JP7319161B2 - 硬x線光電子分光装置及びシステム - Google Patents
硬x線光電子分光装置及びシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7319161B2 JP7319161B2 JP2019181425A JP2019181425A JP7319161B2 JP 7319161 B2 JP7319161 B2 JP 7319161B2 JP 2019181425 A JP2019181425 A JP 2019181425A JP 2019181425 A JP2019181425 A JP 2019181425A JP 7319161 B2 JP7319161 B2 JP 7319161B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation
- monochromator
- vacuum chamber
- ray source
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/227—Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]
- G01N23/2273—Measuring photoelectron spectrum, e.g. electron spectroscopy for chemical analysis [ESCA] or X-ray photoelectron spectroscopy [XPS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/21—Means for adjusting the focus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
- H01J37/256—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/02—Constructional details
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/08—Electrical details
- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
- H05G1/54—Protecting or lifetime prediction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/085—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission photo-electron spectrum [ESCA, XPS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
- G01N2223/101—Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation
- G01N2223/1016—X-ray
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/25—Tubes for localised analysis using electron or ion beams
- H01J2237/2505—Tubes for localised analysis using electron or ion beams characterised by their application
- H01J2237/2516—Secondary particles mass or energy spectrometry
- H01J2237/2522—Secondary particles mass or energy spectrometry of electrons (ESCA, XPS)
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
光子ビームを提供するX線管であって、光子ビームは、X線モノクロメータを介して、照射される試料から電子を励起させるように、システムを通るように方向付けられる、X線管を備え、
X線管は、モノクロメータ真空チャンバに接続され、モノクロメータ真空チャンバにおいて、結晶が、ビームを単色化してビームを試料上に集束させるように構成され、
モノクロメータ真空チャンバは、可撓性真空蛇腹を介して分析真空チャンバに接続され、可撓性真空蛇腹は、両方の真空チャンバに固定され、可撓性真空蛇腹の可撓性が、単色化し集束させたビームの正確な位置合わせを可能にし、
照射される試料は、分析真空チャンバの内部で、異なる試料角度での測定を可能にするように少なくとも1つの方向に動くことができるマニピュレータにマウントされ、
分析真空チャンバは、電子エネルギー分析器に接続され、電子エネルギー分析器は、分析真空チャンバに装着されるシステムにおいて、
間隙が、X線源とモノクロメータ真空チャンバとの間に設けられ、間隙には、間隙がX線管からのX線で照射される場合に放射から周囲を遮蔽するように、第1放射トラップが設けられている、硬X線光電子分光(HAXPES)システム、特に実験室ベースのシステムによって達成される。
8 テーブル
10 X線管
20 X線モノクロメータ
30 ロードロック
35 マニピュレータ
40 カメラシステム
45 分析真空チャンバ
50 電子エネルギー分析器
60 第1放射トラップ壁部品
62 第2放射トラップ壁部品
64 第3放射トラップ壁部品
66 空気間隙
68 カプトン窓
70 モノクロメータ真空チャンバ、モノクロメータ本体
80 ねじ
82 ねじ
84 タングステン合金部
86 溝
90 第2放射トラップの放射壁部品
92 蛇腹フランジ
94 可撓性真空蛇腹
96 カプトン窓
98 溝
100 ベース、硬X線光電子分光(HAXPES)システム
Claims (19)
- 硬X線光電子分光(HAXPES)システム(100)であって、
光子ビームを提供するX線源(10)であって、前記光子ビームは、X線モノクロメータ(20)を介して、照射される試料から電子を励起させるように、前記システムを通るように方向付けられる、X線源(10)と、
モノクロメータ真空チャンバ(70)であって、前記X線源は、前記モノクロメータ真空チャンバ(70)に接続され、前記モノクロメータ真空チャンバ(70)において、結晶が、前記光子ビームを単色化して前記光子ビームを前記試料上に集束させるように構成される、モノクロメータ真空チャンバ(70)と、
