JPH0128676Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、透光性ガラス板に遮光性薄膜を被着
したフオトマスク基板や、半導体基板に半導体酸
化物を被着したものにそれぞれフオトレジストを
塗布した後、そのフオトレジストを所定のパター
ンで露光されたこれ等基板のパターン形成工程に
おける現像工程、エツチング工程等に使用される
スプレー装置に係り、特に基板サイズの変更に拘
わらず基板表面全体に噴出液を均一にゆきわたら
せることができ、また基板サイズの変更に対して
容易に対応し得るように支持具を改良したスプレ
ー装置に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、この種のスプレー装置は、第８図〜第１
０図に示すように基板１の各種サイズ（例えば、
６，５，４及び３インチ）に応じて、その４隅を
支持する支持具２を備えている。すなわち、この
支持具２は、最も大きい基板１の端面との当接面
３とその底面部分が載置される載置面４とを以つ
て６インチ用の支持部を構成し、基板サイズが小
さくなるに従つて、当接面５と載置面６、当接面
７と載置面８および当接面９と載置面１０とから
なる支持部を階段状に深くなるように形成してい
る。そして、支持具２は回転軸１１に連結具１２
を介して取付けられ、モータ（図示せず）の駆動
によつて定速回転（現像、エツチング時：100〜
500r.p.m）され、この回転している状態でチヤン
バー１３の天井に設置された噴出孔１４から現像
液またはエツチング液等の噴出液１５が基板１に
向けて噴射される。その際、噴出液１５は、基板
１の静止時において、例えば第９図破線で示すよ
うに基板１の対角線方向に向つて両弧によつて形
成された略凸レンズ形状の被噴出領域１６（被噴
出領域１６の中心は回転中心軸ｌと一致してい
る）内に分布し、基板１の回転により噴出液１５
が該基板１の表面全体に均一にゆきわたるように
している。

〔考案が解決しようとする問題点〕

しかしながら、このような従来のスプレー装置
においては、基板１のサイズを変えて、例えば第
８図に示すように最も小さな基板１′を設置した
場合、支持具２の構造上設置位置が高さ方向で異
なるため、噴出孔１４を最も大きな基板１の中心
に指向させておいても小さな基板１′に対しては
その中心に指向せず、被噴出領域１６の中心軸が
回転中心軸ｌよりΔlだけずれてしまうことから、
基板１′を回転させても噴出液１５を基板１′の表
面全体に均一にゆきわたらせることができず、こ
れを原因として基板１′のパターン形成工程にお
いて、均一な線幅のパターンを形成することがで
きなかつた。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案に係るスプレー装置は上述したような問
題点を解決すべくなされたもので、チヤンバー内
に配設され駆動装置によつて回転される支持具上
に基板を設置し、噴出孔から前記基板に向けて噴
出液を噴射するスプレー装置において前記支持具
がその長手方向中央を回転中心とする少なくとも
１本の支持棒とこの支持棒に取付けられ前記基板
の端面部分に当接しかつ該端面近傍の底面部分を
支持する一対のホルダとからなり、前記支持棒に
は前記基板の各種サイズに応じてそれぞれ一対か
らなる係合部が複数個前記回転中心を中心として
左右対称な位置に設けられ、前記一対のホルダを
前記基板のサイズに対応する前記１対の係合部に
それぞれ着脱自在に取付けるようにしたものであ
る。

〔作用〕

本考案においては基板サイズの変更に対して容
易にかつ迅速に対応し得、また各種基板サイズの
基板表面全体に噴出液を均一に塗布させることが
できる。

〔実施例〕

以下本考案をフオトマスク基板の現像工程にお
いて使用する場合の実施例を挙げて詳細に説明す
る。

第１図は本考案の特徴である支持具の一部分解
斜視図、第２図および第３図はそれぞれ支持棒の
要部側面図、第４図は支持具の要部底面図、第５
図はホルダの第１図−線拡大断面図である。
なお、支持具を除くスプレー装置の他の構造は、
第８図に示した従来装置と同一であるため、その
説明は省略する。

また、本例の基板１は、石英ガラス板にクロ膜
（膜厚：800Å）を被着し、その上にフオトレジス
ト（米国Hoechst社製AZ1350、膜厚：4000Å）
を塗布し、このレジストに対して所定のパターン
の露光（露光量60mJ／cm²、水銀ランプ）が行な
われており、この基板に対してフオトレジスト液
が本発明のスプレー装置によつて噴射される。な
お、現像工程に限らず噴出液を変更すればエツチ
ング工程、洗浄工程、フオトレジストの塗布工程
にも使用できることは云うまでもない。

