JPH01109719A - Automatic alignment method for optical aligner - Google Patents
Automatic alignment method for optical alignerInfo
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- JPH01109719A JPH01109719A JP62267915A JP26791587A JPH01109719A JP H01109719 A JPH01109719 A JP H01109719A JP 62267915 A JP62267915 A JP 62267915A JP 26791587 A JP26791587 A JP 26791587A JP H01109719 A JPH01109719 A JP H01109719A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、微細加工用光露光装置において、露光用フォ
トマスクと被露光基板とをオートアライメントする方法
に間する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of automatically aligning an exposure photomask and a substrate to be exposed in an optical exposure apparatus for microfabrication.
従来の技術を図面を参照しつつ説明する。 A conventional technique will be explained with reference to the drawings.
従来、光n光装置において°、フォトレジストが塗布さ
れている被露光対象基板(以下プレートと記す)上のア
ライメントマーク(第2図)と露光パターンが形成され
ている露光用フォトマスク(以下マスクと記す)上のア
ライメントマーク(第3図)をレーザ光(例えばHe−
Neレーザ)で走査しく第4図)、それぞれのアライメ
ントマークのパターンエツジからの回折光を光電変換し
、その電気信号(第5図)からマスクとプレートの相対
的ズレ量を算出して、パルスモータの駆動やエアベアリ
ングの空気圧調整等により、マスクアライメントマーク
に対しプレートアライメントマークを合致させる方法が
あることが知られている。Conventionally, in a photonic device, an exposure photomask (hereinafter referred to as a mask) is used in which an alignment mark (Fig. 2) and an exposure pattern are formed on a substrate to be exposed (hereinafter referred to as a plate) coated with a photoresist. laser beam (e.g. He-
The diffracted light from the pattern edge of each alignment mark is photoelectrically converted, and the relative misalignment between the mask and the plate is calculated from the electric signal (Fig. 5), and the pulse It is known that there is a method of aligning the plate alignment mark with the mask alignment mark by driving a motor or adjusting the air pressure of an air bearing.
また、上記オートアライメントを実現する光学、 系
の例として投影露光装置の場合、第6図のような光学系
があることが知られている。即ち、レーザ発振器601
から発振したレーザ光は走査系602を通り、分割プリ
ズム603で左右両光路に分けられ、左右にあるマスク
609のアライメントマークを通り、投影光学系610
によりプレート611のアライメントマークに投影され
る。−方マスク609およびプレート611上をレーザ
光が走査する場合、パターンがなければ正反射し、光路
を逆に戻り、ハーフミラ−605a、605bを経てマ
スクプレート信号検出器604a、604bに入射され
るが、この正反射光成分に対しては遮蔽物体を装着して
あり、電気信号は現れない。しかし、マスク609ある
いはプレート611にパターンの凸凹があると、回折、
乱反射が起こる。この光のみを検出する方法がとられて
いる。Furthermore, in the case of a projection exposure apparatus, an optical system as shown in FIG. 6 is known as an example of an optical system for realizing the above-mentioned auto-alignment. That is, the laser oscillator 601
The laser beam oscillated from the laser beam passes through the scanning system 602, is divided into left and right optical paths by the splitting prism 603, passes through alignment marks on the left and right masks 609, and passes through the projection optical system 610.
is projected onto the alignment mark on the plate 611. When a laser beam scans the mask 609 and plate 611, if there is no pattern, it will be specularly reflected, return along the optical path in the opposite direction, and enter mask plate signal detectors 604a and 604b via half mirrors 605a and 605b. A shielding object is installed for this specularly reflected light component, so no electrical signal appears. However, if the mask 609 or plate 611 has uneven patterns, diffraction and
Diffuse reflection occurs. A method is used to detect only this light.
