JPH01124842A - 光硬化性組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、画像形成用のフォトレジスト材料に用いて好
適な光硬化性組成物に関する。
適な光硬化性組成物に関する。
(従来の技術)
光硬化性組成物を透明な支持フィルムに塗布することに
より光硬化性組成物の皮膜を形成し、この皮膜を画像を
形成せんとする基体表面に密着させ、しかる後、透明な
支持フィルムが最上層に残された状態、或いはこの支持
フィルムを剥離除去した状態で、原画を通過させた活性
光により上記皮膜を露光して、露光部分を光硬化させた
後、アルカリ水溶液や溶剤によって未露光部分を溶出す
る溶出現像法、或いは上記支持フィルムを剥離する際に
、この支持フィルムに未露光部分を付着させて除去する
剥離現像法によって原画に対する画像を現像し、これを
フォトレジスト法によるプリント配線板の製造に適用し
たり、或いはレリーフ版の製造に適用したりすることが
行われている。
より光硬化性組成物の皮膜を形成し、この皮膜を画像を
形成せんとする基体表面に密着させ、しかる後、透明な
支持フィルムが最上層に残された状態、或いはこの支持
フィルムを剥離除去した状態で、原画を通過させた活性
光により上記皮膜を露光して、露光部分を光硬化させた
後、アルカリ水溶液や溶剤によって未露光部分を溶出す
る溶出現像法、或いは上記支持フィルムを剥離する際に
、この支持フィルムに未露光部分を付着させて除去する
剥離現像法によって原画に対する画像を現像し、これを
フォトレジスト法によるプリント配線板の製造に適用し
たり、或いはレリーフ版の製造に適用したりすることが
行われている。
この種の光硬化性組成物として、少なくとも1種のα、
β−不飽和エチレン系単量体を構成単位とするバインダ
ー樹脂と光重合性単量体と光重合開始剤及び必要に応じ
て染料とを含有する光硬化性組成物が知られている。ま
た、特公昭62−12801号公報には、上記のような
組成物に、下記の式(If)で示されるモノアゾ染料を
含有させた光硬化性組成物が開示されている。
β−不飽和エチレン系単量体を構成単位とするバインダ
ー樹脂と光重合性単量体と光重合開始剤及び必要に応じ
て染料とを含有する光硬化性組成物が知られている。ま
た、特公昭62−12801号公報には、上記のような
組成物に、下記の式(If)で示されるモノアゾ染料を
含有させた光硬化性組成物が開示されている。
を表わし、Rt、Rsはアルキル基又はアルケニル基を
表わし、R,、R,は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基又はアルコキシ基を表わす、) ところが、かかる従来の光硬化性組成物にあっては、光
重合開始剤の増感速度と活性光により発色又は消色(脱
色)することによる十分なコントラストが得られず、原
画のパターン通りに露光されていること及び光硬化後の
画像の確認が容易になし得ないという問題がある。
表わし、R,、R,は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基又はアルコキシ基を表わす、) ところが、かかる従来の光硬化性組成物にあっては、光
重合開始剤の増感速度と活性光により発色又は消色(脱
色)することによる十分なコントラストが得られず、原
画のパターン通りに露光されていること及び光硬化後の
画像の確認が容易になし得ないという問題がある。
また、画像を形成せんとする基体との密着力が未だ十分
でなく、それによって満足すべき優れた解像度が得られ
ないという問題がある。特に、プリント配線用のレジス
ト材料として用いる場合、例えば、プリント配線板上に
ICチップを実装する等の場合には50μ以下の解像度
が要求されることがあるが、この様な要求に応じること
が困難である。
でなく、それによって満足すべき優れた解像度が得られ
ないという問題がある。特に、プリント配線用のレジス
ト材料として用いる場合、例えば、プリント配線板上に
ICチップを実装する等の場合には50μ以下の解像度
が要求されることがあるが、この様な要求に応じること
が困難である。
さらに、レジストと銅基板との密着力が十分大きくない
と、エツチング液又はメツキ液がレジストと銅基板との
間に浸透し、レジストが銅基板から浮上る現象が起り、
その結果、エツチングによるレジスト端部の欠損、メツ
キもぐり(メツキがレジストの下部にまでおよぶ現象)
が生じ、画像断面の直線性の不鮮明等を招き、良好な画
像が形成された銅基板を得ることができないという問題
がある。
と、エツチング液又はメツキ液がレジストと銅基板との
間に浸透し、レジストが銅基板から浮上る現象が起り、
その結果、エツチングによるレジスト端部の欠損、メツ
キもぐり(メツキがレジストの下部にまでおよぶ現象)
が生じ、画像断面の直線性の不鮮明等を招き、良好な画
像が形成された銅基板を得ることができないという問題
がある。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は、上記従来の問題点を解決するものであり、そ
の目的とするところは、光硬化の感度と画像のコントラ
ストに優れ、しかも解像度の高い画像が得られ、耐メツ
キもぐり性や耐エツチング性に優れた光硬化性組成物を
提供することにある。
の目的とするところは、光硬化の感度と画像のコントラ
ストに優れ、しかも解像度の高い画像が得られ、耐メツ
キもぐり性や耐エツチング性に優れた光硬化性組成物を
提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明で使用するバインダー樹脂は、少なくとも1種の
α、β−不飽和エチレン系単量体を構成単位とするもの
であり、このα、β−不飽和エチレン系単量体としては
、例えば、スチレン、0−メチルスチレン、m−メチル
スチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、
P−エチルスチレン、2.4−ジメチルスチレン、p−
n−へキシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p
