シクロヘキセノン、シ
クロヘプテノン、ベンゾンクロヘプテノ/、ヘンシンク
aSンテノン、ペンゾシクOヘキセノン、t−ピリドン
、グーキノロン、2−ピロン、q−ピロン、/−チオ−
2−ピロン、/−チオーq−ピロン、クマリン、クロモ
ン、ワラシルなどの他、 「 几13 (なお、上記一般式で”+1は水素原子又は置換基を表
わし、几12、R13は水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アリール基、カルバモイル基、オキシカルボニ
ル基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、スル
ファモイル基などヲ表わす)などを挙げることが出来る
ここで、これらの炭素塊あるいは複索環は以下の置換基
に/個以上有してもよく、置換基が一個以上あるときは
同じでも異ってもよい。
具体的置換基としては、ハロゲン原子(フッ素、埋木、
臭素)、アルキル基(好ましくは炭素数/〜、20のも
の)、アリール基(好ましくは炭素数6〜.20のもの
)、アルコキシ基(好ましくは炭素鋏/〜、20のもの
)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜.20の
もの)、アルキルチオ基(好1しくに炭素数7〜.20
のもの)、アリールーオll5(好1しくは炭素数6〜
lOOもの)、ア・ル基(好ましくは炭素数2〜20の
もの)、ア・ルアミノ基(好ましくは炭素数7〜.20
のアルカノイルアミノ基、炭素数6〜.!0のベンゾイ
ルアミ7基)、ニドO基、シアノ基、オキシカルボニル
基(好1しくけ炭素数/〜)Oのアルコキシカルボニル
基、炭素数6〜.20のアリールオキシカルボニル基)
、ヒトOキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ワレイド基
(好lしくけ炭素数/〜dOのアルキルウレイド基、炭
素et6〜.20のアリールワレイド基)、スルホンア
ミド基(好ましくは炭素数/〜20のアルキルスルホン
アミド基、炭素数6〜JOのアリールスルホノアミド基
)、スルファモイル基(好1しくは炭素数/〜20のア
ルキルスルファモイル基、炭素数6〜20のアリールス
ルファモイル基)、カルバモイル基(好才しくけ炭素数
/−20のアルキルカルバモイル基、炭素数6〜!0の
アリールカルバモイル基)、アシルオキシ基(好1しく
は炭素数/〜20のもの)、アミノ基(装置1突アミノ
、好1しくに炭素数7〜λ0のアルキル基、または炭素
数6〜20のアリール基で置換した一級または3級のア
ミノ基)、炭酸エステル基(好ましくは炭素数/〜20
のアルキル炭酸エステル基、炭素数6〜20のアリール
炭酸エステル基)、スルホン基(好ましくは炭素数/−
20のアルキルスルホン基、炭素15[,4〜λOのア
リールスルホン基)、スルフィニル基(好1しくに炭素
数)−20のアルキルスルフィニル基、炭素数6〜−〇
の了り−ルスルフイニル基)を挙げることができる。
一般式(IV)において 几2は水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数/−,
2にl)、アルケニル基(好ましくは炭素数λ〜、20
のもの)、アリール基(好ましくは炭素数6〜20のも
の)などを表わし、これらの基はさらに置換基を有して
もよい。
具体的置換基としては前記R1で挙げたものと同じもの
である。
2は一般式(I■)と同様に炭素環または複素環を形成
するに必要な原子群七表わし、この場合の環は具体的に
はシクO−!:ツタ/ン、シクロヘキサノン、シクロヘ
プタノン、ベンゾシクロヘプタノン、ペンゾシクOペン
タノン、ペンゾシクOヘキサノン、q−テトラヒトOピ
リドン、t−ジヒドロキノ0ン、q−テトラヒドロ上0
ン等が挙げられる。これら炭素環あるいは複素環は置換
基を/個以上有してもよく、置換基が一個以上あるとき
は同じでも異ってもよい。具体的fit換基は前記−般
式(III)において挙げたものと同じものである。
一般式(V)において、几3は水素原子又は炭素原子で
結合している置換基を表わし、具体的置換基としてはア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、シクロアルキル
基、又はヘテロ環残基を挙げることができ、特に好まし
くは水素原子、炭素数l〜/7のアルキル基、炭素数3
〜/7のアルケニル基、炭素数6〜!lのフェニル基又
は炭素数q〜!lのヘテロ環残基である。
R4、R15及びR6は水素原子又は置換基を表わし、
几4、R5は同じでも異ってもよく、好ましくは水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、フェニ
ル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基及びアシル基全表わ
し、これらは置換基を有してもよ< % ”4 、kL
5で二重結合あるいは環を形成してもよい。又、In2
が2〜ダの場合、)R4および几5が置換している炭素
原子はシクロアルキル芳香族環あるいはヘテロ環を形成
してもよい。
)t6は好ましくはアルキル基、アルリニル基、又はフ
ェニル基を表わす。
また、Y2は;c = N′基、〉C=S基、基などを
表わす。
R3、几4、R5及び)t6はカルボニル基の酸素原子
がY2へ分子内求核攻撃し得る構造の限りに於いて、互
いに結合して埋金形成してもよい。
R4およびR5は符に好ましくは水素原子、ハロゲン原
子又はアルキル基を表わしR4、lt5が置換している
炭素原子の形成環としては待に好ましくはフェニル基を
表わす。It6は丑に好ましくは炭素数/−/どのアル
キル基および炭素数6〜ノーのフェニル基ヲ表わす。
m2は/−4’を表わし、m3はθ又はlを表わす。
Y2は特に好1しくにカルボニル基又はスルホニルfs
を表わす。
m2は特に好ましくは/〜3全表わし、In2がlの時
m3は/i、m2が2の時m3はQ又fl/を、m2が
3のときm3は0を表わす。m2が2又は30時、 几4 Cは互いに異なる構造ケ表わしてもよい。
倦 凡5 なお、前記各式におけるX及びmlは前記一般式(I1
)における定義と同義である。
一般式< Ut )、(IV)及び(V)において、R
1、R2、および几、の選択はブロックされた現像抑制
剤を含有する写真要素が処理される処理液のpH,組成
および必要とされるタイミング時間によって選択される
また、ブロックさrした現像抑制剤は処理時のpH以外
に、待に亜硫酸イオン、ヒドロキシルアミン、チ第4A
rgイオン、メタ重亜硫酸イオン、材開昭!;9−15
#1lJ3号に記載のヒドロキサム酸及びその類縁化合