分析真空チャンバ(45)であって、前記モノクロメータ真空チャンバ(70)は、可撓性真空蛇腹(94)を介して前記分析真空チャンバ(45)に接続され、前記可撓性真空蛇腹(94)は、両方の真空チャンバ(45、70)に固定され、前記可撓性真空蛇腹の可撓性が、前記単色化し集束させたビームの正確な位置合わせを可能にし、前記照射される試料は、前記分析真空チャンバの内部で、異なる試料角度での測定を可能にするように少なくとも1つの方向に動くことができるマニピュレータ(35)にマウントされる、分析真空チャンバ(45)と、
電子エネルギー分析器(50)であって、前記分析真空チャンバは、前記電子エネルギー分析器(50)に接続され、前記電子エネルギー分析器(50)は、前記分析真空チャンバに装着される、電子エネルギー分析器(50)と、
を備え、
間隙(66)が、X線源と前記モノクロメータ真空チャンバとの間に設けられ、前記間隙には、前記間隙が前記X線源からのX線で照射される場合に、前記X線が前記間隙中の気体分子を叩くことにより発生した2次又はより高次の放射から周囲を遮蔽するように、第1放射トラップ(60)が設けられている、硬X線光電子分光(HAXPES)システム(100)。 - 前記単色化し集束させたビームの正確な位置合わせを可能にする前記可撓性真空蛇腹には、前記可撓性真空蛇腹又は前記可撓性真空蛇腹を囲む材料が前記X線源からのX線で照射されるときに、前記X線が前記可撓性真空蛇腹又は前記可撓性真空蛇腹を囲む材料を叩くことにより発生した2次又はより高次の放射から周囲を遮蔽するように、第2放射トラップ(90)が設けられている、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1放射トラップ及び前記第2放射トラップは、3次元のすべての次元で独立に、3mm~20mmの動きが可能であるように配置されている、請求項2に記載のシステム。
- 前記第1放射トラップ(60)及び前記第2放射トラップ(90)は、前記X線源からの前記X線が前記間隙中の気体分子、前記可撓性真空蛇腹、又は前記可撓性真空蛇腹を囲む材料を叩くことにより発生した3次放射場により照射される部分が前記放射トラップをのぞき込む観察者の視線の中にないように配置されている、請求項2に記載のシステム。
- 前記間隙は筐体によって取り囲まれ、前記筐体は前記間隙を囲む気体を封止するように構成され、前記気体は空気、窒素、アルゴン、又はヘリウムのいずれかであり、前記気体の圧力は、
真空ポンプによって得ることができる、周囲の気圧より低い圧力となるように、
前記気体がフィルタ処理される加圧ポンプによって得ることができる、周囲の気圧より高い圧力となるように、又は
周囲の気圧とほぼ等しい圧力となるように、
制御可能である、請求項1に記載のシステム。 - ロードロックチャンバが設けられ、最小限のベントのみで前記分析真空チャンバへの手動アクセスが可能になるように、前記ロードロックチャンバから前記分析真空チャンバ(30)中の前記試料への入口が提供される、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1放射トラップは、
前記X線源から放出される最もエネルギーの高い放射をブロックするのに十分な厚さを有し、前記X線源の真空容器壁(10)の一部に取り付け可能な、第1放射壁部品(60)と、
前記X線源から放出される最もエネルギーの高い放射をブロックするのに十分な厚さを有し、モノクロメータ本体(70)に固定される、第2放射壁部品(62)と、
前記X線源から放出される最もエネルギーの高い放射をブロックするのに十分な厚さを有し、前記第2放射壁部品が前記モノクロメータ本体(70)に固定される、第3放射壁部品(64)と
を備える、請求項1に記載のシステム。 - 前記第3放射壁部品は、インターロックシステムに接続され、前記インターロックシステムは、前記第3放射壁部品が正しい位置にあることを監視するように構成され、前記第3放射壁部品が定位置から動いた場合、前記インターロックシステムが前記X線源をオフにする、請求項7に記載のシステム。
- 前記インターロックシステムは、少なくとも1つのマイクロスイッチを使用して、前記X線源をオンオフするように構成されている、請求項8に記載のシステム。
- 前記第2放射壁部品は、前記モノクロメータ真空チャンバと一体化して配置され、前記モノクロメータ真空チャンバは、インターロックシステムに接続され、これにより、前記モノクロメータ真空チャンバのベントが行われると、前記インターロックシステムが作動する結果、前記X線源がオフになる、請求項7に記載のシステム。
- 前記第2放射トラップには、
前記X線源から放出される最もエネルギーの高い放射をブロックするのに十分な厚さを有する、出口放射壁部品(90)と、前記出口放射壁部品(90)とともに、前記X線が前記可撓性真空蛇腹又は前記可撓性真空蛇腹を囲む材料を叩くことにより発生した2次又はより高次の放射から周囲を遮蔽する迷路を構成する入口放射壁部品と、が設けられており、
前記出口放射壁部品は、前記分析真空チャンバの壁に取り付け可能であり、前記入口放射壁部品は、前記モノクロメータ真空チャンバの壁に一体化されている、請求項2に記載のシステム。 - 前記入口放射壁部品及び前記出口放射壁部品の少なくとも一方における溝が、平面間の狭い間隙から逃れる、前記X線が前記可撓性真空蛇腹又は前記可撓性真空蛇腹を囲む材料を叩くことにより発生した2次又はより高次の放射をブロックするように設けられている、請求項11に記載のシステム。
- 前記出口放射壁部品は、モノクロメータ出口ポートに嵌合されている、請求項12に記載のシステム。
- 前記結晶は、300mm~700mmのローランド円をなす半径を有する、湾曲したSi結晶である、請求項1に記載のシステム。
- 前記電子エネルギー分析器は、半球型電子エネルギー分析器タイプのものである、請求項1に記載のシステム。
- 半球型の前記電子エネルギー分析器は、半球型の前記電子エネルギー分析器の入射スリットが前記試料上のX線のフットプリントに対して水平に位置合わせされるように、前記分析真空チャンバに装着されている、請求項15に記載のシステム。
- 前記X線源の光子エネルギーが9.25keVであり、Ga合金からの特性Kα放射から生じる、請求項1に記載のシステム。
- 前記可撓性真空蛇腹は、前記X線モノクロメータと前記分析真空チャンバの間の相対的な動きを可能にするほど十分な可撓性を有するPbゴムシートを使用して設計されている、請求項1から17のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記X線源は、60kV超のエネルギーレベルに、液体ガリウムを励起する電子銃を備える、請求項1から18のいずれか一項に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE1851182 | 2018-10-01 | ||
