JP7396993B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
本実施形態のスパッタリングターゲットは、組成(単位:モル%)として、(100-x)MgO-xCuO(0<x<10)を有する。原料に(100-x)モル%のMgOとxモル%のCuO(0<x<10)を含めばよいから、製造が容易である。また、本実施形態のスパッタリングターゲットをスパッタして形成された下地層は、MgO:100モル%のスパッタリングターゲットをスパッタして形成された下地層よりも(00L)配向が高いFePt層を下地層の上に形成することができる。本実施形態のスパッタリングターゲットは、0.1≦x≦5が好ましく、0.1≦x≦4がより好ましく、0.1≦x≦3が更に好ましい。
本実施形態のスパッタリングターゲットの製造方法は、原料粉末を秤量、混合してスラリーを得る原料混合工程と、スラリーを乾燥、造粒して造粒粉を得る乾燥造粒工程と、造粒粉を成形して成形体を得る成形工程と、成形体を焼結して焼結体を得る焼結工程と、焼結体の外形を加工してスパッタリングターゲットを得る外形加工工程とを含む。以下、スパッタリングターゲットの製造方法を更に詳しく説明する。
原料粉末を秤量、混合してスラリーを得る。原料粉末は、MgO、CuOの粉末を用いる。原料粉末の純度は高い方が好適であり、少なくとも99.5質量%以上であり、99.9質量%以上が好ましく、99.99質量%以上がより好ましく、99.999質量%以上が更に好ましい。純度が高い原料粉末を用いることによって不可避不純物が少ないスパッタリングターゲットを得ることができる。このスパッタリングターゲットをスパッタすることによって、より不可避不純物や欠陥が少なく、均一なスパッタ膜を形成することができるとともに、スパッタ環境の汚染を低減することができる。
原料混合工程で得られたスラリーを乾燥、造粒して、成形に適する造粒粉を得る。スラリーには、乾燥前に必要に応じて成形助剤を添加してもよい。成形助剤は、特に制限はないが、一般にはポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレングリコール(PEG)、セロゾール、パラフィン等が用いられることが多い。乾燥方法は、特に制限はないが、例えば、ロータリーエバポレーター、スプレードライヤー等が好適である。造粒粉の純度は高い方が好適であり、脱脂や後述の焼結工程で分解される成分を除いて99.5質量%以上が好ましく、99.9質量%以上がより好ましく、99.99質量%以上が更に好ましい。
造粒粉を成形して、所定の形状の成形体を得る。成形方法は、金型を用いた一軸加圧成形、CIP(冷間等方加圧)成形等、公知の成形方法を単独又は組み合わせて行うことができる。成形圧力は、良好な成形体を得ることができれば特に制限はないが、一般に100MPa以上が好ましい。
成形体を焼結して焼結体を得る。焼結によって、均一かつ緻密なスパッタリングターゲットを、他の固体の製造方法よりも簡便かつ安価に製造することができる。焼結方法は、常圧焼結等、公知の焼結方法を単独又は組み合わせて行うことができる。焼結温度は、焼結体を得ることができれば特に制限はないが、1800℃以下であれば、大気雰囲気で常圧焼結が行えるため好ましい。本実施形態のスパッタリングターゲットは直線透過率が85%未満でよいため、焼結のためにHP焼結、HIP焼結等、大がかり、かつ、高価な装置を用いる必要がない。また、造粒粉に分散剤又は成形助剤が含まれる場合、これらを分解、除去するため、焼結前に、脱脂を行うことが好ましい。脱脂温度は、特に制限はないが、分散剤及び成形助剤が完全に分解、除去される温度及び昇温速度が好ましい。
焼結体を所望の形状に加工してスパッタリングターゲットを得る。外形加工の方法は、切断、研削、研磨等、公知の方法を用いることができる。スパッタリングターゲットはバッキングプレートにボンディングされ、スパッタに供される。
本実施形態の磁気記録媒体は、本実施形態のスパッタリングターゲットをスパッタして形成された下地層と、下地層の上に形成されたFePt層とを含む。本実施形態のスパッタリングターゲットは、組成(単位:モル%)として、(100-x)MgO-xCuO(0<x<10)を有する。したがって、このスパッタリングターゲットをスパッタして形成された下地層は、組成(単位:モル%)として、(100-x)MgO-xCuO(0<x<10)を有すると考えられる。この下地層の上に形成されるFePt層は、MgO:100モル%のスパッタリングターゲットをスパッタして形成された下地層の上に形成されるFePt層よりも(00L)配向が高い。したがって、そのようなFePt層を含む磁気記録媒体の記録密度を向上させることができる。
原料粉末として、平均粒径0.2μm、純度99.98質量%のMgO粉末と平均粒径0.15μm、純度99.99質量%のCuO粉末を用いた。MgOとCuOのモル比が実施例1~6は99.9:0.1~95:5になるように秤量し、比較例1、2はそれぞれ100:0、90:10になるように秤量した。実施例1~6、比較例1、2のCuOの含有量を表1に示す。秤量した原料粉末と、分散媒のメタノールと、ナイロンボールとを樹脂製ボールミル容器に入れ、15時間混合(湿式混合)して原料粉末を微細化し、スラリーを得た。スラリーを、ロータリーエバポレーターを用いて乾燥(乾燥工程)し、得られた乾燥粉を解砕、造粒して造粒粉を得た(乾燥造粒工程)。
得られた試料と、試料をスパッタして形成された下地層の上に形成されたFePt層について、以下の項目の評価を行った。
