JP7231713B2 - 組成物、遮光膜、カラーフィルタ、光学素子、センサ、固体撮像素子、ヘッドライトユニット - Google Patents
組成物、遮光膜、カラーフィルタ、光学素子、センサ、固体撮像素子、ヘッドライトユニット Download PDFInfo
- Publication number
- JP7231713B2 JP7231713B2 JP2021511315A JP2021511315A JP7231713B2 JP 7231713 B2 JP7231713 B2 JP 7231713B2 JP 2021511315 A JP2021511315 A JP 2021511315A JP 2021511315 A JP2021511315 A JP 2021511315A JP 7231713 B2 JP7231713 B2 JP 7231713B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- light
- shielding film
- black
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 217
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 62
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 28
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 199
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 199
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 153
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 129
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 125
- -1 oxime compound Chemical class 0.000 claims description 118
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 110
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 89
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 84
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 79
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 77
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 71
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 67
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 58
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 54
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 52
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 51
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 45
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 35
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 32
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 27
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 26
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 21
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 19
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 14
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 12
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004407 fluoroaryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 5
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 244
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 237
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 170
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 64
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 61
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 60
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 description 56
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 49
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 48
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 46
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 42
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 40
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 39
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 39
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 35
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 31
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 31
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 30
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 30
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 29
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 29
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 28
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 28
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 28
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 27
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 26
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 24
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 24
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 24
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 24
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 23
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 21
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 19
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 19
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 18
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 18
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 17
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 17
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 16
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 16
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 16
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 15
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 15
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 14
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 14
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 14
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 14
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 14
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 13
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000011161 development Methods 0.000 description 11
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 11
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 11
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 11
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 11
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- BESKSSIEODQWBP-UHFFFAOYSA-N 3-tris(trimethylsilyloxy)silylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C BESKSSIEODQWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 9
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 9
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 9
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 8
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 8
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 8
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 8
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 7
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 6
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 5
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 5
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 5
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 5
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical class [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical group CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 4
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical group C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 4
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 4
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007877 V-601 Substances 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 3
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 3
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 3
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 3
- 150000003949 imides Chemical group 0.000 description 3
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical class C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 3
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 3
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical class NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylbutan-2-one Chemical compound CC(C)C(C)=O SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-methoxybutan-1-ol Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)OC IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N aluminum;borate Chemical compound [Al+3].[O-]B([O-])[O-] OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005380 borophosphosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 2
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012241 calcium silicate Nutrition 0.000 description 2
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 2
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOKSLPVRUOBDEW-UHFFFAOYSA-N pinane Chemical compound CC1CCC2C(C)(C)C1C2 XOKSLPVRUOBDEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005649 substituted arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000464 thioxo group Chemical group S=* 0.000 description 2