SE1851182-4 | 2018-10-01 | ||
SE1851185-7 | 2018-10-02 | ||
SE1851185A SE544271C2 (en) | 2018-10-02 | 2018-10-02 | Hard X-ray photoelectron spectroscopy arrangement and system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020056789A JP2020056789A (ja) | 2020-04-09 |
JP7319161B2 true JP7319161B2 (ja) | 2023-08-01 |
Family
ID=68137838
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019181425A Active JP7319161B2 (ja) | 2018-10-01 | 2019-10-01 | 硬x線光電子分光装置及びシステム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11002694B2 (ja) |
EP (1) | EP3633360B1 (ja) |
JP (1) | JP7319161B2 (ja) |
KR (1) | KR20200037733A (ja) |
CN (1) | CN110967363A (ja) |
PL (1) | PL3633360T3 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
DE112019002822T5 (de) | 2018-06-04 | 2021-02-18 | Sigray, Inc. | Wellenlängendispersives röntgenspektrometer |
CN112470245A (zh) | 2018-07-26 | 2021-03-09 | 斯格瑞公司 | 高亮度x射线反射源 |
CN112638261A (zh) | 2018-09-04 | 2021-04-09 | 斯格瑞公司 | 利用滤波的x射线荧光的系统和方法 |
CN112823280A (zh) | 2018-09-07 | 2021-05-18 | 斯格瑞公司 | 用于深度可选x射线分析的系统和方法 |
US11143605B2 (en) | 2019-09-03 | 2021-10-12 | Sigray, Inc. | System and method for computed laminography x-ray fluorescence imaging |
US11175243B1 (en) | 2020-02-06 | 2021-11-16 | Sigray, Inc. | X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples |
WO2021237237A1 (en) | 2020-05-18 | 2021-11-25 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray absorption spectroscopy using a crystal analyzer and a plurality of detector elements |
CN111650226B (zh) * | 2020-05-27 | 2023-08-25 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 一种基于实验室x射线源的中能x射线吸收谱仪 |
WO2022061347A1 (en) | 2020-09-17 | 2022-03-24 | Sigray, Inc. | System and method using x-rays for depth-resolving metrology and analysis |
KR20230109735A (ko) | 2020-12-07 | 2023-07-20 | 시그레이, 아이엔씨. | 투과 x-선 소스를 이용한 고처리량 3D x-선 이미징 시스템 |
CN113984922B (zh) * | 2021-10-21 | 2023-09-26 | 上海科技大学 | 准原位x射线光电子能谱测试装置及其测试方法 |
US11992350B2 (en) | 2022-03-15 | 2024-05-28 | Sigray, Inc. | System and method for compact laminography utilizing microfocus transmission x-ray source and variable magnification x-ray detector |
US11885755B2 (en) | 2022-05-02 | 2024-01-30 | Sigray, Inc. | X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer |
CN115117184B (zh) * | 2022-06-28 | 2024-04-30 | 河海大学 | 一种待回收异质结太阳电池结构的确定方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000111501A (ja) | 1998-10-05 | 2000-04-21 | Toshiba Fa Syst Eng Corp | 透視検査装置 |
JP2004093512A (ja) | 2002-09-03 | 2004-03-25 | Horiba Ltd | X線分析装置 |
US20060169893A1 (en) | 2005-02-01 | 2006-08-03 | Samsung Electronic Co., Ltd. | X-ray photoelectron spectroscopy |
JP2007101475A (ja) | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Rigaku Corp | X線光学素子及びそれを用いたx線分析装置 |
JP2010175506A (ja) | 2009-02-02 | 2010-08-12 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
JP2014016355A (ja) | 2008-07-22 | 2014-01-30 | Ebara Corp | 荷電粒子ビーム検査方法及び装置 |
