JP7846530B2 - ウエハボート - Google Patents

Description

本開示は、概して、複数のウエハを支持し、かつ垂直バッチ炉のペデスタル上に定置されるように構成されたウエハボートに関する。

ほとんどの垂直バッチ炉には、ウエハボートを支持するため、および前記ウエハボートをプロセスチャンバへと移動するためのペデスタルが提供されている。典型的には、ウエハボートは、ペデスタル上の小さい円筒状の足部に定置される。ペデスタルは、ウエハボートをプロセスチャンバ内のプロセス位置へと垂直に移動させてもよい。

この発明の概要は、概念の選択を単純化した形態で紹介するために提供される。これらの概念は、以下の本開示の例示的な実施形態の「発明を実施するための形態」において、さらに詳細に記述される。この「発明の概要」は、特許請求される主題の主要な特徴または本質的な特徴を特定することを意図するものではなく、また特許請求される主題の範囲を限定するために使用されることも意図するものでもない。

ウエハボート内のウエハの均一な処理、例えば、ウエハボート内のウエハの表面上への材料の均一な堆積を得るために、プロセスチャンバに対して、ウエハボートを一直線かつ同心に位置付けることが必要とされる場合があることが理解される。したがって、ウエハボートが垂直バッチ炉のペデスタルの上へと定置される時、底部または接触面は高いレベルの平坦度を有する必要がある場合がある。高いレベルの平坦度は、ウエハボートの傾きを防止し、またウエハボートとプロセスチャンバとの間で一直線の整列を可能にする。十分なレベルの平坦度を有しないと、プロセスチャンバに対してウエハボートの傾きをもたらす場合があり、これは、例えば、前記プロセスにおいて不均一な堆積をもたらす場合がある。

さらに、ウエハボートとペデスタルとの間の接触面は小さいことが望ましい場合がある。接触面が小さいと、ウエハボートからペデスタルへの熱伝導を最小化し、それ故に熱損失を最小化する場合がある。

したがって、十分なレベルの平坦度を達成しうる、前記ペデスタルの上に定置されたウエハボートとともにペデスタルの回転を可能にしうる、かつ熱損失を最小化しうる、ペデスタルに対する整列システムを備えうるウエハボートを提供することが、目的であってもよい。

その目的で、請求項１に記載のウエハボートが提供されてもよい。より具体的には、複数のウエハを支持し、かつ垂直バッチ炉のペデスタル上に定置されるように構成されたウエハボートが提供されてもよい。ペデスタルは、実質的に平坦な支持面を有してもよい。ウエハボートは、中央ウエハボート軸を画定してもよく、これは、ウエハボートがペデスタル上に定置された時、実質的に垂直に延在してもよい。ウエハボートは、支持リングおよび整列リングを備えてもよい。支持リングは、実質的に平坦なウエハボートの底端部表面を画定してもよい。整列リングは、支持リングと実質的に同心であってもよい。ペデスタルの支持面または整列リングの底部側のいずれかには、それぞれ支持面から上向きに、または整列リングから下向きに突出する複数の整列要素が提供されてもよい。支持面および整列リングのうちのもう一方には、複数の整列要素をその中に収容するように構成された複数の整列開口部が提供されてもよい。支持リングは、中央ウエハボート軸の方向に整列リングを超えて下向きに突出してもよく、そのため、ウエハボートがペデスタル上に定置された時、支持リングは支持面上に支持されてもよく、一方で整列リングはペデスタルの支持面から離間してもよい。

また、請求項１７に記載のウエハボートを整列および回転させるためのアセンブリが提供されてもよい。アセンブリは、本明細書によるウエハボート、およびペデスタルを備えてもよい。ペデスタルは、実質的に平坦な支持面と、整列リング内の複数の整列開口部内に収容されるように構成された、前記支持面から上向きに突出する複数の整列要素、またはその中に整列リング上の複数の整列要素を収容するように構成された複数の整列開口部のいずれかとを備えてもよい。