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- JLQFVGYYVXALAG-CFEVTAHFSA-N yasmin 28 Chemical compound OC1=CC=C2[C@H]3CC[C@](C)([C@](CC4)(O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1.C([C@]12[C@H]3C[C@H]3[C@H]3[C@H]4[C@@H]([C@]5(CCC(=O)C=C5[C@@H]5C[C@@H]54)C)CC[C@@]31C)CC(=O)O2 JLQFVGYYVXALAG-CFEVTAHFSA-N 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(C)=O MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) benzoate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) propanoate Chemical compound CCC(=O)ON=C(C)C(C)=O JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N (3-oxopentan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CCC(=O)C(C)=NOC(C)=O HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- FZDZWLDRELLWNN-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,3a,4,5,5a,6,7,8,8a,8b-dodecahydroacenaphthylene Chemical compound C1CCC2CCC3C2C1CCC3 FZDZWLDRELLWNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNMCGMFNBARSIY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,4b,5,6,7,8,8a,9,10,10a-tetradecahydrophenanthrene Chemical compound C1CCCC2C3CCCCC3CCC21 GNMCGMFNBARSIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVJFFQYXVOJXFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a,9,9a,10,10a-tetradecahydroanthracene Chemical compound C1C2CCCCC2CC2C1CCCC2 GVJFFQYXVOJXFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethoxy)ethanol Chemical compound COCOC(C)O RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSZOAYXJRCEYSX-UHFFFAOYSA-N 1-nitropropane Chemical compound CCC[N+]([O-])=O JSZOAYXJRCEYSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGUYWRASKKWRQG-UHFFFAOYSA-N 2,3,3a,4,5,6,6a,7,8,9,9a,9b-dodecahydro-1h-phenalene Chemical group C1CCC2CCCC3C2C1CCC3 QGUYWRASKKWRQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLWAZOBRCQWWDB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,4a,4b,5,6,7,8,8a,9,9a-dodecahydro-1h-fluorene Chemical compound C12CCCCC2CC2C1CCCC2 OLWAZOBRCQWWDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFTBJQDQENGCPC-UHFFFAOYSA-N 2,5-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C(C)(C)C AFTBJQDQENGCPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFGVTUJBHHZRAB-UHFFFAOYSA-N 2,6-Di-tert-butyl-1,4-benzenediol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC(C(C)(C)C)=C1O JFGVTUJBHHZRAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSTZGVRUOMBULC-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-[2-(3-amino-4-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenol Chemical compound C1=C(O)C(N)=CC(C(C=2C=C(N)C(O)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 MSTZGVRUOMBULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 2-dodecanoyloxyethyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCC ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQHSUHILQWIOM-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate titanium(4+) dihydroxide Chemical compound O[Ti++]O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O DTQHSUHILQWIOM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- DLYKFPHPBCTAKD-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC(OC)=CC=C3SC2=C1 DLYKFPHPBCTAKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJZCSAYCRMPMM-UHFFFAOYSA-N 3-(4-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(C)=CC1=CC=C(O)C=C1 WDJZCSAYCRMPMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 3-[[3-aminopropyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]propan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCN GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWLKGDAVCFYWJK-UHFFFAOYSA-N 3-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC(O)=C1 CWLKGDAVCFYWJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940018563 3-aminophenol Drugs 0.000 description 1
- BXYQHDXDCJQOFD-UHFFFAOYSA-N 3-cyanopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC#N BXYQHDXDCJQOFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGFRMBWZNUQUSB-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydroxy-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound OC1=C(O)C(O)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1O VGFRMBWZNUQUSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTGCZBEERTTDQ-UHFFFAOYSA-N 4-Methoxy-1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=C(O)C2=C1 BOTGCZBEERTTDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-TEMPO Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1[O] UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPTVNYMJQHSSEA-UHFFFAOYSA-N 4-nitrotoluene Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 ZPTVNYMJQHSSEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJVIKVWFGPLAFS-UHFFFAOYSA-N 9-(2-methylprop-2-enoyloxy)nonyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C YJVIKVWFGPLAFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 102100040440 Adenylate kinase isoenzyme 5 Human genes 0.000 description 1
- 101710168711 Adenylate kinase isoenzyme 5 Proteins 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N Poloxamer Chemical compound C1CO1.CC1CO1 RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N TEMPO Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1[O] QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USDJGQLNFPZEON-UHFFFAOYSA-N [[4,6-bis(hydroxymethylamino)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]methanol Chemical compound OCNC1=NC(NCO)=NC(NCO)=N1 USDJGQLNFPZEON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- VSHDEZHNJCSDFY-UHFFFAOYSA-N ac1l3g17 Chemical group C12C(C3)CCC3C2C2CCC1C2 VSHDEZHNJCSDFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methoxymethane Chemical compound COC.CC(O)=O TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004691 alkyl thio carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005012 alkyl thioether group Chemical group 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004832 aryl thioethers Chemical group 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GPRLTFBKWDERLU-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.2]octane Chemical group C1CC2CCC1CC2 GPRLTFBKWDERLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHOMMGQAMRXRRK-UHFFFAOYSA-N bicyclo[3.1.1]heptane Chemical compound C1C2CC1CCC2 SHOMMGQAMRXRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPCWKMYWISGVSK-UHFFFAOYSA-N bicyclo[3.2.1]octane Chemical group C1C2CCC1CCC2 LPCWKMYWISGVSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- BEWYHVAWEKZDPP-UHFFFAOYSA-N bornane Chemical compound C1CC2(C)CCC1C2(C)C BEWYHVAWEKZDPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930006742 bornane Natural products 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid Chemical compound OC(=O)CC=C PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011132 calcium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000006231 channel black Substances 0.000 description 1
- 239000011093 chipboard Substances 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- IPHJYJHJDIGARM-UHFFFAOYSA-M copper phthalocyaninesulfonic acid, dioctadecyldimethylammonium salt Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC.C=1C(S(=O)(=O)[O-])=CC=C(C(=NC2=NC(C3=CC=CC=C32)=N2)[N-]3)C=1C3=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 IPHJYJHJDIGARM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010219 correlation analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 1
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N cyclohexylcyclohexane Chemical group C1CCCCC1C1CCCCC1 WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N cyclooctylcyclooctane Chemical group C1CCCCCCC1C1CCCCCCC1 NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000009034 developmental inhibition Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- NVVZQXQBYZPMLJ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound O=C.C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 NVVZQXQBYZPMLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000006232 furnace black Substances 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- QZQVBEXLDFYHSR-UHFFFAOYSA-N gallium(III) oxide Inorganic materials O=[Ga]O[Ga]=O QZQVBEXLDFYHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005553 heteroaryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- BNRNAKTVFSZAFA-UHFFFAOYSA-N hydrindane Chemical compound C1CCCC2CCCC21 BNRNAKTVFSZAFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-M isobutyrate Chemical compound CC(C)C([O-])=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- 235000014380 magnesium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GEYXPJBPASPPLI-UHFFFAOYSA-N manganese(III) oxide Inorganic materials O=[Mn]O[Mn]=O GEYXPJBPASPPLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- UPHWVVKYDQHTCF-UHFFFAOYSA-N octadecylazanium;acetate Chemical compound CC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCN UPHWVVKYDQHTCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002990 phenothiazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229930006728 pinane Natural products 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000962 poly(amidoamine) Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005646 polycarboxylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006294 polydialkylsiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006149 polyester-amide block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 239000000244 polyoxyethylene sorbitan monooleate Substances 0.000 description 1