1(第7図)
〔発明が解決しようとする問題点〕
近年、微細加工技術の進歩、加工対象の多様化により、
フォトリソグラフィに用いられるフォトレジストに種々
の分光反射率(透過率)特性を有するものが出現してい
る。しかし上記の従来の技術においては、単一の単波長
のレーザ光でオートアライメント操作を行うことから、
プレート上のアライメントマークあるいはフォトレジス
トの分光特性によっては十分な回折光が得られない場合
があり、この時光電変換しても微弱な電気信号しか得ら
れずオートアライメントが遂行されない、遂行されに(
いなどの問題点がある。又、微弱な電気信号しか得られ
ないことにより、信号対雑音比(S/N比)が悪化し、
雑音を信号と誤検出してアライメント不良を起こす可能
性があるという問題点もある。そこで本発明は、光露光
装置においていかなる分光特性のアライメントマークお
よびフォトレジストであってもマスクとアライメントを
高精度に行う方法の提供を目的とする。1 (Figure 7) [Problems to be solved by the invention] In recent years, with the progress of microfabrication technology and the diversification of processing objects,
Photoresists used in photolithography have appeared that have various spectral reflectance (transmittance) characteristics. However, in the above-mentioned conventional technology, auto-alignment operation is performed using a single single wavelength laser beam.
Depending on the alignment mark on the plate or the spectral characteristics of the photoresist, it may not be possible to obtain sufficient diffracted light, and in this case, even if photoelectric conversion is performed, only a weak electrical signal will be obtained, and auto-alignment will not be performed or may not be performed (
There are problems such as: In addition, since only a weak electrical signal can be obtained, the signal-to-noise ratio (S/N ratio) deteriorates,
Another problem is that noise may be mistakenly detected as a signal, resulting in alignment failure. SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a method in which alignment marks and photoresists of any spectral characteristics can be aligned with a mask with high precision in an optical exposure apparatus.
本発明は、フォトレジストが塗布されている被露光対象
基板上のアライメントマークと、露光パターンが形成さ
れている露光用フォトマスク上のアライメントマークを
レーザ光で走査し、それぞれのアライメントマークのパ
ターンエツジからの回折光を光電変換し、その電気信号
から両者の相対的なズレ量を算出してオートアライメン
トする方法において、少なくとも三波長以上のレーザ光
を発振することが可能なレーザ発振器により、基板上の
アライメントマークおよび塗布したフォトレジストの分
光反射率特性に応じてレーザ光の波長を選択し、オート
アライメントマークの相対位置を表す電気信号強度を高
め、アライメント精度を良好にすることにより、上記の
問題点を解決しえたものである。The present invention scans an alignment mark on a substrate to be exposed coated with photoresist and an alignment mark on an exposure photomask on which an exposure pattern is formed with a laser beam, and then scans the pattern edge of each alignment mark. In this method, auto-alignment is performed by photoelectrically converting the diffracted light from the substrate and calculating the relative deviation between the two from the electrical signal. The above problem can be solved by selecting the wavelength of the laser beam according to the spectral reflectance characteristics of the alignment mark and the applied photoresist, increasing the strength of the electric signal representing the relative position of the auto-alignment mark, and improving the alignment accuracy. This solved the problem.
オートアライメント用走査光を、複数の波長のレーザ光
の中から選択できることから、いかなる分光特性のオー
トアライメントマークおよびフォトレジストであっても
十分な強度の回折光および乱反射光が得られる。Since the auto-alignment scanning light can be selected from laser beams of a plurality of wavelengths, diffracted light and diffusely reflected light with sufficient intensity can be obtained for auto-alignment marks and photoresists of any spectral characteristics.
以下、図面を用いて実施例を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments will be described in detail using the drawings.
第1図に示すように、従来の技術における光学系に加え
て、異なる波長のレーザ光を発振するレーザ発振器1〜
5を複数用い、波長選択器により所望の走査レーザ光の
波長を選択する。レーザ発振器は、できる夫は広い波長
域にわたるように選択する。従ってマスクプレート信号
検出器10a。As shown in FIG. 1, in addition to the optical system in the conventional technology, laser oscillators 1 to 1 emit laser beams of different wavelengths.