請求項１９に記載のウエハを処理するための垂直バッチ炉アセンブリがさらに提供されてもよい。垂直バッチ炉アセンブリは、プロセスチャンバ、ウエハ取り扱い空間、およびウエハボート取り扱い装置をさらに備えてもよい。プロセスチャンバは、熱処理または化学処理をウエハのバッチに適用するように構成されてもよい。ウエハ取り扱い空間には、本明細書によるアセンブリが提供されてもよい。ウエハボート取り扱い装置は、ウエハ取り扱い空間とプロセスチャンバとの間でアセンブリを移送するように構成されてもよい。

先行技術を超えて達成される本発明および利点を要約するために、本発明のある特定の目的および利点が、本明細書で上述されてきた。当然のことながら、必ずしもこうした目的または利点の全てが本発明の任意の特定の実施形態によって達成され得るとは限らないことが理解されるべきである。それ故に、例えば、本明細書において教示または示唆されうる通りの他の目的または利点を必ずしも達成することなく、本明細書において教示または示唆される通りの１つの利点または一群の利点を達成または最適化する様態で、本発明が具体化または実行されてもよいことを当業者は認識するであろう。

様々な実施形態が従属請求項において特許請求され、これは図に示される例を参照してさらに明らかにされる。実施形態は組み合わされてもよく、または互いに分離して適用されてもよい。

これらの実施形態の全てが、本明細書に開示した本発明の範囲内であることが意図されている。これらの実施形態および他の実施形態は、以下の添付の図面を参照するある特定の実施形態の以下の「発明を実施するための形態」から当業者に容易に明らかとなることになり、本発明は開示されるいかなる特定の実施形態にも限定されない。

本明細書は、本発明の実施形態と見なされるものを具体的に指摘し、かつ明確に特許請求する特許請求の範囲で結論付ける一方で、本開示の実施形態の利点は、添付の図面と併せて読むと、本開示の実施形態のある特定の実施例の記述から、より容易に確定されうる。

図１は、本記述によるウエハボートの実施例の断面斜視図を示す。 図２は、図１の底部詳細を示す。 図３は、図２に示すようなウエハボートの実施例の底部詳細を斜視断面図で示し、同じく断面図で示されるペデスタル上に定置されている間のものである。 図４は、本記述によるウエハボートの実施例の底面図を示す。

この出願では、類似のまたは対応する特徴部は、類似のまたは対応する参照記号によって示される。様々な実施形態の記述は、図に示される実施例に限定されず、また発明を実施するための形態および特許請求の範囲で使用される参照番号は、実施形態の記述を限定することを意図しておらず、実施形態を明瞭にするために含まれる。

ある特定の実施形態および実施例を以下に開示するが、本発明の具体的に開示された実施形態および／または使用、ならびにその明白な修正および均等物を超えて本発明が延在することは、当業者によって理解されるであろう。それ故に、開示された本発明の範囲は、以下に記述される特定の開示された実施形態によって限定されるべきではないことが意図される。本明細書に提示された例示は、任意の特定の材料、構造、または装置の実際の姿であることを意味せず、本開示の実施形態を記述するために使用される、単に理想化された表現にすぎない。

本明細書で使用される場合、「ウエハ」という用語は、使用されてもよい、または装置、回路、もしくはフィルムがその上に形成されてもよい任意の下にある材料（複数可）を指す場合がある。