- 235000010482 polyoxyethylene sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000053 polysorbate 80 Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000011165 process development Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical compound N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- RAPZEAPATHNIPO-UHFFFAOYSA-N risperidone Chemical compound FC1=CC=C2C(C3CCN(CC3)CCC=3C(=O)N4CCCCC4=NC=3C)=NOC2=C1 RAPZEAPATHNIPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005156 substituted alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000006234 thermal black Substances 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006000 trichloroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- NFMWFGXCDDYTEG-UHFFFAOYSA-N trimagnesium;diborate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] NFMWFGXCDDYTEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSJKGSCJYJTIGS-BJUDXGSMSA-N undecane Chemical group CCCCCCCCCC[11CH3] RSJKGSCJYJTIGS-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940042596 viscoat Drugs 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14623—Optical shielding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
- C08K7/02—Fibres or whiskers
- C08K7/04—Fibres or whiskers inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
- C08F290/12—Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/28—Nitrogen-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
- C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
- C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
- C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
- C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
- C08K7/26—Silicon- containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/02—Ingredients treated with inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
- C08L101/12—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21S—NON-PORTABLE LIGHTING DEVICES; SYSTEMS THEREOF; VEHICLE LIGHTING DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR VEHICLE EXTERIORS
- F21S41/00—Illuminating devices specially adapted for vehicle exteriors, e.g. headlamps
- F21S41/40—Illuminating devices specially adapted for vehicle exteriors, e.g. headlamps characterised by screens, non-reflecting members, light-shielding members or fixed shades
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/003—Light absorbing elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0232—Optical elements or arrangements associated with the device
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
- C08L101/02—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B2207/00—Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
- G02B2207/101—Nanooptics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14621—Colour filter arrangements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
また、現在、携帯電話及びPDA(Personal Digital Assistant)等の電子機器の携帯端末には、小型で薄型な撮像ユニットが搭載されている。CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサ及びCMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)イメージセンサ等の固体撮像素子には、ノイズ発生防止、及び、画質の向上等を目的として遮光膜が設けられている。
黒色色材、無機粒子、及び、樹脂を含有する組成物であって、
上記樹脂が、特定樹脂を含有し、
上記特定樹脂のSP値と、上記無機粒子のSP値との差の値が1.5MPa0.5以上である、組成物。
〔2〕
上記無機粒子のSP値が20MPa0.5未満である、〔1〕に記載の組成物。
〔3〕
上記無機粒子が中空粒子である、〔1〕又は〔2〕に記載の組成物。
〔4〕
上記無機粒子がシリカ粒子である、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の組成物。
〔5〕
上記無機粒子の粒径が、1~100nmである、〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の組成物。
〔6〕
上記無機粒子が、無機物質と、上記無機物質を被覆する被覆層とを含有する修飾無機物質である、〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の組成物。
〔7〕
上記被覆層が、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含有する、〔6〕に記載の組成物。
〔8〕
上記特定樹脂のSP値が20MPa0.5以上である、〔1〕~〔7〕のいずれかに記載の組成物。
〔9〕
上記特定樹脂が、酸基を含有する、〔1〕~〔8〕のいずれかに記載の組成物。
〔10〕
上記特定樹脂が、エチレン性不飽和基を含有する、〔1〕~〔9〕のいずれかに記載の組成物。
〔11〕
上記黒色色材がTi、V、Zr、及び、Nbからなる群から選択される1種以上の金属の、窒化物又は酸窒化物を含有する、〔1〕~〔10〕のいずれかに記載の組成物。
〔12〕
更に、重合開始剤を含有し、
上記重合開始剤がオキシム化合物を含有し、
上記オキシム化合物の含有量が、上記重合開始剤の全質量に対して40~100質量%である、〔1〕~〔11〕のいずれかに記載の組成物。
〔13〕
上記差の値が2.3MPa0.5以上である、〔1〕~〔12〕のいずれかに記載の組成物。
〔14〕
〔1〕~〔13〕のいずれかに記載の組成物を用いて形成された、遮光膜。
〔15〕
黒色色材、及び、無機粒子を含有する遮光膜であって、
上記無機粒子の粒径が、1~100nmであり、
表面の算術平均粗さが18nm以上である、遮光膜。
〔16〕
上記無機粒子がシリカ粒子である、〔15〕に記載の遮光膜。
〔17〕
上記黒色色材がTi、V、Zr、及び、Nbからなる群から選択される1種以上の金属の、窒化物及び酸窒化物の少なくとも一方を含有する、〔15〕又は〔16〕に記載の遮光膜。
〔18〕
上記無機粒子が、空気界面側に偏在している、〔14〕~〔17〕のいずれかに記載の遮光膜。
〔19〕
上記無機粒子同士が、凝集している、〔18〕に記載の遮光膜。
〔20〕
膜厚が、0.4~2.5 μmである、〔14〕~〔19〕のいずれかに記載の遮光膜。
〔21〕
上記算術平均粗さが、30~80nmである、〔14〕~〔20〕のいずれかに記載の遮光膜。
〔22〕
〔14〕~〔21〕のいずれかに記載の遮光膜を含有する、カラーフィルタ。
〔23〕
〔14〕~〔21〕のいずれかに記載の遮光膜を含有する、光学素子。
〔24〕
〔14〕~〔21〕のいずれかに記載の遮光膜を含有する、センサ。
〔25〕
〔14〕~〔21〕のいずれかに記載の遮光膜を含有する、固体撮像素子。
〔26〕
車両用灯具のヘッドライトユニットであって、
光源と、
上記光源から出射された光の少なくとも一部を遮光する遮光部とを有し、
上記遮光部が、〔14〕~〔21〕のいずれかに記載の遮光膜を含有する、ヘッドライトユニット。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされる場合があるが、本発明はそのような実施態様に制限されない。
なお、本明細書において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含有する範囲を意味する。
本明細書においてGPC法は、HLC-8020GPC(東ソー製)を用い、カラムとしてTSKgel SuperHZM-H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ2000(東ソー製、4.6mmID×15cm)を、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いる方法に基づく。
本発明の組成物は、黒色色材、無機粒子、及び、樹脂を含有する組成物であって、樹脂が、特定樹脂を含有する。
また、特定樹脂のSP値と、無機粒子のSP値との差の値は1.5MPa0.5以上となる。
上記のような構成をとる組成物で本発明の課題が解決されるメカニズムは必ずしも定かではないが、本発明者らは、以下のように推測している。
すなわち、本発明の組成物が含有する無機粒子と特定樹脂とでは、SP値の差が所定値以上であり、両者の親和性が低い。そのため、組成物を用いて塗膜(組成物層)を形成した場合、無機粒子が塗膜の表面に偏在しやすく、更に、塗膜の表面に偏在した無機粒子同士が凝集しやすいため、得られる遮光膜(硬化膜)の表面に適度な凹凸を形成できる。その結果、本発明の組成物から得られる遮光膜の表面に照射された光を散乱させることができ、赤外線に対する低反射性が優れたものになった、と推測している。
また、本発明の組成物から得られる遮光膜は、遮光性、及び、可視光(例えば、波長550nmの光)に対する低反射性も良好になりやすい。
以下、組成物から形成した遮光膜が、赤外線に対する低反射性に優れること、可視光に対する低反射性に優れること、及び/又は、遮光性に優れることを、本発明の効果が優れるとも言う。
以下、本発明の組成物が含有する成分について説明する。
本発明の組成物は、無機粒子を含有する。
なお、無機粒子と後述の黒色色材とは、異なる材料が使用される。
無機粒子は、上記無機物質そのものであってもよく、上記無機物質と、上記無機物質を被覆する被覆層とを含有する修飾無機物質であってもよい。
例えば、無機粒子はシリカ粒子が好ましい。このようにシリカ粒子と言う場合、「無機物質としてのシリカそのもの」、及び、「無機物質としてのシリカと、シリカを被覆する被覆層とを含有する修飾シリカ」の両方を意図する。
SP値とは溶解パラメータと意味し、SP値が近い物質同士は親和性が良好である。本発明の組成物では、無機粒子のSP値と特定樹脂とのSP値とが所定の差となるようにしており、これにより、組成物で塗膜を形成した際に、無機粒子を空気界面側に偏在させて遮光膜の赤外線等に対する低反射性を改善している。
下記に示す判定用溶媒を用意する。無機粒子10mgと各溶媒(判定用溶媒)10gとをサンプル管に入れ、BANSON社製Sonifier450により30秒間、25℃の水浴中で分散させる。得られた分散液について、25℃で6時間静置した後に動的光散乱法による測定(大塚電子製DLS-8000、光源632nm/10mW)を行う。測定された平均粒径が小さいほど、分散液中で無機粒子同士の凝集が進行しておらず、無機粒子と溶媒との親和性が優れる(良溶媒の傾向である)と評価できる。
試験に用いた全溶媒のうち、測定された平均粒径が小さい順に上位5%以内の溶媒を良溶媒として分類し、その他の溶媒を貧溶媒として分類する。
得られた良溶媒/貧溶媒の判定リストをもとに、HSPiP(ソフトウェア「Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP) ver.4.1.07」)を用いて無機粒子のHSP値を算出する。具体的には全ての良溶媒を内側に含めることができる最小のHSP球を求め、その中心を無機粒子のHSP値とする。無機粒子のSP値は以下の式(1)より無機粒子のHSP値から算出する。
SP値=(HSPd 2+HSPp 2+HSPh 2)0.5 ・・・(1)
(単位はそれぞれMPa0.5)
SEMを用いて得た粒子像の最大長(Dmax:粒子画像の輪郭上の2点における最大長さ)、及び最大長垂直長(DV-max:最大長に平行な2本の直線で画像を挟んだ時、2直線間を垂直に結ぶ最短の長さ)を測長し、その相乗平均値(Dmax×DV-max)1/2を粒子径とした。この方法で100個の粒子の粒子径を測定し、その算術平均値を粒子の平均一次粒子径とした。
また、特定粒子は、単分散粒子であってもよく、所定の粒径を満たすならば凝集粒子であってもよい。
中空粒子は、粒子の内部に空洞が存在する粒子をいう。中空粒子は、粒子が、内部の空洞と、空洞を包囲する外殻とからなる構造であってもよい。また、中空粒子は、粒子の内部に空洞が複数存在する構造であってもよい。
中実粒子は、粒子の内部に空洞が実質的に存在しない粒子をいう。
中空粒子は、空隙率が3%以上であるのが好ましく、中実粒子は、空隙率が3%未満であるのが好ましい。
無機粒子は、本発明の効果がより優れる点から、中空粒子であるのが好ましい。
中空粒子は、内部に空洞を有し、中空構造を有さない粒子に比較して比重が小さいため、組成物を用いて形成された塗膜中で、中空粒子が表面に浮かび、遮光膜表面に偏在する効果がより高まると考えられる。
また、中空粒子は、中空構造を有さない粒子に比較して、粒子自体の屈折率が低い。例えば、中空粒子をシリカで構成した場合、中空シリカ粒子は、屈折率の低い空気(屈折率=1.0)を有しているため、粒子自体の屈折率が1.2~1.4となり、通常のシリカ(屈折率=1.6)と比較して著しく低くなる。このため、中空粒子を含有する組成物を用いて遮光膜を形成することにより、遮光膜の表面に屈折率の低い中空粒子が偏在し、AR(Anti-Reflection)型の低反射効果が得られ、遮光膜の低反射性が向上すると考えられる。
中空粒子としては、例えば特開2001-233611号公報、及び、特許第3272111号公報に記載されている中空シリカ粒子を挙げることができる。
数珠状コロイダルシリカ粒子としては、特許第4328935号公報、及び、特開2013-253145号公報に記載されているシリカゾルが挙げられる。
無機粒子は黒色以外であるのが好ましい。無機粒子は、赤、青、黄色、緑、紫、橙、又は、白等の色を有していてもよく、無色であってもよい。中でも、無機粒子は、白色または無色であることが好ましい。
無機粒子の一部又は全部を構成する無機物質としては、例えば、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物、炭酸塩、硫酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩、及び、これらのうち2種以上の複合化物が挙げられ、無機酸化物、無機窒化物又は炭酸塩が好ましく、無機酸化物がより好ましい。
上記無機化合物は、少なくともケイ素を含有することが好ましい。
中でも、シリカ、チタニア、アルミナ、雲母化合物、硝子、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、硼酸アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム、又は、硫酸カルシウムが好ましく、シリカ、チタニア、アルミナ、又は、炭酸カルシウムがより好ましく、シリカがより好ましい。
無機物質の粒径は、1~200nmが好ましく、1~100nmがより好ましく、15~78nmが更に好ましい。無機物質の粒径の測定方法は、無機粒子の粒径の測定方法と同様である。
また無機物質は、中空粒子であってもよく、中実粒子であってもよく、中空粒子であるのが好ましい。
無機粒子は、上記無機物質と、上記無機物質を被覆する被覆層とを含有する修飾無機物質であってもよい。
被覆層は、上述の無機物質を被覆する層である。被覆層による被覆は、無機物質の全面を被覆してもよく、一部のみを被覆してもよい。
被覆層は無機物質の表面に直接配置されていてもよく、無機物質との間に他の層を介して配置されていてもよい。
ただし、ここで言うケイ素原子としては、修飾無機物質(特に修飾シリカ)を作製するためにシランカップリング剤を使用した場合において、無機物質と直接結合した加水分解性シリル基に由来するケイ素は含まない。