5 is used, and a desired wavelength of the scanning laser beam is selected by a wavelength selector. The laser oscillator is selected to cover as wide a wavelength range as possible. Hence the mask plate signal detector 10a.
10bおよびマスク・ダイレクト信号検出器12a、1
2b光電変換素子もレーザ光の波長に合わせ広い波長域
にわたるような分光感度特性を持つものを選択する。10b and mask direct signal detector 12a, 1
The photoelectric conversion element 2b is also selected to have spectral sensitivity characteristics that cover a wide wavelength range in accordance with the wavelength of the laser beam.
例えば、レーザ発振器1から発振した波長λ。For example, the wavelength λ oscillated by the laser oscillator 1.
のレーザ光は6aのミラー、6bのハーフミラ−を経て
、波長選択器7に入射し、走査系8で走査され、分割プ
リズム9にて左右それぞれの対物レンズ14a、14b
に分割され、片視野毎にマスクおよびプレートを走査す
る。そして正反射光は遮蔽され、回折光および乱反射光
のみを検出して光電変換し、得られた電気信号からマス
ク・プレート間の相対ズレ量を算出してその情報を機器
制御系へ伝達し、マスクアライメントマークとプレ−ト
アライメントマークを合致させる。もし、波長λ1のレ
ーザ光でフォトレジスト等の分光特性との関係で微弱な
電気信号しか得られずオートアライメントが遂行されな
い、あるいは遂行しにくいという結果が得られた場合は
他の波長のレーザ光にて行うことができる。The laser beam passes through a mirror 6a and a half mirror 6b, enters a wavelength selector 7, is scanned by a scanning system 8, and is sent to left and right objective lenses 14a and 14b by a splitting prism 9.
The mask and plate are scanned for each field of view. Then, the specularly reflected light is blocked, and only the diffracted light and diffusely reflected light are detected and photoelectrically converted, and the relative misalignment between the mask and plate is calculated from the obtained electrical signal, and this information is transmitted to the equipment control system. Match the mask alignment mark and plate alignment mark. If a laser beam with a wavelength of λ1 yields only a weak electrical signal due to the spectral characteristics of the photoresist, etc., and results in auto-alignment not being performed or difficult to perform, use a laser beam of another wavelength. This can be done at
本発明によれば、複数の波長のレーザ光のオートアライ
メント光源を有する光露光装置において、アライメント
マークおよびフォトレジストの分光特性に応じてそれに
適した波長のレーザ光を用いてオートアライメントを行
うことができるので、S/N比の良好な電気信号が得ら
れ、高精度なオートアライメントが可能になるという利
点を有する。According to the present invention, in an optical exposure apparatus having an auto-alignment light source of laser beams of multiple wavelengths, auto-alignment can be performed using laser beams of wavelengths suitable for the spectral characteristics of alignment marks and photoresist. This has the advantage that an electrical signal with a good S/N ratio can be obtained and highly accurate auto-alignment can be performed.