JP2016212076A (ja) | 2015-05-08 | 2016-12-15 | 啓介 小林 | 硬x線光電子分光装置 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3245475B2 (ja) * | 1993-02-19 | 2002-01-15 | 理学電機株式会社 | Exafs測定装置 |
US6111929A (en) * | 1997-03-14 | 2000-08-29 | Xrf Corporation | Scanning X-ray fluorescence analyzer |
JP2001013292A (ja) | 1999-06-30 | 2001-01-19 | Hitachi Ltd | 放射線遮蔽体 |
UA59495C2 (uk) * | 2000-08-07 | 2003-09-15 | Мурадін Абубєкіровіч Кумахов | Рентгенівський вимірювально-випробувальний комплекс |
US7521671B2 (en) * | 2004-03-16 | 2009-04-21 | Kabushiki Kaisha Idx Technologies | Laser ionization mass spectroscope |
US7399963B2 (en) * | 2005-09-27 | 2008-07-15 | Revera Incorporated | Photoelectron spectroscopy apparatus and method of use |
US7331714B2 (en) * | 2005-09-29 | 2008-02-19 | Uchicago Argonne, Llc | Optomechanical structure for a multifunctional hard x-ray nanoprobe instrument |
US7649328B2 (en) * | 2007-12-07 | 2010-01-19 | Duly Research Inc. | Compact high-power pulsed terahertz source |
US20130294576A1 (en) | 2010-10-18 | 2013-11-07 | Anil K. Pradhan | Monochromatic x-ray devices and methods of use |
US9449780B2 (en) * | 2012-02-28 | 2016-09-20 | X-Ray Optical Systems, Inc. | X-ray analyzer having multiple excitation energy bands produced using multi-material x-ray tube anodes and monochromating optics |
GB2515468A (en) * | 2013-05-24 | 2014-12-31 | Torr Scient Ltd | X-ray source |
CN107076956B (zh) * | 2014-09-23 | 2018-07-10 | Fmb精密技术有限公司 | 用于对准真空中的光学元件或样品的调节系统 |
DE102014117196A1 (de) * | 2014-11-24 | 2016-05-25 | Wipotec Wiege- Und Positioniersysteme Gmbh | Vorrichtung zur Röntgenuntersuchung von bewegten Produkten, insbesondere bewegten Stückgütern |
SE540581C2 (en) * | 2015-05-08 | 2018-10-02 | Hard X-Ray Photoelectron Spectroscopy Apparatus | |
US10541102B2 (en) * | 2016-09-14 | 2020-01-21 | The Boeing Company | X-ray back scattering for inspection of part |
CN107716537A (zh) * | 2017-09-08 | 2018-02-23 | 水利部交通运输部国家能源局南京水利科学研究院 | 一种净化油污土壤的高级氧化反应装置 |
SE542905C2 (en) * | 2018-12-07 | 2020-09-15 | Scienta Omicron Ab | Method for determining a pressure at a sample surface |
-
2019
- 2019-09-30 EP EP19200530.4A patent/EP3633360B1/en active Active
- 2019-09-30 KR KR1020190120863A patent/KR20200037733A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-09-30 US US16/588,374 patent/US11002694B2/en active Active
- 2019-09-30 PL PL19200530.4T patent/PL3633360T3/pl unknown
- 2019-09-30 CN CN201910942757.5A patent/CN110967363A/zh active Pending
- 2019-10-01 JP JP2019181425A patent/JP7319161B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000111501A (ja) | 1998-10-05 | 2000-04-21 | Toshiba Fa Syst Eng Corp | 透視検査装置 |
JP2004093512A (ja) | 2002-09-03 | 2004-03-25 | Horiba Ltd | X線分析装置 |
US20060169893A1 (en) | 2005-02-01 | 2006-08-03 | Samsung Electronic Co., Ltd. | X-ray photoelectron spectroscopy |
JP2007101475A (ja) | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Rigaku Corp | X線光学素子及びそれを用いたx線分析装置 |