例えば、シリカに対して、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシランのトリメトキシシリル基を反応させて、メタクリロイル基を有する修飾シリカを作製した場合であっても、シリカと反応した上記トリメトキシシリル基に由来するケイ素原子は、被覆層が有するケイ素原子には該当しない。
上記アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。また、上記アルキル基は、全体が環状構造であってもよく、部分的に環状構造を含有してもよい。
上記アルキル基の炭素数は、1~10が好ましく、1~3がより好ましい。ここでいう好ましい炭素数は、上記アルキル基が置換基を含有する場合において、置換基中に存在し得る炭素原子の数をも計上した炭素数を意図する。
中でも、RS1は、水素原子又はメチル基が好ましい。
上記2価の連結基としては、例えば、エーテル基(-O-)、カルボニル基(-CO-)、エステル基(-COO-)、チオエーテル基(-S-)、-SO2-、-NRN-(RNは、水素原子、又は、アルキル基を表す)、2価の炭化水素基(アルキレン基、アルケニレン基(例:-CH=CH-)、又は、アルキニレン基(例:-C≡C-等)、及びアリーレン基)、-SiRSX 2-(RSXは、水素原子、又は、置換基を表す)並びに 、これらからなる群から選択される1以上の基を組み合わせた基が挙げられる。
上記2価の連結基は、可能な場合、置換基を有してもよく、上記2価の連結基の置換基が、後述するSS1で表される基であってもよく、後述するSS1で表される基を一部に含有する基であってもよい。
中でも、上記2価の連結基は、エステル基、及び、アルキレン基(好ましくは炭素数1~10のアルキレン基)からなる群から選択される基を組み合わせた基であるのが好ましい。
*Bは、一般式(1)中のSS1との結合位置を表し、*Aは、*Bとは反対側の結合位置を表す。
上記アルキレン基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。また、上記アルキレン基は、全体が環状構造であってもよく、部分的に環状構造を含有してもよい。上記アルキレン基は直鎖状であるのが好ましい。
上記アルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、1~3がより好ましい。ここでいう好ましい炭素数は、上記アルキレン基が置換基を含有する場合において、置換基中に存在し得る炭素原子の数をも計上した炭素数を意図する。上記アルキレン基は無置換であるのが好ましい。
上記置換基は、ケイ素原子又はフッ素原子を含有するのが好ましい。
上記置換基は、無置換のアルキル基、フルオロアルキル基、又は、後述する一般式(SS1)で表される基が好ましく、フルオロアルキル基、又は、後述する一般式(SS1)で表される基がより好ましい。
上記無置換のアルキル基の炭素数は、1~10が好ましく、1~5がより好ましい。
上記アルキル基部分の炭素数は、1~15が好ましく、1~10がより好ましい。
上記アルキル基部分は、フッ素原子以外の置換基を含有しないのも好ましい。
上記フルオロアルキル基が有するフッ素原子の数は、1~30個が好ましく、5~20個がより好ましい。
上記フルオロアルキル基は、その全体又は一部が、パーフルオロアルキル基になっているのも好ましい。
*-LS2-O-SiRS2 3 (SS1)
一般式(SS1)中、*は結合位置を表す。
一般式(SS1)中、RS2は、置換基を含有してもよい炭素数1~20の炭化水素基を表す。
上記炭化水素基の炭素数は、1~20であり、1~10が好ましく、1~5がより好ましい。ここでいう炭素数は、上記炭化水素基が置換基を含有する場合において、置換基中に存在し得る炭素原子の数をも計上した炭素数を意図する。
上記炭化水素基は、アルキル基であるのが好ましい。
上記アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。また、上記アルキル基は、全体が環状構造であってもよく、部分的に環状構造を含有してもよい。
複数存在するRS2は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
一般式(SS1)中、LS2は、単結合又は2価の連結基を表す。
一般式(SS1)中のLS2における2価の連結基の例としては、一般式(1)中のLS1における2価の連結基の例として挙げた基が同様に挙げられる。
また、LS2における2価の連結基が、1個以上(例えば1~1000個)の-SiRS2 2-O-を含有してもよい。なお、上記-SiRS2 2-O-におけるRS2は、上述したRS2と同様である。
一般式(2)で表される基を以下に示す。
一般式(2)中、saは、1~1000の整数を表す。
一般式(2)中、RS3は、置換基を含有してもよい炭素数1~20の炭化水素基、又は、後述する一般式(3)で表される基を表す。
一般式(2)中、複数存在するRS3は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。
RS3で表され得る上記炭化水素基としては、例えば、上述したRS2で表され得る置換基を有してもよい炭化水素基が挙げられる。
中でも、一般式(2)中の、右端のSiと結合するRS3は、それぞれ独立に、上記炭化水素基であるのが好ましい。
一般式(2)中のsaが1の場合、「-(-SiRS3 2-O-)sa-」中のRS3は、それぞれ独立に、後述する一般式(3)で表される基であるのが好ましい。
「-(-SiRS3 2-O-)sa-」中の「2×sa」個存在するRS3中、一般式(3)で表される基であるRS3の数は、0~1000が好ましく、0~10がより好ましく、0~2が更に好ましい。
RS3で表され得る一般式(3)で表される基を以下に示す。
一般式(3)中、sbは、0~300の整数を表す。
一般式(3)中、RS4は、置換基を含有してもよい炭素数1~20の炭化水素基を表す。
一般式(3)中、複数存在するRS4は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。
RS4で表され得る上記炭化水素基としては、例えば、上述したRS2で表され得る置換基を有してもよい炭化水素基が挙げられる。
上記一般式(1)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位は、(メタ)アクリル系繰り返し単位であるのが好ましい。
上記一般式(1)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位の分子量は、86~1000が好ましく、100~500がより好ましい。
上記繰り返し単位を実質的に含有しないとは、被覆層が含有する重合体中、エチレン性不飽和基を有する繰り返し単位、及び、加水分解性シリル基を有する繰り返し単位の含有量が、全繰り返し単位に対して、それぞれ独立に、1.0質量%以下(好ましくは0.1質量%以下)であることを意味する。
まず、無機物質(シリカ等)に、エチレン性不飽和基(例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、及び、スチリル基等)を含有するシランカップリング剤(3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等)を反応させて、無機物質の表面上に、エチレン性不飽和基を含有する重合体前駆体層を形成する。次に、重合体前駆体層のエチレン性不飽和基、上述の一般式(1)で表される繰り返し単位に相当するモノマーのエチレン性不飽和基、及び、所望に応じて加えるその他のエチレン性不飽和基含有モノマーのエチレン性不飽和基を重合して、一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する重合体を含有する被覆層を形成できる。
その他のエチレン性不飽和基含有モノマーが有するエチレン性不飽和基の数は、1でもよく、2以上(好ましくは2)であってもよい。エチレン性不飽和基の数が2以上であるエチレン性不飽和基含有モノマーを用いて形成された被覆層は、密な構造をとりやすく、無機粒子の疎水性が良好な範囲に調整されやすいと考えられている。
上記エチレン性不飽和基の数が2である場合のその他のエチレン性不飽和基含有モノマーは、例えば両末端にエチレン性不飽和基((メタ)アクリロイル基)等)を有する鎖状化合物が挙げられ、両末端に、エチレン性不飽和基、又は、エチレン性不飽和基((メタ)アクリロイル基)等)を一部に有する基が置換した、グリコール類、又は、直鎖状のポリシロキサンが好ましい。
上記グリコール類は、モノアルキレングリコール、又は、ポリアルキレングリコールが好ましい。上記グリコール類の炭素数は2~20が好ましい。
上記ポリシロキサンは、ポリジアルキルシロキサンが好ましく、ポリジメチルシロキサンがより好ましい。
また、シランカップリング剤の商品例としては、KP-983(信越シリコーン社製)が挙げられる。
上記表面に存在する置換基としては、例えば、被覆層が重合体(好ましくは一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する重合体)を含有する場合における、上記重合体を構成する繰り返し単位の側鎖が挙げられる。
上記表面に存在する置換基の他の形態としては、例えば、被覆層の全部又は一部が、無機物質(シリカ等)にシランカップリング剤を反応させて得られる層である場合における、上記シランカップリング剤の加水分解性シリル基以外の基が挙げられる。
上記表面に存在する置換基は、本発明の効果がより優れる点から、上述の一般式(SS1)で表される基(好ましくは一般式(2)で表される基、より好ましくはsaが5~100の整数である一般式(2)で表される基)、フルオロアルキル基(炭素数は1~15が好ましく、9~15がより好ましい。フルオロアルキル基はパーフルオロアルキル基でもよい。フルオロアルキル基のアルキル基部分は、フッ素原子以外の置換基を含有しなくてもよく、フッ素原子以外の置換基を含有しないのが好ましい。直鎖状でも分岐鎖状でもよく直鎖状が好ましい)、無置換のアルキル基(好ましくは炭素数1~10。直鎖状でも分岐鎖状でもよい)、フルオロアリール基(フルオロアリール基のアリール基部分は単環でも多環でもよく、環員原子の数は6~15が好ましい。フルオロアリール基のアリール基部分は、フッ素原子以外の置換基を含有しなくてもよい。)、無置換のアリール基(単環でも多環でもよく、環員原子の数は6~15が好ましい)、及び/又は、(メタ)アクリロイル基を含有するのが好ましい。
また、上記表面に存在する置換基は、上記フルオロアリール基又は無置換のアリール基と、上記フルオロアルキル基又は無置換のアルキル基とが組み合わさってなる基(フルオロアリールアルキル基等)であってもよい。
中でも、上記表面に存在する置換基は、上述の一般式(SS1)で表される基、フルオロアルキル基、及び/又は、無置換のアルキル基を含有するのがより好ましく、上述の一般式(SS1)で表される基、及び/又は、フルオロアルキル基を含有するのが更に好ましい。
本発明の組成物は黒色色材を含有する。
なお、上述の無機粒子と黒色色材とは、異なる材料が使用される。
黒色色材としては、黒色顔料及び黒色染料からなる群から選択される1種以上が挙げられる。
黒色色材は1種単独で使用してもよく、2種以上を使用してもよい。
本明細書において、組成物の「全固形分」とは、遮光膜(硬化膜)を形成する成分を意味し、組成物が溶剤(有機溶剤、水等)を含有する場合、溶剤を除いたすべての成分を意味する。また、遮光膜を形成する成分であれば、液体状の成分も固形分とみなす。
例えば、単独では黒色以外の色を有する顔料を複数組み合わせて黒色顔料として使用してもよい。同様に、単独では黒色以外の色を有する染料を複数組み合わせて黒色染料として使用してもよく、単独では黒色以外の色を有する顔料と単独では黒色以外の色を有する染料とを組み合わせて黒色染料として使用してもよい。
より具体的には、例えば、以下に説明する評価基準Zに適合する黒色色材が好ましい。
まず、色材と、透明な樹脂マトリックス(アクリル樹脂等)と、溶剤とを含有し、全固形分に対する色材の含有量が60質量%である組成物を調製する。得られた組成物を、ガラス基板上に、乾燥後の塗膜の膜厚が1μmになるように塗布し、塗膜を形成する。乾燥後の塗膜の遮光性を、分光光度計(日立株式会社製UV-3600等)を用いて評価する。乾燥後の塗膜の波長400~700nmにおける透過率の最大値が10%未満であれば、上記色材は評価基準Zに適合する黒色色材であると判断できる。黒色色材は、評価基準Zにおいて、乾燥後の塗膜の波長400~700nmにおける透過率の最大値が8%未満であることがより好ましく、5%未満であることが更に好ましい。
黒色顔料としては、各種公知の黒色顔料を使用できる。黒色顔料は、無機顔料であっても有機顔料であってもよい。
黒色色材は、遮光膜の耐光性がより優れる点から、黒色顔料が好ましい。
ここで、赤外線を吸収する黒色顔料は、例えば、赤外領域(好ましくは、波長650~1300nm)の波長領域に吸収を有する。波長675~900nmの波長領域に極大吸収波長を有する黒色顔料も好ましい。
透過型電子顕微鏡を用いて得た粒子像の最大長(Dmax:粒子画像の輪郭上の2点における最大長さ)、及び最大長垂直長(DV-max:最大長に平行な2本の直線で画像を挟んだ時、2直線間を垂直に結ぶ最短の長さ)を測長し、その相乗平均値(Dmax×DV-max)1/2を粒子径とした。この方法で100個の粒子の粒子径を測定し、その算術平均値を粒子の平均一次粒子径とした。
無機顔料としては、遮光性を有し、無機化合物を含有する粒子であれば、特に制限されず、公知の無機顔料が使用できる。
遮光膜の低反射性及び遮光性がより優れる点から、黒色色材としては、無機顔料が好ましい。
上記の金属酸化物、金属窒化物、及び金属酸窒化物としては、更に他の原子が混在した粒子を使用してもよい。例えば、更に周期表13~17族元素から選択される原子(好ましくは酸素原子、及び/又は、硫黄原子)を含有する金属窒化物含有粒子が、使用できる。
上記の金属窒化物、金属酸化物又は金属酸窒化物には、表面修飾処理が施されていてもよい。例えば、シリコーン基とアルキル基とを併せ持つ表面処理剤で表面修飾処理が施されていてもよい。そのような無機粒子としては、「KTP-09」シリーズ(信越化学工業社製)等が挙げられる。
また、被分散体のSi/Tiが所定値以上であれば、被分散体を使用した塗膜を光リソグラフィー等によりパターニングした際に、除去部に残渣が残りにくくなり、被分散体のSi/Tiは所定値以下であれば遮光能が良好になりやすい。
なお、被分散体中のSi原子とTi原子との含有比(Si/Ti)は、例えば、WO2011/049090号公報の段落0054~0056に記載の方法(2-1)又は方法(2-3)を用いて測定できる。
上記金属含有粒子は、チタン、ジルコニウム、バナジウム、及び、ニオブからなる群から選択される1種以上の金属の窒化物又は酸窒化物からなる。
中でも、上記金属含有粒子は、ジルコニウムの窒化物又は酸窒化物からなることがより好ましい。
また、上記金属含有粒子は、上記窒化物及び上記酸窒化物の両方を含有してもよい。
上記金属含有粒子が、実質的に特定材料のみからなるとは、例えば、上記金属含有粒子中、特定材料の含有量が、上記金属含有粒子の質量に対して、90~100質量%(好ましくは95~100質量%、より好ましくは99~100質量%)であることを意味する。
上記金属酸化物被覆層は、上述の金属含有粒子を被覆する層である。
金属酸化物被覆層による被覆は、金属含有粒子の全面を被覆してもよく、一部のみを被覆してもよい。つまり、上記金属酸化物被覆層が、金属含有粒子の表面の一部以上に配置されていれば、金属含有粒子の一部が表面に露出していてもよい。
金属酸化物被覆層が、金属含有粒子上に、直接配置(被覆)していてもよく、他の層を介して配置(被覆)していてもよい。
被覆の有無は、例えば、FE-STEM/EDS(エネルギー分散型X線解析装置付き電解放出型走査透過電子顕微鏡)を用いて判断できる。
被覆量はESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)を用いて判断できる。
上記金属としては、例えば、Al(アルミニウム)、Si(ケイ素)、Zn(亜鉛)、ゲルマニウム(Ge)、ハフニウム(Hf)、ガリウム(Ga)、モリブデン(Mo)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、バナジウム(V)、タンタル(Ta)、ニオブ(Nb)、コバルト(Co)、クロム(Cr)、銅(Cu)、マンガン(Mn)、ルテニウム(Ru)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、錫(Sn)、及び、銀(Ag)等が挙げられる。
中でも、上記金属は、Al(アルミ)又はSi(ケイ素)が好ましく、Alがより好ましい。
上記金属酸化物は、単独の金属(例えば上記金属)の酸化物でもよく、複数の金属の複合酸化物でもよい。
上記金属酸化物は、アルミナ(Al2O3)、シリカ(SiO2)、ZnO、GeO2、TiO2、ZrO2、HfO2、Sn2O3、Mn2O3、Ga2O3、Mo2O3、Ta2O5、V2O5、及び、Nb2O5等が挙げられる。
上記金属酸化物は1種単独でも2種以上の使用でもよい。ただし、2種以上の金属酸化物を使用する場合、最も含有量の多い金属酸化物の含有量が、2種以上の金属酸化物の全質量に対して、50質量%以上が好ましく、80質量%以上がより好ましい。上限は100質量%未満である。
上記金属酸化物被覆層が、実質的に金属酸化物のみからなるとは、例えば、金属酸化物被覆層中、金属酸化物(好ましくはアルミナ及びシリカの一方又は両方)の含有量が、金属酸化物被覆層の全質量に対して、90~100質量%(好ましくは95~100実量%、より好ましくは99~100質量%)であることを意味する。
金属酸化物被覆層の含有量は、ESCAにより判断できる。
被覆粒子の製造方法の他の例として、特開2017-014522号公報の段落0059等に記載の二酸化チタンの表面処理における無機処理工程において、二酸化チタンを、上述の金属含有粒子に代えた工程を実施する方法が挙げられる。
被覆粒子の製造方法の他の例として、特開平08-059240号公報(特許第3314542号)において、低次酸化チタンの粒子に代えて、上述の金属含有粒子の表面にガスバリヤー性薄膜を形成する方法が挙げられる。
カーボンブラックとしては、例えば、ファーネスブラック、チャンネルブラック、サーマルブラック、アセチレンブラック及びランプブラックが挙げられる。
カーボンブラックとしては、オイルファーネス法等の公知の方法で製造されたカーボンブラックを使用してもよく、市販品を使用してもよい。カーボンブラックの市販品の具体例としては、C.I.ピグメントブラック1等の有機顔料、及び、C.I.ピグメントブラック7等の無機顔料が挙げられる。
被覆樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ノボラック樹脂、フェノール樹脂、ウレア樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン、ジアリルフタレート樹脂、アルキルベンゼン樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート及び変性ポリフェニレンオキサイドが挙げられる。
被覆樹脂の含有量は、遮光膜の遮光性及び絶縁性がより優れる点から、カーボンブラック及び被覆樹脂の合計に対して、0.1~40質量%が好ましく、0.5~30質量%がより好ましい。
