JPH01245101A - インダクタンス形変位センサ - Google Patents

インダクタンス形変位センサ

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JPH01245101A
JPH01245101A JP7186888A JP7186888A JPH01245101A JP H01245101 A JPH01245101 A JP H01245101A JP 7186888 A JP7186888 A JP 7186888A JP 7186888 A JP7186888 A JP 7186888A JP H01245101 A JPH01245101 A JP H01245101A
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JP
Japan
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measured
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good conductor
magnetic
layer
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JP7186888A
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Yuji Shirao
白尾 祐司
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Ebara Research Co Ltd
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Ebara Research Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は磁気軸受等において被浮上物体、例えば軸の半
径方向位置等を制御するための変位センサに関し、特に
被浮上物体の基準位置からの変位に伴い生ずるインダク
タンスの変化を検出することにより被測定物である被浮
上物体の変位を検出するインダクタンス形変位センナに
関する。
[従来の技術] 縦断面図である第4A図および横断面図である第4B図
において全体を符@1で示す従来のインダクタンス形変
位センサは、コイル2とコア3とから概略構成されてい
る。そして、符号4で示す軸等の被測定物が変位すると
そこからコア3までの距離gが変化してインダクタンス
も変化するので、その変化Mから被測定物4の変位置を
検出するようになっている。
[発明が解決しようとする課題] しかし、磁気軸受においては、変位センサは、通常、制
御コイルやモータ(図示せず)の近傍に配置される。そ
のため、これ等のコイルやモータから発生する磁気的な
ノイズがインダクタンスの検出に悪影響を及ぼして、変
位センナによる変位検出結果に誤差が発生してしまうと
いう問題点がある。特に、図中符号Ml  、M2  
で示すような漏洩磁束はシールド(遮蔽)が困難であり
、インダクタンス形変位セン勺1による変位検出に悪影
響を及ぼしていた。
このような漏洩磁束をシールドするため、変位センサを
磁性体で包囲することによってシールドを行う技術が提
案されている。しかし、磁性体のみでシールドする場合
には、低周波の磁束をシ−ルドすることができても高周
波数の磁束はシールドできない。そのため、高周波の漏
洩磁束により変位センサが誤作動するという問題点があ
った。
本発明は上記した従来技術の問題点に鑑みて提案された
ものであり、制御コイルやモータ等から発生する磁気的
ノイズの影響を減少させて、被測定物の変位を正確に検
出することができるインダクタンス形変位センサを提供
することを目的としている。
[課題を解決するための手段] 発明者は、高周波の磁束に対して良導体で包囲した場合
には、良導体内に発生する渦電流によりその磁束密度を
減少させることができることに着目した。
本発明のインダクタンス形変位センサは、磁性体より成
る層および良導体より成る層を有する遮蔽壁によって、
被測定物と対向する面以外を包囲されている。
本発明の実施に際して、変位センサと対向する面を除き
、前記遮蔽壁により被測定物を包囲しても良い。
また、前記遮蔽壁は、磁性体より成る層および良導体よ
り成る層を、それぞれ複数層設けても良い。
なお、磁性体としては例えば磁性軟鉄、ケイ素鋼板、ア
モルファス合金等が好ましく、良導体としては金、白金
、銅、アルミニウム等が好ましい。
[作用] 上記したような構成を有する本発明のインダクタンス形
変位センサによれば、制御コイルやモータ等からの磁気
的ノイズのうち、低周波の磁束線は遮蔽壁の磁性体より
成る層によってシールドされ、一方、高周波の磁束線は
遮蔽壁中の良導体より成る層中でその高周波の磁束線を
阻止する方向に渦電流が発生することによりシールドさ
れる。
そのため、遮蔽壁によって包囲されているインダクタン
ス形変位センナは、制御コイルモータ等から発生する漏
洩磁束から何ら影響を受けることなく、インダクタンス
の変化すなわち被測定物(軸等)の変位を正確に検出す
ることができる。これにより、本発明のインダクタンス
形変位センサを使用した磁気軸受では、高精度の位置制
御と安定化制御が可能となる。
また、被測定物も遮蔽壁で包囲して、あるいは遮蔽壁中
の磁性体より成る層および良導体より成る層を複数層形
成すれば、漏洩磁束に対するシールド性能がより向上す
るのである。
なお、変位センサと被測定物との間には遮蔽壁を設けて
いないが、これは被測定物の変位に対応してインダクタ