物、特開昭1.0−3!;7.29号に記載のオキシム
化合物及び後述するジヒドロキシベンゼン系現像主薬、
/−フェニル−3−ピラソリトン系現体生薬。p−アミ
/フェノール系現渾王薬などのような求核性物質ケ用い
ることによっても、埃1家仰匍]剤の放出速1皮を巾広
くコントロールすることができる。
とnらの求核性物質ケ用いることによって放田速度?早
めることが可能であり、その祭加量にブロックされた現
像抑制剤に対して好1しくけ702〜706倍モル程度
用いられる。
欠に一般式(I)で衣わされる化合物の具体例を示すが
、これに限定されるものではない。
1−/ −J C) I −μ 1−、? I−タ ■−70 ■−// 1−/、2 ■−73 l−1I/l 1−/j 1−/ 乙 C) ■−77 1−7g C) 1−/り I−,2/ 1−.2.! 1−.23 2z4 −rs ○ ■−26 NU2 −2g 口g 1−.29’ H3 ■−33 \ N(J2 l−31Lt ■−36 また本発明に用いられる一般式(I)で表わされるブロ
ックされた現像抑制剤の合成法は、特公昭#7−1グ、
gos号(米国特許第3.613゜A/7号)、特公昭
tど−7,96g号、特開昭32−g、121号、同j
7−g!、53ダ号、特公昭33−/7,369号(米
国特許第3.ggg、677号)、同jj−7.696
号(米国特許第3.79/、、130号)、向33−3
μ。
9ノア号(米国待W+第弘、00り、029号)、特開
昭36−77、J4Z、i!号(米国特許第4C,J0
7 、/ 7j号)、特公昭!;ll−39,7.27
号、特開昭37−/3!;2)≠≠号、同タフ−/33
゜り≠j号、同37−/ 31s 、6110号、同j
j−33,330号、同47−76、j≠/号(米国特
許第弘、333 、.200号)、同!;7−/33;
り≠り号、同、!;7−/7り、J’4(J号、同j9
−20/ 、037号、同39−21♂、≠39号、同
jター/3/ 、917!;号、同39−/170.I
Iqj号、同6O−11t/ 、03ダ号、同jy−i
j、A44J号、同39−10! 、6170号、特願
昭39−/113,393号、同!;9−.2/Is2
)26号、同jター、2/Iり、9−g号などに記載さ
れている。
本発明に用いられるハロゲン化鏝感光材料は超硬調な写
真特性を得ること全目的として、ヒドラジン誘導体ある
いはテトラゾリヮム化合物が含有される。
不発明に使用されるヒドラジン誘導体の好ましい例とし
ては下記一般式(Vl)で衣わされる化合物が挙げられ
る。
一般式(Vl) R14−N)iN)i−U−R15 式中、)t14は脂肪族基または芳香族基金表わし、R
15は水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置
換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換の
アラルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基また
は置換若しくは無置換のアリールオキシ基ヲ表わし、G
はカルボニル基、スルホキシ基、ホスホリル基またはN
(−懐若しくは無置換のイミノメチレン:l!i!;(
HN=(−8) ′に表わす。
一般式(■)において、”14で表わされる脂肪族基は
好壕しくは炭素数l〜3oのものであって、特に炭素数
q−20の直鎖、分岐または環状のアルキル基、または
、酸素原子、窒素原子もしくは硫黄原子を含む3〜10
員の飽和ヘテロ環である。
またこのアルキル基は、アリール基(Jf−fシ(H炭
素数6〜20)、アルコキシM5(好ましくは炭素数/
〜、20)、スルホキシ基(好葦しくに炭素数)〜、2
0)、スルホンアミド基(好筐しくに炭素数/−,2Q
)、カルボンアミド基(好1しくけ炭素数7〜.20)
または酸素原子、窒素原子、硫黄原子全台む3〜10員
の飽和ヘテロyJ基等の置換基t41していてもよい。
一般式(Vl)においてl(,14で表される芳香族基
は単環または!環のアリール′Jk、または不飽和ヘテ
ロ環基(好1しくけ、5〜乙は環で少なくともlっの酸
素原子、窒素原子または像面原子を含む)である。ここ
で不飽和ヘテロ環基は単環または2環のアリール基と縮
合してヘテロアリール基金形成してもよい。
例工ばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
インキノリ/埋、ベンズイミダゾール埠、ナアゾール環
、ヘンジチアゾール環等があるがなかでもヘンゼン埠?
含むものが好丑しい。
■モ、4として待に好ましいものはアリール基である。
”14のアリール基または不飽和ヘテロ練基は直換妊れ
ていてもよく、代表的な置換基としては、直鎖、分岐丑
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数/〜、20の
もの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素
数が/〜3の単環−または、2環のもの)、アルコギア
基(好1しくは炭素数/〜、20のもの)装置1突アミ
ノ基(好−ましくは炭素数/〜、20のアルキル基で置
換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素
数、2〜30を持つもの)、アルキルスルホンアミド基
又はアリールスルホンアミド基(好ましくは炭素数/〜
30を待つもの)、置遺無買洟ワレイド基(好ましくは
炭素数/〜30ケ待つもの)などがある。
−牧夫(Vl)においてR15の表すアルキル基として
は、好1しくは炭素数/〜≠のアルキル基であって、ハ
ロケン原子、ヒトミキシ基、シアン基、カルボキン基、
スルホ基、アルコキシ基、フェニル基、ヒドロキシフェ
ニル基、などの置換基を刹していてもよい。
一般式(Iv)において、”15でぺされる基のうち置
換されてもよいアリール基は単環または2場のアリール
基で、例え(−1,ヘンゼン埋ヲ含むものでろる。この
アリール基は、例えばハロケン原子、アルキル基、シア
ン基、カルボキシル基、スルホ基などで置換されていて
もよい。
一般式(Vl)のR+sで表される基のうち置換されて
もよいアルコキシ基としては炭素数/〜gのアルコキシ
基であって、ハロゲン1京子、アリール基などで置換さ
れていてもよい、。
−牧夫(Vl)において’15で表略れる基のうち置換
されてもよいアリールオキシ基としては単環のものが好
ましく、また置換基としてはハロケン原子などがある。
■も】5で衣される基のうちで好ましいものは、0がカ
ルボニル基の場合には水素原子、メチル基、メトキシ基
、エトキシ基、省換普たは無置換のフェニル基であり、