有機顔料としては、遮光性を有し、有機化合物を含有する粒子であれば、特に制限されず、公知の有機顔料が使用できる。
本発明において、有機顔料としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、及び、アゾ系化合物が挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物又はペリレン化合物が好ましい。
ペリレン化合物としては、特開昭62-1753号公報、及び、特公昭63-26784号公報に記載された化合物が挙げられる。ペリレン化合物は、C.I.Pigment Black 21、30、31、32、33、及び34として入手可能である。
黒色染料としては、単独で黒色を発現する染料が使用でき、例えば、ピラゾールアゾ化合物、ピロメテン化合物、アニリノアゾ化合物、トリフェニルメタン化合物、アントラキノン化合物、ベンジリデン化合物、オキソノール化合物、ピラゾロトリアゾールアゾ化合物、ピリドンアゾ化合物、シアニン化合物、フェノチアジン化合物、及び、ピロロピラゾールアゾメチン化合物等を使用できる。
また、黒色染料としては、特開昭64-90403号公報、特開昭64-91102号公報、特開平1-94301号公報、特開平6-11614号公報、特登2592207号公報、米国特許4808501号明細書、米国特許5667920号明細書、米国特許505950号明細書、米国特許5667920号明細書、特開平5-333207号公報、特開平6-35183号公報、特開平6-51115号公報、及び、特開平6-194828号公報等に記載の化合物を参照でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
また、これらの黒色染料の市販品としては、スピロン Black MH、Black BH(以上、保土谷化学工業株式会社製)、VALIFAST Black 3804、3810、3820、3830(以上、オリエント化学工業株式会社製)、Savinyl Black RLSN(以上、クラリアント社製)、KAYASET Black K-R、K-BL(以上、日本化薬株式会社製)等の染料が挙げられる。
更に、上述の通り、単独では黒色以外の色を有する染料を複数組み合わせて黒色染料として使用してもよい。このような着色染料としては、例えば、R(レッド)、G(グリーン)、及び、B(ブルー)等の有彩色系の染料(有彩色染料)の他、特開2014-42375の段落0027~0200に記載の染料も使用できる。
本発明の組成物は、黒色色材以外の着色剤を含有してもよい。黒色色材と、1種以上の着色剤との両方を使用して、遮光膜(硬化膜)の遮光特性を調整できる。また、例えば、遮光膜を光減衰膜として使用する場合に、広い波長成分を含有する光に対して、各波長を均等に減衰しやすい。
着色剤としては、上述した黒色色材以外の顔料及び染料が挙げられる。
組成物が着色剤を含有する場合、黒色色材と着色剤との合計含有量は、組成物の固形分の全質量に対して、10~90質量%が好ましく、30~70質量%がより好ましく、40~60質量%が更に好ましい。
なお、本発明の組成物から形成される遮光膜を、光減衰膜として使用する場合、黒色色材と着色剤との合計含有量は、上記好適範囲より少ないことも好ましい。
また、黒色色材の含有量に対する、着色剤の含有量との質量比(着色剤の含有量/黒色色材の含有量)は、0.1~9.0が好ましい。
組成物は、更に、赤外線吸収剤を含有してもよい。
赤外線吸収剤は、赤外領域(好ましくは、波長650~1300nm)の波長領域に吸収を有する化合物を意味する。赤外線吸収剤としては、波長675~900nmの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましい。
このような分光特性を有する着色剤としては、例えば、ピロロピロール化合物、銅化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、イミニウム化合物、チオール錯体系化合物、遷移金属酸化物系化合物、スクアリリウム化合物、ナフタロシアニン化合物、クオタリレン化合物、ジチオール金属錯体系化合物、及び、クロコニウム化合物等が挙げられる。
フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、イミニウム化合物、シアニン化合物、スクアリウム化合物、及び、クロコニウム化合物は、特開2010-111750号公報の段落0010~0081に開示の化合物を使用してもよく、この内容は本明細書に組み込まれる。シアニン化合物は、例えば、「機能性色素、大河原信/松岡賢/北尾悌次郎/平嶋恒亮・著、講談社サイエンティフィック」を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
また、赤外線吸収剤は、25℃の水に1質量%以上溶解する化合物が好ましく、25℃の水に10質量%以上溶解する化合物がより好ましい。このような化合物を用いることで、耐溶剤性が良化する。
ピロロピロール化合物は、特開2010-222557号公報の段落0049~0062を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。シアニン化合物及びスクアリリウム化合物は、国際公開2014/088063号公報の段落0022~0063、国際公開2014/030628号公報の段落0053~0118、特開2014-59550号公報の段落0028~0074、国際公開2012/169447号公報の段落0013~0091、特開2015-176046号公報の段落0019~0033、特開2014-63144号公報の段落0053~0099、特開2014-52431号公報の段落0085~0150、特開2014-44301号公報の段落0076~0124、特開2012-8532号公報の段落0045~0078、特開2015-172102号公報の段落0027~0067、特開2015-172004号公報の段落0029~0067、特開2015-40895号公報の段落0029~0085、特開2014-126642号公報の段落0022~0036、特開2014-148567号公報の段落0011~0017、特開2015-157893号公報の段落0010~0025、特開2014-095007号公報の段落0013~0026、特開2014-80487号公報の段落0013~0047、及び、特開2013-227403号公報の段落0007~0028等を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の組成物は上述の成分とは異なる成分として、樹脂を含有する。
なお、樹脂の分子量は2500超である。なお、樹脂の分子量が多分散である場合、重量平均分子量が2500超である。樹脂は、組成物中に溶解しているのが好ましい。
特定樹脂とは、樹脂の一種であり、上述の無機粒子の無機粒子のSP値と、特定樹脂のSP値との差の値(例えば、「特定樹脂のSP値-無機粒子のSP値」)が1.5MPa0.5以上となる樹脂を意味する。
本発明の組成物において、上記差の値は、本発明の効果がより優れる点から、2.2MPa0.5以上が好ましく、2.3MPa0.5以上が更に好ましい。上限は、通常、4.0MPa0.5以下である。
特定樹脂のSP値は、15MPa0.5以上が好ましく、18MPa0.5以上がより好ましく、20MPa0.5以上が更に好ましい。上限は、通常、25MPa0.5以下である。
その他の樹脂とは、特定樹脂以外の樹脂である。例えば、特定樹脂のSP値とその他のSP値との差の値(「無機粒子のSP値-その他のSP値」又は「その他のSP値-無機粒子のSP値」)は、1.5MPa0.5未満である。
つまり、本明細書において、単に「樹脂」と言う場合は、「特定樹脂」及び「その他の樹脂」を総称する。例えば、以降において述べる「樹脂」としての好ましい態様は、特段の断りない限り、「特定樹脂」としての好ましい態様であり、「その他の樹脂」としての好ましい態様でもある。
まず、組成物を遠心処理して、上澄み液と粉末(堆積物)とに分離する。上澄み液から、GPCにより分子量2500以上の成分(樹脂)を分取する。得られた樹脂を、上述の判定用溶媒に対し、濃度20mg/mlになるように添加した分散液をそれぞれ作製する。得られた分散液を30秒間振とうした後に室温(25℃)で静置する。静置開始から5分後に分散液を目視観察し、分散液に使用した溶媒(判定用溶媒)が、樹脂に対して良溶媒であるか貧用媒であるかに分類する。具体的には、樹脂が分散液中で完全に溶解している場合、使用した溶媒は良溶媒であると判断し、樹脂が溶解しきっていない場合、使用した溶媒は貧溶媒であると判断する。HSPiP用い、3次元のHSP空間中で、全ての良溶媒を内側に含めることができる最小の球を形成し、その球の中心を樹脂のHSP値として定め、上述の式(1)により樹脂のSP値を求められる。
具体的には、ソフトウェア「Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP)ver.4.1.07」を用いて計算できる。ただし、ソフトウェア側の都合で計算できない場合は、論文「Hansen Solubility Parameters 50th anniversary conference、preprint PP.1-13、(2017)、Hiroshi Yamamoto、Steven Abbott、Charles M. Hansen」の、Table 2のデータを元に計算した値を用いる。
また、組成物中における特定樹脂の含有量は、樹脂の全含有量に対して、10~100質量%が好ましく、60~100質量%がより好ましく、75~100質量%が更に好ましく、90~100質量%が特に好ましい。
特定樹脂は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。その他の樹脂も、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
2種以上の樹脂を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
組成物は分散剤を含有することが好ましい。なお、本明細書において、分散剤とは、後述するアルカリ可溶性樹脂とは異なる化合物を意味する。
組成物中における分散剤の含有量としては特に制限されないが、組成物の全固形分に対して3~60質量%が好ましく、7~40質量%がより好ましく、10~30質量%が更に好ましい。
分散剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の分散剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
また、組成物における、黒色色材の含有量に対する、分散剤(好ましくはグラフト型高分子)の含有量の質量比(分散剤の含有量/黒色色材の含有量)は、0.05~1.00が好ましく、0.05~0.65がより好ましく、0.15~0.35が更に好ましい。
また、組成物における、無機粒子の含有量に対する、分散剤(好ましくはグラフト型高分子)の含有量の質量比(分散剤の含有量/無機粒子の含有量)は、0.50~10.00が好ましく、1.00~5.00がより好ましく、1.50~3.00が更に好ましい。
分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、及び、顔料誘導体等を挙げられる。
高分子化合物は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、及び、ブロック型高分子に分類できる。
高分子化合物は、無機粒子、黒色顔料及び所望により併用するその他の顔料(以下黒色顔料及びその他の顔料を総称して、単に「顔料」とも記載する)等の被分散体の表面に吸着し、被分散体の再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を含有する、末端変性型高分子、グラフト型(高分子鎖を含有する)高分子、又は、ブロック型高分子が好ましい。
硬化性基としては、例えば、エチレン性不飽和基(例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、及び、スチリル基等)、及び、環状エーテル基(例えば、エポキシ基、オキセタニル基等)等が挙げられるが、これらに制限されない。
中でも、ラジカル反応で重合制御が可能な点から、硬化性基は、エチレン性不飽和基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。
上記樹脂は、上記高分子鎖がポリエステル構造を含有することがより好ましい。
このようなグラフト鎖を含有する構造単位を含有する高分子化合物は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料等の分散性、及び、経時後の分散安定性(経時安定性)に優れる。また、グラフト鎖の存在により、グラフト鎖を含有する構造単位を含有する高分子化合物は重合性化合物又はその他の併用可能な樹脂等との親和性を有する。結果として、アルカリ現像で残渣を生じにくくなる。
グラフト鎖が長くなると立体反発効果が高くなり顔料等の分散性は向上する。一方、グラフト鎖が長すぎると顔料等への吸着力が低下して、顔料等の分散性は低下する傾向となる。このため、グラフト鎖は、水素原子を除いた原子数が40~10000であることが好ましく、水素原子を除いた原子数が50~2000であることがより好ましく、水素原子を除いた原子数が60~500であることが更に好ましい。
ここで、グラフト鎖とは、共重合体の主鎖の根元(主鎖から枝分かれしている基において主鎖に結合する原子)から、主鎖から枝分かれしている基の末端までを示す。
グラフト鎖と溶剤との相互作用性を向上させ、それにより顔料等の分散性を高めるために、グラフト鎖は、ポリエステル構造、ポリエーテル構造、及び、ポリ(メタ)アクリレート構造からなる群から選ばれた少なくとも1種を含有するグラフト鎖であることが好ましく、ポリエステル構造及びポリエーテル構造の少なくともいずれかを含有するグラフト鎖であることがより好ましい。
ここで、ポリカプロラクトン構造とは、ε-カプロラクトンを開環した構造を繰り返し単位として含有する構造をいう。ポリバレロラクトン構造とは、δ-バレロラクトンを開環した構造を繰り返し単位として含有する構造をいう。
ポリカプロラクトン構造を含有する分散剤の具体例としては、例えば、下記式(1)及び下記式(2)におけるj及びkが5である分散剤が挙げられる。また、ポリバレロラクトン構造を含有する分散剤の具体例としては、例えば、下記式(1)及び下記式(2)におけるj及びkが4である分散剤が挙げられる。
ポリアクリル酸メチル構造を含有する分散剤としては、例えば、下記式(4)におけるX5が水素原子であり、R4がメチル基である分散剤が挙げられる。また、ポリメタクリル酸メチル構造を含有する分散剤としては、例えば、下記式(4)におけるX5がメチル基であり、R4がメチル基である分散剤が挙げられる。
高分子化合物は、グラフト鎖を含有する構造単位は、下記式(1)~式(4)のいずれかで表される構造単位を含有することが好ましく、下記式(1A)、下記式(2A)、下記式(3A)、下記式(3B)、及び、下記(4)のいずれかで表される構造単位を含有することがより好ましい。
式(1)~(4)において、X1、X2、X3、X4、及び、X5は、それぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基を表す。X1、X2、X3、X4、及び、X5は、合成上の制約の点からは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数(炭素原子数)1~12のアルキル基が好ましく、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
これらの中でも、Z1、Z2、Z3、及び、Z4で表される有機基は、特に分散性向上の点から、立体反発効果を含有する基が好ましく、それぞれ独立に炭素数5~24のアルキル基又はアルコキシ基がより好ましく、その中でも、特にそれぞれ独立に炭素数5~24の分岐アルキル基、炭素数5~24の環状アルキル基、又は、炭素数5~24のアルコキシ基が更に好ましい。なお、アルコキシ基中に含まれるアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれでもよい。
また、Z1、Z2、Z3、及び、Z4で表される有機基は、(メタ)アクリロイル基等の硬化性基を含有する基であるのも好ましい。上記硬化性基を含有する基としては、例えば、「-O-アルキレン基-(-O-アルキレン基-)AL-(メタ)アクリロイルオキシ基」が挙げられる。ALは、0~5の整数を表し、1が好ましい。上記アルキレン基は、それぞれ独立に、炭素数1~10が好ましい。上記アルキレン基が置換基を有する場合、置換基は、水酸基が好ましい。
上記有機基は、オニウム構造を含有する基であってもよい。
オニウム構造を含有する基は、アニオン部とカチオン部とを有する基である。アニオン部としては、例えば、酸素アニオン(-O-)を含有する部分構造が挙げられる。中でも、酸素アニオン(-O-)は、式(1)~(4)で表される繰り返し単位において、n、m、p、又は、qが付された繰り返し構造の末端に直接結合しているのが好ましく、式(4)で表される繰り返し単位において、nが付された繰り返し構造の末端(つまり、-(-O-CjH2j-CO-)n-における右端)に直接結合しているのがより好ましい。
オニウム構造を含有する基の、カチオン部のカチオンとしては、例えば、アンモニウムカチオンが挙げられる。カチオン部がアンモニウムカチオンである場合、カチオン部は>N+<を含有する部分構造である。>N+<は、4個の置換基(好ましくは有機基)に結合するのが好ましく、そのうちの1~4個が炭素数1~15のアルキル基であるのが好ましい。また、4個の置換基のうちの1個以上(好ましくは1個)が、硬化性基を含有する基であるのも好ましい。上記有機基がなり得る、上記硬化性基を含有する基としては、例えば、上述の「-O-アルキレン基-(-O-アルキレン基-)AL-(メタ)アクリロイルオキシ基」が挙げられる。
また、式(1)及び(2)において、j及びkは、それぞれ独立に、2~8の整数を表す。式(1)及び(2)におけるj及びkは、組成物の経時安定性及び現像性の点から、4~6の整数が好ましく、5がより好ましい。
また、式(1)及び(2)において、n、及び、mは、1以上の整数が好ましく、2以上の整数がより好ましい。また、分散剤が、ポリカプロラクトン構造、及び、ポリバレロラクトン構造を含有する場合、ポリカプロラクトン構造の繰り返し数と、ポリバレロラクトンの繰返し数の和は、2以上の整数が好ましい。
式(4)中、R4は水素原子又は1価の有機基を表し、この1価の有機基の構造は特に制限されない。R4は、水素原子、アルキル基、アリール基、又は、ヘテロアリール基が好ましく、水素原子又はアルキル基がより好ましい。R4がアルキル基である場合、アルキル基は、炭素数1~20の直鎖状アルキル基、炭素数3~20の分岐鎖状アルキル基、又は、炭素数5~20の環状アルキル基が好ましく、炭素数1~20の直鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数1~6の直鎖状アルキル基が更に好ましい。式(4)において、qが2~500のとき、グラフト共重合体中に複数存在するX5及びR4は互いに同じであっても異なっていてもよい。
また、式(2)で表される構造単位は、組成物の経時安定性及び現像性の点から、下記式(2A)で表される構造単位であることがより好ましい。