JP2014016355A (ja) | 2008-07-22 | 2014-01-30 | Ebara Corp | 荷電粒子ビーム検査方法及び装置 |
JP2010175506A (ja) | 2009-02-02 | 2010-08-12 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
JP2016212076A (ja) | 2015-05-08 | 2016-12-15 | 啓介 小林 | 硬x線光電子分光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020056789A (ja) | 2020-04-09 |
EP3633360B1 (en) | 2022-07-13 |
EP3633360A1 (en) | 2020-04-08 |
US20200103358A1 (en) | 2020-04-02 |
KR20200037733A (ko) | 2020-04-09 |
US11002694B2 (en) | 2021-05-11 |
PL3633360T3 (pl) | 2022-11-14 |
CN110967363A (zh) | 2020-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7319161B2 (ja) | 硬x線光電子分光装置及びシステム | |
Salomé et al. | The ID21 scanning X-ray microscope at ESRF | |
Fauth et al. | The new material science powder diffraction beamline at ALBA synchrotron | |
Yokoya et al. | Soft X-ray beamline specialized for actinides and radioactive materials equipped with a variably polarizing undulator | |
Johansson et al. | NanoMAX: the hard X-ray nanoprobe beamline at the MAX IV Laboratory | |
US8476589B2 (en) | Particle beam microscope | |
US9182362B2 (en) | Apparatus for protecting a radiation window | |
US6442236B1 (en) | X-ray analysis | |
US11002693B2 (en) | Hard X-ray photoelectron spectroscopy system | |
Wobrauschek et al. | Instrumental developments in total reflection x‐ray fluorescence analysis for K‐lines from oxygen to the rare earth elements | |
JP2021012856A (ja) | 硬x線光電子分光システム | |
KR20210006817A (ko) | 하드 x-선 광전자 분광 시스템 | |
Hirai et al. | The design and performance of beamline BL16XU at SPring-8 | |
SE544271C2 (en) | Hard X-ray photoelectron spectroscopy arrangement and system | |
US4857730A (en) | Apparatus and method for local chemical analyses at the surface of solid materials by spectroscopy of X photoelectrons | |
Creagh | Synchrotron radiation and its use in art, archaeometry, and cultural heritage studies | |
US3870882A (en) | Esca x-ray source | |
Stephan et al. | Soft X-Ray Sources for the Max-Planck-Institut (MPI) Long Beam (130 m) Test Facility | |
Fontijn et al. | The TPD Electron Probe X-Ray Micro Analyzer | |
KR101623256B1 (ko) | 저탄소강 재질의 초고진공 진공챔버, 진공챔버 제작방법 및 이를 이용한 초고진공 하전입자빔 분석장비 | |
Eisenmann III | Development of a Proton Induced X-ray Emission (Pixe) Materials Analysis System | |
Winick | Synchrotron radiation sources, research facilities, and instrumentation | |
Lee | Twinsol: a dual superconducting solenoid ion-optical system for the production and study of low-energy radioactive nuclear beam reactions | |
TW201734443A (zh) | 複合帶電粒子束裝置 | |
Hustache-Ottini | Photon beamline diagnostics |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191106 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220624 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230606 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230626 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230720 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7319161 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |