JP7257161B2 - 端子清掃装置 - Google Patents

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Description

本発明は、端子清掃装置に関する。
液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ等の表示装置は、ガラス板の上に回路及び信号線を形成するアレイ工程、一対のガラス板を貼り合せて表示領域を構成する基板としてのパネルを形成するセル工程、パネルにおける表示領域の外側の端子に、駆動用のドライバIC等を取り付けるモジュール工程を経て製造される。
ドライバICの実装方法として、従来から、COF(chip on film)等のドライバICを搭載したフレキシブルなフィルム状の電子部品を用いた方法が行われている。これは、パネルの表示領域の周囲から、表示面と平行な水平方向に露出して形成された端子に対して、電子部品の端子を圧着して接続する方法である。さらに、以上のような電子部品に対して、水平状態でプリント基板を圧着することにより、外部との接続を確保する配線を電気的に接続し、表示装置を製造していた(特許文献1参照)。
このような基板と電子部品との端子同士の接続や電子部品とプリント基板との接続には、加熱圧着により、それぞれの部品の電極間の導電性が確保される異方性導電フィルム(ACF:Anisotropic Conductive Film)が用いられている。
特開平09-185068号公報
以上のような基板の端子と電子部品の端子との接続の前に、端子に不要物が付着していると、接続不良を引き起こす。不要物としては、空気中の埃や、製造工程で発生するシリコン、金属などの残留物が含まれる。このような不要物をあらかじめ除去するために、基板の端子を清掃することが行われている。
基板の端子を清掃する装置としては、洗浄液を付着させた清掃テープによって、端子の表面を拭き取る装置がある。但し、拭き取り後、端子側に洗浄液が残留したり、洗浄液が十分でなく不要物が拭き取れなかったりする場合、接続不良の原因となるので、清掃テープには拭き取り面に対して洗浄液が過不足無く均一に付着していることが好ましい。しかし、ノズル等により清掃テープに洗浄液を付着させると、ノズルによる滴下部分とそれ以外の部分との間で、洗浄液の付着量にムラが生じやすい。また、広い範囲に少量の洗浄液を付着させる場合、均一に付着させることが困難であった。
本発明は、上述のような課題を解決するために提案されたものであり、端子を清掃するシートに洗浄液を過不足無く均一に浸透させることができる清掃装置を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明の端子清掃装置は、基板の端子を清掃するための第1のシートを支持するシート支持部と、第2のシートを前記第1のシートに押し付ける押付面を有し、前記押付面を前記シート支持部に対して相対移動させることにより、洗浄液が浸透した前記第2のシートを前記第1のシートに押し付けて、前記第1のシートに前記洗浄液を浸透させる押付部と、前記基板を支持し、前記基板を前記シート支持部に対して相対移動させることにより、複数の前記端子を、前記洗浄液が浸透した前記第1のシートに接触させて清掃する基板支持部と、を有し、前記第1のシートが前記端子に接触する接触位置と、前記第1のシートに前記第2のシートが押し付けられる押付位置とが共通であることを特徴とする。
本発明は、端子を清掃するシートに洗浄液を過不足無く均一に浸透させることができる。
実施形態により清掃される基板と第1のシートを示す平面図である。 実施形態の端子清掃装置を示す正面図である。 張設部の対向面を示す底面図である。 押付部を示す平面図である。 押付部の第2のシートをセットする前の斜視図(A)、第2のシートをセットした斜視図(B)である。 制御装置を示すブロック図である。 実施形態の端子清掃動作を示す説明図である。 実施形態の端子清掃手順を示すフローチャートである。
本発明の実施の形態(以下、本実施形態と呼ぶ)について、図面を参照して具体的に説明する。
[清掃対象]
図1を参照して、清掃対象となる基板Sを説明する。基板Sは、端子Tを有する部材である。本実施形態の基板Sは、表示装置用の平板形状のパネルである。端子Tは導電性の部材であり、基板Sの一方の面に、外縁を構成する辺に沿う方向に並べて配置されている。各端子Tは、複数の端子Tの並び方向に直交する方向に延びて、互いに平行となっている。このような基板Sの端子Tには、例えば、COF等のドライバICを搭載したフレキシブルなフィルム状の電子部品が、異方性導電フィルム(ACF)を介した加熱圧着により接続される。本実施形態の端子清掃装置100は、このような接続の前に、端子Tを清掃するための装置である。
[第1のシート]
