JP7672652B2 - ケイ素イソシアナト化合物含有組成物及びその製造方法 - Google Patents

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001240796A (ja) 2000-02-29 2001-09-04 Ube Nitto Kasei Co Ltd 有機無機ハイブリッド−無機複合傾斜材料およびその用途
JP2005314325A (ja) 2004-04-30 2005-11-10 Shin Etsu Chem Co Ltd β−ケトエステル構造含有有機ケイ素化合物の製造方法
JP2012500804A (ja) 2008-08-22 2012-01-12 バクスター・インターナショナル・インコーポレイテッド ポリマーベンジルカルボネート誘導体
JP5444689B2 (ja) 2008-08-06 2014-03-19 東洋紡株式会社 レーザー彫刻用凸版印刷原版及びそれから得られる凸版印刷版

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5835515B2 (ja) * 1977-09-12 1983-08-03 日本化成株式会社 イソシアヌル酸エステルの製造法
JPS54119419A (en) 1978-03-09 1979-09-17 Toshiba Silicone Manufacture of organoisocyanate silane
JPS5626895A (en) 1979-08-09 1981-03-16 Ichiro Kijima Preparation of silicon isocyanate compound
JPS55102589A (en) 1980-01-26 1980-08-05 Toyama Chem Co Ltd Preparation of organo-silicon isocyanates
JPS5832887A (ja) * 1981-08-19 1983-02-25 Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk ケイ素イソシアネ−トの製造法
JPS62167785A (ja) 1987-01-08 1987-07-24 Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk ケイ素イソシアネ−トの製造法
JP3452598B2 (ja) 1993-03-10 2003-09-29 芳首 阿部 トリイソシアナトシランの製造法
JP3522902B2 (ja) * 1995-06-03 2004-04-26 信越化学工業株式会社 ウレイド基含有アルコキシシランの製造方法
JP2000247982A (ja) 1999-02-26 2000-09-12 Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk イソシアナトジシロキサンの製造法
CN1249069C (zh) * 2001-09-21 2006-04-05 陶氏康宁东丽硅氧烷株式会社 带有氰硫基的有机烷氧基硅烷的制备方法
JP6243215B2 (ja) * 2013-12-18 2017-12-06 大陽日酸株式会社 トリイソシアナトシランの精製方法及び供給方法
US10266554B2 (en) * 2017-05-31 2019-04-23 Momentive Performance Materials Inc. Preparation of isocyanatosilanes

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001240796A (ja) 2000-02-29 2001-09-04 Ube Nitto Kasei Co Ltd 有機無機ハイブリッド−無機複合傾斜材料およびその用途
JP2005314325A (ja) 2004-04-30 2005-11-10 Shin Etsu Chem Co Ltd β−ケトエステル構造含有有機ケイ素化合物の製造方法
JP5444689B2 (ja) 2008-08-06 2014-03-19 東洋紡株式会社 レーザー彫刻用凸版印刷原版及びそれから得られる凸版印刷版
JP2012500804A (ja) 2008-08-22 2012-01-12 バクスター・インターナショナル・インコーポレイテッド ポリマーベンジルカルボネート誘導体

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