試料の密度はアルキメデス法で求めることができる。試料の組成における理論密度(試料を構成する結晶相の理論密度と体積比率との積を積算したもの)を100%としたときの試料の実測密度の割合から相対密度を求めた。
試料を構成する結晶粒子の粒径は、試料の鏡面研磨面を走査電子顕微鏡(SEM/日本電子製:JSM-7000F)で観察し、得られたSEM像をJIS:R1670に準拠して画像解析することにより求めることができる。即ち、鏡面研磨面における結晶粒子の面積を円で換算したHeywood換算径を結晶粒子の粒径とする。結晶粒子50~200個の粒径を求め、粒径分布(個数基準)の50%の値(D50)から平均結晶粒子径を求めた。
厚さ1mmの試料の全光透過率を、分光光度計(JASCO製:V-670)を用いて測定し、波長400~800nmの最大光透過率から直線透過率を求めた。
試料をバッキングプレートにボンディングし、スパッタ装置(ULVAC製:CS-L)を用いて以下の条件にてスパッタを行い、放電安定化後の異常放電をカウントした(平均異常放電)。スパッタの条件は、チャンバーの到達真空度:1×10-4Pa以下、Arガス圧:0.14Pa、投入電力:RF100Wとした。異常放電の評価は、0~0.1回/minを優(○)、0.1~0.2回/minを可(△)、0.2回/min以上を不可(×)とした。
試料をバッキングプレートにボンディングし、スパッタ装置(ULVAC製:QAM-4)を用いて以下の条件にてスパッタを行い、熱酸化膜付Si基板上に下地層を形成した。更にFe及びPtスパッタリングターゲットを同時スパッタして、下地層の上にFePt層(厚さ10nm)を形成した。得られたFePt層の磁気特性を超伝導量子干渉磁束計(QuntamDesign製:MPMS-XL7)にて評価し、保磁力を求めた。FePt層の保磁力は、CuO:0モル%、MgO:100モル%の試料(比較例1)をスパッタして形成された下地層の上に形成されたFePt層の保磁力を100%としたときの、各試料をスパッタして形成された下地層の上に形成されたFePt層の保磁力の割合(%)で評価した。スパッタの条件は、チャンバーの到達真空度:7.5×10-7Pa、Arガス圧:0.2Pa、投入電力:試料 120W、Fe及びPtターゲット 15~35Wとした。
Claims (4)
- 組成(単位:モル%)として、(100-x)MgO-xCuO(0<x<10)を有するスパッタリングターゲットをスパッタして形成された下地層と、
前記下地層の上に形成されたFePt層とを含むことを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記スパッタリングターゲットの直線透過率が85%未満であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 前記スパッタリングターゲットの平均結晶粒子径が100μm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気記録媒体。
- 前記スパッタリングターゲットの理論密度を100%としたときの相対密度が99.5%以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040192560A1 (en) | 2001-11-21 | 2004-09-30 | Holesinger Terry G. | High temperature superconducting composite conductors |
CN103422064A (zh) | 2012-05-14 | 2013-12-04 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 导电薄膜、其制备方法及应用 |
CN106711201A (zh) | 2016-10-20 | 2017-05-24 | 浙江大学 | 一种p型CrMCuO非晶氧化物半导体薄膜及其制备方法 |
WO2017154741A1 (ja) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | 田中貴金属工業株式会社 | FePt-C系スパッタリングターゲット |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0672297B2 (ja) * | 1985-02-22 | 1994-09-14 | 積水化学工業株式会社 | 防湿性透明合成樹脂体の製造方法 |
JPH02116621A (ja) * | 1988-10-25 | 1990-05-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 超電導体薄膜およびその製造方法 |
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CN103422064A (zh) | 2012-05-14 | 2013-12-04 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 导电薄膜、其制备方法及应用 |
WO2017154741A1 (ja) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | 田中貴金属工業株式会社 | FePt-C系スパッタリングターゲット |
CN106711201A (zh) | 2016-10-20 | 2017-05-24 | 浙江大学 | 一种p型CrMCuO非晶氧化物半导体薄膜及其制备方法 |
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