−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、3.4−
ジメチルクロルスチレン類等のスチレン類;α−ビニル
ナフタレン等のビニルナフタレン類;エチレン、プロピ
レン、ブチレン又はC3〜C2゜及びそれ以上のα−オ
レフィン類;塩化ビニル、臭化ビニル、弗化ビニル等の
ハロゲン化ビニル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル
、酪酸ビニル等のビニルエステル類; (メタ)アクリ
ル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アク
リル酸プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メ
タ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸n−オ
クチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリ
ル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸2−クロ
ルエチル、α−クロル(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ジメチル
アミノエチル等の(メタ)アクリル酸エステル類;ビニ
ルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル等のビニルエ
ーテル類;ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン等
のビニルケトン1iliN−ビニルピロール、N−ビニ
ルカルバゾール、N−ビニルインドール等のN−ビニル
化合物;(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸
(無水物)、フマル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン
酸類; (メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル
酸アミド;1,2−ジメチル−1−(2−ヒドロキシ−
3−ブトキシプロピル)アミン−メタクリルイミド、1
.2−ジメチル−1−(2−ヒドロキシ−3−メタクロ
イルオキシプロピル)アミン−メタクリルイミド等のア
ミンイミド類があげられる。
α、β−不飽和エチレン系単量体を構成単位とするもの
であり、このα、β−不飽和エチレン系単量体としては
、例えば、スチレン、0−メチルスチレン、m−メチル
スチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、
P−エチルスチレン、2.4−ジメチルスチレン、p−
n−へキシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p
−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、3.4−
ジメチルクロルスチレン類等のスチレン類;α−ビニル
ナフタレン等のビニルナフタレン類;エチレン、プロピ
レン、ブチレン又はC3〜C2゜及びそれ以上のα−オ
レフィン類;塩化ビニル、臭化ビニル、弗化ビニル等の
ハロゲン化ビニル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル
、酪酸ビニル等のビニルエステル類; (メタ)アクリ
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タ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸n−オ
クチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリ
ル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸2−クロ
ルエチル、α−クロル(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ジメチル
アミノエチル等の(メタ)アクリル酸エステル類;ビニ
ルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル等のビニルエ
ーテル類;ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン等
のビニルケトン1iliN−ビニルピロール、N−ビニ
ルカルバゾール、N−ビニルインドール等のN−ビニル
化合物;(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸
(無水物)、フマル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン
酸類; (メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル
酸アミド;1,2−ジメチル−1−(2−ヒドロキシ−
3−ブトキシプロピル)アミン−メタクリルイミド、1
.2−ジメチル−1−(2−ヒドロキシ−3−メタクロ
イルオキシプロピル)アミン−メタクリルイミド等のア
ミンイミド類があげられる。
本発明で使用するバインダー樹脂は上記単量体の1種又
は2種以上が重合されたものであって、分子量は一触に
数千〜数百万であり、好ましくは数万〜数十万であり、
又光重合性単量体、光重合開始剤及び式(I)で示され
るモノアゾ染料を溶解しうる溶剤に溶解すると共に現像
の際に使用する水溶液や溶剤に溶解する性質を有する。
は2種以上が重合されたものであって、分子量は一触に
数千〜数百万であり、好ましくは数万〜数十万であり、
又光重合性単量体、光重合開始剤及び式(I)で示され
るモノアゾ染料を溶解しうる溶剤に溶解すると共に現像
の際に使用する水溶液や溶剤に溶解する性質を有する。
特に本発明においては、(メタ)アクリル酸やマレイン
酸のような不飽和カルボン酸類を構成単位として10〜
40重量%含むカルボキシル基含有共重合体が好ましい
、かかるカルボキシル基含有共重合体は、アルカリ水溶
液に可溶であるため、アルカリ水溶液で現像することが
でき、現像が容易となる。上記のカルボキシル基含有共
重合体としては、(メタ)アクリル酸エステルと(メタ
)アクリル酸との共重合体が最適である。不飽和カルボ
ン酸類の含有量が10重量%より少な(なるとアルカリ
水溶液に対して不溶となり、40重量%より多くなると
エツチングやメツキに対する耐性が低下する。
酸のような不飽和カルボン酸類を構成単位として10〜
40重量%含むカルボキシル基含有共重合体が好ましい
、かかるカルボキシル基含有共重合体は、アルカリ水溶
液に可溶であるため、アルカリ水溶液で現像することが
でき、現像が容易となる。上記のカルボキシル基含有共
重合体としては、(メタ)アクリル酸エステルと(メタ
)アクリル酸との共重合体が最適である。不飽和カルボ
ン酸類の含有量が10重量%より少な(なるとアルカリ
水溶液に対して不溶となり、40重量%より多くなると
エツチングやメツキに対する耐性が低下する。
また、本発明で使用する光重合性単量体は、光重合開始
剤の存在下に、活性光の照射により重合反応を開始して
硬化する、通常、常温で液状の単量体であり、例えば、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノナエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ール(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、2.2ビス〔4(アクリロキ
シジェトキシ)フェニル〕プロパン、2.2ビス〔4−
(メタクロキシジェトキシ)フェニル〕プロパン、3−
フェノキシ−2−プロパノイルアクリレート、ポリメチ
レンジ(メタ)アクリレート等のポリ (メタ)アクリ
レート系単量体があげられる。
剤の存在下に、活性光の照射により重合反応を開始して
硬化する、通常、常温で液状の単量体であり、例えば、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノナエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ール(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、2.2ビス〔4(アクリロキ
シジェトキシ)フェニル〕プロパン、2.2ビス〔4−
(メタクロキシジェトキシ)フェニル〕プロパン、3−
フェノキシ−2−プロパノイルアクリレート、ポリメチ
レンジ(メタ)アクリレート等のポリ (メタ)アクリ
レート系単量体があげられる。
そして、かかる光重合性単量体は、前記バインダー樹脂
100重量部に対して、−aに10〜300重量部添加
されるのが好ましく、より好ましくは50〜200重量
部である。光重合性単量体の使用量が10重量部よりも
少ないと露光後の硬化が不充分となり、300重量部よ
りも多いと未露光部分の粘着性が強すぎ良好な画像が得
られなくなる。
100重量部に対して、−aに10〜300重量部添加
されるのが好ましく、より好ましくは50〜200重量
部である。光重合性単量体の使用量が10重量部よりも
少ないと露光後の硬化が不充分となり、300重量部よ
りも多いと未露光部分の粘着性が強すぎ良好な画像が得
られなくなる。
本発明で使用する光重合開始剤としては、紫外線、可視
光線等の活性光線により上記光重合性単量体を活性化し
、重合を開始させる性質を有するものであればよく、紫
外線で活性化するものとしては、例えば、ソジウムメチ
ルジチオカーバメイトサルファイド、テトラメチルチウ
ムモノサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジ
ベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド
等のサルファイド類;チオキサントン、2−エチルチオ
キサントン、2−クロロチオキサントン、2.4−ジエ
チルチオキサントン等のチオキサントン誘導体;ヒドラ
ゾン、アゾイソブチロニトリル、ベンゼンジアゾニウム
クロライド等の(ジ)アゾ化合物;ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラー
ケトン、ベンジルアントラキノン、t−ブチルアントラ
キノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアント
ラキノン、2−アミノアントラキノン、2−クロロアン
トラキノン等の芳香族カルボニル化合物;p−ジメチル
アミノ安息香酸メチル、p−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル、p−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、p−ジエチ
ルアミノ安息香酸イソプロピル等のシアルギルアミノ安
息香酸エステル;ベンゾイルパーオキサイド、ジーも一
ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、キュ
メンハイドロパーオキサイド等の過酸化物;9−フェニ
ルアクリジン、9−p−メトキシフェニルアクリジン・
、9−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等
のアクリジン誘導体;9.10−ジメチルベンズフェナ
ジン、9−メチルベンズフェナジン、IO−メトキシベ
ンズフェナジン等のフェナジン誘導体;6,4°、4”
−トリメトキシ−2,3−ジフェニルキノキサリン等の
キノキサリン誘導体:2.4.5−)リフェニルイミダ
ゾリルニ量体等があげられ、又可視光線で活性化するも
のとしては、たとえば2−ニトロフルオレン、2.4.