さて、第１図に示すように回転軸１１に連結具
１２を介して配設される支持具２０は、耐薬品
性、耐食性に優れた材料、例えばテフロン（商標
名）によつて同一長さおよび幅の角棒状に形成さ
れその長手方向中央において互いに直交する如く
かつ表面が同一平面を形成する如く一体的に結合
された２本の支持棒２１，２２と、各支持棒２
１，２２にそれぞれ一対づつ向い合わせに取付け
られる合計４個の同一形状をなすホルダ２３，２
３Ａ〜２３Ｄとを備えている。

一方、支持棒２１の下面中央には前記連結具１
２の鍔１２Ａの直径とほぼ同一の長さを有する凹
部２４（第２図参照）が形成され、さらにこの凹
部２４の底面中央には該支持棒２１の幅とほぼ同
一の長さを有する凹部２５が形成されている。一
方、他方の支持棒２２の表面中央には第３図に示
すように該支持棒２２の幅とほぼ同一の長さを有
する凹部２６が形成され、下面中央には前記鍔１
２Ａの直径とほゞ同一の長さを有する凹部２７が
形成されている。支持棒２１，２２の中央を直交
した状態で互いに重ね合わせて凹部２５に支持棒
２２を嵌合させ、凹部２６に支持棒２１を嵌合さ
せると、支持棒２１と２２が組手結合によつて一
体的に結合され、これによつて支持棒２１，２２
の表面が同一平面を形成する。また、支持棒２
１，２２の中央部を前記鍔１２Ａ上に載せ、該鍔
１２Ａを前記凹部２４，２７に嵌合させると、こ
れら支持棒２１，２２の回転中心が回転軸１１の
中心と一致する。そして、各支持棒２１，２２は
第４図に示すようにそれぞれ一対の止めねじ２８
（ステンレス製）によつて前記鍔１２Ａ上に固定
されている。この止めねじ２８の頭部は、噴出液
による腐蝕を防止するためテフロンによつてコー
テイングされている。なお、第２図、第３図にお
いて２９は止めねじ２８の取付用孔である。ま
た、各凹部２４，２７の両側壁ａ，ｂ，ｃ，ｄは
第４図に示すようにその中央において前記鍔１２
Ａの周面と線接触している。

前記各支持棒２１，２２にはそれぞれ一対から
なる係合部３１ａと３１ｂ，３１ｃと３１ｄ，３
１ｅと３１ｆ，３１ｇと３１ｈ，３１ｉと３１
ｊ，３２ａと３２ｂ，３２ｃと３２ｄ，３２ｅと
３２ｆ，３２ｇと３２ｈ，３２ｉと３２ｊが、該
支持棒２１，２２の回転中心を中心として対称な
位置にそれぞれ形成されている。これらの係合部
３１ａと３１ｂ，３１ｃと３１ｄ……３２ｆは、
それぞれ基板１の各サイズに対応して形成される
もので、各支持棒２１，２２の両側面に、該支持
棒の長手方向に所定の間隔をおいて形成された同
一長さおよび同一深さを有しかつ支持棒２１，２
２の高さ方向全長に亘る溝からなり、最も回転中
心に近い係合部３１ａと３１ｂ，３２ａと３２ｂ
が３インチ基板用で、回転中心から順次遠くなる
にしたがつて４インチ、５インチ、６インチおよ
び７インチ基板用の係合部を構成している。この
ため、各支持棒２１，２２の両端部両側面は略櫛
歯状を呈している。

なお、各支持棒２１，２２の中央部、すなわち
鍔１２Ａ上に固定される部分より係合部３１ａ，
３１ｂ……３２ｆが形成される両端部の高さを大
きくすると共に凹部２４と係合部２１ａ，２１ｂ
および凹部２７と係合部２２ａ，２２ｂとの間
に、鍔１２Ａの周面に沿つて下方に突出する凸部
３５〜３８を設けた理由は、前記両端部に上下方
向の応力に対して十分対向できる強度を持たせ、
たわみ、折損事故等を防止するためである。

前記ホルダ２３，２３Ａ〜２３Ｄは支持棒２
１，２２と同様テフロン等によつて製作され、第
１図および第５図に示すように略凹形の本体４０
と、この本体４０の下面両側部にそれぞれ一体に
垂設されて互いに対向する一対の弾性係合片４
１，４２を有し、各弾性係合片４１，４２の内側
面下部には略三角柱状の係合爪４３，４４がそれ
ぞれ一体に突設されている。これら係合爪４３，
４４の上端はほぼ水平で、該上端より前記本体４
０の下面までの寸法ｈは、前記各支持棒２１，２
２の両端部の高さＨとほぼ等しいか若干大きく設
定（ｈ≧Ｈ）されている。また、弾性係合片４１
と４２の内側面間の間隔Ｗは、前記各係合部３１
ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ……３２ｆの幅W₀
とほぼ等しいかもしくは若干大きく（Ｗ≧W₀）
設定されている。そして、各弾性係合片４１，４
２の幅W₁は、各係合部３１ａ，３１ｂ……３２
ｆの幅（溝幅）W₂とほぼ等しいか若干小さく
（W₂≧W₁）設定されている。