また、高分子化合物は、グラフト鎖を含有する構造単位とは異なる(すなわち、グラフト鎖を含有する構造単位には相当しない)疎水性構造単位を含有することが好ましい。ただし、本明細書において、疎水性構造単位は、酸基(例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、フェノール性水酸基等)を有さない構造単位である。
A. J. Leo, Comprehensive Medicinal Chemistry, Vol.4, C. Hansch, P. G. Sammnens, J. B. Taylor and C. A. Ramsden, Eds., p.295, Pergamon Press, 1990 C. Hansch & A. J. Leo. SUbstituent Constants For Correlation Analysis in Chemistry and Biology. John Wiley & Sons. A.J. Leo. Calculating logPoct from structure. Chem. Rev., 93, 1281-1306, 1993.
logP=log(Coil/Cwater)
式中、Coilは油相中の化合物のモル濃度を、Cwaterは水相中の化合物のモル濃度を表す。
logPの値が0をはさんでプラスに大きくなると油溶性が増し、マイナスで絶対値が大きくなると水溶性が増し、有機化合物の水溶性と負の相関があり、有機化合物の親疎水性を見積るパラメータとして広く利用されている。
R1、R2、及び、R3は、水素原子又は炭素数が1~3のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましい。R2及びR3は、水素原子であることが更に好ましい。
Xは、酸素原子(-O-)又はイミノ基(-NH-)を表し、酸素原子が好ましい。
脂肪族基は不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、芳香族基及び複素環基が挙げられる。ただし、脂肪族基は、置換基として酸基を有さない。
また、上記式(ii)で表される単量体として、R1が水素原子又はメチル基であって、Lがアルキレン基であって、Zが脂肪族基、複素環基、又は、芳香族基である化合物が好ましい。また、上記式(iii)で表される単量体として、R4、R5、及び、R6が水素原子又はメチル基であって、Zが脂肪族基、複素環基、又は、芳香族基である化合物が好ましい。
なお、式(i)~(iii)で表される代表的な化合物としては、例えば、特開2013-249417号公報の段落0089~0093に記載の化合物を参照でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
高分子化合物は、顔料等(例えば、黒色顔料)と相互作用を形成しうる官能基を導入できる。ここで、高分子化合物は、顔料等と相互作用を形成しうる官能基を含有する構造単位を更に含有することが好ましい。
この顔料等と相互作用を形成しうる官能基としては、例えば、酸基、塩基性基、配位性基、及び、反応性を有する官能基等が挙げられる。
高分子化合物が、酸基、塩基性基、配位性基、又は、反応性を有する官能基を含有する場合、それぞれ、酸基を含有する構造単位、塩基性基を含有する構造単位、配位性基を含有する構造単位、又は、反応性を有する構造単位を含有することが好ましい。
特に、高分子化合物が、更に、酸基として、カルボン酸基等のアルカリ可溶性基を含有すれば、高分子化合物に、アルカリ現像によるパターン形成のための現像性を付与できる。
すなわち、高分子化合物にアルカリ可溶性基を導入すれば、上記組成物は、顔料等の分散に寄与する分散剤としての高分子化合物がアルカリ可溶性を含有することになる。このような高分子化合物を含有する組成物は、露光して形成される遮光膜の遮光性に優れ、かつ、未露光部のアルカリ現像性が向上される。
また、高分子化合物が酸基を含有する構造単位を含有すれば、高分子化合物が溶剤となじみやすくなり、塗布性も向上する傾向となる。
これは、酸基を含有する構造単位における酸基が顔料等と相互作用しやすく、高分子化合物が顔料等を安定的に分散すると共に、顔料等を分散する高分子化合物の粘度が低くなっており、高分子化合物自体も安定的に分散されやすいためであると推測される。
すなわち、高分子化合物は、カルボン酸基、スルホン酸基、及び、リン酸基のうち少なくとも1種を含有する構造単位を更に含有することが好ましい。
高分子化合物は、酸基を含有する構造単位を含有してもしなくてもよいが、含有する場合、酸基を含有する構造単位の含有量は、高分子化合物の総質量に対して、5~80質量%が好ましく、アルカリ現像による画像強度のダメージ抑制という点から、10~60質量%がより好ましい。
高分子化合物は、塩基性基を含有する構造単位を含有してもしなくてもよいが、含有する場合、塩基性基を含有する構造単位の含有量は、質量換算で、高分子化合物の総質量に対して、0.01~50質量%が好ましく、現像性阻害抑制という点から、0.01~30質量%がより好ましい。
高分子化合物は、配位性基を含有する構造単位、又は、反応性を有する官能基を含有する構造単位を含有してもしなくてもよいが、含有する場合、これらの構造単位の含有量は、質量換算で、高分子化合物の総質量に対して、10~80質量%が好ましく、現像性阻害抑制という点から、20~60質量%がより好ましい。
式(iv)~(vi)中、R11、R12、及びR13は、水素原子、又は炭素数が1~3のアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。一般式(iv)中、R12及びR13は、水素原子が更に好ましい。
また、式(v)中のYは、メチン基又は窒素原子を表す。
また、式(v)で表される単量体として、R11が水素原子又はメチル基であって、L1がアルキレン基であって、Z1がカルボン酸基であって、Yがメチン基である化合物が好ましい。
更に、式(vi)で表される単量体として、R14、R15、及びR16がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であって、L1が単結合又はアルキレン基であって、Z1がカルボン酸基である化合物が好ましい。
単量体としては、例えば、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含有する化合物(例えば、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル)とコハク酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含有する化合物とフタル酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含有する化合物とテトラヒドロキシフタル酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含有する化合物と無水トリメリット酸との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含有する化合物とピロメリット酸無水物との反応物、アクリル酸、アクリル酸ダイマー、アクリル酸オリゴマー、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、4-ビニル安息香酸、ビニルフェノール、及び、4-ヒドロキシフェニルメタクリルアミド等が挙げられる。
更に、高分子化合物は、画像強度等の諸性能を向上する目的で、本発明の効果を損なわない限りにおいて、グラフト鎖を含有する構造単位、疎水性構造単位、及び、顔料等と相互作用を形成しうる官能基を含有する構造単位とは異なる、種々の機能を有する他の構造単位(例えば、後述する溶剤との親和性を有する官能基等を含有する構造単位)を更に有していてもよい。
このような、他の構造単位としては、例えば、アクリロニトリル類、及び、メタクリロニトリル類等から選ばれるラジカル重合性化合物に由来の構造単位が挙げられる。
高分子化合物は、これらの他の構造単位を1種又は2種以上使用でき、その含有量は、質量換算で、高分子化合物の総質量に対して、0~80質量%が好ましく、10~60質量%がより好ましい。含有量が上記範囲において、十分なパターン形成性が維持される。
高分子化合物の酸価は、0~250mgKOH/gが好ましく、10~200mgKOH/gがより好ましく、30~180mgKOH/gが更に好ましく、70~120mgKOH/gの範囲が特に好ましい。
高分子化合物の酸価が180mgKOH/g以下(好ましくは160mgKOH/g以下)であれば、遮光膜を形成する際の現像時におけるパターン剥離がより効果的に抑えられる。また、高分子化合物の酸価が10mgKOH/g以上であればアルカリ現像性がより良好となる。また、高分子化合物の酸価が20mgKOH/g以上であれば、顔料等の沈降をより抑制でき、粗大粒子数をより少なくでき、組成物の経時安定性をより向上できる。
高分子化合物は、公知の方法に基づいて合成できる。
両性樹脂の市販品としては、例えば、ビックケミー社製のDISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-142、DISPERBYK-145、DISPERBYK-180、DISPERBYK-187、DISPERBYK-191、DISPERBYK-2001、DISPERBYK-2010、DISPERBYK-2012、DISPERBYK-2025、BYK-9076、味の素ファインテクノ社製のアジスパーPB821、アジスパーPB822、及び、アジスパーPB881等が挙げられる。
これらの高分子化合物は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
また、上記以外にも、特開2011-153283号公報の段落0028~0084(対応するUS2011/0279759の段落0075~0133欄)の酸性基が連結基を介して結合してなる側鎖構造を含有する構成成分を含有する高分子化合物が使用でき、これらの内容は援用でき、本明細書に組み込まれる。
組成物は、アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。本明細書において、アルカリ可溶性樹脂とは、アルカリ可溶性を促進する基(アルカリ可溶性基、例えばカルボン酸基又はフェノール性水酸基等の酸基)を含有する樹脂を意味し、既に説明した分散剤とは異なる樹脂を意味する。
組成物中におけるアルカリ可溶性樹脂の含有量としては特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、0.1~30質量%が好ましく、0.5~25質量%がより好ましく、1~20質量%が更に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上のアルカリ可溶性樹脂を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
不飽和カルボン酸としては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、及び、ビニル酢酸等のモノカルボン酸類;イタコン酸、マレイン酸、及び、フマル酸等のジカルボン酸、又は、その酸無水物;並びに、フタル酸モノ(2-(メタ)アクリロイロキシエチル)等の多価カルボン酸モノエステル類;等が挙げられる。
上記硬化性基としては、例えば、上述の高分子化合物が含有してもよい硬化性基が同様に挙げられ、好ましい範囲も同様である。
硬化性基を含有するアルカリ可溶性樹脂は、硬化性基を側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂等が好ましい。硬化性基を含有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、ダイヤナールNRシリーズ(三菱レイヨン社製)、Photomer6173(COOH含有 polyurethane acrylic oligomer.Diamond Shamrock Co.,Ltd.製)、ビスコートR-264、KSレジスト106(いずれも大阪有機化学工業社製)、サイクロマーPシリーズ(例えば、ACA230AA)、プラクセル CF200シリーズ(いずれもダイセル社製)、Ebecryl3800(ダイセル・オルネクス社製)、及び、アクリキュアRD-F8(日本触媒社製)等が挙げられる。
ポリイミド前駆体としては、例えば、式(1)で表される繰り返し単位を含有する樹脂が挙げられる。他にもポリイミド前駆体が含有し得る構造としては、例えば、下記式(2)で示されるアミック酸構造と、アミック酸構造が一部イミド閉環してなる下記式(3)、及び、全てイミド閉環した下記式(4)で示されるイミド構造が挙げられる。
なお、本明細書において、アミック酸構造を有するポリイミド前駆体をポリアミック酸という場合がある。
R1及びR2は、それぞれ独立に、式(1)~(4)中に明示されるカルボン酸基以外の酸基(フェノール性水酸基等)を有することも好ましい。
R1及びR2は、それぞれ独立に、部分的なシロキサン構造を有することも好ましい。
また、式(1)~(4)では、記載の便宜上、繰り返し構造の両端のR1は一本の結合線(単結合)で、隣接する繰り返し単位に結合するものとして記載しているが、上記両端のR1は単結合以外(二重結合等)で結合していてもよい。
また、式(1)~(4)において、互い隣接する繰り返し単位における、互いに隣接する2つのR1が環を形成していてもよく、例えば、上記互いに隣接する2つのR1は、全体として一つの単環又は多環(ベンゼン環等)を形成していてもよい。
更に、上記互いに隣接する2つのR1は、全体で一つの炭素原子であってもよい。
上述のポリイミド前駆体(特に、式(1)~(4)中に明示されるカルボン酸基以外の酸基を有するポリイミド前駆体)をイミド化した構造のポリイミド樹脂を、アルカリ可溶性樹脂として使用してもよい。
アルカリ可溶性基を含有するポリイミド樹脂としては、例えば、公知のアルカリ可溶性基を含有するポリイミド樹脂を使用できる。上記ポリイミド樹脂としては、例えば、特開2014-137523号公報の段落0050に記載された樹脂、特開2015-187676号公報の段落0058に記載された樹脂、及び、特開2014-106326号公報の段落0012~0013に記載された樹脂等が挙げられ、上記の内容は本明細書に組み込まれる。
上記その他の付加重合性ビニルモノマーには、1種単独でも2種以上でもよい。
上記共重合体は、遮光膜の耐湿性がより優れる点から、硬化性基を有することが好ましく、(メタ)アクリロイル基等のエチレン性不飽和基を含有することがより好ましい。
例えば、上記その他の付加重合性ビニルモノマーとして硬化性基を有するモノマーを使用して共重合体に硬化性基が導入されていてもよい。また、共重合体中の(メタ)アクリル酸に由来する単位及び/又は上記その他の付加重合性ビニルモノマーに由来する単位の1種以上の、一部又は全部に、硬化性基(好ましくは(メタ)アクリロイル基等のエチレン性不飽和基)が導入されていてもよい。
上記その他の付加重合性ビニルモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、スチレン系単量体(ヒドロキシスチレン等)、及び、エーテルダイマーが挙げられる。
上記エーテルダイマーは、例えば、下記一般式(ED1)で表される化合物、及び、下記一般式(ED2)で表される化合物が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂の酸価は、30~500mgKOH/gが好ましく、50~200mgKOH/g以上がより好ましい。
重合性化合物は重合性化合物の一形態である。
組成物中における重合性化合物の含有量は、特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、5~60質量%が好ましく、7~35質量%が好ましく、9~20質量%がより好ましく、
重合性化合物は、1種を単独で用いても、2種以上を使用してもよい。2種以上の重合性化合物を使用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
重合性化合物の分子量(又は、重量平均分子量)は、特に制限されないが、2500以下が好ましい。
つまり本発明の組成物は、エチレン性不飽和基を含有する低分子化合物を、重合性化合物として含有することが好ましい。
重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を1個以上含有する化合物が好ましく、2個以上含有する化合物がより好ましく、3個以上含有する化合物が更に好ましく、4個以上含有する化合物が特に好ましい。上限は、例えば、15個以下である。エチレン性不飽和基としては、例えば、ビニル基、(メタ)アリル基、及び、(メタ)アクリロイル基等が挙げられる。
重合性化合物は、3~15官能の(メタ)アクリレート化合物が好ましく、3~6官能の(メタ)アクリレート化合物がより好ましく、5~6官能の(メタ)アクリレート化合物が更に好ましい。
以下に好ましい重合性化合物の態様を示す。
カプロラクトン構造を含有する化合物としては、例えば、分子内にカプロラクトン構造を含有する限り特に制限されないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、又は、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、(メタ)アクリル酸及びε-カプロラクトンとをエステル化して得られる、ε-カプロラクトン変性多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。中でも下記式(Z-1)で表されるカプロラクトン構造を含有する化合物が好ましい。
式(Z-4)中、(メタ)アクリロイル基の合計は3個又は4個であり、mは0~10の整数を表し、各mの合計は0~40の整数である。
式(Z-5)中、(メタ)アクリロイル基の合計は5個又は6個であり、nは0~10の整数を表し、各nの合計は0~60の整数である。
また、各mの合計は、2~40の整数が好ましく、2~16の整数がより好ましく、4~8の整数が更に好ましい。
式(Z-5)中、nは、0~6の整数が好ましく、0~4の整数がより好ましい。
また、各nの合計は、3~60の整数が好ましく、3~24の整数がより好ましく、6~12の整数が更に好ましい。
また、式(Z-4)又は式(Z-5)中の-((CH2)yCH2O)-又は((CH2)yCH(CH3)O)-は、酸素原子側の末端がXに結合する形態が好ましい。
式(Z-4)又は式(Z-5)で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び/又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。
カルド骨格を含有する重合性化合物は、9,9-ビスアリールフルオレン骨格を含有する重合性化合物が好ましい。
カルド骨格を含有する重合性化合物としては、例えば、オンコートEXシリーズ(長瀬産業社製)及びオグソール(大阪ガスケミカル社製)等が挙げられる。
重合性化合物は、イソシアヌル酸骨格を中心核として含有する化合物も好ましい。このような重合性化合物としては、例えば、NKエステルA-9300(新中村化学株式会社製)が挙げられる。
重合性化合物のエチレン性不飽和基の含有量(重合性化合物中のエチレン性不飽和基の数を、重合性化合物の分子量(g/mol)で除した値を意味する)は5.0mmol/g以上が好ましい。上限は特に制限されないが、一般に、20.0mmol/g以下である。