6−トリフェニルビリリウム四弗化硼素塩、2,4.6
−)リス(トリクロロメチル)−1,3,5−)リアジ
ン、3.3°−カルボニルビスタマリン、チオミヒラー
ケトン等があげられる。
光線等の活性光線により上記光重合性単量体を活性化し
、重合を開始させる性質を有するものであればよく、紫
外線で活性化するものとしては、例えば、ソジウムメチ
ルジチオカーバメイトサルファイド、テトラメチルチウ
ムモノサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジ
ベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド
等のサルファイド類;チオキサントン、2−エチルチオ
キサントン、2−クロロチオキサントン、2.4−ジエ
チルチオキサントン等のチオキサントン誘導体;ヒドラ
ゾン、アゾイソブチロニトリル、ベンゼンジアゾニウム
クロライド等の(ジ)アゾ化合物;ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラー
ケトン、ベンジルアントラキノン、t−ブチルアントラ
キノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアント
ラキノン、2−アミノアントラキノン、2−クロロアン
トラキノン等の芳香族カルボニル化合物;p−ジメチル
アミノ安息香酸メチル、p−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル、p−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、p−ジエチ
ルアミノ安息香酸イソプロピル等のシアルギルアミノ安
息香酸エステル;ベンゾイルパーオキサイド、ジーも一
ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、キュ
メンハイドロパーオキサイド等の過酸化物;9−フェニ
ルアクリジン、9−p−メトキシフェニルアクリジン・
、9−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等
のアクリジン誘導体;9.10−ジメチルベンズフェナ
ジン、9−メチルベンズフェナジン、IO−メトキシベ
ンズフェナジン等のフェナジン誘導体;6,4°、4”
−トリメトキシ−2,3−ジフェニルキノキサリン等の
キノキサリン誘導体:2.4.5−)リフェニルイミダ
ゾリルニ量体等があげられ、又可視光線で活性化するも
のとしては、たとえば2−ニトロフルオレン、2.4.
6−トリフェニルビリリウム四弗化硼素塩、2,4.6
−)リス(トリクロロメチル)−1,3,5−)リアジ
ン、3.3°−カルボニルビスタマリン、チオミヒラー
ケトン等があげられる。
そして、かかる光重合開始剤は、前記バインダー樹脂1
00重量部に対して、一般に0.1〜20重量部添加さ
れるのが好ましく、より好ましくは1〜IO重量部で用
いられる。
00重量部に対して、一般に0.1〜20重量部添加さ
れるのが好ましく、より好ましくは1〜IO重量部で用
いられる。
また、本発明で使用する前記の式(I)で示されるモノ
アゾ染料の塩は、光硬化性組成物中で一般に青色乃至紫
色を呈しており、この組成物を活性光線で露光すること
により消色(脱色)し、そのコントラストによって露光
部分を確認するためのものである。かかるモノアゾ染−
料の塩としては、下記式(I)−A−Cに示す化合物の
塩が好適に用いられる。なお、このような化合物の塩の
カウンターアニオンとしては、通常、塩素イオン、臭素
イオン、沃素イオンがそして、かかるモノアゾ染料の塩
は、前記バインダー樹脂100重量部に対し、一般に0
.01〜10重量部の割合で用いられるのが好ましく、
かつ前記光重合開始剤と上記モノアゾ染料の塩との割合
は、l:1〜500:1が好ましく、より好ましくは1
0:l〜100:1の範囲である。
アゾ染料の塩は、光硬化性組成物中で一般に青色乃至紫
色を呈しており、この組成物を活性光線で露光すること
により消色(脱色)し、そのコントラストによって露光
部分を確認するためのものである。かかるモノアゾ染−
料の塩としては、下記式(I)−A−Cに示す化合物の
塩が好適に用いられる。なお、このような化合物の塩の
カウンターアニオンとしては、通常、塩素イオン、臭素
イオン、沃素イオンがそして、かかるモノアゾ染料の塩
は、前記バインダー樹脂100重量部に対し、一般に0
.01〜10重量部の割合で用いられるのが好ましく、
かつ前記光重合開始剤と上記モノアゾ染料の塩との割合
は、l:1〜500:1が好ましく、より好ましくは1
0:l〜100:1の範囲である。
本発明の光硬化性組成物は、上記のバインダー樹脂と光