図1に示すように、本実施形態に使用される第1のシートC1は、端子Tを清掃するための清掃シートである。第1のシートC1は、合成繊維からなり、清掃対象を清拭するための織布又は不織布である。第1のシートC1は、帯状の長尺の部材であり、複数の端子Tの並設方向の長さTW以上の幅Wを有する。本実施形態では、第1のシートC1の幅Wは、基板Sの端子が設けられている辺の幅SWよりも長い。第1のシートC1は、後述するシート支持部300に設けられた給排機構330によって、送り出し、巻き取りが行われる(図2参照)。
[第2のシート]
図5に示すように、本実施形態に使用される第2のシートC2は、洗浄液が浸透され、第1のシートC1に接触することにより洗浄液を第1のシートC1に浸透させるための転液シートである。第2のシートC2は、第1のシートC1と同様の織布又は不織布を用いることができる。第2のシートC2は、後述する押付部400の押付面411に搭載され、洗浄液供給部500からの洗浄液が浸透する。
[概要]
次に、図2を参照して、端子清掃装置100の構成を説明する。端子清掃装置100は、基板支持部200、シート支持部300、押付部400、洗浄液供給部500を有する。基板支持部200は、清掃対象となる基板Sを支持する。シート支持部300は、基板Sの端子Tを清掃するための第1のシートC1を支持する。押付部400は、第2のシートC2を第1のシートC1に押し付ける平坦な押付面411を有する。
押付部400は、押付面411をシート支持部300に対して移動させることにより、洗浄液が浸透した第2のシートC2を、第1のシートC1に押し付けて、第1のシートC1に洗浄液を浸透させる。基板支持部200は、基板Sをシート支持部300に対して移動させることにより、端子Tを洗浄液が浸透した第1のシートC1に接触させながら移動させる。これにより、端子Tの表面が拭き取られて清掃される。洗浄液供給部500は、第2のシートC2に、洗浄液を浸透させる。
ここで、本実施形態では、押付面411に直交する方向に第2のシートC2を移動させて、第2のシートC2を第1のシートC1に押し付ける。この押し付けのために押付面411が移動する方向を押付方向として、押付方向に沿う方向をZ軸方向とする。この押付方向は、端子Tが第1のシートC1に接触する際に移動する接触方向でもある。押付面411に平行な平面において、端子Tが、第1のシートC1によって拭き取られる際に相対移動する方向を拭取方向として、拭取方向に沿う方向をX軸方向とする。さらに、押付面411に平行な平面において、拭取方向に直交する方向を端子Tの並設方向として、並設方向に沿う方向をY軸方向とする。なお、本実施形態では、押付部400は、押付面411が水平方向と平行となるように設けられている。したがって、Z軸方向は鉛直方向となっている。以下の説明では、鉛直方向において、端子清掃装置100の設置面側を下、その反対側を上とする。
[基板支持部]
基板支持部200は、図2に示すように、テーブル210、駆動機構220を有する。テーブル210は、平板状の部材であり、一方の面である載置面211に基板Sの裏面を支持する。載置面211は、押付面411に平行な面である。テーブル210の載置面211には、図示しない空気圧回路に接続された吸引穴が設けられ、負圧によって基板Sを吸着保持する。駆動機構220は、支柱221、移動台222、シリンダ223、リニアガイド224、駆動源225を有する。支柱221は、図示しない架台に立設されている。架台は、設置面に設置されている。移動台222は、押付面411に平行な板状体であり、支柱221に対してZ軸に沿う方向に移動可能に設けられている。シリンダ223は、移動台222をZ軸方向に沿って移動させる。リニアガイド224は、移動台222に設けられ、テーブル210をX軸方向に沿って移動可能に支持する。駆動源225は、例えば、モータであり、ボールねじを回動させることによってテーブル210をX軸方向に沿って移動させる。
つまり、シリンダ223は、テーブル210に支持された基板Sの端子Tを接触方向及びこれと反対方向に移動させる接触移動機構として機能する。また、リニアガイド224、駆動源225は、テーブル210に支持された基板Sの端子Tを拭取方向及びこれと反対方向に移動させる拭取移動機構として機能する。
[シート支持部]
シート支持部300は、図2及び図3に示すように、本体部310、張設部320、給排機構330を有する。本体部310は、略直方体形状の箱体であり、架台上の基板支持部200にX軸方向において隣接する位置に立設されている。本体部310は、Z軸方向及びX軸方向に平行な一側面を構成するプレート311を有する。このプレート311側を、端子清掃装置100の正面側とする。プレート311の上端には、X軸方向に沿った一方向(基板支持部200側)に突出した突出部311aが設けられている。
張設部320は、第1のシートC1が張設される部材である。張設部320は、直方体の箱形であり、プレート311において、基板支持部200に隣接する側の側縁に取り付けられている。