本発明の組成物は、重合開始剤を含有するのが好ましい。
重合開始剤としては、例えば、公知の重合開始剤を使用できる。重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、及び、熱重合開始剤等が挙げられ、光重合開始剤が好ましい。なお、重合開始剤は、いわゆるラジカル重合開始剤が好ましい。
組成物中における重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、0.5~20質量%が好ましく、1.0~10質量%がより好ましく、1.5~8質量%が更に好ましい。
重合開始剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の重合開始剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
熱重合開始剤としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、3-カルボキシプロピオニトリル、アゾビスマレノニトリル、及び、ジメチル-(2,2’)-アゾビス(2-メチルプロピオネート)[V-601]等のアゾ化合物、並びに、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、及び、過硫酸カリウム等の有機過酸化物が挙げられる。
重合開始剤の具体例としては、例えば、加藤清視著「紫外線硬化システム」(株式会社総合技術センター発行:平成元年)の第65~148頁に記載されている重合開始剤等を挙げられる。
上記組成物は光重合開始剤を含有することが好ましい。
光重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始できれば特に制限されず、公知の光重合開始剤を使用できる。光重合開始剤としては、例えば、紫外線領域から可視光領域に対して感光性を有する光重合開始剤が好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、重合性化合物の種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、光重合開始剤は、300~800nm(330~500nmがより好ましい。)の範囲内に少なくとも50のモル吸光係数を有する化合物を、少なくとも1種含有していることが好ましい。
光重合開始剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の光重合開始剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、特開2013-29760号公報の段落0265~0268を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
ヒドロキシアセトフェノン化合物としては、例えば、Omnirad 184、Omnirad 1173、Omnirad 500、Omnirad 2959、及び、Omnirad 127(商品名、いずれもIGM Resins B.V.社製)を使用できる。これらの商品は、それぞれ、IRGACURE 184、IRGACURE 1173、IRGACURE 500、IRGACURE 2959、IRGACURE 127(旧商品名、旧BASF社製)に対応する。
アミノアセトフェノン化合物としては、例えば、市販品であるOmnirad 907、Omnirad 369、及び、Omnirad 379EG(商品名、いずれもIGM Resins B.V.社製)を使用できる。これらの商品は、それぞれ、IRGACURE 907、IRGACURE 369、IRGACURE 379EG(旧商品名、旧BASF社製)に対応する。
アミノアセトフェノン化合物としては、例えば、波長365nm又は波長405nm等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開2009-191179公報に記載の化合物も使用できる。
アシルホスフィン化合物としては、例えば、市販品であるOmnirad 819、及び、Omnirad TPO H(商品名、いずれもIGM Resins B.V.社製)を使用できる。これらの商品は、それぞれ、IRGACURE 819、IRGACURE TPO(旧商品名、旧BASF社製)に対応する。
光重合開始剤として、オキシムエステル系重合開始剤(オキシム化合物)がより好ましい。特にオキシム化合物は高感度で重合効率が高く、組成物中における色材の含有量を高く設計しやすいため好ましい。
オキシム化合物の含有量は、重合開始剤の全質量に対して10~100質量%が好ましく、40~100質量%がより好ましい。
オキシム化合物としては、例えば、特開2001-233842号公報に記載の化合物、特開2000-80068号公報に記載の化合物、又は、特開2006-342166号公報に記載の化合物を使用できる。
オキシム化合物としては、例えば、3-ベンゾイロキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイロキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-(4-トルエンスルホニルオキシ)イミノブタン-2-オン、及び、2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン等が挙げられる。
また、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.1653-1660、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年)pp.202-232、特開2000-66385号公報に記載の化合物、特開2000-80068号公報、特表2004-534797号公報、及び、特開2006-342166号公報に記載の化合物等も挙げられる。
市販品ではIRGACURE-OXE01(BASF社製)、IRGACURE-OXE02(BASF社製)、IRGACURE-OXE03(BASF社製)、又は、IRGACURE-OXE04(BASF社製)も好ましい。また、TR-PBG-304(常州強力電子新材料有限公司製)、アデカアークルズNCI-831、アデカアークルズNCI-930(ADEKA社製)、又は、N-1919(カルバゾール・オキシムエステル骨格含有光開始剤(ADEKA社製))も使用できる。
例えば、特開2013-29760号公報の段落0274~0275を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
具体的には、オキシム化合物は、下記式(OX-1)で表される化合物が好ましい。なお、オキシム化合物のN-O結合が(E)体のオキシム化合物であっても、(Z)体のオキシム化合物であっても、(E)体と(Z)体との混合物であってもよい。
式(OX-1)中、Rで表される1価の置換基は、1価の非金属原子団が好ましい。
1価の非金属原子団としては、例えば、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、及び、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、1以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、及び、アリール基等が挙げられる。
式(OX-1)中、Bで表される1価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基が好ましく、アリール基、又は、複素環基が好ましい。これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、前述した置換基が挙げられる。
式(OX-1)中、Aで表される2価の有機基は、炭素数1~12のアルキレン基、シクロアルキレン基、又は、アルキニレン基が好ましい。これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、前述した置換基が挙げられる。
また、上記式(3)及び(4)において、R1は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、シクロヘキシル基、又は、フェニル基が好ましい。R3はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基、又は、キシリル基が好ましい。R4は炭素数1~6のアルキル基、又は、フェニル基が好ましい。R5はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基、又は、ナフチル基が好ましい。Xは直接結合が好ましい。
式(1)及び式(2)で表される化合物の具体例としては、例えば、特開2014-137466号公報の段落0076~0079に記載された化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
また、オキシム化合物としては、例えば、国際公開第2015-036910号パンフレットのTable1に記載の化合物も使用でき、上記の内容は本明細書に組み込まれる。
オキシム化合物の365nm又は405nmにおけるモル吸光係数は、感度の点から、1,000~300,000が好ましく、2,000~300,000がより好ましく、5,000~200,000が更に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を使用できるが、例えば、紫外可視分光光度計(Varian社製Cary-5 spctrophotometer)にて、酢酸エチルを用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
光重合開始剤は、必要に応じて2種以上を組み合わせて使用してもよい。
組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。
重合禁止剤としては、例えば、公知の重合禁止剤を使用できる。重合禁止剤としては、例えば、フェノール系重合禁止剤(例えば、p-メトキシフェノール、2,5-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール、2,6-ジtert-ブチル-4-メチルフェノール、4,4’-チオビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、4-メトキシナフトール等);ハイドロキノン系重合禁止剤(例えば、ハイドロキノン、2,6-ジ-tert-ブチルハイロドロキノン等);キノン系重合禁止剤(例えば、ベンゾキノン等);フリーラジカル系重合禁止剤(例えば、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル、4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル等);ニトロベンゼン系重合禁止剤(例えば、ニトロベンゼン、4-ニトロトルエン等);及び、フェノチアジン系重合禁止剤(例えば、フェノチアジン、2-メトキシフェノチアジン等);等が挙げられる。
中でも、組成物がより優れた効果を有する点から、フェノール系重合禁止剤、又は、フリーラジカル系重合禁止剤が好ましい。
組成物中における重合禁止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、0.0001~0.5質量%が好ましく、0.001~0.2質量%がより好ましく、0.008~0.05質量%が更に好ましい。重合禁止剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の重合禁止剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
また、組成物中の重合性化合物の含有量に対する、重合禁止剤の含有量の比(重合禁止剤の含有量/重合性化合物の含有量(質量比))は、0.00005~0.02が好ましく、0.0001~0.005がより好ましい。
組成物は、溶剤を含有することが好ましい。
溶剤としては、例えば、公知の溶剤を使用できる。
組成物中における溶剤の含有量は、組成物の固形分が10~90質量%となる量が好ましく、15~60質量%となる量がより好ましく、25~50質量%となる量が更に好ましい。
溶剤は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の溶剤を併用する場合には、組成物の全固形分が上記範囲内となるように調整されることが好ましい。
有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3-メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、N-メチル-2-ピロリドン、乳酸エチル、及び、これらの混合溶剤等が挙げられるが、これらに制限されない。
組成物が、水を含有する場合、その含有量は、組成物の全質量に対して、0.001~5.0質量%が好ましく、0.01~3.0質量%がより好ましく、0.1~1.0質量%が更に好ましい。
中でも、水の含有量が、組成物の全質量に対して、3.0質量%以下(より好ましくは1.0質量%以下)であれば、組成物中の成分の加水分解等による経時粘度安定性の劣化を抑制しやすく、0.01質量%以上(好ましくは0.1質量%以上)であれば、経時沈降安定性を改善しやすい。
組成物は、上述した成分以外のその他の任意成分を更に含有してもよい。例えば、上述した以外の粒子性成分、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、界面活性剤、増感剤、共増感剤、架橋剤、硬化促進剤、熱硬化促進剤、可塑剤、希釈剤、及び、感脂化剤等が挙げられ、更に、基板表面への密着促進剤及びその他の助剤類(例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、及び、連鎖移動剤等)等の公知の添加剤を必要に応じて加えてもよい。
これらの成分は、例えば、特開2012-003225号公報の段落0183~0228(対応する米国特許出願公開第2013/0034812号明細書の段落0237~0309)、特開2008-250074号公報の段落0101~0102、段落0103~0104、段落0107~0109、及び特開2013-195480号公報の段落0159~0184等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
組成物は、まず、無機粒子が分散した無機粒子分散液、及び、黒色色材が分散した色材分散液を製造し、これらを更にその他の成分と混合して組成物とすることが好ましい。
色材組成物は、黒色色材、樹脂(好ましくは分散剤)、及び、溶剤を混合して調製することが好ましい。また、色材組成物に重合禁止剤を含有させることも好ましい。
フィルタの孔径は、0.1~7.0μmが好ましく、0.2~2.5μmがより好ましく、0.2~1.5μmが更に好ましく、0.3~0.7μmが特に好ましい。この範囲とすれば、顔料(黒色顔料を含む)のろ過詰まりを抑えつつ、顔料に含まれる不純物及び凝集物等、微細な異物を確実に除去できるようになる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第1のフィルタでのフィルタリングは、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。異なるフィルタを組み合わせて2回以上フィルタリングを行う場合は1回目のフィルタリングの孔径より2回目以降の孔径が同じ、又は、大きい方が好ましい。また、上述した範囲内で異なる孔径の第1のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照できる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)、及び、株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択できる。
第2のフィルタは、上述した第1のフィルタと同様の材料等で形成されたフィルタを使用できる。第2のフィルタの孔径は、0.2~10.0μmが好ましく、0.2~7.0μmがより好ましく、0.3~6.0μmが更に好ましい。
組成物は、金属、ハロゲンを含有する金属塩、酸、アルカリ等の不純物を含まないことが好ましい。これら材料に含まれる不純物の含有量は、1質量ppm以下が好ましく、1質量ppb以下がより好ましく、100質量ppt以下が更に好ましく、10質量ppt以下が特に好ましく、実質的に含まないこと(測定装置の検出限界以下であること)が最も好ましい。
なお、上記不純物は、誘導結合プラズマ質量分析装置(横河アナリティカルシステムズ製、Agilent 7500cs型)により測定できる。
本発明は、遮光膜の発明をも含む。
本発明の遮光膜は、本発明の組成物を硬化して得られる遮光膜であるのが好ましい。
本発明の遮光膜は、黒色色材、無機粒子、及び、樹脂を含有する遮光膜であって、無機粒子の粒径が、1~100nm(より好ましくは15~78nm)であり、表面の算術平均粗さが18nm以上である遮光膜であるのが好ましい。
本発明の遮光膜が含有する黒色色材の例は、本発明の組成物が含有し得る黒色色材の例と同様である。遮光膜中における黒色色材の含有量の例も、組成物中における黒色色材の全固形分に対する含有量の例と同様である。
本発明の遮光膜が含有する無機粒子の例は、本発明の組成物が含有し得る無機粒子の例と同様である。つまり、無機粒子は、修飾無機物質であってもよいし、修飾されていない無機物質であってもよい。
ただし、遮光膜を製造するために修飾無機物質である無機粒子を使用した場合において、遮光膜となった時点で修飾無機物質である無機粒子が含有していた被覆層と遮光膜中の他の成分とを判別できない場合は、上記無機粒子は、遮光膜中において、修飾されていない無機物質として存在しているものとみなす。
例えば、組成物から形成された遮光膜中に、粒径が100nmである無機物質が存在している場合において、組成物段階で上記無機物質が修飾無機物質であったか、修飾されていない無機物質であったか判別できない場合、上記遮光膜は粒径が100nmである無機粒子を含有しているものとみなす。
遮光膜中における無機粒子の含有量の例も、組成物中における無機粒子の全固形分に対する含有量の例と同様である。
本発明の遮光膜が含有し得る他の成分の例についても、本発明の組成物が含有し得る成分として挙げた溶剤以外の成分の例が同様に挙げられる。遮光膜中におけるこれらの成分の含有量の例も、組成物中におけるこれらの成分の全固形分に対する含有量の例と同様である。なお、これらの成分は、組成物中に存在していた状態から、所定の化学変化をした状態で遮光膜中に存在していてもよい。
例えば、組成物が含有していた重合性化合物は、遮光膜中で、重合反応を経て架橋した状態で存在していてもよい。また、組成物が硬化性基を含有する樹脂を含有していた場合、上記樹脂は、遮光膜中で、硬化反応した後の状態で存在していてもよい。
本発明において、遮光膜の算術平均粗さは、触針式の表面粗さ計(例えば、ミツトヨ社製の表面粗さ測定機SJ-401)を用いて、JIS B0601:2010に準拠して測定した算術平均粗さである。
例えば、本発明の遮光膜は、黒色色材の含有量が多い下側層と、空気界面側に偏在した無機粒子を多く含有し黒色色材の含有量が少ない上側層とを含有する層構造であるのが好ましい。