重合性単量体と光重合開始剤と式(I)のモノアゾ染料
の塩又はその誘導体を含有するが、必要に応じて、さら
にマラカイトグリーン、エチルバイオレット等の着色剤
、ジオクチルフタレート、トリエチレングリコールジア
セテート等の可塑剤、ヒドロキノン、p−メトキシフェ
ノールなどの重合禁止剤等を含有していてもよい。
重合性単量体と光重合開始剤と式(I)のモノアゾ染料
の塩又はその誘導体を含有するが、必要に応じて、さら
にマラカイトグリーン、エチルバイオレット等の着色剤
、ジオクチルフタレート、トリエチレングリコールジア
セテート等の可塑剤、ヒドロキノン、p−メトキシフェ
ノールなどの重合禁止剤等を含有していてもよい。
上記の着色剤は、光硬化性組成物の露光時の視認性を向
上させる。また、可塑剤は、例えばドライフィルムフォ
トレジストとして使用する場合に、組成物の柔軟性を高
め、基体との密着性を向上させる。また、重合禁止剤は
、光硬化性組成物の保存安定性を向上させる。
上させる。また、可塑剤は、例えばドライフィルムフォ
トレジストとして使用する場合に、組成物の柔軟性を高
め、基体との密着性を向上させる。また、重合禁止剤は
、光硬化性組成物の保存安定性を向上させる。
(作用)
本発明の光硬化性組成物は、通常メチルエチルケトン、
アセトン、メタノール、イソプロパツール、エチルセロ
ソルブ、塩化メチレンなどの溶剤に溶解された溶液状態
で、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの支持フ
ィルムに塗布乾燥されて光硬化性組成物の層が形成され
、画像形成用材料となされる。
アセトン、メタノール、イソプロパツール、エチルセロ
ソルブ、塩化メチレンなどの溶剤に溶解された溶液状態
で、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの支持フ
ィルムに塗布乾燥されて光硬化性組成物の層が形成され
、画像形成用材料となされる。
そして、この画像形成用材料は、従来品と同様にして、
フォトレジスト像やレリーフ像の形成のために使用でき
る。この様な光画像の形成において、本発明の光硬化性
組成物が用いられた場合は、組成物中に含まれる前記特
定のモノアゾ染料が塩を形成しているため、塩を形成し
ていない従来のモノアゾ染料を含有した組成物に比べ、
光重合開始剤の増感速度が速く、光硬化層におけるモノ
アゾ染料の活性光線による消色(脱色)が強まる。
フォトレジスト像やレリーフ像の形成のために使用でき
る。この様な光画像の形成において、本発明の光硬化性
組成物が用いられた場合は、組成物中に含まれる前記特
定のモノアゾ染料が塩を形成しているため、塩を形成し
ていない従来のモノアゾ染料を含有した組成物に比べ、
光重合開始剤の増感速度が速く、光硬化層におけるモノ
アゾ染料の活性光線による消色(脱色)が強まる。
また、光硬化層の物性が著しく向上し、基体表面との密
着性も向上し、それが溶出現像や剥離現像における解像
性に好結果をもたらすものと考えられる。さらにフォト
レジスト材料として用いる場合は、物性の向上と密着性
の向上とにより光硬化層の耐エツチング性も優れ、高解
像度が得られ、露光後放置しても解像度の低下が少ない
、又メツキレジストとして用いたとき、メツキのもぐり
込みが改善される。
着性も向上し、それが溶出現像や剥離現像における解像
性に好結果をもたらすものと考えられる。さらにフォト
レジスト材料として用いる場合は、物性の向上と密着性
の向上とにより光硬化層の耐エツチング性も優れ、高解
像度が得られ、露光後放置しても解像度の低下が少ない
、又メツキレジストとして用いたとき、メツキのもぐり
込みが改善される。
(実施例)
以下、本発明の実施例及び比較例を示す。
1施班上
メタクリル酸メチル−メタクリル酸n −ブチル−アク
リル酸共重合体(成分重量比60720 ? 20、M
w−15万)60gテトラエチレングリコールジアクリ
レート15g2.2−ビス〔4−(アクリロキシジェト
キシ)フェニル〕プロパン 15gベンゾフ
ェノン 4gミヒラーケトン
0.15 g式(I)−Aの
モノアゾ染料の塩素塩 0.1gp−メトキシフェノ
ール 0.1 g上記組成物をメチルエチ
ルケトン200gに溶解させ、光硬化性組成物の溶液を
調製した。この溶液を厚さ25μのポリエチレンテレフ
タレートフィルムからなる支持フィルム上に塗布し、8
0℃で10分間乾燥することにより、厚さ50uの光硬
化性組成物の層を形成し、画像形成用材料を作製した。
リル酸共重合体(成分重量比60720 ? 20、M
w−15万)60gテトラエチレングリコールジアクリ
レート15g2.2−ビス〔4−(アクリロキシジェト
キシ)フェニル〕プロパン 15gベンゾフ
ェノン 4gミヒラーケトン
0.15 g式(I)−Aの
モノアゾ染料の塩素塩 0.1gp−メトキシフェノ
