JPH01119685A - 連続めっきラインにおける前処理方法 - Google Patents
連続めっきラインにおける前処理方法Info
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- JPH01119685A JPH01119685A JP27650687A JP27650687A JPH01119685A JP H01119685 A JPH01119685 A JP H01119685A JP 27650687 A JP27650687 A JP 27650687A JP 27650687 A JP27650687 A JP 27650687A JP H01119685 A JPH01119685 A JP H01119685A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、連続めっきラインのめっき前処理として行わ
れている、調帯表面の酸化スケールを酸洗除去する方法
の改良に関する。
れている、調帯表面の酸化スケールを酸洗除去する方法
の改良に関する。
連続めっきラインでは素材の綱帯表面の酸化スケールを
酸洗除去し清浄にした後にめっき浴に進入させてめっき
を行っている。 第２図は、従来の連続めっきラインに
おける前処理工程を示したものである。（１）は酸洗浴
であり鋼帯（Ｓ）を酸洗し表面スケールを除去する。（
２）は酸洗リンス浴であり、前記酸洗浴で酸洗した銅帯
表面の残存酸液を水洗除去する。銅帯はめっき浴（９）
に進入する前に工程の円滑化のために、蛇行矯正が行わ
れる。薄鋼板等では、ロールを上部１本、下部２本に配
置した、いわゆる三本ロールによる蛇行矯正が行われて
いる。しかし、比較的板厚の厚い鋼帯では重量が大きく
全長にわたって矯正が必要となる場合が多いので、図示
のように、ステアリングロール（６）による蛇行矯正が
広く行われている。
酸洗除去し清浄にした後にめっき浴に進入させてめっき
を行っている。 第２図は、従来の連続めっきラインに
おける前処理工程を示したものである。（１）は酸洗浴
であり鋼帯（Ｓ）を酸洗し表面スケールを除去する。（
２）は酸洗リンス浴であり、前記酸洗浴で酸洗した銅帯
表面の残存酸液を水洗除去する。銅帯はめっき浴（９）
に進入する前に工程の円滑化のために、蛇行矯正が行わ
れる。薄鋼板等では、ロールを上部１本、下部２本に配
置した、いわゆる三本ロールによる蛇行矯正が行われて
いる。しかし、比較的板厚の厚い鋼帯では重量が大きく
全長にわたって矯正が必要となる場合が多いので、図示
のように、ステアリングロール（６）による蛇行矯正が
広く行われている。
この矯正には比較的長い走行距離を要するので設備を立
体化してステアリングロールの前後に立下がり、立上が
りを設けることによりスペースの短縮をはかっている。
体化してステアリングロールの前後に立下がり、立上が
りを設けることによりスペースの短縮をはかっている。
、このように、蛇行矯正工程を含むめっき前処理工程を
通る鋼帯は、めっき浴（９）に到るまでの間に少なから
ぬ時間を要するので、銅帯表面には大気の接触による再
酸化スケールを生成する。この防止のために、スプレー
ノズル（３）、 （４）、 （５）からのミストスプレ
ーにより鋼帯表面に水膜を形成させ大気との接触を遮断
するようにしている。
通る鋼帯は、めっき浴（９）に到るまでの間に少なから
ぬ時間を要するので、銅帯表面には大気の接触による再
酸化スケールを生成する。この防止のために、スプレー
ノズル（３）、 （４）、 （５）からのミストスプレ
ーにより鋼帯表面に水膜を形成させ大気との接触を遮断
するようにしている。
上記のように、鋼帯は酸洗後、酸液除去のためにリンス
し、更にミストスプレーにより水膜を作り表面を保護さ
れている。この水膜が部分的に蒸発消失し、調帯表面が
乾燥、露出してくるとその部分は大気と接触して表面の
酸化が進行し、うすい再酸化スケールが発生する。この
再酸化スケールは水膜の切れた状況により斑模様や地図
状の模様を示し水膜を持続している他の部分とは外観上
も相違が判然とし、放置すれば発錆が進行し赤錆となる
。このような再酸化スケールによる模様はめっき浴に入
っても変化せず表面状況の相違からめっき外観を著しく
損ねる事となる。また再酸化スケールが残っている表面
はめっき金属が充分に密着せず剥離するので使用できな
くなることがあった。
し、更にミストスプレーにより水膜を作り表面を保護さ
れている。この水膜が部分的に蒸発消失し、調帯表面が
乾燥、露出してくるとその部分は大気と接触して表面の
酸化が進行し、うすい再酸化スケールが発生する。この
再酸化スケールは水膜の切れた状況により斑模様や地図
状の模様を示し水膜を持続している他の部分とは外観上
も相違が判然とし、放置すれば発錆が進行し赤錆となる
。このような再酸化スケールによる模様はめっき浴に入
っても変化せず表面状況の相違からめっき外観を著しく
損ねる事となる。また再酸化スケールが残っている表面
はめっき金属が充分に密着せず剥離するので使用できな
くなることがあった。
本発明は、このような問題を解決するためになされたも
のである。
のである。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明は、
連続めっきラインの前処理として酸洗、酸洗リンス、ミ
ストスプレー、めっき前リンスを行うめっきラインにお
いて、ミストスプレー後に酸洗を行い工程途中に発生し
た再酸化スケールを溶解除去しその後にめっき前リンス
する事を特徴としている。
連続めっきラインの前処理として酸洗、酸洗リンス、ミ
ストスプレー、めっき前リンスを行うめっきラインにお
いて、ミストスプレー後に酸洗を行い工程途中に発生し
た再酸化スケールを溶解除去しその後にめっき前リンス
する事を特徴としている。
連続めっきされる調帯は表面スケールを酸洗除去後ミス
トスプレーによる水の皮膜で保護しつつめっき浴に入る
のであるが銅帯の状況により水膜による保護が出来ず薄
い再酸化スケールの発生は避けられない。このような場
合、稀薄な酸により再酸洗すれば再び清浄な表面となり
めっき浴に進入させてめっきした場合良好な表面が得ら
れる。
トスプレーによる水の皮膜で保護しつつめっき浴に入る
のであるが銅帯の状況により水膜による保護が出来ず薄
い再酸化スケールの発生は避けられない。このような場
合、稀薄な酸により再酸洗すれば再び清浄な表面となり
めっき浴に進入させてめっきした場合良好な表面が得ら
れる。
酸洗後の鋼帯表面に水を噴霧するためのスプレーノズル
（３） 、 （４） 、 （５）は、全面にわたって均
一な水膜が形成されるように各ノズルの噴霧が相互に補
完するように配置することが望ましく、完全に表面を被
覆するために広角ノズルの設置が必要である。従って表
面全体にわたって確実に大気を遮断し清浄な表面が大気
と接触することによる再酸化スケールの発生を防止して
いる。綱帯は水平方向に走行する時は上下に設置したミ
ストスプレーにより表・裏面に水膜を形成して進行する
。銅帯は蛇行修整のためにステアリングロールによる調
整を行うので、鋼帯は垂直方向に立下がり、立上がるよ
うになる。この場合は前後に設置したミストスプレーに
より表・裏面に水膜を形成して進行する。調帯のめっき
速度が比較的速り５０〜１００ｍ／分の場合には水膜に
よる保護は容易であるが、低速の５〜３０ｍ／分の場合
には酸洗後めっき浴Ｇ立入る迄の時間が長くなり大気と
接触する機会が長くなるため水膜の保護が不充分となり
再酸化スケールが生成しやすくなる。このような再酸化
スケールは銅帯の状況によって水膜が切れたために生成
したものであるから生成後の経過時間も短く、再酸化ス
ケールによる鋼帯表面に生成した斑模様、地図状模様も
深く侵食した状態ではない。従って稀薄な酸による酸洗
であっても容易に溶解し除去できる。酸液の組成は、硫
酸の場合０．５シ５％溶液、塩酸の場合０．３〜３％溶
液で充分であり黒皮のスケールや赤さびを除去する場合
のような高濃度を必要としない。再酸洗後の表面は再酸
化スケール付着前の清浄な表面と変わらず平滑であり表
面に現れた模様も消失している。めっき浴通過後のめっ
き鋼帯表面は良好であり美麗な外観を呈しめっき金属の
密着性も良好である。
（３） 、 （４） 、 （５）は、全面にわたって均
一な水膜が形成されるように各ノズルの噴霧が相互に補
完するように配置することが望ましく、完全に表面を被
覆するために広角ノズルの設置が必要である。従って表
面全体にわたって確実に大気を遮断し清浄な表面が大気
と接触することによる再酸化スケールの発生を防止して
いる。綱帯は水平方向に走行する時は上下に設置したミ
ストスプレーにより表・裏面に水膜を形成して進行する
。銅帯は蛇行修整のためにステアリングロールによる調
整を行うので、鋼帯は垂直方向に立下がり、立上がるよ
うになる。この場合は前後に設置したミストスプレーに
より表・裏面に水膜を形成して進行する。調帯のめっき
速度が比較的速り５０〜１００ｍ／分の場合には水膜に
よる保護は容易であるが、低速の５〜３０ｍ／分の場合
には酸洗後めっき浴Ｇ立入る迄の時間が長くなり大気と
接触する機会が長くなるため水膜の保護が不充分となり
再酸化スケールが生成しやすくなる。このような再酸化
スケールは銅帯の状況によって水膜が切れたために生成
したものであるから生成後の経過時間も短く、再酸化ス
ケールによる鋼帯表面に生成した斑模様、地図状模様も
深く侵食した状態ではない。従って稀薄な酸による酸洗
であっても容易に溶解し除去できる。酸液の組成は、硫
酸の場合０．５シ５％溶液、塩酸の場合０．３〜３％溶
液で充分であり黒皮のスケールや赤さびを除去する場合
のような高濃度を必要としない。再酸洗後の表面は再酸
化スケール付着前の清浄な表面と変わらず平滑であり表
面に現れた模様も消失している。めっき浴通過後のめっ
き鋼帯表面は良好であり美麗な外観を呈しめっき金属の
密着性も良好である。
なお、再酸洗後めっき浴進入前のリンスを行う際、残存
酸液がめつき浴に混入すると浴組成を汚染するのでめっ
き浴が硫酸の場合は硫酸酸洗、塩酸の場合は塩酸酸洗と
して異なる酸イオンの侵入を無くし汚染防止することが
必要である。
酸液がめつき浴に混入すると浴組成を汚染するのでめっ
き浴が硫酸の場合は硫酸酸洗、塩酸の場合は塩酸酸洗と
して異なる酸イオンの侵入を無くし汚染防止することが
必要である。
本発明のめっき前処理方法を図面により説明する。第１
図において（１）は酸洗槽であり通常使用されている硫
酸、塩酸等の溶液によって銅帯表面の酸化スケールを除
去する。（２）は酸洗後の水洗槽であり鋼帯に付着した
酸液を除去する。（３）、（４）、（５）はそれぞれ広
角スプレーノズルであり水を銅帯に噴霧し、その水膜に
より大気との接触を遮断し再酸化スケールの生成を防止
している。
図において（１）は酸洗槽であり通常使用されている硫
酸、塩酸等の溶液によって銅帯表面の酸化スケールを除
去する。（２）は酸洗後の水洗槽であり鋼帯に付着した
酸液を除去する。（３）、（４）、（５）はそれぞれ広
角スプレーノズルであり水を銅帯に噴霧し、その水膜に
より大気との接触を遮断し再酸化スケールの生成を防止
している。
（４）はステアリングロールによる銅帯蛇行の調整のた
め鋼帯が垂直方向に立下がっているので前後よりスプレ
ーしている。（５）は銅帯が垂直方向に立上がるので前
後からスプレーしている。（６）はステアリングロール
で銅帯の蛇行修整のために調整を行っている。（７）は
酸洗槽であって鋼帯の再酸化スケールを稀薄の酸によっ
て除去している。
め鋼帯が垂直方向に立下がっているので前後よりスプレ
ーしている。（５）は銅帯が垂直方向に立上がるので前
後からスプレーしている。（６）はステアリングロール
で銅帯の蛇行修整のために調整を行っている。（７）は
酸洗槽であって鋼帯の再酸化スケールを稀薄の酸によっ
て除去している。
（８）は酸洗後の水洗槽であり、銅帯に付着した酸液を
除去するとともに、めっき浴進入前の水洗によって鋼帯
表面の付着物や塵埃を洗い流すめっき前リンスを行って
いる。
除去するとともに、めっき浴進入前の水洗によって鋼帯
表面の付着物や塵埃を洗い流すめっき前リンスを行って
いる。
このように鋼帯を酸洗して酸化スケールを除去した後、
ミストスプレーにより水膜を形成して清浄な表面を保護
し、調帯の状況によって再酸化スケールを生じても稀薄
の酸液によって除去するめっき前処理方法を行えば、美
麗な外観を有ししかも密着性の優れためっき鋼帯を得ら
れるのである。
ミストスプレーにより水膜を形成して清浄な表面を保護
し、調帯の状況によって再酸化スケールを生じても稀薄
の酸液によって除去するめっき前処理方法を行えば、美
麗な外観を有ししかも密着性の優れためっき鋼帯を得ら
れるのである。
本発明のめっき前処理方法は、めっき浴進入直前に調帯
表面に存在する再酸化スケールを除去することにより良
好なめっき表面を得られる。しかも、このスケール除去
は稀薄な酸を使用して充分にその目的を達成することが
でき、高濃度、長時間の酸洗を必要としない。また銅帯
表面が清浄な状態でめっき浴に入るため、めっき後の表
面が良好でありめっき金属の密着性が優れている。また
、酸濃度が薄いので水洗による銅帯の清浄化も容易であ
り酸イオンのめっき浴つの持ちこみによる汚染も起こり
難い。従って、めっき浴組成の老化が起こり難く長時間
の使用が可能となる。
表面に存在する再酸化スケールを除去することにより良
好なめっき表面を得られる。しかも、このスケール除去
は稀薄な酸を使用して充分にその目的を達成することが
でき、高濃度、長時間の酸洗を必要としない。また銅帯
表面が清浄な状態でめっき浴に入るため、めっき後の表
面が良好でありめっき金属の密着性が優れている。また
、酸濃度が薄いので水洗による銅帯の清浄化も容易であ
り酸イオンのめっき浴つの持ちこみによる汚染も起こり
難い。従って、めっき浴組成の老化が起こり難く長時間
の使用が可能となる。
第１図は本発明の連続めっきラインの前処理工程図、第
２図は従来の連続めっきラインの前処理工程図である。 １：酸洗槽、２：酸洗リンス槽、３，４．５：ミストス
プレーノズル、６；ステアリングロール、７：酸洗槽、
８：Ｍ洗槽、９：めっき浴槽。
２図は従来の連続めっきラインの前処理工程図である。 １：酸洗槽、２：酸洗リンス槽、３，４．５：ミストス
プレーノズル、６；ステアリングロール、７：酸洗槽、
８：Ｍ洗槽、９：めっき浴槽。
Claims (1)
- （１）連続めっきラインの前処理として酸洗、酸洗リン
ス、ミストスプレーを行うめっきラインにおいて、ミス
トスプレー後に酸洗を行うことにより前記酸洗後に発生
した再酸化スケールを溶解除去し、その後にめっき前リ
ンスを行うことを特徴とする前処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27650687A JPH01119685A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 連続めっきラインにおける前処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27650687A JPH01119685A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 連続めっきラインにおける前処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01119685A true JPH01119685A (ja) | 1989-05-11 |
Family
ID=17570414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27650687A Pending JPH01119685A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 連続めっきラインにおける前処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01119685A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6509275B1 (en) | 1998-10-09 | 2003-01-21 | Tdk Corporation | Method of manufacturing thin film and pretreating method thereof |
-
1987
- 1987-10-30 JP JP27650687A patent/JPH01119685A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6509275B1 (en) | 1998-10-09 | 2003-01-21 | Tdk Corporation | Method of manufacturing thin film and pretreating method thereof |
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