JPH01180437A - リード曲り検出方法 - Google Patents

リード曲り検出方法

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JPH01180437A
JPH01180437A JP529288A JP529288A JPH01180437A JP H01180437 A JPH01180437 A JP H01180437A JP 529288 A JP529288 A JP 529288A JP 529288 A JP529288 A JP 529288A JP H01180437 A JPH01180437 A JP H01180437A
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JP
Japan
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axial
flank
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Pending
Application number
JP529288A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazutoshi Yamazaki
山崎 和敏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH01180437A publication Critical patent/JPH01180437A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95607Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Analytical Chemistry (AREA)
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  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、同一平面上に規則正しく並んでいるIC等
のリード曲りを検出するための方法の改良に関するもの
である。
〔従来の技術〕
従来は第2図に示すように、1.C(31のリード部(
4)の先端部(5)の斜め上方に光源(1)、二次元撮
像素子(2)を配置していた。
この構成において、リード曲りを検出する場合には光源
(1)により、IC+31のリード部(4)の先端部(
5)を照射し、二次元撮像素子(2)により第3図の撮
像を得る。そして、第3図のリード先端部像団の直線性
およびピッチの乱れを、あらかじめ設定されている基準
と比較し、リード曲りを検出する。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の方法は−リード先端部という極めて狭い面積部分
を撮像するため、二次元撮像素子の受光蓋が少なく、光
源および二次元撮像素子の感度等の影響を受は易く、リ
ード曲り検出の安定性に欠けるという問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、二次元撮像素子によりリード曲りを安定し
て検出することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係るリード曲り検出方法は、ICのリードの
側面から光線を照射してこれを二次元撮像素子にて撮像
し、その結果を基準値と比較して上記リードの曲りを検
出するものである。
〔作用] この発明において、リード部側面部に対する光源と二次
元撮像素子の配置により、撮像面積が広くなり、リード
部のリードピッチ間の曲りおよびリードのリード部側面
に対し直角方向への曲がり、いわゆるリードの内的り、
外曲りの撮像が安定して得られる。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図において、(1)は平行光源でIC(31のリード部
(4)の側面部(5)に対し光線が直角に照射されるよ
う配置されている。(2)は二次元撮像素子で。
リード部(4)の側面部(5)に対しX軸方向、2軸方
向のいずれにも傾きを持って配置されている。
次に検査方法について説明する。第1図においてIC+
31のリード部(4)の側面部(5)を平行光源(1)
により側面部(5)のx −z平面に直角に照射する。
その反射光を側面部(5)のX軸、l軸いずれにも傾き
をもつ二次元撮像素子(2)により撮像する。そしてそ
の撮像のリード部先端の直線性およびリード間ピッチの
規則性をあらかじめ設定されている基準と比較し、リー
ド曲りを検出する。
また上記実施例ではI C+7−ドの場合について説明
したがIcソケットおよび、基板コネクタ、ケーブルコ
ネクタの接続ピンであってもよく、上記実施例と同様の
効果を奏する。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば、−列に整列されたリ
ードの側面から光線を照射してこれを二次元撮像素子に
て撮像し、その結果を基準値と比較して上記リードの曲
りを検出するので一リード部先端部を撮像する方式に比
較すると、面積の大きい撮像が得られることになり、リ
ードの像が安定し、リード部先端部の直線性およびリー
ド間ピッチのばらつきが判別し易くなる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による構成を示す斜視図、
iJ 2 Il+は従来の構成を示す構成図、第3図は
従来の構成での撮像を示す図である。図中。 (1)は光諒、(2)は二次元撮像素子、(3)はIC
1(4)はリード部、(5)は側面部である。 なお各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 一列に整列されたリードの側面から光線を照射してこれ
    を二次元撮像素子にて撮像し、その結果を基準値と比較
    して上記リードの曲りを検出することを特徴とするリー
    ド曲り検出方法。
JP529288A 1988-01-12 1988-01-12 リード曲り検出方法 Pending JPH01180437A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110954552A (zh) * 2018-09-27 2020-04-03 联合汽车电子有限公司 跨接线检测装置、跨接线检测系统和跨接线检测方法

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