ール 0.1 g上記組成物をメチルエチ
ルケトン200gに溶解させ、光硬化性組成物の溶液を
調製した。この溶液を厚さ25μのポリエチレンテレフ
タレートフィルムからなる支持フィルム上に塗布し、8
0℃で10分間乾燥することにより、厚さ50uの光硬
化性組成物の層を形成し、画像形成用材料を作製した。
この材料を、表面を脱脂及び研磨した、5■φのスルー
ホールを有するプリント配線板用の銅張り積層板(銅厚
50μ)の表面に熱圧着した。
ホールを有するプリント配線板用の銅張り積層板(銅厚
50μ)の表面に熱圧着した。
この状態で解像度テストパターンを持った陰画を支持体
上に密着させ、3に一高圧水銀灯により50cmのとこ
ろから60sJ/cm”露光させた。この試料につき、
未露光と露光部のコントラストを波長600nmでの吸
光度の差で表わしたところ、その値は0.50であった
。
上に密着させ、3に一高圧水銀灯により50cmのとこ
ろから60sJ/cm”露光させた。この試料につき、
未露光と露光部のコントラストを波長600nmでの吸
光度の差で表わしたところ、その値は0.50であった
。
ついで、室温で支持フィルムを剥がし、30°C11重
量%の炭酸ナトリウム水溶液で1.0 kg/cd圧で
スプレー現像した。その結果、解像度テストパターンの
50μの画線まで正確に画像が再現された。また、感度
はストーファー21段感度ステップタブレットで8段で
あった。さらに、500秒スプレー現像したが、5閣φ
のスルーホール部をテントしているレジストに異常は認
められなかった。
量%の炭酸ナトリウム水溶液で1.0 kg/cd圧で
スプレー現像した。その結果、解像度テストパターンの
50μの画線まで正確に画像が再現された。また、感度
はストーファー21段感度ステップタブレットで8段で
あった。さらに、500秒スプレー現像したが、5閣φ
のスルーホール部をテントしているレジストに異常は認
められなかった。
つぎに、これをメツキレジストとして用い、硫酸鋼メツ
キ(メツキ条件:硫酸銅200g/ l、硫酸50g/
1、塩素イオン50g/ l、PI(I,0以下、2
5℃、2A/d+m”、50分間)、続いてはんだメツ
キ(メツキ条件:硼弗化鉛380g/ 12、硼弗化錫
30g/j!、硼弗化水素酸45g/ j!、にかわ0
.5g/j!、PH1,0,18℃、2A/dが、10
分間)を行い、断面観察を行ったところ、50μの画線
でメツキもぐりは認められなかった。
キ(メツキ条件:硫酸銅200g/ l、硫酸50g/
1、塩素イオン50g/ l、PI(I,0以下、2
5℃、2A/d+m”、50分間)、続いてはんだメツ
キ(メツキ条件:硼弗化鉛380g/ 12、硼弗化錫
30g/j!、硼弗化水素酸45g/ j!、にかわ0
.5g/j!、PH1,0,18℃、2A/dが、10
分間)を行い、断面観察を行ったところ、50μの画線
でメツキもぐりは認められなかった。
1施■又
メタクリル酸メチル−アクリル酸2−エチルヘキシル−
メタクリル酸共重合体 (成分重量比50 : 25 : 25、Mw=10万
)60gトリメチロールプロパントリアクリレート30
g2.4−ジメチルチオキサントン 2.Ogp−
ジメチルアミノ安息香酸エチル 2.0g式(I)−
Bのモノアゾ染料の塩素塩 0.2gp−メトキシフ
ェノール 0.1g上記組成物を使用した
以外は、実施例1と同様に行った。その結果、吸光度の
差は0.50、解像度は50μの画線まで正確に再現さ
れ、感度は8段であった。また、テントに異常は認めら
れず、50μの画線でメツキもぐりは認められなかった
。
メタクリル酸共重合体 (成分重量比50 : 25 : 25、Mw=10万
)60gトリメチロールプロパントリアクリレート30
g2.4−ジメチルチオキサントン 2.Ogp−
ジメチルアミノ安息香酸エチル 2.0g式(I)−
Bのモノアゾ染料の塩素塩 0.2gp−メトキシフ
ェノール 0.1g上記組成物を使用した
以外は、実施例1と同様に行った。その結果、吸光度の
差は0.50、解像度は50μの画線まで正確に再現さ
れ、感度は8段であった。また、テントに異常は認めら
れず、50μの画線でメツキもぐりは認められなかった
。
皇旌■主
メタクリル酸メチル−アクリル酸2−エチルヘキシル−
メタクリル酸共重合体 (成分重量比40 : 35 : 25、Mw−15万
) 60g2.2−ビス〔4−(アクリロキシジェト
キシ)フェニル〕プロパン 20g3−フェ
ノキシ−2−プロパノイルアクリレート
10gベンゾフェノン
4gミヒラーケトン
0.15g式(I)−Cのモノアゾ染料の塩素
塩 0.1gp−メトキシフェノール
0.1 g上記組成物を使用し、実施例1と同様にして
画像形成用材料を作成した。この材料を0.5mm厚の
ステンレス板に熱圧着し、実施例1と同様にして露光と
現像を行った。その結果、吸光度の差は0.50、解像
度は50μの画線まで正確に再現され、感度は8段であ
った。
メタクリル酸共重合体 (成分重量比40 : 35 : 25、Mw−15万
) 60g2.2−ビス〔4−(アクリロキシジェト
キシ)フェニル〕プロパン 20g3−フェ
ノキシ−2−プロパノイルアクリレート
10gベンゾフェノン
4gミヒラーケトン
0.15g式(I)−Cのモノアゾ染料の塩素
塩 0.1gp−メトキシフェノール
0.1 g上記組成物を使用し、実施例1と同様にして
画像形成用材料を作成した。この材料を0.5mm厚の
ステンレス板に熱圧着し、実施例1と同様にして露光と
現像を行った。その結果、吸光度の差は0.50、解像
度は50μの画線まで正確に再現され、感度は8段であ
った。
つぎに、これを42@ボーメ塩化第二鉄水溶液で、40
℃、1時間エツチングしたところ、50μの解像度テス
トパターンのエツチング画像が正確に再現された。
℃、1時間エツチングしたところ、50μの解像度テス
トパターンのエツチング画像が正確に再現された。
皇旌豆土
メタクリル酸メチル−アクリル酸n−ブチル−アクリル
酸共重合体(成分重量比50 : 35 : 15、M
w=18万)60gテトラエチレングリコールジアクリ
レート20gペンタエリスリトールトリアクリレート
20g2.4.6=)リフェニルピリリウム四弗化硼素
塩 1g式(I)−Aのモ
ノアゾ染料の塩素塩 0.1gP−メトキシフェノー
ル 0.1g上記組成物を使用し、実施例
1と同様にして画像形成用材料を作成した。この材料を
銅張り積層板に熱圧着し、波長488mのアルゴンイオ
ンレーザ−を用いて10請J/c+*”露光する以外は
実施例1と同様にして現像を行った。その結果、吸光度
の差は0.50、解像度は50μの画線まで正確に再現
され、感度は8段であった。
酸共重合体(成分重量比50 : 35 : 15、M
w=18万)60gテトラエチレングリコールジアクリ
レート20gペンタエリスリトールトリアクリレート
20g2.4.6=)リフェニルピリリウム四弗化硼素
塩 1g式(I)−Aのモ
ノアゾ染料の塩素塩 0.1gP−メトキシフェノー
ル 0.1g上記組成物を使用し、実施例
1と同様にして画像形成用材料を作成した。この材料を
銅張り積層板に熱圧着し、波長488mのアルゴンイオ
ンレーザ−を用いて10請J/c+*”露光する以外は
実施例1と同様にして現像を行った。その結果、吸光度
の差は0.50、解像度は50μの画線まで正確に再現
され、感度は8段であった。
つぎに、これを42ボーメ塩化第2鉄水溶液で、40°
C,12″秒エツチングしたところ、50μの解像度テ
ストパターンのエツチング画像が正確に再現された。
C,12″秒エツチングしたところ、50μの解像度テ
ストパターンのエツチング画像が正確に再現された。
止較■上
実施例2において、式(I)−Bのモノアゾ染料の塩0
.2gの代りに、次式のモノアゾ染料0.2gを用いる
以外は、実施例1と同様に行った。
.2gの代りに、次式のモノアゾ染料0.2gを用いる
以外は、実施例1と同様に行った。
その結果、吸光度の差は0.05Lかなく、解像度は1
00μの画線までしか再現できず、感度は6段であった
。また、500秒スプレー現像したところ、テントが破
れていた。また、メツキ後断面観察を行ったところ、1
00μの画線でメツキもぐりが認められた。
00μの画線までしか再現できず、感度は6段であった
。また、500秒スプレー現像したところ、テントが破
れていた。また、メツキ後断面観察を行ったところ、1
00μの画線でメツキもぐりが認められた。
1較t2
メタクリル酸メチルーメククリル酸n−ブチル−アクリ
ル酸共重合体(成分重量比60:20:20、Mw=1
5万)60gテトラエチレングリコールジアクリレート
15g2.2−ビス(4−(アクリロキシジェトキシ)
フェニル〕プロパン 15gベンゾフェノン
4gミヒラーケトン
0.15g2−(o−クロロフェニル
)−4,5ジメトキシフ工ニルイミダゾリルニ量体
2.0gロイコクリスタルバイオレット 0.5
gp−メトキシフェノール 0.1g上
記組成物を使用した以外は、実施例1と同様に行った。
ル酸共重合体(成分重量比60:20:20、Mw=1
5万)60gテトラエチレングリコールジアクリレート
15g2.2−ビス(4−(アクリロキシジェトキシ)
フェニル〕プロパン 15gベンゾフェノン
4gミヒラーケトン
0.15g2−(o−クロロフェニル
)−4,5ジメトキシフ工ニルイミダゾリルニ量体
2.0gロイコクリスタルバイオレット 0.5
gp−メトキシフェノール 0.1g上
記組成物を使用した以外は、実施例1と同様に行った。
その結果、吸光度の差は0.4o、解像度は250μま
でしか再現できず、感度は5段であった。また、500