待に水素原子がtlfましい。
Gがスルホニル基の場合には1t15としてはメチル基
、エチル基、フェニル基、≠−メチルフェニル基が好寸
しく、竹にメチル基が好適である。
Gがホスホリル基の場合には、R15としてはメトキ・
7基、エトキン基、ブトキン基、フェノキシ基、フェニ
ル基が好1しく丑にフェノキシ基が好適である。
Gがスルホキシ基の場合、好丑しい1モ】5はンアノヘ
ンジル基、メチルチオベンジル基などであり、Gがへ一
置換または無・(a碗イミノメチレン基の場合、好寸し
い’+s i’ゴメチル是、エチル基、置換またに無置
換のフェニル基である。
一般式(Vl)の1も14才た汀l尤15はその中1/
(カプラー等の不動性写真用除7JO剤において常用さ
れているバラスト基が組み込凍れているものでもよい。
バラスト基は写真性に対する影響の少ないg以上の炭素
数全有する、不活性な基であり、例えばアルキル基、ア
ルコキン基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノ
キシ基、アルキルフェノキン基などの中から選ぶことが
できる。
一般式(Vl)の’14または几、5はその甲にハロケ
ン化銀粒子六而に対する吸清全強める基が組み込1れで
いるものでもよい。かかる吸看基としては、チオ尿素基
、摺索塊チオアミド丞、メルカプト複索環基、トリアゾ
ール基などの米国′+f行第≠。
3g!;、lOgカにt己或された基があげられる。
−牧夫(Vl)のGとしてt寸カルホ゛ニル基が最も好
ましい。
一般式(Vl)で示される化合物の具体例全以下に示づ
−。但し不発明はり、下のfヒ@物に限定されるもので
はないっ ■−r ■−3 ■−≠ ■−乙 ν1−7 ■−g /−7゜ Vl−// ■−/3 J−/s ■−/6 ■−/7 Vl−/ ざ シ1−79 Vl −r 。
■−27 ■−22 ■−23 ■−2≠ ’il+−、!7 ■−、!り 証 Cl−12CH2Sh ■−30 ■−J/ ■−32 ■−33 Vl−J≠ vl−3!; Vl−J7 l−3g ■−39 ■−tt。
シ1−II/ ■−μm 本発明で用いるヒビ92フ84体は、ハロケン化銀1モ
ルあたり/X10 モルないしj X / 0”−2モ
ル含有させるのが好ましく、特に1xio ’モルない
し2’X、IO”モルの範囲が好ましい冷加童である。
本発明で用いるヒドラジン誘導体を写真感元材料中に含
有させるときは、水溶性の場合に水癖液として、水不溶
性の場合はアルコールg<たとえばメタノール、エタノ
ール)、エステル類(たとえば酢酸エチル)、ケトン類
(たとえばアセトン)などの水に混和しうる■機俗媒の
溶液として、ハaゲ/化饋乳剤溶液又は、親水性コロイ
ド溶液に副加すればよい。
不発明で用いるヒドラジン誘導体は単独で使用してもよ
く、!、僚類以上併用してもよい、また、上記のヒドラ
ジン誘導体の添加層は、ハロゲン化錯″Aat層でも、
シ<、その他の親水性コロイド層でもよく、さらにハロ
ゲン化鏝乳削層とその他の親水性コロイド+iの両層に
冷加してもよい。
*発明に用いられるテトラゾリウム化合物の好ましいり
11としては、下記−役人(Vi J〜(IX)で示さ
れる化S物が挙げらnる。
一般式〔Yvil〕 一般式じφ■〕 一般式〔■〕 〔式中”15− RIg s 1’19− ’20−几
23 % k 24 %kL25及びkL26はそれぞ
れアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ブOビルJ
A、ドデシル基等)、アリル基、フェニル基(汐すえば
フェニル基、トリル基、ヒトミキシフェニル基、カルボ
キシ7エ二ル基、アミノフェニル基、メルカプトフェニ
ル基、メトキシフェニル基等)、ナフチル基(例えばα
−ナフチル基、β−ナフチル基、ヒドロキシナフチル基
、カルボキシナフチル基、アミノナフチル基等)、及び
複素環基(例えばチアゾリル基、べ/ジチアゾリル基、
オキサシリル基、ピリミジニル基、ピリジル基等)から
娼ばれる基を衣し、これらはいずれも金属キレートある
いは錯体全形成するような、基でもよい。I尤】7、R
21&び几22はそれぞれアリル基、フェニル基、ナフ
チル基、複累環丞、アルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、メルカプトメチル基、メ
ルカプトエチル基等)、水1冒基、アルキルフェニル基
、アルコキンフェニル基、カルボニル基またはその」亀
、カルボキンアルキル基(例えばメトキシカルボニル基
、エトキシカルボニル基)、アミノ基(例えはアミ7基
、エチルアミン基、アニリノ基等)、メルカプト基、二
ha基及び水系原子から選ぼrしる基全表し、Dは2価
の芳香族基全表し、Iシはアルキレン基、アリレン基、
アラルアルキレン基から選ばれる基を災し、Xeはアニ
オン′に表しnは/−または!を表す。ただし化合1勿
が分子内塩を形成する場合nは/である。]次に本発明
にiiZ用−J rしる子トラゾリワム化合物のカチオ
ン部分の具体例ケ示すが、本発明に用いることのできる
化@物のカチオン部分は必ずしもこれらに限定されるも
のではない。
(i>  i−<べ/ゾチアゾールー!−イル)−3−
フェニル−j−ドデシル−,2H−テトラゾリウム (J)、2.3−ジフェニル−5−(グー1−オクテル
オキンフェニル) −,2)i−テトラゾリウム (3)2,3.!−トリフェニルー、2 H−テトラゾ
リウム (I1)!、3.!−1−リ(p−カルボキシエチルフ
ェニル)−、zt−t−テトラゾリウム(J)、2−(
ペンゾテアソール−一−イル)−3−フェニル−!−(
0−クロルフェニル)−,2H−テトラゾリウム (I,)、2.3−ジフェニル−2H−テトラゾリウム (7)、2.J−ジフェニル−j−メチル−,2H−テ
トラゾリウム (ざ)3−(p−ヒトOキシフェニル)−1−メチル−
2−フェニル−,21」−テトラゾリウム(9)ノ、3
−ジフェニルーj−エチルーノM−テトラゾリウム (I0)2.3−ンフェニルー、5−n−へキシル−,
2月−テトラゾリウム (/1)3−シア/−ノ、3−ジフェニル−1)1−子
トラゾリワム (/、z)ノー(ベンゾチアゾール−2−イル)−1−
フェニル−3−(≠−トリル)−ノ1−1−テトラゾリ
ワム (/3)、2−(ベンゾチアゾール−!−イル)−J−
(+−クロロフェニル)!−(≠−ニトロフェニル) 
−J l−1−テトラゾリウム(/4Z) !;−エト
キシカルボニルー!、3−ジ(3−ニトロフェニル)−
2H−子トラゾリワム(/!;)、5−アセチル−!、
3−ン(p−エトキシフェニル)−2)1−子トラゾリ
ワム (、’I!;)、2 、.5−ジフェニル−3−(p−
トリール)−,2H−テトラゾリウム (/7) J 、 3−ジフェニル−3−(p−ヨード
フェニル)−,2H−子トフゾリウt1 (/ざ) 、i 、 、?−ジフェニルーJ−(p−ジ
フェニル) −21i−テトラゾリウム (/9)j−(p−ブロモフェニル>−,2−フェニル
−J−(2,≠、6−ドリクロルフエニル)−!)1−
テトラゾリウム (20)3−(p−ハイドロキンフェニル)−j−(p
−二トロフェニル)−2−フェニル−2H−テトラゾリ
ウム (,21) !;−(3、≠−ジメトキシフェニル)−
3−(I2−エトキシフェニル)−u−(4’−メトキ
ンフェニル)−,2)1−テトラゾリウム(Q2)J−
(≠−シア/フェニル)−1,J−ジフェニル−!H−
テトラゾリワム (,23)3−(J)−アセトアミドフェニル)−一。
j−ジフェニル−,211−テトラゾリウム(、++)
S−アセチルーコ、3−ジフェニル−j)i−テトラゾ
リウム (,2j)、5−(フルーコイル)−2,3−ジフェニ
ル−211−デトラゾリワム ()A)!;−(ナエンー!イル)−、,2、3−ジフ
ェニル−!H−テトラゾリワム (,27) 、2 、3−ジフェニル−,5−(ビリド
ーグイル)−2H−テトラゾリウム ()g)2.3−ジフェニル−4−(キン−ルーコイル
)−2H−テトラゾリウム (,29)2.3−ジフェニル−J−(ベンゾオキサゾ
ール−コイル)−,2M−テトラゾリウム(30) 、
2 、3−ジフェニル−3−ニドo −2)i −テト
ラゾリウム (31) r 、2’  、 3.、3’−テトラフェ
ニル−j。
J’ −/ 、4Z−ブチレン−ジー(2)i−テトラ
ゾリウム) (3))!、、2’  、3.3’−テトラフェニル−
j。
j’−p−フエ二し/−ジー(211−テトラゾリウム
) <33) J−(ta 、 3−ジメチルチアゾール−
コイル)−3,J−ジフェニル−2)1−テトラゾリウ
ム (3ダ)3.j−ジフェニル−!−(トリアジン−2イ
ル)−ノ■1−テトラシリ9ム (J、5)、2−(べ/ジチアゾール−2イル)−3−
(クーメトキシフェニル)−j−フェニルーコH−テト
ラゾリワム (jj) J 、 3−ジメトキシフェニル−j−フェ
ニル−,2)i−テトラゾリウム (37)y、3.j−トリス(メトキシフェニル)−j
 l−1−テトラゾリウム (3g) 2 、 j−シメfルフェニルーj−フェニ
ル−1H−テトラゾリウム C39)2.3−ヒト0キシエチル−j−フェニル−,
2)L−子トラゾリワム (&O) J 、 j、ヒドロキシメチル−j−フェニ
ル−211−テトラゾリウム (4(I) j 、 3−シアノヒトaキシフェニル−
j−フェニルーコh−テトラゾリウム (グJ) J 、 3−ジ(p−り0ロフエニル)−j
−フェニル−−H−テトラゾリウム (I)コ、3−ジ(ヒトOキシエトキシフェニル)−j
−フェニルーコf1−テトラゾリワム(qダ)2.3−
ジ(,2−ピリジル)−j−フェニル−,2)i−テト
ラゾリウム (≠3)2,3.3−トリス(2−ピリジル)−λH−
テトラゾリウム (佑!;)J、J、j−トリス(≠−ピリジル)−2H
−テトラゾリウム 本発明に用いられる感光材料に含有されるテトラゾリウ
ム化合物を非拡散性として用いる場合上記カチオン部分
と下記アニオン部分會適宜選択することによって得られ
る非拡散性化合物が用いられる。
本発明に用いられるテトラゾリウム化合物のアニオン部
としては例えば、 塩化物イオン、臭化物イオン、ヨワ化物イオン等のハロ
ゲンイオン、 硫酸、硝牽、過塩素酸等の無機酸の酸基、スルホン酸、
カルボン酸等の有機酸の酸基、p−トルエンスルホン酸
アニオン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン
、 p−ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン等ノ、冑級ア
ルキルベンゼンスルホン酸アニオン、う’71Jルスル
フエートアニオン等の尚級アルキル硫酸エステル了ニオ
ン、 ジー2−エチルへキシルスルフオサクシネートアニオン
等のジアルキルスル7オサクシネートアニオン、 セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等のポリエ
ーテルアルコール硫酸エステルアニオン、ステアリン酸
アニオン等の高級脂肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニ
オン等のポリマーに酸根のついたもの等を挙げることが
できる。
そしてアニオン部分とカチオン部分を適宜選択すること
により本発明に係る非拡散性のテトラゾリウム化合物全
合成することができる。このようにして合成された本発
明に係る化合物は例えば2゜3.3−トリフエニールー
、2H−テトラゾリウム−ジオクチルサクシネートスル
7オン酸塩等であり、夫々の可溶性塩をゼラチンに分散
せしめた後、両者全混合してゼラチンマトリックス中に
分散させる場合と、酸化剤の結晶を純粋に合成してから
、適当な溶媒(例えばジメチルスル7オキシド)に溶か
してからゼラチンマトリックス中に分散させる場合があ
る。分散が均一になりにくいときは超音波とかマント/
ゴーリンホモジナイザーなど適当なホモジナイザーで乳
化分散する方法が好結果を与えることもある。また、ジ
オクチルフタレート等のような高沸点溶媒中に微分散を
し、プロテクト化して親水性コロイド層中に分散するこ
とも可能である。
上記の如く、好ましい化合物を複数組合せて用いること
により、本発明においては特に現像許容幅が広くなる等
の利点を得ることができ、目的に応じて任意に組合せて
用いてもよい。
本発明に用いるテトラゾリヮム化合物は好ましくはハロ
ゲン化銀乳剤を含む親水性コロイド層に含有せしめられ
る。具体的には、ハロゲン化銀乳剤層及び/またはこれ
に直接もしくは間接的に隣接する層に含有せしめられる
。また、本発明に用いるテトラゾリワム化合物は、例え
ば本発明に用いるテトラゾリワム化@物を:1M肖な有
機溶媒に溶解シ、オーバーコート法等により、ハロゲン
化銀写真感光材料の最外部もしくは製造時における最外
部に直接4布して本発明のハロゲン化銀写真感光材料に
含有せしめてもよい。
本発明に用いられるテトラゾリワム化合物は、本発明に
用いるハ0ヶノ化銀写真感元材料中に含有されるハロゲ
ン化銀1モル当り/×10〜jX10 モルの範囲で用
いることが好ましい。
本発明に用いられるハロゲン化銀写真乳剤中のハロゲン
化@は、特に制限はなく塩化銀、塩臭化銀、沃臭化銀等
どの様なハロゲン組成のものでもよい。
ハロゲン化銀乳剤は化学j!a感していても、していな
くとも艮い。化学増感の方法としては硫黄増感、還元増
感及び貴金属増感法が知られており、これら全単独で用
いても又併用して用いてもよい。
好ましい化学増感方法は硫黄増感であり硫黄増感剤とし
ては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物のほか、種々の
硫黄化合物たとえば、チオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダ
ニン類等を用いることができる。具体例としては米国特
許/、J74L2)≠q号、同2.27g2)4A7号
、同2,4t10.乙g9号、同!、71g、66g号
、同3.JO/。
373号、同3.乙J乙2)52号に記載されたもので
ある。
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、主として金洲塩を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、バラジワム、ロジウム等の錯塩全含有しても
差支えない。その具体例は米国特許−、pvy 、ot
o号、英国特許6/ざ。
067号などに記載されている。
還元増感剤としては第−丁ず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。これらの具体例は米国特許2≠f7.130号、
2,57g、69g号、2゜9g3.607号、2.9
g3.A10号、−2A9≠、637号に記載されてい
る。
ハロゲン化像の平均粒子サイズは0.7μm以下である
ことが好ましく待に0.3μm以下が好ましい。平均粒
径とは、ハロゲン化銀写真科学の分野の専門家には常用
されており、容易に理解される用語である。粒径とは粒
子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒子直径を
意味する。粒子が立方体である場合には稜長×、I″−
を粒径とすπ る。平均粒子投影面積にもとすく代数平均又は幾何平均
により求める。平均粒径全求める方法の詳細ニついてハ
、(ミース ジエームス サ セオリー オプ ザ フ
ォトグラフィック プロセスFC,E、MeesとT、
)f、James者:  Thetheory  of
  the  photographicproces
sJ )、第3版、3A 〜4t3貞(/966年、(
マクミラ7 [McmiIJanJ社刊))全参照すれ
ばよい。
ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、平板状、球状
、立方体状、/≠面体状、正八面体、菱/、!面体状そ
の他いずれの形状でもよい。また粒子サイズ分布は狭い
方が好ましく、特に平均粒子サイズの±qO%の粒子サ
イズ域内に全粒子数の90%、望捷しくにり5%が入る
ような、いわゆる単分散乳剤が好ましい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤には、ハロゲン化銀粒
子の形成または、物理熟成の過程において、カドミ9ム
塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリヮム塩、0ジワム塩もしくは
その錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存は
せてもよい。
例えはイリジウム塩もしくはその錯塩を好ましくU#1
モル当#)/ 0−8〜/θ−5モル用いることによっ
て、−層高感度でガンマの高い写真特性が得られる。こ
こで用いられる具体例としては、三塩化イリジウム、l
!fA塩化イリジワム、ヘキサジ00イリジワム(II
)酸カリウム、ヘキサクOロイリジワム(tV)#カリ
ウム、ヘキサクロOイリジワム(ill)llffアン
モニウムなどがある。
またaジウム堪もしくはその錯塩を好ましくは饋1モル
当りIQ−8〜l0−3モル、より好ましくはJXlo
−’〜JX10−4モル用いることによってハ0ゲ/化
銀乳剤全硬調化し画質を向上させることができる。ここ
で用いられる具体的化合物としては、二塩化ロジウム、
三塩化ロジウム、六塩化ロジウム(ill)酸カリウム
、六塩化ロジウム(III ) !アンモニウムなどが
ある。
本発明における可溶性銀塩と可溶性ハロゲン基音反応さ
せる形式としては片側混合法、同時混合法、それらの組
合せなどのいずれを用いてもよい。
粒子を鋏イオン過剰の下において形成させる方法(いわ
ゆる逆混合法)音用いることもできる。
同時混合法の一つの形式としてハロゲン比倫の生成され
る液相中のpAgを一足に保つ方法、すなわちいわゆる
コンドロールド・ダブルジェット法を用いることができ
、この方法によると、結晶形が規則的で粒子サイズが均
一に近いハロゲン化銀乳剤かえられる。
ハロゲン化銀乳剤およびその調製方法につりでは、詳し
くFiREIA几C)i DISCLOUR,E  /
 76巻、Item  1761I3  P、、2.2
〜P、23(lり7f年12月)に記載もしくは引用さ
れた文献に記載されている。
本発明で用いられる感光材料にはフィルター染料として
、あるいはイラジェーション防止その他種々の目的で、
水溶性染料を含有してよい。このような染料にはオキソ
ノール染料、メロシアニン染料、シアニン染料、アゾ染
料及びべ/ジリデン染料(特開昭32−20122、同
jターl!ググ3り、同jター201317g)が包含
される。
中でもオキソノール染料、ヘミオキソノール染料及びメ
ロシアニン染料が有用である。用い得る染料のA体側は
、英l特許sgq、tsoり号、同ハ/77、!−タ号
、!開昭lIt♂−g!/3o号、同4t9−7962
0号、向t19−tilAII20号、米国特許2.2
7ダ、7f−号、向j 、 333 。
447、j号、同λ、936.ざ7り号、同3.lll
1.117号、1町j 、/ 77.071号、同3゜
2ダ7 、/、27号、同3.3ダQ、ざg7号、同3
、j73,7θす号、同j 、 633 2)03号、
同3.7/1.1/−72号に記載されたものである。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤1−その他の親水
性コロイド層に現像時画像の濃度に対応して、現像抑制
剤全放出するハイドロキノン誘導体(いわゆる、DIR
−ハイドロキノン)′jIr含有してもよい。
それらの具体例は米国特許j 、j75’ 、329号
、米国特許3,1,20.7ダ6号、米国特許≠。
377、乙3v号、米国%肝4’ 、332.171号
、特開昭ゲタ−/2?、336号、特開昭j44−67
、μlり号、特開昭!;Is−/j3.331゜号、特
開昭Els−/33.3μ2号、特願昭39−271.
133号、同jタータθ≠3j号、同j9−タ0μ36
号、同39−/3g101号などに記載の化合物を挙げ
ることができる。
本発明に用いられる感光材料には、感度上昇を目的とし
てP#開昭33−32030号第tI3頁〜j3頁に記
載された増感色素(例えはシアニン色素、メ0シアニン
色素など。)會絵加することができる。
用いられる色素には、シアニン色素、メロ’/7二ン色
素、複合シアニン色素、複合メOシアニン色素、ホロポ
ーラ−9フ1フ色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素
およびヘミオキソノール色素が包含される。特に有用な
色素は、シアニン色素、メロシアニフ色素、および複合
メロシアニン色素に属する色素である。これらの色素類
には、塩基性異箇環核としてシアニン色素類に通常利用
される核のいずれをも適用できる。すなわち、ビOリ/
核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、オキ
サゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾ
ール核、テトラゾール核、ピリジン核など:これらの核
に脂環式炭化水素環が融合した核;及びこれらの核に芳
香族炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニン核、
ベンズインドレニン核、インドール核、ベンゾオキサド
ール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、
ナフトチアゾール俵、ベンゾセレナゾール核、ベンゾイ
ミダゾール核、キノリン核などが通用できる。
これらの核は炭素原子上に置換されていてもよい。
メロシアニフ色素または複合メロシアニン色素にはケト
メチレン構造含有する核として、ピラゾリン−3−オン
核、チオヒダントイン核、λ−チオオキサシリシアー、
7.4Z−ジオン核、チアゾリジン−j、lA−ジオン
桜、O−ダニン核、チオバルビッール酸核などの3〜乙
員異節環核を適用することができる。
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増
感の目的でしばしば用いられる。
増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色
素あるいは可視光全実質的に吸収しない物質であって、
強色増感ケ示す物質を乳剤中に宮んでもよい。
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色
増感を示す物質は前述の他にリサーチ・ディスクロージ
ャ(Research  Disclosure )/
76巻/76ダ3(/97g年12月発行)第、23頁
■のA−J項に記載されている。  −ここで、増感色
素等は、写真乳剤の製造工程のいかなる工程に添加させ
て用いることもできるし、製造後塗布直前までのいかな
る段階に添加することもできる。前者の例としては、粒
子形成時、物理熟成時、化学熟成時がある。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブIJ k防止しあるいは写真性
能を安定化させる目的で、糎々の化合物全含有させるこ
とができる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾ
リウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダ
ゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチ
アゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプ
トチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチ
アゾール類、ニドOベンゾトリアゾール類、など;メル
カプトピリミジン類;メルカプトトリアジン類:たとえ
ばオキサゾリンチオンのようなチオ々ト化合物;アザイ
ンデン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイ
ンデン類(時に≠−ヒトaキシ置換C/+3+3a、y
)テトラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;
ベンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベ
ンゼンスルフオン酸アミド、ハイドロキノン誘導体、オ
キシム、アルドキシム類等のようなカプリ防止剤または
安定剤として知られた多くの化合物を加えることができ
る。これらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾ
ール類(例えば、j−メチルベンゾl−IJアゾール)
、ニトロインダゾール類(例えばj−ニドOインダゾー
ル)及びハイドロキノン誘導体(例えばハイドロキノ/
、メチルハイドロキノン)である。1だ、これらの化合
物を処理液に含有させてもよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機またldi機の硬膜剤上含有してよい
。例えばクロム塩(クロムミョウバン、酢酸クロムなど
)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グリオキサール
、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化合物
(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン
など)、ジオキサン誘導体(2,3−ジヒドロキシジオ
キサンなど)、活性ビニル化合物(/、3.J−トリア
クリロイル−へキサヒトo−s−トリアジン、/、3−
ビニルスルホニル−2−プロ/1!ノールなと)、活性
ハロゲン化合物(2,t−ジクaルー6−ヒドロキシ−
5−トリアジンなト)、ムコハaゲン酸9(ムコクロル
酸、ムコフェノキシクロル酸など)、N−カルバモイル
ピリジニワム塩類、ハロアミジニウム塩類などを単独ま
たは1岨み合わせて用いることができる。なかでも、特
開昭33−≠/22/、同33−37.2!;7、同j
ター/A、2j4’&、liJ 60−10 r 4!
 6に記載の活性ビニル化合物および米国特許3.3.
22;、217号に記載の活性ハロゲン化物が好ましい
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増lf&)等櫨々の目的で、種々の
界面活性剤金倉んでもよい。
例エバサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリフールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコ−7のポリエチレンオキサ
イド付加物#i)、グリシドール誘導体(例、tばアル
ケニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポ
リグリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、
糖のアルキルエステルaなどの非イオン性界面活性剤−
アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アル
キルベンゼンスルフオフm塩、アルキルナフタレンスル
フォン酸塩、アルキル硫酸エステル酸、アルキルリン酸
エステル類、N−アシル−N−フルキルタワリン顛、ス
ルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンアルキルリン酸エステル類すどのような、カルボキシ
基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エス
テル基等の敵性基を。
含むアニオン性界面活性剤;アミノ酸類、アミノアルキ
ルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又はリン酸エステ
ル頌、アルキルベタイン類、アミンオキシド類などの両
性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪族あるいは芳
香族q級アンモニウム塩類、ピリジニウム、イミダゾリ
ウムなどの複素環第q級アンモニウム塩類、及び脂肪族
又は複葉環を含むホスホニウム又はスル、ホニウム@類
などのカチオン界面活性剤を用いることができる。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭jざ一9ψ12号公報に記載された分子!600以
上のポリアルキレンオキサイド類である。
ここで4?[防止剤として用いる場合には、フッ素を含
有した界面活性剤(例えば米国特許t、20i 、31
4号、特開昭6o−goざ≠り号)が時に好ましい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に接着防止の目的でシリカ、m化マグネシウ
ム、ポリメチルメタクリレート等のマット剤を含むこと
ができる。
本発明で用いられる感光材料には寸度安定性の改良など
の目的で、水溶性または難溶性合成ポリマーの分散物を
含むことができる。たとえば、アルキル(メタ)アクリ
レート、アルコキシアルキル(メタ)アクリレート、グ
リシジル(メタ)アクリレートなどの単独もしくは組合
せや、またはこれらとアクリル酸、メタアクリル酸など
の組合せを単量体成分とするポリマー全周いることがで
きる。
本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその他
の層には醗基を有する化合物を含有することが好ましい
。酸基含有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、アス
コルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、フ
タル酸の如き酸七/マー全くり返し単位として有するポ
リマー又はコポリマーを挙げることができる。これらの
化合物に関しては特願昭6O−At/79号、同10−
11073号、同1sO−163ざ56号、及び同60
−/m!3号明細書の記載全参考にすることができる。
これらの化合物の中でも轡に好ましいのは、低分子化合
物としてはアスコルビン酸であり、高分子化合物として
はアクリル酸の如き酸モノマーとジビニルベンゼンの如
き2個以上の不飽和基をMする架橋性七ツマ−からなる
コポリマーの水分散性ラテックスである。
#8元材料に用いる結合剤または保霞コロイドとしては
、ゼラチ7’13−用いるのが有利であるが、それ以外
に親水性合成高分子なども用いることができる。ゼラチ
ンとしては、石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、誘導
体ゼラチンなどを用いることもできる。具体的には、リ
サーチ・テイスクO−ジャー()LESE娃CH1)I
SCLO8URE )第176巻、A/7乙113(/
97f年/、2月)の■項に記載されている。
本発明において用いられる感光材料には、ノ10ゲン化
銀乳剤層の他に、表面保護層、中間層、フィルター層、
ハレーション防止層などの親水性コロイドjlJk設け
ることができる。
保護層などにはマット剤として米国特許!、99.2.
10/号、同!、70/ 、、24ZJ号、同j。
/’12.g9グ号、同≠、39A 、70A号に記載
のポリメチルメタクリレートのホモポリマー、メチルメ
タクリレートとメタクリル酸とのコポリマー、デンゾ/
、シリカなどの微粒子(例えば−〜jμm)を用いるこ
とができる。史に前述の界面活性剤も併用しうる。
また表面保櫓j−には、滑り剤として米国特許3゜lI
♂り、376号、同U、O≠7,93gに記載のシリコ
ーン化合物、特公昭36−.23/3り号に記載のコロ
イダルシリカの他にパラフィンワックス、高級脂肪酸エ
ステル、デン粉。
また、親水性コロイド層には、可塑剤としてトリメチロ
ールプロパン、ベンタンジオール、ブタンジオール、エ
チレングリコール、グリセリン等のポリオール類を用い
ることができる。
本発明の感光材料に用いられる支持体は、ポリエチレン
テレフタレート、セルロース、アセテート、ポリカーボ
ネート、ポリスチレン、ボリプOピレンなどの透明また
は不透明合成樹脂フィルム、ポリエチレン樹脂全被覆し
た紙支持体などがあげられる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料を用いて超硬調な写
真特性金得るために用いられる現像液としては、保恒剤
として亜硫酸イオン全充分に(%に0./jモル/β以
上)含んだPQ型あるいはMQ型現像液を用いることが
でき、ヒドラジン誘導体を用いた場合には現像液のpH
は10.j〜72.3の範囲が好ましく、テトラゾリウ
ム化合物を用いる堝@はpH10,0〜//、0の範囲
が好ましい。
不発明に使用する現像液に用いる現像主薬には性別な制
限はないが、良好な網点品質全°得やすい点で、ジヒド
ロキシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロキシ
ベンゼン類と/−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合
せまたはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノー
ル類の組合せが好ましく用いられる。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイド
ロキノン、ノ、3−ジクaロハイドロキノン、2.j−
ジクロロハイドロキノン、!、3−ジブロムハイドaキ
ノン1.2..5−ジメチルハイドロキノンなどがある
が特にハイドロキノンが好ましい。
本発明に用いる/−フェニル−3−ビラソリトン又はそ
の誘導体の現像主薬としては/−フ二二ルー3−ピラゾ
リドン、/−フェニルーク、クージメチール−3−ピラ
ゾリドン、/−フェニル−≠−メチルーμmヒドロキシ
メチル−3−ピラゾリドン、/−フェニルーク、リージ
ヒドロキシメチn、 −3−ヒラゾリドン、l−フェニ
ル−J−、’fシル−−ピラゾリドン、/−p−アミノ
フェニル−≠、J−ジメチルー3−ピラゾリドン、/−
p−トリル−U、4t−ジメチル−3−ピラゾリドン、
/−p−トリル−≠−メチルー≠−ヒドロキシメチル−
3−ピラゾリドンなどがある。
本発明に用いるp−アミ/フェノール系現像主薬として
はN−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミンフ
ェノール、N−(p−ヒトCキシフェニル)グリシン、
2−メチル−p−アミンフェノール、p−ベンジルアミ
ノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−p−ア
ミノフェノールが好せしい。
現像主薬は通常0.0jモル/f!、〜0.Iモル/1
の量で用いられるのが好ましい。またジヒドaキシベン
ゼン類と/−7エニルー3−ピラゾリドンか又はp・ア
ミノ・フェノール類との組合せを用いる場合には前者k
O,OJモルフp、−o 。
jモル/X、後者kO,OAモル/L以下の量で用いる
のが好ましい。
本発明に用いる亜硫M塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リテヮム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩Fio、isモル/1以上、特に0.3モル/L以
上が好ましい。また上限はJ、3モル/1まで、とする
のが好ましい。
本発明に用いられる現像液中には、現像コントロール剤
として、j−ニド0インダゾール等のインダゾール系化
合物、jニトロベンズイミダゾール等のベンズイミダゾ
ール系化合物およびj−メチルベンゾトリアゾール等の
トリアゾール系化合物のいずれかを含Mする。これらの
化合物はjxlo−5〜jXIO−モル/1の範囲で用
いるのが好ましい。
pHの設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三りン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、ケイ酸
ナトリウム、ケイ酸カリウムの如きpn調節剤や緩衝剤
を含む。
上記成分以外に用いられる添加剤としてはホウ酸、ホワ
砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化
カリウムの1口き現像抑制剤:エチレングリコール、ジ
エチレンクリコール、トリエチレングリコール、ジメチ
ルホルムアミド、メチルセロソルフ、ヘキシレングリコ
ール、エタノール、メタノールの如き何機溶剤:l−フ
ェニル−j−メルカプトテトラゾール、−一メルカブト
ベンツイミダゾールーj−スルホン酸ナトリウム塩等の
メルカプト系化合物、などのカプリ防止剤又は黒ボッ(
black  pepper)防止剤二を含んでもよく
、更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬水
軟化剤、硬膜剤、特開昭Els−10124(4を号記
載のアミノ化合物などを含んでもよい。
本発明に用いられる現像液には、俵汚れ防止剤として特
願昭56−)μ3μ7号に記載の化合物、現像ムラ防止
剤として%願昭1./−JAI、29号に記載の化合物
、溶解助剤として特願昭6o−io97≠3号に記載の
化合物を用いることができる。
本発明に用いられる現像液には、緩衝剤として%願昭6
/ −J I ’/ OIfに記載のホウ酸、特開昭6
0−93≠33に記載の糖類(例えばサツカロ−ス) 
% t *シム類(例えば、アセトオキシム)、フェノ
ール類(例、tは、j−スルホサルチル酸)、第3リン
酸塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩)などが用いら
れる。
本発明に係るハロゲン化銀感光材料は植々の条件で処理
することができる。現1象処理温度はlざ℃から30℃
が好ましく、現像処理時間1d13〜60秒が好ましい
以下に実施例を示し本発明を具体的に説明する。
実施例−ノ 硝#銀水溶液と、銀1モルあたりj X / 0−6モ
ルの六塩化aジウム(III)酸アンモニウムを含む塩
化ナトリウム水溶液をダブルジェット法により、p)1
.2 、3に調整したμO℃のゼラチン水溶液中で混合
し、平均粒子サイズ0./、3ミクロンの単分散塩化銀
乳剤全作った。粒子形成終了後温度を30℃に下げて、
当業界でよく知られている70キユレーシヨン法により
可溶性塩類を除去した。
脱塩後ゼラチンを加え化学熟成はせずに、安定剤として
、kiモルあたりダーヒドロキシ−6−メチルー/+j
+Jat7−チトラザインデンをjxlo モル、/−
フェニル−j−メルカプトテトラゾール1(sxio−
’モル、ヒドラジン誘導体としてVl−,2sytr×
to−3モル染料化合物(alを6 X / 0−3モ
ル、ポリマーラテックスとして%公昭113−3331
号の製造処方3Ve記載のポリエチルアクリレート化合
物をioy、硬膜剤として/、3−ジビニルスルホニル
−2−プロハノール’f:2XIO−モルヲ象加して、
ポリエチレンテレフタレート支持体(ilさ)00μ)
上に銀量がlrr?あたり3 、39 (乳剤層のゼラ
チンは/、6り)となるように塗布した。さらにその上
層に保獲層として、/−あたりゼラチンi、、2yシリ
カマット剤(平均粒a!!≠μ)jO■となるように塗
布した。
染料化合物(a) なお乳剤I―、保護層の塗布助剤としてはp−ドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウムtl用した。
一方上記乳剤および保を隻+m2塗布したポリエチレン
テレフタレート支持体の裏面層には下記(I)〜輔の処
方で示される3棟類のバック層全塗布し、試料(A)、
(B)、CC)を作成した。
化合物(b) (化合物例!−7) 染料化@物(C) 染料化合物り 得られた(A) (B) (C)の各試料に、ステツブ
ワエッジと50%の網点面積をもつ網点原稿を密着させ
、富士写真フィルム社製FPA−400型プリンターに
て露光し、下記現像液処方(I)の現像液を富士写真フ
ィルム社製自動現像機FG−660Fに入れて3g”C
,20秒の現像時間で処理した。
現像液処方(I) ハイド0キノン          jo、oyへ−メ
テルーp−アミ/フェ ノール//J硫#R塩       0.37水酸化ナ
トリウム        /ざ、0りj−スルホサリチ
ル酸      ss、oyトルエンスルホン酸ナトリ
ウム   r、oy亜硫酸カリウム         
  /10Fエチレンジアミン四酢酸二ナト リワム              /、Of臭化カリ
ワム          10.0りj−メチルベンゾ
トリアゾール   o、uyn−ブチルジェタノールア
ミン    /39コーメルカブトベンゾイミダゾール ーj−スルホン酸        0.313−(j−
メルカプトテトラゾール) べ/ゼンスルホン酸ナトリウム  o、#2y水會加え
て           upto/1(水rfIIf
ヒカリワムで  pH=//、Aとスル)また上gt 
(A )の試P)を、1日あ友り大全サイズ(!;0.
gxA/m)で≠0枚現稼し、7日あたり現像液処方(
I)の現像液と水金それぞれ2゜32と0.3Aづつ加
えて1.2週間継続的にランニング処理した。試料は全
面積の50%が#i像により黒化するような露′It、
を与えて現像処理した。
試料uj)、(C)についても同様のう/ニング処理を
行なった。
試料(A)および(B)、((、:)でランニング処理
して得られた3棟類の埃像液金用いて新液と同様の4元
を与えた後各試料全現像処理して写真特性全求めた。
イ4jられた結果′l!:表7に示した。
感材の裏面J?Rj−メチルベンゾトリアゾールを添加
した試料(B)では試料(A)と同様にランニング後の
かえし露光をするときの感度変化が大きいのに対して、
本発明の試料<C)ではランニングしても新液の性能を
維持している。
またランニング液の分析を行なったところ、(A)、(
b)のランニング液fl j−メチルベンゾトリアゾー
ルが減少しているのに対して、(e)のう/ニングでは
j−メチルベンゾトリアゾールの盪が維持されているこ
とがわかる。
実施例λ 試料C0Be層に象加した化合物(blのかわりに、1
−/+およびI−/gkm加したサンプル金作成して実
施f!/11 /と同様の試験を行なつ友ところ、実施
例/の試料Cとほぼ同様の良好なランニング処理結果が
得られた。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書 1、事件の表示    昭和t3年特願第73り903
号2、発明の名称  ハロゲン化銀写真感光材料3、補
正をする者 事件との関係       特許出願人件 所  神奈
川県南足柄市中沼210番地名 称(520)富士写真
フィルム株式会社連絡先 〒10(I東京都港区西麻布
2丁目26番30号4、  ?11i正の対象  明細
書の「発明の詳細な説明」の欄 5.4正の内容 明細催の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通り
補正する。
l)第io頁l参行目の [環開製kJ?f− 「環開裂t」 と補正する。
2)第1/頁7行目の 「結合して、」を 「結合している」 と補正する。
3)第1/頁り行目の 「・・・・・・・・・す。」の後に 「Eで表わされる化脅物の具体的なものt下記に示す。
」 r挿入する。
4)第1り頁/μ行目の 「ベンゾシクロヘプテノ」t 「ベンゾシクロヘプテノ」 と補正する。
5)第一27頁併行目の 「その類縁」を 「その類縁」 と補正する。
6)第参参頁7行目の 「−牧夫(■)」を 「−役人(■)」 と補正する。
7)第56頁下から73行目の [式中R1s r Rta Jを 「式中R16・RlB」 と補正する。
8)第62頁を行目の 「ロロイリジウム(II)rllカリウム」を「ロロイ
リジウム<m>rsカリウム」と補正する。
9)第rわI行目の 「デン粉り拳榛柘E 「デン粉を用いることができる。」 を挿入する。
lO)第21頁の染料化合物(C)の構造式を[ 」 と補正する。
11)第23頁/行目の 「ベンゾイミダゾール」を 「ベンズイミダゾール」 と補正する。
12)第23貢λO行目の 「!1面層」の後に 「に」 を挿入する。
lS)第P4C頁λ行目の 「をするとき」を 「し友とき」 と補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を
    有するハロゲン化銀写真感光材料において、その感光材
    料の支持体裏面層に下記一般式( I )で表わされるブ
    ロックされたインダゾール系化合物、ベンズイミダゾー
    ル系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物を含有するこ
    とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式( I ) C_A−D 式中C_Aは現像処理時にインダゾール系化合物、ベン
    ズイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物
    を放出可能なブロック基を表わし、Dはヘテロ原子を介
    して結合しているインダゾール系化合物、ベンズイミダ
    ゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物を表わす
    。 2)ハロゲン化銀乳剤層またはその他の親水性コロイド
    層中に、ヒドラジン誘導体およびテトラゾリウム化合物
    の少なくとも1種類を含有していることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料
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