前記本体４０は平板状の基部４０Ａと、この基
部４０Ａの表面両側部に突設された左右一対の側
壁４０Ｂ，４０Ｃとを備え、各側壁４０Ｂ，４０
Ｃの一端にそれぞれ前記基板１の隅部の端面部分
と当接する当接面５０，５１と、その底面部分が
載置される載置面５２，５３が形成されている。
前記当接面５０と５１は、ほぼ垂直でホルダ２３
の中心線に対してそれぞれ略45度傾斜し、その延
長面が互いに90゜で直交する如く略ハの字形に形
成されている。前記載置面５２，５３は、前記当
接面５０，５１の下端に連続してほぼ水平に、か
つ前記基部４０Ａの表面より一段高い位置に形成
されている。前記各載置面５２，５３から側壁４
０Ｂ，４０Ｃ上面までの寸法、換言すれば当接面
５０，５１の高さh₁は前記基板１の板厚h₂とほぼ
等しいかもしくは小さく（h₂≧h₁）設定されてい
る。前記基部４０Ａはその表面が第５図に示すよ
うに適宜角度で傾斜する斜面に形成されることに
より、前記当接面５０，５１および載置面５２，
５３が形成された回転中心側の端部の厚みT₁が
反対側の厚みT₂より大きく（T₁＞T₂）設定され
ている。

このような構成からなる支持具２０において、
各支持棒２１，２２の係合部３１ａと３１ｂ，３
１ｃと３１ｄ……３２ｊは基板１のサイズに応じ
て選定され、その選定された係合部に４つのホル
ダ２３Ａ〜２３Ｄが上方より着脱自在に嵌合され
る。この場合、第１図は５インチの基板１を設置
した例を示しており、そのため５インチ用の係合
部３１ｅ，３１ｆ，３２ｅ，３２ｆが選定され、
これらの係合部に対して前記各ホルダ２３Ａ〜２
３Ｄが、当接面５０，５１載置面５２，５３を互
いに対向するよう内側に向けて取付けられる。そ
して、基板１の対角線上の４隅を各ホルダ２３Ａ
〜２３Ｄに載せると、各隅部の端面部分が前記当
接面５０，５１に当接し、かつ前記端面近傍の底
面部分が前記載置面５２，５３上に載置される。

この場合、前記各ホルダ２３Ａ〜２３Ｄは弾性
係合片４１，４２の外側方向への弾性変形によつ
て対応する係合部３１ｅ，３１ｆ，３２ｅ，３２
ｆに係合され、係合爪４３，４４が支持棒２１，
２２の下面に係合することにより上方への抜けを
防止される。また、回転時の遠心力による外側方
向への移動は、当該係合部３１ｅ，３１ｆ，３２
ｅ，３２ｆと、６インチ用の係合部３１ｇ，３１
ｈ，３２ｇ，３２ｈとの間に設けられている突条
部５５によつて規制防止される。一方、左右方向
に対しては、前記寸法ＷとW₀の関係をW₀＜Ｗ≦
W₀＋２（mm）に設定することにより若干の移動を
許容されている。これは、基板１を支持具２０上
に設置する際、その対角線を各支持棒２１，２２
の中心線と一致させた状態で下げていくことが困
難で、若干の回転を伴うため、これを吸収し各ホ
ルダ２３Ａ〜２３Ｄによる４隅の保持を容易にす
るためであり、また取付時における基板のなじみ
をよくしなめらかに取付け得るようにするために
有効とされる。

かくしてこのような支持具２０によれば、各種
サイズの基板を支持した場合、その中心を回転軸
１１の中心と一致させて回転し、かつ基板サイズ
の異なる基板を同一平面上（同一の程度は各種サ
イズの基板の厚さ寸法差以内であり、通常１mm以
内である。）に設置することができるため、噴出
孔が各種サイズの基板の中心を常に指向し、した
がつて噴出液を基板１の表面全体に均一にゆきわ
たらせることができる。

また、ホルダ２３，２３Ａ〜２３Ｄは一対の弾
性係合片４１，４２によつて各支持棒２１，２２
の係合部３１ａ，３１ｂ……３２ｊにそれぞれ着
脱自在に取付けられるだけで、止めねじ等によつ
ては固定されないため、基板１のサイズ変更に伴
うホルダ２３の取付位置の変更が簡単で短時間に
行え、取扱い性さらには装置の稼動率を向上させ
る。