張設部320の架台側の面は、清掃時に基板Sに対向する対向面321である。この対向面321には、基板支持部200側の縁部の近傍に、バックアップ322が設けられている。バックアップ322は、図2及び図3に示すように、Y軸方向に延びた直方体形状の部材である。バックアップ322の長辺方向の長さBWは、第1のシートC1の幅Wよりも長い。バックアップ322の架台側の面は、バックアップ面322aであり、テーブル210の載置面211と平行になるように設けられている。ここで、基板支持部200の載置面211には、基板Sを、端子Tの設けられた側がプレート311側を向き、端子Tの並び方向がY軸方向に沿うように載置するようになっている。したがって、テーブル210をリニアガイド224に沿ってプレート311に向けて移動させることで、基板Sを対向面321の下に挿入し、端子Tをバックアップ322に対向させることができる。
バックアップ面322aの長辺方向の両端近傍には、それぞれ検出部323が設けられている。検出部323は、第1のシートC1の濡れ量を検出する。濡れ量は、第1のシートC1にどの程度の洗浄液が浸透したかを示す値である。また、検出部323は、この濡れ量の値によって、第1のシートC1の有無も検出できる。検出部323としては、例えば、バックアップ322に形成された孔に挿入され、光源からの光の反射光を検出する光ファイバセンサを用いる。光ファイバセンサは受光量に応じた数値を出力する。この数値は、第1のシートC1の有無、第1のシートC1の濡れ量に応じて異なる。一対の検出部323の間隔SDは、両者によって第1のシートC1の有無を検出することにより、第1のシートC1のずれについても検出できるように、第1のシートC1の幅Wよりも僅かに短い。このため、一方の検出部323が第1のシートC1を検出できていない場合には、第1のシートC1がずれていることになる。
第1のシートC1において、バックアップ面322aと接している面とは反対側の面、つまり、下側の面であってバックアップ面322a上の領域が、端子Tと接触する接触領域CAである。但し、端子Tは、上記のように複数間隔を空けて配置されるとともに、基板Sの端子Tの周囲にはマージンが設けられているため、接触領域CAの全てが端子Tに接触する必要はない。
バックアップ面322aには、一対の検出部323の間に、複数の噴出孔324が形成されている。噴出孔324は、図示しない空気圧回路に接続され、空気を第1のシートC1に対して噴出可能に構成されている。なお、このようなバックアップ322は、基板Sの端子Tを第1のシートC1に接触させる際に、第1のシートC1を裏から支える機能と、押付面411によって第2のシートC2を第1のシートC1に押し付ける際に、第1のシートC1を裏から支える機能とを有する。
さらに、張設部320の挿入側の側面は、対向面321に直交し、第1のシートC1が沿う案内面325となっている。この案内面325には、対向面321との境界を含む下端部に、第1のシートC1の移動をガイドするガイド部材326が設けられている。ガイド部材326は、第1のシートC1が通過可能なガイド溝326aが形成され、このガイド溝326aのY軸方向に対向する一対の内壁に、第1のシートC1の両縁が接することにより、第1のシートC1の幅方向の変位が規制される。また、ガイド部材326には、対向面321との境界の近傍に、第1のシートC1を送り出す方向をZ軸方向からX軸方向に変換する角部326bが、第1のシートC1の幅方向に形成されている。この角部326bには、第1のシートC1の摺動を円滑にする丸みが形成されている。
給排機構330は、供給部331、排出部332を有する。供給部331は、Y軸方向に平行な回動軸を有する供給リール331a、経路ローラ331b、331cを有する。供給リール331aは、第1のシートC1が巻回され、回動により第1のシートC1が送り出されるリールである。供給リール331aは、プレート311の上側に設けられ、図示しないモータによって回動することにより、第1のシートC1を所定長ずつ送出可能に設けられている。
経路ローラ331b、331cは、供給リール331aから送り出された第1のシートC1の移動をガイドするとともに、第1のシートC1の移動方向を変換することにより、張設部320の案内面325に沿う方向に、第1のシートC1を送り出す。経路ローラ331bの軸は、プレート311に対する位置が固定である。経路ローラ331cの軸は、図示しないガイド機構によって、Z軸方向の所定の範囲内で可動に設けられている。経路ローラ331cは、軸に対して、図示しない重り等によって、供給リール331aの送り出し方向とは反対方向に荷重がかけられている。これにより、供給リール331aは、第1のシートC1に張力を付与している。