ンスが変化することを保証するためである。
[実施例] 以下第1八図ないし第3B図を参照して、本発明の実施
例について説明する。
第1A図および第1B図はそれぞれ本発明の第1実施例
の縦断面図および横断面図である。図中、全体を符号1
0で示すインダクタンス形変位センサは、コイル12、
コア14および遮蔽壁16より概略構成されている。そ
して遮蔽壁16は、磁性体より成る層(磁性体層)18
と良導体より成る層(良導体層)20とを有している。
この遮蔽壁16は、センサ10が被測定物22と対向す
る箇所(空隙部)24には形成されていないが、その他
の部分は全て包囲している。
作動に際して、図示しない制御コイルや王−タ等から発
生する磁束線のうち、低周波のものは磁性体層18によ
ってシールドされ、一方、高周波の磁束線は良導体!2
0でその磁束線を阻止する方向に渦電流が発生すること
によってシールドされる。その結果、変位センサ10に
おいて検出するべきインダクタンスは、被測定物22と
センーリ゛10との間の空隙部24の寸法gの変化、す
なわち被測定物22の変位にのみ基づいて変化し、外部
からの磁気的ノイズの影響は除去される。
第2A図および第2B図は本発明の第2実施例の縦断面
図および横断面図である。この第2実施例の場合、変位
センサ10だけでなく、被測定物22も遮蔽壁16Aで
シールドされている。被測定物22側の遮蔽壁16Aは
磁性体III SAと、良導体層2OAと、非磁性体よ
り成る層32とを有している。
この第2実施例によれば、被測定物22側にも遮蔽壁1
6Aが設けられているので、磁気的ノイズをシールドす
る効果がより向上している。その他の作用については、
第1実施例の場合と同一であるので説明を省略する。
第3A図および第3B図は本発明の第3実施例を示す縦
断面図および横断面図である。この第3実施例の変位セ
ンサ40における遮蔽壁16Bは2層の磁性体層18−
1.18−2と2層の良導体g20−1.20−2とを
有している。そして、この第3実施例によれば、磁性体
層(18−1,18−2>と良導体層(20−1,2O
−2)とを複数層形成したので、磁束に対するシールド
性が非常に向上しているのである。
なお、被測定物22側に、磁性体層と良導体層とを複数
層形成した遮蔽壁を構成しても良い。
この第3実施例の作用も、第1実施例および第2実施例
と基本的には変らないので、説°明を省略する。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明のインダクタンス形変位セ
ンサによれば、低周波の磁束線も高周波の磁束線もシー
ルドされるので、磁気的ノイズによる悪影響が排除され
、磁気軸受の高精度の位置制御および安定化制御が達成
される。
また、被測定物側にも遮蔽壁を形成し、あるいは遮蔽壁
中に磁性体層および良導体層を複数層形成することによ
り、シールド性をより向上することができる。
【図面の簡単な説明】
第1A図と第1B図はそれぞれ本発明の第1実施例の縦
断面図および横断面図を示し、第2A図と第2B図はそ
れぞれ本発明の第2実施例の縦断面図および横断面図を
示し、第3A図と第38図はそれぞれ本発明の第3実施
例の縦断面図および横断面図を示し、第4A図と第4B
図はそれぞれ従来技術を示す縦断面図および横断面図を
示す。 1.10,40・・・インダクタンス形変位センサ  
2.12・・・コイル  3.14・・・コア  4.
22・・・被測定物  16.16△、16B・・・遮
蔽壁  18.18A、18−1.18−2・・・磁性
体層 20.20A、20−1.20−2・・・良導体

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  磁性体より成る層および良導体より成る層を有する遮
    蔽壁によって、被測定物と対向する面以外を包囲されて
    いることを特徴とするインダクタンス形変位センサ。
JP63071868A 1988-03-28 1988-03-28 インダクタンス形変位センサ装置 Expired - Lifetime JP2641485B2 (ja)

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JPH01245101A true JPH01245101A (ja) 1989-09-29
JP2641485B2 JP2641485B2 (ja) 1997-08-13

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2687477A1 (fr) * 1992-02-14 1993-08-20 Abb Petercem Capteur de courant.
JP2002116416A (ja) * 2000-10-06 2002-04-19 Ikeda Kogyo:Kk 電磁波防止機能付眼鏡及びその加工方法
FR2912852A1 (fr) * 2007-02-19 2008-08-22 Mitsubishi Electric Corp Machine rotative electrique
US7479718B2 (en) 2005-08-22 2009-01-20 Mitsubishi Electric Corporation Electric rotating machine

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5455463A (en) * 1977-10-12 1979-05-02 Shin Nippon Sokki Kk Sensor

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