第1図は本発明の複数の波長のレーザ光を有するオート
アライメント系を示す模式図、第2図はプレートアライ
メントマーク、第3図はマスクアライメントマーク、第
4図はプレートアライメントマークとマスクアライメン
トマークをレーザ光で走査していることを示し、第5図
は光電変換された電気信号波形を示している。第6図は
従来の技術によるレーザ走査オートアライメント光学系
を示す模式図である。第7図はプレート上にアライメン
トマークとフォトレジストがある場合、照射されたレー
ザ光の反射の様子を示す断面図である。
1.2.3.4.5.601・・レーザ発振器6a、6
d・・・・・・・・・・ミラー6b、6cS lla、
、11b、13a、13b605a、605b、607
a、607b・・・・・・ハーフミラ−
7・・・波長選択器、8.602・・走査系9.603
・・・・・・・・・・分割プリズム10a、 10b
、 604a、 604b・・・マスクプレート信
号検出器
12a、12b、606a、606b
・・マスクダイレクト信号検出器
14a、14b、608a、608b、74・・・・・
対物レンズ
15.609・・・・・・露光用フォトマスク16.6
10・・・・・・投影光学系
17.611・・・・・・被露光対象基板41・・・・
レーザ走査光。71・・・・基板72・・・・・・アラ
イメントマークパターン73・・・・・・フォトレジス
ト
75a、?、5 b・・・・・回折および乱反射光76
a、76b・・・・・正反射先
出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理
士 蛭用 昌信(外2名)第2図
第3図
第4図
4]
第5図
第6図Fig. 1 is a schematic diagram showing an auto-alignment system having laser beams of multiple wavelengths according to the present invention, Fig. 2 is a plate alignment mark, Fig. 3 is a mask alignment mark, and Fig. 4 is a plate alignment mark and a mask alignment mark. FIG. 5 shows the photoelectrically converted electric signal waveform. FIG. 6 is a schematic diagram showing a conventional laser scanning auto-alignment optical system. FIG. 7 is a cross-sectional view showing how the irradiated laser beam is reflected when there are alignment marks and photoresist on the plate. 1.2.3.4.5.601...Laser oscillator 6a, 6
d・・・・・・・・・Mirror 6b, 6cS lla,
, 11b, 13a, 13b605a, 605b, 607
a, 607b...Half mirror 7...Wavelength selector, 8.602...Scanning system 9.603
・・・・・・・・・Split prisms 10a, 10b
, 604a, 604b...Mask plate signal detectors 12a, 12b, 606a, 606b...Mask direct signal detectors 14a, 14b, 608a, 608b, 74...
Objective lens 15.609...Exposure photomask 16.6
10...Projection optical system 17.611...Substrate to be exposed 41...
Laser scanning light. 71...Substrate 72...Alignment mark pattern 73...Photoresist 75a, ? , 5 b...Diffraction and diffusely reflected light 76
a, 76b... specular reflection First applicant Dai Nippon Printing Co., Ltd. Agent Patent attorney Masanobu Hiruyou (2 others) Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 4] Figure 5 Figure 6
Claims (1)
アライメントマークと、露光パターンが形成されている
露光用フォトマスク上のアライメントマークをレーザ光
で走査し、それぞれのアライメントマークのパターンエ
ッジからの回折光を光電変換し、その電気信号から両者
の相対的なズレ量を算出してオートアライメントする方
法において、少なくとも二波長以上のレーザ光を発振す
ることが可能なレーザ発振器により、基板上のアライメ
ントマークおよび塗布したフォトレジストの分光反射率
特性に応じてレーザ光の波長を選択し、オートアライメ
ントマークの相対位置を表す電気信号強度を高め、アラ
イメント精度を良好にすることを特徴とする光露光装置
のオートアライメント方法。The alignment mark on the substrate to be exposed on which photoresist is coated and the alignment mark on the exposure photomask on which the exposure pattern is formed are scanned with a laser beam, and the diffracted light from the pattern edge of each alignment mark is scanned. In this method, the alignment mark and An automatic optical exposure device characterized by selecting the wavelength of a laser beam according to the spectral reflectance characteristics of the applied photoresist, increasing the intensity of an electric signal representing the relative position of an auto-alignment mark, and improving alignment accuracy. Alignment method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62267915A JPH01109719A (en) | 1987-10-22 | 1987-10-22 | Automatic alignment method for optical aligner |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62267915A JPH01109719A (en) | 1987-10-22 | 1987-10-22 | Automatic alignment method for optical aligner |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01109719A true JPH01109719A (en) | 1989-04-26 |
Family
ID=17451388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62267915A Pending JPH01109719A (en) | 1987-10-22 | 1987-10-22 | Automatic alignment method for optical aligner |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01109719A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03225815A (en) * | 1990-01-31 | 1991-10-04 | Canon Inc | Aligner |
-
1987
- 1987-10-22 JP JP62267915A patent/JPH01109719A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03225815A (en) * | 1990-01-31 | 1991-10-04 | Canon Inc | Aligner |
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