排出部332は、Y軸方向に平行な回動軸を有する送りローラ332a、ニップローラ332b、経路ローラ332cを有する。送りローラ332aは、プレート311の設置側に設けられ、図示しないモータにより回動可能に設けられている。ニップローラ332bは、送りローラ332aとの間で第1のシートC1を挟み、送りローラ332aの回動とともに回動して、第1のシートC1を排出する。ニップローラ332bは、シリンダ332dによって、送りローラ332aに付勢されている。経路ローラ332cは、張設部320からの第1のシートC1の移動をガイドするとともに、移動方向を変換して送りローラ332aに送り出す。
[押付部]
押付部400は、図2、図4及び図5に示すように、押付部材410、基体部420、駆動部430を有する。押付部材410は、略直方体形の部材である。押付部材410は、張設部320のバックアップ322に対向する長方形状の平坦な面が、押付面411となっている。押付面411の長辺は、Y軸方向に沿う方向、つまり第1のシートC1及び第2のシートC2の幅方向、端子Tの並設方向である。押付部材410には、押付面411の一方の長辺に沿って、平坦に面取りされた傾斜面412が形成されている。
このような押付面411の長辺方向の長さPWは、バックアップ322の長辺方向の長さBWよりも長い。また、押付面411の短辺方向の長さPLは、端子Tの長辺方向の長さTLと同等である。このような押付面411及び傾斜面412の全体を覆うとともに、押付面411及び傾斜面412の長辺に沿う押付部材410の2側面の一部を覆い、後述する浸漬槽510に貯留された洗浄液Lに浸かるように、第2のシートC2がセットされる。第2のシートC2の押付面411を覆う領域を、押付領域PAとする。押付領域PAは、接触領域CAに押し付けられるが、押付領域PAと接触領域CAの面積は一致している必要はない。
第2のシートC2は、シート押えCPによって、押付部材410に固定される。シート押えCPは、第2のシートC2を挟みつつ、押付部材410の側面に沿って嵌るように、板状体を矩形状に屈曲した枠である。シート押えCPは、一つの長辺部分の一部が破断しているため、押付部材410との間に第2のシートC2を挟んで嵌め込む際に、弾性変形することにより挿入し易くなる。
基体部420は、押付部材410が設けられた直方体形のブロック状の部材である。基体部420は、張設部320の対向面321に離隔して対向する位置に設けられている。押付部材410は、押付面411がバックアップ322に対向するように、基体部420に設けられている。基体部420は、本体部310に対して、Z軸方向に沿う方向に移動可能に設けられている。駆動部430は、基体部420を移動させることにより、押付部材410にセットされた第2のシートC2を、第1のシートC1に接離させる。駆動部430は、例えば、シリンダによって構成する。
[洗浄液供給部]
洗浄液供給部500は、図2に示すように、浸漬槽510、洗浄液流路520、水位検出部530を有する。浸漬槽510は、基体部420に形成され、洗浄液Lを貯留可能な空間である。洗浄液Lとしては、本実施形態では、エタノールを用いる。本実施形態の浸漬槽510は、基体部420の押付部材410の根本近傍を、直方体形状に穿設することにより形成されている。洗浄液Lには、第2のシートの一部が浸漬される。つまり、浸漬槽510の開口に、押付部材410にセットされた第2のシートC2の辺縁部が入り、貯留された洗浄液Lに浸漬される。なお、洗浄液Lに浸漬される第2のシートC2の辺縁部の長さは、第2のシートC2の幅の全長である。このように、第2のシートC2の辺縁部が洗浄液Lに浸漬されることにより、毛細管現象によって、第2のシートC2の押付面411を覆う領域に、洗浄液Lが均一に供給される。
洗浄液流路520は、浸漬槽510に洗浄液Lを供給する流路である。洗浄液流路520は、供給配管521、液面検知用配管522、復帰配管523を有する。供給配管521は、図示しない洗浄液の供給源から、浸漬槽510の底部に接続された配管である。液面検知用配管522は、浸漬槽510の底部から、水位検出部530に接続された配管である。復帰配管523は、水位検出部530から浸漬槽510の開口側に接続された配管である。
水位検出部530は、浸漬槽510内の洗浄液Lの液面と同水位となるように設定された透明な配管と、この配管内の水位を検知する光ファイバセンサによって構成されている。浸漬槽510には、供給源からの洗浄液Lが、供給配管521を介して供給される。水位検出部530による水位の検出位置は、第2のシートC2の端部が洗浄液Lに十分に浸漬される水位に対応する位置とする。水位検出部530は、検出位置における洗浄液Lの有無に応じて異なる数値を出力する。なお、突発的な水位上昇があった場合には、水位検出部530からの洗浄液Lは、復帰配管523を介して浸漬槽510に復帰する。
[制御装置]
制御装置600は、図2に示すように、端子清掃装置100の各部を制御する装置である。この制御装置600は、例えば、専用の電子回路若しくは所定のプログラムで動作するコンピュータ等によって構成できる。つまり、基板支持部200の駆動機構220、シート支持部300の給排機構330、押付部400の駆動部430、洗浄液供給部500の洗浄液の供給源の制御などに関しては、その制御内容がプログラムされており、PLCやCPUなどの処理装置により実行される。
このような制御装置600の構成を、機能ブロック図である図6を参照して説明する。すなわち、制御装置600は、機構制御部61、濡れ判定部62、水位判定部63、位置判定部64、記憶部65、入出力制御部66を有する。機構制御部61は、駆動機構220、給排機構330、駆動部430の駆動、洗浄液の供給源による洗浄液の供給等を制御する。
濡れ判定部62は、検出部323により検出される第1のシートC1の濡れ量を示す数値が、しきい値以上となったか否かを判定することにより、拭き取りに適した濡れ量に達したか否かを判定する。水位判定部63は、水位検出部530が検出した数値が、洗浄液Lの存在を示すしきい値を超えるか否かにより、浸漬槽510の洗浄液Lの水位が、第2のシートC2の濡れを維持するに十分な水位か否かを判定する。
位置判定部64は、検出部323が第1のシートC1の有無を検出することにより、第1のシートC1のずれを判定する。つまり、位置判定部64は、一対の検出部323の双方が、第1のシートC1の存在を示すしきい値以上となっている場合には、第1のシートC1が正常な位置にあると判定する。位置判定部64は、一対の検出部323の少なくとも一方が、第1のシートC1の存在を示すしきい値未満となっている場合には、第1のシートC1がずれていると判定する。
記憶部65は、本実施形態の制御に必要な情報を記憶する構成部である。例えば、上記のようなプログラムとともに、拭き取りに適した濡れ量を示すしきい値、検出位置における洗浄液Lの存在を示すしきい値、第1のシートC1の存在を示すしきい値が、記憶部65に記憶されている。入出力制御部66は、制御対象となる各部との間での信号の変換や入出力を制御するインタフェースである。
さらに、制御装置600には、入力装置71、出力装置72が接続されている。入力装置71は、オペレータが、制御装置600を介して端子清掃装置100を操作するためのスイッチ、タッチパネル、キーボード、マウス等の入力手段である。上記の各種のしきい値は、入力装置71から所望の値を入力して設定することができる。
出力装置72は、装置の状態を確認するための情報を、オペレータが認識可能な状態とするディスプレイ、ランプ、メータ、スピーカ、ブザー等の出力手段である。例えば、上記のしきい値、第1のシートC1の濡れ量、洗浄液Lの水位、第1のシートC1のずれの有無等は、ディスプレイに表示され、ランプの点灯等により報知される。第1のシートC1にずれがある場合に、スピーカ、ブザーからの音声により報知してもよい。つまり、出力装置72は、濡れ量、水位、ずれの報知手段として機能する。
[動作]
以上のような本実施形態の動作を、上記の図1~図6に加えて、図7及び図8を参照して以下に説明する。まず、図2に示すように、基板Sはテーブル210に載置され、負圧により吸着保持されている。また、バックアップ322を覆うように、張設部320に、第1のシートC1が張設されている。
さらに、図5(A)、(B)に示すように、第2のシートC2で押付面411を覆うように、押付部材410に被せて、シート押えCPを嵌めることにより、第2のシートC2をセットする。第2のシートC2の一部は、浸漬槽510内の洗浄液Lに浸漬されているため、第2のシートC2の他の領域に洗浄液Lが毛細管現象により浸透して行くので、押付面411に対応する第2のシートC2の押付領域PAにも、全体に洗浄液Lが浸透する。なお、第2のシートC2は、浸漬槽510側に垂らした辺縁部が、洗浄液Lに浸漬されているので、端子Tの並設方向に交差する方向、つまり押付面411の長辺方向に交差する方向から、洗浄液Lが浸透する。
この初期状態から、基板Sの端子Tの拭き取りを行う手順を、図7の説明図、図8のフローチャートを参照して説明する。上記の初期状態では、図7(A)に示すように、第2のシートC2の押付領域PA(図5(B)参照)は、第1のシートC1のバックアップ322を覆う部分に対向している。
図7(B)に示すように、押付面411が、バックアップ322に接近する方向に、駆動部430が基体部420とともに押付部材410を移動させて、押付領域PAを、第1のシートC1に押し付ける(ステップS01)。すると、第2のシートC2の押付領域PAに浸透している洗浄液Lが、第1のシートC1に毛細管現象によって浸透していく。そして、濡れ判定部62が、検出部323により検出される第1のシートC1の濡れ量を示す数値が、しきい値未満であると判定している間は(ステップS02のNO)、押付領域PAの押し付けを継続する。
第1のシートC1の濡れ量を示す数値が、しきい値以上と判定された場合(ステップS02のYES)。図7(C)に示すように、駆動部430が基体部420とともに押付部材410を移動させて、押付面411をバックアップ322から離す(ステップS03)。これにより、第1のシートC1と第2のシートC2との間に、基板Sを挿入可能な空間が形成される。
図7(D)に示すように、駆動機構220の駆動源225(図2参照)が、テーブル210をX軸方向に沿って張設部320側、つまり図中左方向に移動させることにより、テーブル210に支持された基板Sを、第1のシートC1と第2のシートC2との間に挿入する(ステップS04)。このとき、基板Sの端子Tは、第1のシートC1を挟んでバックアップ322に対向する位置に来る。
図7(E)に示すように、駆動機構220のシリンダ223(図2参照)が、テーブル210を基板Sとともに接触方向に移動させることにより、基板Sの端子Tを、第1のシートC1に接触させる(ステップS05)。そして、図7(F)に示すように、駆動機構220の駆動源225が、テーブル210を基板Sとともに拭取方向、つまりX軸方向に沿って図中右方向に移動させることにより、基板Sの端子Tの表面が、第1のシートC1によって拭き取られる(ステップS06)。このまま移動を継続することにより、基板Sを、第1のシートC1と第2のシートC2との間から退避させる。
以上の動作は、一つの基板Sの端子Tを清掃する手順であるが、テーブル210に載置された基板Sを交換して、上記の手順を行うことにより、順次、基板Sの端子Tを清掃することができる。水位判定部63によって、水位が検出位置に達していないと判定された場合には、供給源から洗浄液Lを浸漬槽510に供給する。水位が検出位置に達したら、洗浄液Lの供給を停止する。また、位置判定部64によって、第1のシートC1がずれていると判定された場合には、出力装置72によってオペレータに報知される。オペレータは、端子清掃装置100を停止して、ずれを修正する。また、第1のシートC1の濡れ量を示す数値が過大であることを判断するためのしきい値を超えた場合には、噴出孔324から第1のシートC1に対して空気を噴出することにより、濡れ量を低減させる。
[作用効果]
(1)本実施形態の端子清掃装置100は、基板Sの端子Tを清掃するための第1のシートC1を支持するシート支持部300と、第2のシートC2を第1のシートC1に押し付ける押付面411を有し、押付面411をシート支持部300に対して相対移動させることにより、洗浄液が浸透した第2のシートC2を第1のシートC1に押し付けて、第1のシートC1に洗浄液を浸透させる押付部400と、基板Sを支持し、基板Sをシート支持部300に対して相対移動させることにより、端子Tを、洗浄液が浸透した第1のシートC1に接触させて清掃する基板支持部200と、を有する。
このように、洗浄液Lを浸透させた第2のシートC2を、第1のシートC1に押付面で押し付けることにより、第1のシートC1に洗浄液を浸透させるので、ノズル等により点で洗浄液を付着させる場合に比べて、第1のシートC1に洗浄液が過不足なく均一に付着することになる。このため、複数の端子Tの表面をムラなく拭き取って、確実に清掃することができる。
ここで、複数の端子Tの表面を清掃するためには、第1のシートC1の比較的広い範囲によって、複数の端子Tにまとめて接触させて拭き取ることが効率がよい。しかし、清掃テープの拭き取り面が広くなると、洗浄液を均一に付着させることが困難となる。特に、ノズルによって洗浄液を滴下する場合には、面積が広くなると、均一に付着させることはより困難となる。本実施形態では、第1のシートC1の広い範囲に過不足なく均一に洗浄液を浸透させることができるので、複数の端子Tをまとめて清掃することに適している。また、第1のシートC1の比較的広い領域に、1回の動作で短時間に洗浄液を過不足なく均一に供給することができるので、少量の洗浄液を付着させる場合にも対応できる。
(2)第2のシートC2のうち、第1のシートC1に押し付けられる押付領域PA以外の領域から、洗浄液を供給する洗浄液供給部500を有する。このため、押付領域PAには毛細管現象により洗浄液が浸透して行くことになるので、押付領域PAに直接洗浄液を滴下したり塗布したりする場合に比べて、洗浄液の浸透が均一となる。従って、押付領域PAが押し付けられる第1のシートC1に対しても、洗浄液を均一に浸透させることができる。なお、本実施形態では、第2のシートC2の辺縁部から、押付面411の長辺方向に交差する方向に洗浄液が浸透していく。このため、押付面411の長辺方向の一端又は両端から洗浄液が浸透していく場合に比べて、端子Tの並設方向のムラが生じ難い。
(3)洗浄液供給部500は、洗浄液を貯留可能であり、洗浄液に第2のシートC2の一部が浸漬されることにより、第2のシートC2に洗浄液が供給される浸漬槽510を有する。このため、第2のシートC2の一部が浸漬されるように、浸漬槽510に洗浄液を貯留しておけばよいので、管理が容易となる。
(4)第1のシートC1が端子Tに接触する接触位置と、第1のシートC1に第2のシートC2が押し付けられる押付位置と、が共通である。このため、あらかじめ第1のシートC1に洗浄液を浸透させた後に、第1のシートを移動させて拭き取りを行う場合に比べて、乾燥し難く、拭き取りの位置合わせがし易い。
(5)シート支持部300は、押付部400により第2のシートC2が押し付けられた第1のシートC1の濡れ量を検出する検出部323を有する。このため、拭き取りに十分な濡れ量となったことを検出してから、拭き取り動作をさせることができる。
(6)基板支持部200は、第1のシートC1に複数の端子Tを接触させながら、基板Sを、複数の端子Tの並設方向に交差する方向に相対移動させる。このため、洗浄液が均一に浸透した第1のシートC1によって、複数の端子Tをまとめて清掃できる。端子Tは、帯状のものが長手方向に直交する方向に多数並設されているが、並設方向に直交する方向、つまり長手方向に拭き取ることにより、端子Tの並設による凹凸の影響に関係無く、第1のシートC1の拭き取り動作を行えるので、端子Tにダメージを与えることなく清掃することができる。
[他の実施形態]
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような態様も含む。
(1)基板Sは、側辺に電極を有する平板状であればよい。表示装置用の部材、その他の部材に広く適用できる。例えば、液晶パネルには限定されず、有機ELパネルであってもよい。また、表示装置用の基板Sには限定されず、配線済の基板、電子部品を実装済の基板等であってもよい。さらに、基板Sの材質は、ガラスには限定されず、樹脂等、他の材質であってもよい。
(2)押付部400のシート支持部300に対する移動は、相対移動であればよい。つまり、シート支持部300側が第1のシートC1を移動させることにより、又は双方が移動することにより、第2のシートC2を第1のシートC1に押し付けてもよい。基板支持部200のシート支持部300に対する移動も、相対移動であればよい。つまり、シート支持部300側が第1のシートC1を移動させることにより、又は双方が移動することにより、端子Tを清掃する構成であってもよい。押付部400を移動させる駆動部430、基板支持部200の駆動機構220等、各部を移動させる機構も、上記の態様には限定されない。なお、押付部400や基板支持部200を固定として、シート支持部300を移動させる場合、シート支持部300を移動させる駆動機構等の移動装置は、押付部400や基板支持部200の一部を兼ねる装置として捉えることもできる。
(3)洗浄液供給部500は、第2のシートC2の押付領域PAに洗浄液を浸透させることができればよく、第2のシートC2に洗浄液を浸漬させる構成には限定されない。押付領域PAの周囲から、ノズルやスプレー等によって洗浄液Lを供給し、これにより、押付領域PAに洗浄液が浸透するようにしてもよい。また、押付部材410の一方の側面側に浸漬槽510を設けたが、これに限られるものではなく、押付部材410の2側面の両側に浸漬槽510を設けるようにしてもよい。この場合、押付部材410の2側面のそれぞれに垂らした第2のシートC2の端部が洗浄液Lに浸漬される。要は、洗浄液供給部500は、押付領域PAに洗浄液Lが浸透することによって行き渡るよう構成されていればよい。
(4)洗浄液が浸透した第2のシートC2を第1のシートC1に押し付けるとは、押し付ける前に、洗浄液が押付領域PAにまで浸透している必要はない。つまり、上記の態様では、第2のシートC2の押付領域PAに洗浄液が浸透してから、押付動作を行っていたが、押付領域PAに対する洗浄液の浸透がない場合又は不十分な場合であっても、第1のシートC1に押し付けてもよい。その後、第2のシートC2の押付領域PAに洗浄液が浸透して、さらに第1のシートC1へ洗浄液が浸透すればよい。
(5)第1のシートC1の濡れ量の検出をしなくても、第2のシートC2の押し付けから過不足ない濡れ量となる時間を実験等により取得しておき、その時間を、押し付ける時間として設定としてもよい。
(6)押付面411の長辺方向の長さが異なる押付部材410を複数用意しておき、又はこれらを備えた押付部400を複数用意しておき、交換可能とすることにより、端子Tの並設方向の長さが異なる基板Sに対応できるようにしてもよい。なお、上記の態様のように、作業効率からは、一つの基板Sの全ての端子Tを包含するように、第1のシートC1により拭き取ることが好ましい。但し、複数の端子Tの一部を拭き取る構成であってもよい。また、長さが異なる基板Sや押付面411に対応させる場合、異なる長さに対応した幅の第1のシートC1、第2のシートC2を用意しておき、適宜交換することになる。さらに、清掃する端子Tの長手方向の長さの違いに対応させて、押付面411の短辺方向の長さPLを変えた押付部材410も用意しておき、適宜交換して使用する。