最も一般的な表現では、本開示は、ウエハボート１０を提供してもよい。ウエハボートは、複数のウエハを支持するように構成されてもよく、またウエハボートは、垂直バッチ炉のペデスタル１２上に定置されるように構成されてもよい。ペデスタル１２は、実質的に平坦な支持面１４を有してもよい。ウエハボート１０は、中央ウエハボート軸１６を画定してもよく、中央ウエハボート軸１６は、ウエハボート１０がペデスタル１２上に定置される時、実質的に垂直に延在してもよい。ウエハボート１０は、支持リング１８および整列リング２２を備えてもよい。支持リング１８は、実質的に平坦なウエハボート１０の底端部表面２０を画定してもよい。整列リング２２は、支持リング１８と実質的に同心であってもよい。ペデスタル１２の支持面１４または整列リング２２の底部側のいずれかには、それぞれ支持面１４から上向きに、または整列リング２２から下向きに突出する複数の整列要素２４が提供されてもよい。支持面１４および整列リング２２のうちのもう一方には、複数の整列要素２４をその中に収容するように構成された複数の整列開口部２６が提供されてもよい。支持リング１８は、中央ウエハボート軸１６の方向で整列リング２２を超えて下向きに突出してもよく、そのため、ウエハボート１０がペデスタル１２上に定置された時、支持リング１８は支持面１４上に支持されてもよく、一方で整列リング２２はペデスタル１２の支持面１４から離間してもよい。

支持リング１８および整列リング２２を利用することにより、ペデスタル１２は、ペデスタル１２上への定置の間と、ペデスタル１２上に定置された後とでは、ウエハボート１０上に異なる力を及ぼす場合がある。ペデスタル１２は、ウエハボート１０を支持し持ち上げるための垂直力を及ぼす場合がある。ペデスタル１２はまた、横断方向の水平力を及ぼしてウエハボート１０を回転させる場合もある。ペデスタル１２はさらに、水平平面に力を及ぼして、前記水平平面内でウエハボート１０を平行移動させてもよい。ペデスタル１２はまた、前記ウエハボート１０をペデスタル１２上の正しい位置へと整列させるために、ペデスタル１２に対してウエハボート１０を移動させる水平力を及ぼしてもよい。

突出する整列要素２４および整列開口部２６は、ペデスタル１２に対して、また結果としてプロセスチャンバに対しても、ウエハボート１０を正しい位置および回転角度で定置することを可能にする場合がある整列システムを形成してもよい。整列要素２４の定置および合致する整列開口部２６を注意深く選択することによって、正確な定置が達成されうる。ウエハボート１０がペデスタル１２の上に定置された時、整列要素２４は、整列開口部２６の中へと摺動して入り、ウエハボート１０をペデスタル１２と整列させうる。

ペデスタル１２の上に定置された時、支持リング１８は、垂直の支持力を受容するように構成される。同時に、整列リング２２内、または整列リング２２上の整列開口部２６または整列要素２４は、ペデスタル１２からの水平力を受容することができる。合致する整列要素２４および整列開口部２６は、ウエハボート１０への回転移動の伝達を可能にする場合がある。整列要素２４は、例えば、突出部またはロッドとして、また開口部は、合致する穴として実装されてもよい。当然のことながら、整列要素２４と整列開口部２６との間の係合は、ウエハボート１０への平行移動、または平行移動と回転との組み合わせを誘導するためにも使用されてもよい。

ウエハボート１０は、その支持リング１８の底端部表面２０をペデスタル１２の支持面１４上に置いてもよい。ウエハボート１０とペデスタル１２との間に１つの単一の接触面があってもよい。対照的に、公知のウエハボートの小さい足部は各々、別の小さい足部の接触面とは独立した接触面を有してもよい。これらの独立した接触面を用いて、十分なレベルの平坦度に達するのは困難である場合がある。１つの単一の接触面であってもよいので、対応する複数の足部の複数の接触面を用いるよりも、前記表面を製造し、かつウエハボート１０の整列のために必要な十分なレベルの平坦度を達成することがより簡単な場合がある。

伝導熱損失は、支持リング１８へと底端部表面２０を通ってのみ移動しうる。支持リング１８を使用することによって、この伝導熱損失が最小化されるように、リング１８の半径方向幅を選ぶことが可能になる。

実施形態では、支持リング１８は環状であってもよく、また内半径２８および外半径３０を有してもよい。内半径２８と外半径３０との間の差は、１０ｍｍ未満であってもよく、好ましくは４～５ｍｍであってもよい。

小さい半径方向幅のおかげで、比較的細い支持リング１８は、比較的小さい底端部表面２０を有してもよい。半径方向幅は、ウエハボートに支持を提供するために十分である必要がある場合があり、一方で小さい底端部表面は、ウエハボート１０からペデスタル１２への熱伝導損失を最小化する場合がある。

実施形態では、支持リング１８および整列リング２２は、一体的に形成されてもよい。

こうした一体的に形成された実装を用いて、支持リング１８および整列リング２２は、相互に対して固定されてもよく、これは、ウエハボート１０を構築する時の相対的な整列がもはや必要でなくなることを意味する。さらに、使用中の部品間の摩擦および摩耗が回避される。これは、ウエハボート内のウエハを汚染する場合があるごく小さい粒子または破片が生じないことを意味する。

実施形態では、整列要素２４は、支持面１４上に提供されてもよい。複数の整列開口部２６は、整列リング２２内に提供されてもよく、また支持リング１８を通して延在してもよい。別の方法として、整列要素２４は、整列リング２２の底部側上に提供されてもよく、また複数の整列開口部２６は、ペデスタル１２の支持面１４内に提供されてもよい。また、複数の整列要素２４のうちの１つ以上が支持面１４上に提供され、一方で複数の整列要素２４の別の部分が整列リング２２の底部側の上に提供されることも可能である場合がある。

実施例が図に示される一実施形態では、整列要素２４は支持面１４上に提供されてもよい。複数の整列開口部２６は、整列リング２２および任意選択的に支持リング１８を通してスロット２６として具体化されてもよい。各スロット２６は、スロット軸３２を有する実質的に直線のスロット２６であってもよい。各スロット軸３２は、整列リング２２および任意選択的に支持リング１８の中心点を通して延在してもよく、また半径方向外向きに延在してもよい。複数のスロット２６は、整列リングの円周に沿って実質的に１０５°～１３５°の中間角度にわたって周方向に離間されうる３つのスロット２６を備えてもよい。中間角度は、例えば、実質的に１１０°、実質的に１２０°、および実質的に１３０°であってもよい。

スロット２６および整列要素２４は、ペデスタル１２の上へのウエハボート１０の定置が一意でありうるように配置されてもよい。スロット２６は細長い形状を有してもよいため、突出する整列要素２４は、スロット２６の長さ方向には移動可能であるが、幅方向には移動可能ではない場合がある。スロット２６の定置を注意深く選択することによって、ペデスタル１２に対するウエハボート１０の位置は正確に決定される場合があり、一方で、固定は過度に制約されない場合がある。図４の実施例に示すように、中心点を通して延在するスロット軸３２を有することによって、ウエハボート１０は、その中心点に対して整列されてもよい。３つのスロット２６は、ウエハボート１０をペデスタル１２に対して正確に整列させ、かつ相互に対する相対的な動きを防止するのに十分である場合がある。３つの角度をほぼ均等に、しかし完全に均等でなく分散させることによって、ペデスタル１２に対するウエハボート１０の唯一の回転位置が可能になる。

代替的な実施形態では、整列要素２４は、整列リング２２上に提供されてもよく、また複数の整列開口部２６は、支持面１４内のスロットとして具体化されてもよい。

整列要素２４および整列開口部２６のこの構成は、整列要素２４がペデスタル１２上に提供され、スロット２６が整列リング２２内に提供される実施形態と同一の効果および利点を有する場合がある。

実施形態では、各スロット２６の幅は、各整列要素２４が、それぞれのスロット２６内にぴったりと嵌合するようになる場合があり、そのため関連付けられたスロット２６内の半径方向での要素の動きは可能であり、また整列リング２２の接線方向での要素の動きは阻止される。

複数のスロット２６、特に３つのスロット２６を互いに対してある角度で有することによって、ペデスタル１２に対するウエハボート１０の位置は、過度に制約されることなく画定される。これらの効果は、突出する整列要素２４が支持面１４上に提供され、かつ整列開口部２６が整列リング２２内に提供される実施形態だけでなく、突出する整列要素２４が整列リング２２上に提供され、かつ整列開口部２６が支持面１４内に提供される実施形態でも、両方とも同様に適用される。

実施例が図１に示される一実施形態では、ウエハボート１０は、中央ウエハボート軸１６に平行な、整列リング２２に接続され、かつ整列リング２２から上向きに延在する、少なくとも２つのポスト３４、好ましくは３つのポスト３４をさらに含んでもよい。各ポスト３４は、複数のウエハを支持するための複数のスリット３４を備えてもよい ウエハボートは、少なくとも２つのポスト３２の上端部に接続された上部プレート３６をさらに備えてもよい。ウエハボート１０はまた、整列リング２２から内向きに延在し、かつ整列リング２２と同心であってもよい底部プレート３８も含んでもよい。支持リング１８、整列リング２２、および底部プレート３８は、一体的に形成されてもよい。

一体的に形成された支持リング１８および整列リング２２と同様に、一体的に形成された支持リング１８、整列リング２２、および底部プレート３８は、相互に対して固定されてもよく、これは、ウエハボート１０を構築する時の相対的な整列がもはや不要になることを意味する。

さらに、使用中の部品間の摩擦および摩耗が回避される。これは、ウエハボート内のウエハを汚染する場合がある粒子または破片が生じないことを意味する。

ポスト３４は、垂直に延在してもよい。上部プレート３６は、上向きに延在するポスト３４を安定化する場合がある。複数のスリット３４は、支持されるウエハが相互に等しい距離にあるように、均等に離間されていてもよい。これは、均一な堆積プロセスをさらに促進する場合がある。

実施例が図に示される実施形態では、支持リング１８は、整列リング２２の半径方向外向きに構成されてもよい。

この実施形態では、概してウエハボートの基部として作用しうる支持リング１８は、整列リング２２より大きい直径を有してもよい。より大きい直径を有することは、支持リング１８が、ウエハボート１０により高い安定性を提供しうることを意味する。

実施形態では、支持リング１８および整列リング２２は、石英で作製されてもよい。

ウエハボート１０および整列システムは、ウエハボート材料内の高い応力につながる場合がある大きな温度差に耐えることができる必要がある場合がある。石英は、その要求を満たすために好適な場合がある。整列リング２２および支持リング１８に加えて、ウエハボート１０の他の部品も、石英で作製されてもよい。可能性としては、ポスト３２、上部プレート３６および／または底部プレート３８などである。

本開示はまた、ウエハボート１０を整列および回転させるためのアセンブリ１０、１２も提供する場合がある。アセンブリ１０、１２は、本記述によるウエハボート１０、およびペデスタル１２を備えてもよい。ペデスタル１２は、実質的に平坦な支持面１４を備えてもよく、また整列リング２２の複数の整列開口部２６内に収容されるように構成された、当該支持面１４から上向きに突出する複数の整列要素２４、またはその中に整列リング２２上の複数の整列要素２４を収容するように構成された複数の整列開口部２６のいずれかを備えてもよい。

アセンブリ１０、１２の効果および利点は、ウエハボート１０に関連して上述した利点と同様であり、これらの効果および利点は参照によりここに挿入される。

実施形態では、整列要素２４は、ペデスタル支持面１４から上向きに延在しうるピンであってもよい。

それ故に、アセンブリは、ウエハボート１０およびペデスタル１２が整列される場合があるピンおよび開口部の組み合わせ、またはピンおよびスロットの組み合わせを提供してもよい。

本開示は、ウエハを処理するための垂直バッチ炉アセンブリを提供してもよい。垂直バッチ炉アセンブリは、プロセスチャンバ、ウエハ取り扱い空間、およびウエハボート取り扱い装置をさらに備えてもよい。プロセスチャンバは、熱処理または化学処理をウエハのバッチに適用するように構成されてもよい。ウエハ取り扱い空間には、本明細書によるアセンブリ１０、１２が提供されてもよい。ウエハボート取り扱い装置は、ウエハ取り扱い空間とプロセスチャンバとの間でアセンブリ１０、１２を移送するように構成されてもよい。

垂直バッチ炉アセンブリの効果および利点は、アセンブリ１０、１２およびウエハボート１０に関連して上述した利点と同様であり、これらの効果および利点は参照により挿入される。

本発明の例示的な実施形態を、添付図面を部分的に参照しながら上述されてきたが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことが理解されるべきである。本開示の実施形態に対する変形形態は、特許請求される発明を実施する当業者によって、図面、開示、および添付の特許請求の範囲の検討から、理解および達成することができる。

本明細書全体を通して、「１つの実施形態（ｏｎｅ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」または「一実施形態（ａｎ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」への参照は、実施形態に関連して記述された特定の特徴、構造、または特性が、本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味する。それ故に、この記述全体を通して様々な個所における「１つの実施形態において（ｉｎ ｏｎｅ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」または「一実施形態において（ｉｎ ａｎ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」という句の出現は、必ずしも全てが同一の実施形態を指すわけではない。

さらに、上述の様々な実施形態のうちの１つ以上の特定の特徴、構造、または特性は、相互から独立して使用、実施されてもよく、また明示的に記述されていない新しい実施形態を形成するために任意の好適な様態で組み合わせられてもよいことが留意される。発明を実施するための形態および特許請求の範囲で使用されている参照番号は、実施形態の記述を限定せず、請求項も限定しない。参照番号は明確のためにのみ使用される。

１０－ウエハボート
１２－ペデスタル
１４－支持面
１６－中央ウエハボート軸
１８－支持リング
２０－底端部表面
２２－整列リング
２４－ピン
２６－スロット
２８－内半径（支持リングの）
３０－外半径（支持リングの）
３２－スロット軸
３２－ポスト
３４－スリット
３６－上部プレート
３８－底部プレート

Claims (19)

1. 複数のウエハを支持し、かつ垂直バッチ炉のペデスタル（１２）上に定置されるように構成されたウエハボート（１０）であって、前記ペデスタル（１２）が平坦な支持面（１４）を有し、前記ウエハボート（１０）は、前記ウエハボート（１０）が前記ペデスタル（１２）上に定置される時、垂直に延在する中央ウエハボート軸（１６）を画定し、前記ウエハボート（１０）が、
   － 前記ウエハボート（１０）の平坦な底端部表面（２０）を画定する支持リング（１８）と、
   － 前記支持リング（１８）と同心の整列リング（２２）と、を備え、
   前記ペデスタル（１２）の前記支持面（１４）、または前記整列リング（２２）の底部側のいずれかには、前記支持面（１４）から上向きにまたは前記整列リング（２２）から下向きにそれぞれ突出する複数の整列要素（２４）が提供され、かつ前記支持面（１４）および前記整列リング（２２）のもう一方には、前記複数の整列要素（２４）をその中に収容するように構成された複数の整列開口部（２６）が提供され、
   前記支持リング（１８）が、前記中央ウエハボート軸（１６）の方向で前記整列リング（２２）を超えて下向きに突出し、そのため前記ウエハボート（１０）が前記ペデスタル（１２）上に定置される時、前記支持リング（１８）は前記支持面（１４）上に支持され、一方で前記整列リング（２２）は前記ペデスタル（１２）の前記支持面（１４）から離間される、ウエハボート。
2. 前記支持リング（１８）が環状であり、かつ内半径（２８）および外半径（３０）を有し、また前記内半径（２８）と前記外半径（３０）との間の差が１０ｍｍ未満である、請求項１に記載のウエハボート。
3. 前記支持リング（１８）および前記整列リング（２２）が一体的に形成される、請求項１または２に記載のウエハボート。
4. 前記整列要素（２４）が、前記ペデスタル（１２）の前記支持面（１４）上に提供され、かつ前記複数の整列開口部（２６）が、前記整列リング（２２）内に提供され、また任意選択的に、前記支持リング（１８）を通して延在する、請求項１～３のいずれか一項に記載のウエハボート。
5. 前記複数の整列開口部（２６）が、前記整列リング（２２）を通るスロット（２６）として具体化され、かつ任意選択的に前記支持リング（１８）を通して延在する、請求項１～４のいずれか一項に記載のウエハボート。
6. 各スロット（２６）が、スロット軸（３２）を有する直線のスロットであり、各スロット軸（３２）が、前記整列リング（２２）の中心点および任意選択的に前記支持リング（１８）を通して延在し、かつ半径方向外向きに延在する、請求項５に記載のウエハボート。
7. 複数のスロット（２６）が、前記整列リングの円周に沿って１０５°～１３５°の中間角度にわたって周方向に離間された３つのスロット（２６）を備える、請求項６に記載のウエハボート。
8. 前記中間角度が、１１０°、１２０°、および１３０°である、請求項７に記載のウエハボート。
9. 前記整列要素（２４）が、前記整列リング（２２）上に提供され、かつ前記複数の整列開口部（２６）が、前記支持面（１４）内のスロットとして具体化される、請求項１～３のいずれか一項に記載のウエハボート。
10. 各スロット（２６）の幅は、各整列要素がそれぞれのスロット（２６）内にぴったりと嵌合するものであり、そのため関連付けられたスロット（２６）内の半径方向での整列要素の動きが可能であり、かつ前記整列リング（２２）の接線方向での整列要素の動きは阻止される、請求項５～９のいずれか一項に記載のウエハボート。
11. 前記中央ウエハボート軸（１６）と平行な、前記整列リング（２２）に接続され、かつそこから上向きに延在する少なくとも２つのポスト（３４）をさらに備え、各ポスト（３４）が、複数のウエハを支持するための複数のスリット（３４）を含む、請求項１～１０のいずれか一項に記載のウエハボート。
12. 前記少なくとも２つのポスト（３２）の上端部に接続された上部プレート（３６）をさらに備える、請求項１１に記載のウエハボート。
13. 前記整列リング（２２）から内向きに延在し、かつ前記整列リング（２２）と同心である底部プレート（３８）を備える、請求項１１または１２に記載のウエハボート。
14. 前記支持リング（１８）、前記整列リング（２２）、および前記底部プレート（３８）が一体的に形成される、請求項１３に記載のウエハボート。
15. 前記支持リング（１８）が、前記整列リング（２２）の半径方向外向きに構成される、請求項１～１４のいずれかに記載のウエハボート。
16. 前記支持リング（１８）および前記整列リング（２２）が、石英で作製される、請求項１～１５のいずれか一項に記載のウエハボート。
17. ウエハボート（１０）を整列および回転させるためのアセンブリ（１０、１２）であって、
    － 請求項１～１６のいずれか一項に記載のウエハボート（１０）と、
    － 平坦な支持面（１４）と、前記整列リング（２２）内の前記複数の整列開口部（２６）内に収容されるように構成された前記支持面（１４）から上向きに突出する複数の整列要素（２４）、または前記整列リング（２２）上の前記複数の整列要素（２４）をその中に収容するように構成された複数の整列開口部（２６）のいずれかと、を備える、ペデスタル（１２）と、を備えるアセンブリ。
18. 前記整列要素（２４）が、前記ペデスタル（１２）の前記支持面（１４）から上向きに延在するピンである、請求項１７に記載のアセンブリ。
19. ウエハを処理するための垂直バッチ炉アセンブリであって、
    － 熱処理または化学処理をウエハのバッチに適用するように構成されたプロセスチャンバと、
    － 請求項１７または１８に記載の前記アセンブリ（１０、１２）に提供されたウエハ取り扱い空間と、
    － 前記アセンブリ（１０、１２）を前記ウエハ取り扱い空間と前記プロセスチャンバとの間で移送するように構成されたウエハボート取り扱い装置と、を備える、垂直バッチ炉アセンブリ。