JP7321006B2 - シリコン基板エッチング溶液 - Google Patents
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Description
Plasma)膜、熱酸化膜(thermal oxide)、BPSG(Borophosphate
Silicate Glass)膜、PSG(Phospho Silicate Glass)膜、BSG(Boro
Silicate Glass)膜、PSZ(Polysilazane)膜、FSG(Fluorinated Silicate
Glass)膜、LP-TEOS(Low
Pressure Tetra Ethyl Ortho Silicate)膜、PETEOS(Plasma Enhanced Tetra
Ethyl Ortho Silicate)膜、HTO(High Temperature Oxide)膜、MTO(Medium
Temperature Oxide)膜、USG(Undopped Silicate Glass)膜、SOG(Spin
On Glass)膜、APL(Advanced Planarization Layer)膜、ALD(Atomic Layer
Deposition)膜、PE-酸化膜(Plasma Enhanced oxide)又はO3-TEOS(O3-Tetra Ethyl
Ortho Silicate)などに言及し得る。
実施例1
リン酸85重量%、トリエトキシヒドロキシシラン500ppm、下記の化4で表されるイミダゾリウムリン酸塩5,000ppm及び残量の水を混合して、シリコン基板エッチング溶液を製造した。
下記の化5で表されるイミダゾリウムリン酸塩を用いたことを除いては、実施例1と同様にシリコン基板エッチング溶液を製造した。
フッ化アンモニウム500ppmをさらに含むことを除いては、実施例1と同様にシリコン基板エッチング溶液を製造した。
イミダゾリウムリン酸塩を用いていないことを除いては、実施例1と同様にシリコン基板エッチング溶液を製造した。
イミダゾリウムリン酸塩に代えてアンモニウムリン酸塩を用いたことを除いては、実施例1と同様にシリコン基板エッチング溶液を製造した。
各実施例及び比較例による組成を有するシリコン基板エッチング溶液を165℃まで昇温した後、さらに常温(25℃)に冷凍させた後、シリコン基板エッチング溶液を沸かす前/後のpH及び経過した時間によるシリコン基板エッチング溶液のうちパーティクルの発生度合いを測定した。
Claims (8)
- 無機酸水溶液;
下記の化1又は化2で表されるシリコン添加剤;及び、
下記の化3で表されるイミダゾリウムリン酸塩;
を含む、
シリコン基板エッチング溶液:
R5~R10は、それぞれ独立に水素、C1-C10アルキル、C6-C12シクロアルキル、少なくとも一つのヘテロ原子を含むC2-C10ヘテロアルキル、C2-C10アルケニル、C2-C10アルキニル、C1-C10ハロアルキル、C1-C10アミノアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル及びヒドロキシ、アミノ、ハロゲン、スルホン、ホスホン、リン、チオール、アルコキシ、アマイド、エステル、酸無水物、アシルハライド、シアノ、カボキシル、及びアゾルから選択されるものの、R5~R10のうちいずれかは、極性を有する作用基であり、nは、1~5の定数であり、
R11~R14は、それぞれ独立に水素、C1-C10アルキル、C6-C12シクロアルキル、少なくとも一つのヘテロ原子を含むC2-C10ヘテロアルキル、C2-C10アルケニル、C2-C10アルキニル、C1-C10ハロアルキル、C1-C10アミノアルキル、アリール、ヘテロアリール、及びアラルキルから選択される。 - 前記無機酸水溶液は、硫酸、窒酸、リン酸、ケイ酸、フッ酸、ホウ酸、塩酸、過塩素酸、無水りん酸、ピロリン酸、及びポリリン酸から選択される少なくとも一つの無機酸を含む水溶液である、
請求項1に記載のシリコン基板エッチング溶液。 - 前記シリコン基板エッチング溶液のうち前記シリコン添加剤は、100~10,000ppm含まれる、
請求項1に記載のシリコン基板エッチング溶液。 - 前記シリコン基板エッチング溶液のうち前記イミダゾリウムリン酸塩は、100~20,000ppm含まれる、
請求項1に記載のシリコン基板エッチング溶液。 - 25℃における前記シリコン基板エッチング溶液のpHは、3~6.5である、
請求項1に記載のシリコン基板エッチング溶液。 - 165℃における前記シリコン基板エッチング溶液のpHは、1~6.5である、
請求項1に記載のシリコン基板エッチング溶液。 - フッ化水素、フッ化アンモニウム、重フッ化アンモニウム、及びフッ化水素アンモニウムから選択される少なくとも一つのフッ素-含有化合物をさらに含む、
請求項1に記載のシリコン基板エッチング溶液。 - 有機系カチオンとフッ素系アニオンとがイオン結合した形態を有するフッ素-含有化合物をさらに含む、
請求項1に記載のシリコン基板エッチング溶液。
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