(7)第1のシートC1と第2のシートC2とは、同じものを用いてもよいし、異なる種類のものを用いてもよい。但し、同じものを用いる方が、浸透の速度等が共通であるため、装置の設定管理が容易となる。また、第2のシートC2は、洗浄液Lを浸透させることができるシートであればよく、特定のものには限定されない。しかしながら、生産性や作業効率の観点から、第2のシートC2は、第1のシートC1に対して概ね2秒以内、より好ましくは、1秒以内に適正量の洗浄液Lを浸透(転写)させることができる程度の単位体積当たりの保水量(保水能力)を有しているとよい。そのためには、第2のシートC2は、浸漬槽510側からの浸透を待つ必要なく、押付領域PA内で第2のシートC2内に保水された洗浄液Lのみで、第1のシートC1の押し付けによって、第1のシートC1に清掃に必要な量(適正量)の洗浄液Lを浸透させることができる保水能力を有しているとよい。また、第2のシートC2は、押付部材410の2側面の一部を覆うように設けるようにしたが、浸漬槽510に浸漬される側は押付部材410の側面の全部を覆う長さであってもよい。要は、第2のシートC2は、浸漬槽510に貯留された洗浄液Lに浸漬可能な長さを有していればよい。
(8)以上、本発明の実施形態及び各部の変形例を説明したが、この実施形態や各部の変形例は、一例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。上述したこれら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明に含まれる。
100 端子清掃装置
200 基板支持部
210 テーブル
211 載置面
220 駆動機構
221 支柱
222 移動台
223 シリンダ
224 リニアガイド
225 駆動源
300 シート支持部
310 本体部
311 プレート
311a 突出部
320 張設部
321 対向面
322 バックアップ
322a バックアップ面
323 検出部
324 噴出孔
325 案内面
326 ガイド部材
326a ガイド溝
326b 角部
330 給排機構
331 供給部
331a 供給リール
331b 経路ローラ
331c 経路ローラ
332 排出部
332a 送りローラ
332b ニップローラ
332c 経路ローラ
332d シリンダ
400 押付部
410 押付部材
411 押付面
412 傾斜面
420 基体部
430 駆動部
500 洗浄液供給部
510 浸漬槽
520 洗浄液流路
521 供給配管
522 液面検知用配管
523 復帰配管
530 水位検出部
600 制御装置
61 機構制御部
62 濡れ判定部
63 水位判定部
64 位置判定部
65 記憶部
66 入出力制御部
71 入力装置
72 出力装置
C1 第1のシート
C2 第2のシート
CA 接触領域
CP シート押え
L 洗浄液
PA 押付領域
S 基板
T 端子

Claims (5)

  1. 基板の端子を清掃するための第1のシートを支持するシート支持部と、
    第2のシートを前記第1のシートに押し付ける押付面を有し、前記押付面を前記シート支持部に対して相対移動させることにより、洗浄液が浸透した前記第2のシートを前記第1のシートに押し付けて、前記第1のシートに前記洗浄液を浸透させる押付部と、
    前記基板を支持し、前記基板を前記シート支持部に対して相対移動させることにより、複数の前記端子を、前記洗浄液が浸透した前記第1のシートに接触させて清掃する基板支持部と、を有し、
    前記第1のシートが前記端子に接触する接触位置と、前記第1のシートに前記第2のシートが押し付けられる押付位置とが共通であることを特徴とする端子清掃装置。
  2. 前記第2のシートのうち、前記第1のシートに押し付けられる押付領域以外の領域から、洗浄液を供給する洗浄液供給部を有することを特徴とする請求項1記載の端子清掃装置。
  3. 前記洗浄液供給部は、前記洗浄液を貯留可能であり、前記洗浄液に前記第2のシートの一部が浸漬されることにより、前記第2のシートに前記洗浄液が供給される浸漬槽を有することを特徴とする請求項2記載の端子清掃装置。
  4. 前記シート支持部は、前記押付部により前記第2のシートが押し付けられた前記第1のシートの濡れ量を検出する検出部を有することを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の端子清掃装置。
  5. 前記基板支持部は、前記第1のシートに複数の前記端子を接触させながら、前記基板を、複数の前記端子の並設方向に交差する方向に相対移動させることを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の端子清掃装置。
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