また、当接面５０，５１の高さh₁を基板１の厚
みh₂より小さく設定すると、基板１の各隅部表面
上の噴出液を当接面５０，５１によつて阻止する
ことがなく、遠心力によつて良好に飛ばすことが
できる。すなわち、仮りにh₁＞h₂とすると、当接
面５０，５１が基板１の表面より上方に突出され
るため、この突出部に噴出液が当つて滞溜し、遠
心力によつては飛ばされないことから、噴出液の
膜厚が不均一になる虞れがあるが、本実施例にお
いてはh₁＜h₂に設定しているので、このような不
具合を防止できる。但し、h₁＝h₂であつても同一
の効果が得られることは勿論である。

また、載置面５２，５３を基部４０Ａより一段
高くし、その表面積を小さくしているので、基板
１の隅部裏面にまわり込む噴出液の量を少なくす
ることができる。また、前記基部４０Ａの表面を
斜面としているので、該表面上に落下した噴出液
が流れ易く、早く吹き飛ばすことができる。

第６図および第７図はホルダの他の実施例を示
す斜視図および平面図である。このホルダ６０は
円盤状の基板１に対して使用されるもので、基板
１の周面が当接する当接面６１，６２をホルダ６
０の中心線とほぼ直交する垂直面にすると共にこ
の当接面６１，６２の下端に設けられ基板１の周
縁部底面が載置される載置面６３，６４を各側壁
６５，６６の全幅に亘つて形成した点が上述した
方形基板用のホルダ２３と異なるだけで、他の構
成部分、寸法等は大略同じである。この場合、基
板１の周面は、各当接面６１，６２の内側端縁６
７，６８に当接する。

なお、上記実施例は十字状に交差する２本の支
持棒２１，２２と４個のホルダ２３を使用した場
合について説明したが、本考案はこれに何ら限定
されるものではなく、基板サイズ、ホルダ２３，
６０の幅寸法、支持具２０自体の回転数等によつ
ては１本の支持棒と２個のホルダで基板を支持す
ることも可能である。

また、上記実施例はこの弾性係合片４１，４２
によりホルダ２３，６０を支持棒２１，２２の上
方から係合させるようにしたが、側方からの係合
も可能で、その場合にはホルダ本体の下面一側に
略Ｌ字形をなす１つの弾性係合片を一体に設けれ
ばよい。

また、ホルダ２３，２６の側壁４０Ｂ，４０
Ｃ，６５，６６の上面を基部４０Ａと同様に傾斜
させ、回転中心側の高さを高くし、外側の高さを
低くすると、これら側壁４０Ｂ，４０Ｃ上に付い
た噴出液を早く飛ばすことができる。

〔考案の効果〕

以上説明したように本考案に係るスプレー装置
によれば、支持棒に対してホルダを着脱自在に取
付けているので、基板サイズの変更に対して容易
にかつ迅速に対応でき、取扱い性および稼動率を
向上させることができる。また、基板サイズを変
えて支持しても、何れの基板も同一平面に設置さ
れるため、噴出液を基板の表面全体に均一に塗布
することができ、特にレジスト露光後の現像、エ
ツチング、洗浄の一連の各工程において使用した
場合、均一な線幅のパターンを形成することがで
きるなど、その実用的効果は非常に大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係るスプレー装置の支持具を
示す一部分解斜視図、第２図および第３図はそれ
ぞれ支持棒の要部側面図、第４図は支持具の要部
底面図、第５図はホルダの第１図−線拡大断
面図、第６図および第７図は円盤状の基板に対し
て使用されるホルダの斜視図および平面図、第８
図〜第１０図は従来のスプレー装置を示し、第８
図は全体構成図、第９図は支持具に基板を設置し
た状態の平面図、第１０図は支持具の平面図であ
る。 １……基板、１３……チヤンバー、１４……噴
出孔、１５……噴出液、２０……支持具、２１，
２２……支持棒、２３，２３Ａ〜２３Ｄ……ホル
ダ、３１ａ〜３１ｊ，３２ａ〜３２ｊ……係合
部、４０……本体、４１，４２……弾性係合片、
５０，５１……当接面、５２，５３……載置面。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. チヤンバー内に配設され駆動装置によつて回転
   される支持具上に基板を設置し、前記チヤンバー
   内に設けた噴出孔から前記基板に向けて噴出液を
   噴射し、前記支持具の回転により噴出液を前記基
   板の表面全体にほぼ均一にゆきわたらせるスプレ
   ー装置において、前記支持具は、その長手方向中
   央を回転中心とする少なくとも１本の支持棒と、
   この支持棒に取付けられる一対のホルダを備え、
   前記支持棒には前記基板の各種サイズに応じてそ
   れぞれ１対からなる係合部が複数個前記回転中心
   を中心として左右対称な位置に形成され、前記１
   対のホルダは前記基板のサイズに対応する前記１
   対の係合部にそれぞれ着脱自在に取付けられるこ
   とにより前記支持棒の長手方向における前記基板
   の端面部分に当接しかつ該端面近傍の底面部分を
   支持することを特徴とするスプレー装置。