秒スプレー現像したところ、テントが破れていた。また
、メツキ後断面観察う行ったところ、250μの画線で
メツキもぐりが認められた。
でしか再現できず、感度は5段であった。また、500
秒スプレー現像したところ、テントが破れていた。また
、メツキ後断面観察う行ったところ、250μの画線で
メツキもぐりが認められた。
(発明の効果)
本発明の光硬化性組成物は、上述の如き構成であるので
、画像形成材料として使用すると、光画像の形成時の光
硬化の感度と画像のコントラストに優れ、しかも解像度
の高い画像が得られる。さらに、光硬化層は、耐エツチ
ング性や耐メツキ性に優れ、プリント配線板の製造等の
高精度の要求される用途に用いて有効である。
、画像形成材料として使用すると、光画像の形成時の光
硬化の感度と画像のコントラストに優れ、しかも解像度
の高い画像が得られる。さらに、光硬化層は、耐エツチ
ング性や耐メツキ性に優れ、プリント配線板の製造等の
高精度の要求される用途に用いて有効である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、少なくとも1種のα、β−不飽和エチレン系単量体
を構成単位とするバインダー樹脂と、光重合性単量体と
、光重合開始剤と染料とを含有する光硬化性組成物にお
いて、上記染料は、下記の式( I )で示されるモノア
ゾ染料の塩を含有することを特徴とする光硬化性組成物
。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・式( I ) (式中、R_1は▲数式、化学式、表等があります▼又
は▲数式、化学式、表等があります▼ を表わし、R_2、R_3はアルキル基又はアルケニル
基を表わし、R_4、R_5は水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基又はアルコキシ基を表わし、R_6は水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルキルアミド
基を表わす。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28366887A JPH01124842A (ja) | 1987-11-10 | 1987-11-10 | 光硬化性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28366887A JPH01124842A (ja) | 1987-11-10 | 1987-11-10 | 光硬化性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01124842A true JPH01124842A (ja) | 1989-05-17 |
Family
ID=17668515
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28366887A Pending JPH01124842A (ja) | 1987-11-10 | 1987-11-10 | 光硬化性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01124842A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05165218A (ja) * | 1991-12-16 | 1993-07-02 | Nippon Zeon Co Ltd | ネガ型感光性組成物 |
JP2007199695A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-08-09 | Kansai Paint Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 |
-
1987
- 1987-11-10 JP JP28366887A patent/JPH01124842A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05165218A (ja) * | 1991-12-16 | 1993-07-02 | Nippon Zeon Co Ltd | ネガ型感光性組成物 |
JP2007199695A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-08-09 | Kansai Paint Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 |
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