上側層は、黒色色材を実質的に含有しないのが好ましい。上側層が黒色色材を実質的に含有しないとは、具体的には、上側層における黒色色材の含有量が、上側層の全質量に対して、5質量%以下であることを意図し、1質量%以下であるのが好ましい。
遮光膜の膜厚は、例えば、0.1~4.0μmが好ましく、0.4~2.5μmがより好ましい。また、遮光膜は、用途にあわせてこの範囲よりも薄膜としてもよいし、厚膜としてもよい。
例えば、遮光膜を光減衰膜として使用する場合、上記範囲よりも薄膜(例えば、0.1~0.5μm)として遮光性を調整してもよい。
上側層の膜厚は、遮光膜全体の膜厚にもよるが、例えば、5~300nmが好ましく、10~200nmがより好ましい。
遮光膜及び上側層の膜厚は遮光膜の断面SEM(Scanning Electron Microscope)画像により測定できる。
なお、遮光膜(又は上側層)の膜厚は、遮光膜表面の凹凸における凸部の頂点100点の平均高さから遮光膜(又は上側層)の底部までの距離を基準に決定する。
また、無機粒子同士は、本発明の効果がより優れる点から、(特に空気界面側(上側層)に存在する状態において)凝集しているのが好ましい。空気界面側に存在する無機粒子同士が凝集していると、遮光膜の表面の凹凸の高低差(つまり、算術平均粗さ)を増大させ、本発明の効果がより向上できる。
無機粒子同士の凝集の有無は、遮光膜の断面SEM画像により観測できる。
なお、本明細書において、400~1100nmの波長領域における膜厚1.5μmあたりの光学濃度が3.0以上であるとは、波長400~1100nmの全域において、膜厚1.5μmあたりの光学濃度が3.0以上であることを意味する。
なお、本明細書において、遮光膜の光学濃度の測定方法としては、まず、ガラス基板上遮光膜を形成して、分光光度計U-4100(商品名、日立ハイテクノロジーズ製)積分球型受光ユニットを用いて測定し、測定箇所の膜厚も測定し、所定の膜厚あたりの光学濃度を算出する。
また、遮光膜を光減衰膜として使用する場合、400~1200nmの波長領域における膜厚1.0μmあたりの光学濃度は、0.1~1.5が好ましく、0.2~1.0がより好ましい。
本明細書において、赤外線に対する反射性は、波長940nmの光に対する反射性で判断する。
具体的には、日本分光株式会社製分光器V7200(商品名)VARユニットを用いて角度5°の入射角で波長940nmの光を入射し、得られた反射率より、赤外線に対する反射率(低反射性)を評価する。
本明細書において、可視光に対する反射性は、波長550nmの光に対する反射性で判断する。
具体的には、日本分光株式会社製分光器V7200(商品名)VARユニットを用いて角度5°の入射角で波長550nmの光を入射し、得られた反射率より、可視光に対する反射率(低反射性)を評価する。
本発明の遮光膜は、本発明の組成物を用いて形成された組成物層を硬化して、遮光膜(パターン状の遮光膜を含む)を得るのが好ましい。
遮光膜の製造方法は、特に制限されないが、以下の工程を含有するが好ましい。
・組成物層形成工程
・露光工程
・現像工程
以下、各工程について説明する。
組成物層形成工程においては、露光に先立ち、支持体等の上に、組成物を付与して組成物の層(組成物層)を形成する。支持体としては、例えば、基板(例えば、シリコン基板)上にCCD(Charge Coupled Device)又はCMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)等の撮像素子(受光素子)が設けられた固体撮像素子用基板を使用できる。また、支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止及び基板表面の平坦化等のために下塗り層を設けてもよい。
露光工程では、組成物層形成工程において形成された組成物層に活性光線又は放射線を照射して露光し、光照射された組成物層を硬化させる。
光照射の方法は、パターン状の開口部を有するフォトマスクを介して光照射することが好ましい。
露光は放射線の照射により行うことが好ましい。露光に際して使用できる放射線は、g線、h線、又は、i線等の紫外線が好ましく、光源は高圧水銀灯が好ましい。照射強度は5~1500mJ/cm2が好ましく、10~1000mJ/cm2がより好ましい。
なお、組成物が熱重合開始剤を含有する場合、上記露光工程において、組成物層を加熱してもよい。加熱の温度として特に制限されないが、80~250℃が好ましい。また、加熱の時間は、30~300秒間が好ましい。
なお、露光工程において、組成物層を加熱する場合、後述する後加熱工程を兼ねてもよい。言い換えれば、露光工程において、組成物層を加熱する場合、遮光膜の製造方法は後加熱工程を含有しなくてもよい。
現像工程は、露光後の上記組成物層を現像して遮光膜を形成する工程である。本工程により、露光工程における光未照射部分の組成物層が溶出し、光硬化した部分だけが残り、パターン状の遮光膜が得られる。
現像工程で使用される現像液の種類は特に制限されないが、下地の撮像素子及び回路等にダメージを起こさない、アルカリ現像液が望ましい。
現像温度としては、例えば、20~30℃である。
現像時間としては、例えば、20~90秒間である。残渣をよりよく除去するため、近年では120~180秒間実施する場合もある。更には、残渣除去性をより向上するため、現像液を60秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返す場合もある。
アルカリ性化合物は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム,硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシ、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、及び、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン等が挙げられる(このうち、有機アルカリが好ましい。)。
なお、アルカリ現像液として用いた場合は、一般に現像後に水で洗浄処理が施される。
露光工程の後、加熱処理(ポストベーク)を行うことが好ましい。ポストベークは、硬化を完全にするための現像後の加熱処理である。その加熱温度は、240℃以下が好ましく、220℃以下がより好ましい。下限は特にないが、効率的かつ効果的な処理を考慮すると、50℃以上が好ましく、100℃以上がより好ましい。
ポストベークは、ホットプレート、コンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、又は、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式又はバッチ式で行える。
この場合、上述した組成物は、更にUV硬化剤を含有することが好ましい。UV硬化剤は、通常のi線露光によるリソグラフィー工程のために添加する重合開始剤の露光波長である365nmより短波の波長で硬化できるUV硬化剤が好ましい。UV硬化剤としては、例えば、チバ イルガキュア 2959(商品名)が挙げられる。UV照射を行う場合においては、組成物層が波長340nm以下で硬化する材料であることが好ましい。波長の下限値は特にないが、220nm以上が一般的である。またUV照射の露光量は100~5000mJが好ましく、300~4000mJがより好ましく、800~3500mJが更に好ましい。このUV硬化工程は、露光工程の後に行うことが、低温硬化をより効果的に行うために、好ましい。露光光源はオゾンレス水銀ランプを使用することが好ましい。
本発明の遮光膜は、パーソナルコンピュータ、タブレット、携帯電話、スマートフォン、及び、デジタルカメラ等のポータブル機器;プリンタ複合機、及び、スキャナ等のOA(Office Automation)機器;監視カメラ、バーコードリーダ、現金自動預け払い機(ATM:automated teller machine)、ハイスピードカメラ、及び、顔画像認証又は生体認証を使用した本人認証機能を有する機器等の産業用機器;車載用カメラ機器;内視鏡、カプセル内視鏡、及び、カテーテル等の医療用カメラ機器;並びに、生体センサ、バイオセンサ、軍事偵察用カメラ、立体地図用カメラ、気象及び海洋観測カメラ、陸地資源探査カメラ、及び、宇宙の天文及び深宇宙ターゲット用の探査カメラ等の宇宙用機器;等に使用される光学フィルタ及びモジュールの遮光部材及び遮光膜、更には反射防止部材及び反射防止膜に好適である。
マイクロLED及びマイクロOLEDとしては、例えば、特表2015-500562号公報及び特表2014-533890号公報に記載された例が挙げられる。
本発明の遮光膜は、固体撮像素子に使用することも好ましい。
本発明は、光学素子の発明をも含有する。本発明の光学素子は、上記遮光膜(硬化膜)を有する光学素子である。光学素子としては、例えば、カメラ、双眼鏡、顕微鏡、センサ(好ましくは光学センサ)、及び、半導体露光装置等の光学機器に使用される光学素子が挙げられる。
中でも、上記光学素子としては、例えば、カメラ等に搭載される固体撮像素子が好ましい。
本発明の固体撮像素子が遮光膜(硬化膜)を含有する形態としては、例えば、基板上に、固体撮像素子(CCDイメージセンサ、CMOSイメージセンサ等)の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有し、支持体の受光素子形成面側(例えば、受光部以外の部分及び/又は色調整用画素等)又は形成面の反対側に遮光膜を有する形態が挙げられる。
また、遮光膜を光減衰膜として使用する場合、例えば、一部の光が光減衰膜を通過した上で受光素子に入射するように、光減衰膜を配置すれば、固体撮像素子のダイナミックレンジを改善できる。
固体撮像装置は、上記固体撮像素子を具備する。
図1は、本発明の固体撮像素子を含有する固体撮像装置の構成例を示す概略断面図である。
図1に示すように、固体撮像装置100は、矩形状の固体撮像素子101と、固体撮像素子101の上方に保持され、この固体撮像素子101を封止する透明なカバーガラス103とを備えている。更に、このカバーガラス103上には、スペーサー104を介してレンズ層111が重ねて設けられている。レンズ層111は、支持体113とレンズ材112とで構成されている。レンズ層111は、支持体113とレンズ材112とが一体成形された構成でもよい。レンズ層111の周縁領域に迷光が入射すると光の拡散によりレンズ材112での集光の効果が弱くなり、撮像部102に届く光が低減する。また、迷光によるノイズの発生も生じる。そのため、このレンズ層111の周縁領域は、遮光膜114が設けられて遮光されている。本発明の遮光膜は上記遮光膜114としても使用できる。
遮光膜212上には、BPSG(borophospho silicate glass)からなる絶縁膜213、P-SiNからなる絶縁膜(パシベーション膜)214、透明樹脂等からなる平坦化膜215からなる透明な中間層が設けられている。カラーフィルタ202は、中間層上に形成されている。
本発明の遮光膜は、画像表示装置に含有されることも好ましい。
画像表示装置が遮光膜を有する形態としては、例えば、遮光膜がブラックマトリクスに含有され、このようなブラックマトリクスを含有するカラーフィルタが、画像表示装置に使用される形態が挙げられる。
次に、ブラックマトリクス及びブラックマトリクスを含有するカラーフィルタについて説明し、更に、画像表示装置の具体例として、このようなカラーフィルタを含有する液晶表示装置について説明する。
本発明の遮光膜は、ブラックマトリクスに含有されることも好ましい。ブラックマトリクスは、カラーフィルタ、固体撮像素子、及び、液晶表示装置等の画像表示装置に含有される場合がある。
ブラックマトリクスとしては、例えば、上記で既に説明したもの;液晶表示装置等の画像表示装置の周縁部に設けられた黒色の縁;赤、青、及び、緑の画素間の格子状、及び/又は、ストライプ状の黒色の部分;TFT(thin film transistor)遮光のためのドット状、及び/又は、線状の黒色パターン;等が挙げられる。このブラックマトリクスの定義については、例えば、菅野泰平著、「液晶ディスプレイ製造装置用語辞典」、第2版、日刊工業新聞社、1996年、p.64に記載がある。
ブラックマトリクスは表示コントラストを向上させるため、また薄膜トランジスタ(TFT)を用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示装置の場合には光の電流リークによる画質低下を防止するため、高い遮光性(光学濃度ODで3以上)を有することが好ましい。
本発明の遮光膜は、カラーフィルタに含有されることも好ましい。
カラーフィルタが遮光膜を含有する形態としては、例えば、基板と、上記ブラックマトリクスと、を備えるカラーフィルタが挙げられる。すなわち、基板上に形成された上記ブラックマトリクスの開口部に形成された赤色、緑色、及び、青色の着色画素と、を備えるカラーフィルタが例示できる。
まず、基板上に形成されたパターン状のブラックマトリクスの開口部に、カラーフィルタの各着色画素に対応する顔料を含有した組成物の塗膜(組成物層)を形成する。なお、各色用組成物としては、例えば、公知の組成物を使用できるが、本明細書で説明した組成物において、黒色色材を、各画素に対応した着色剤に置き換えた組成物を使用することが好ましい。
次に、組成物層に対して、ブラックマトリクスの開口部に対応したパターンを有するフォトマスクを介して露光する。次いで、現像処理により未露光部を除去した後、ベークしてブラックマトリクスの開口部に着色画素を形成できる。一連の操作を、例えば、赤色、緑色、及び、青色顔料を含有した各色用組成物を用いて行えば、赤色、緑色、及び、青色画素を有するカラーフィルタを製造できる。
本発明の遮光膜は、液晶表示装置に含有されることも好ましい。液晶表示装置が遮光膜を含有する形態としては、例えば、すでに説明したブラックマトリクス(遮光膜)を含有するカラーフィルタを含有する形態が挙げられる。
本発明の遮光膜は、既に上述の用途例の中にも挙げた通り、センサ(好ましくは光学センサ)に含有されることも好ましい。
また、上記センサとしては、例えば、本発明の遮光膜を含有する赤外線センサも挙げられる。
上記実施態様に係る赤外線センサについて、図3を用いて説明する。図3は、本発明の遮光膜を備える赤外線センサの構成例を示す概略断面図である。図3に示す赤外線センサ300は、固体撮像素子310を備える。
固体撮像素子310上に設けられている撮像領域は、赤外線吸収フィルタ311と本発明の実施形態に係るカラーフィルタ312とを組み合せて構成されている。
赤外線吸収フィルタ311は、可視光領域の光(例えば、波長400~700nmの光)を透過し、赤外領域の光(例えば、波長800~1300nmの光、好ましくは波長900~1200nmの光、より好ましくは波長900~1000nmの光)を遮蔽する膜であり、着色剤として赤外線吸収剤(赤外線吸収剤の形態は既に説明したとおりである。)を含有する遮光膜を使用できる。
カラーフィルタ312は、可視光領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、例えば、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の画素が形成されたカラーフィルタ等が用いられ、その形態は既に説明したとおりである。
赤外線透過フィルタ313と固体撮像素子310との間には、赤外線透過フィルタ313を透過した波長の光を透過可能な樹脂膜314(例えば、透明樹脂膜等)が配置されている。
赤外線透過フィルタ313は、可視光遮蔽性を有し、かつ、特定波長の赤外線を透過させるフィルタであって、可視光領域の光を吸収する着色剤(例えば、ペリレン化合物、及び/又は、ビスベンゾフラノン化合物等)と、赤外線吸収剤(例えば、ピロロピロール化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、及び、ポリメチン化合物等)と、を含有する、本発明の遮光膜を使用できる。赤外線透過フィルタ313は、例えば、波長400~830nmの光を遮光し、波長900~1300nmの光を透過させることが好ましい。
カラーフィルタ312及び赤外線透過フィルタ313の入射光hν側には、マイクロレンズ315が配置されている。マイクロレンズ315を覆うように平坦化膜316が形成されている。
図3に示す形態では、樹脂膜314が配置されているが、樹脂膜314に代えて赤外線透過フィルタ313を形成してもよい。すなわち、固体撮像素子310上に、赤外線透過フィルタ313を形成してもよい。
また、図3に示す形態では、カラーフィルタ312の膜厚と、赤外線透過フィルタ313の膜厚が同一であるが、両者の膜厚は異なっていてもよい。
また、図3に示す形態では、カラーフィルタ312が、赤外線吸収フィルタ311よりも入射光hν側に設けられているが、赤外線吸収フィルタ311と、カラーフィルタ312との順序を入れ替えて、赤外線吸収フィルタ311を、カラーフィルタ312よりも入射光hν側に設けてもよい。
また、図3に示す形態では、赤外線吸収フィルタ311とカラーフィルタ312は隣接して積層しているが、両フィルタは必ずしも隣接している必要はなく、間に他の層が設けられていてもよい。本発明の遮光膜は、赤外線吸収フィルタ311の表面の端部及び/又は側面等の遮光膜として使用できるほか、赤外線センサの装置内壁に用いれば、内部反射及び/又は受光部への意味しない光の入射を防ぎ、感度を向上させられる。
この赤外線センサによれば、画像情報を同時に取り込めるため、動きを検知する対象を認識したモーションセンシング等が可能である。また、この赤外線センサによれば、距離情報を取得できるため、3D情報を含んだ画像の撮影等も可能である。更に、この赤外線センサは、生体認証センサとしても使用できる。
上記固体撮像装置は、レンズ光学系と、固体撮像素子と、赤外発光ダイオード等を含有する。なお、固体撮像装置の各構成については、特開2011-233983号公報の段落0032~0036を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
本発明の遮光膜は、自動車等の車両用灯具のヘッドライトユニットに含有されることも好ましい。遮光膜としてヘッドライトユニットに含有される本発明の遮光膜は、光源から出射される光の少なくとも一部を遮光するように、パターン状に形成されることが好ましい。
上記実施態様に係るヘッドライトユニットについて、図4及び図5を用いて説明する。図4は、ヘッドライトユニットの構成例を示す模式図であり、図5はヘッドライトユニットの遮光部の構成例を示す模式的斜視図である。
図4に示すように、ヘッドライトユニット10は、光源12と、遮光部14と、レンズ16とを有し、光源12、遮光部14、及びレンズ16の順で配置されている。
遮光部14は、図5に示すように基体20と、遮光膜22とを有する。
遮光膜22は、光源12から出射される光を特定の形状に照射するためのパターン状の開口部23が形成されている。遮光膜22の開口部23の形状により、レンズ16から照射される配光パターンが決定される。レンズ16は、遮光部14を通過した光源12からの光Lを投影するものである。光源12から、特定の配光パターンを照射することができれば、レンズ16は、必ずしも必要ではない。レンズ16は、光Lの照射距離、及び照射範囲に応じて適宜決定されるものである。
また、基体20は、遮光膜22を保持することができれば、その構成は、特に限定されるものではないが、光源12の熱等により変形しないものであることが好ましく、例えば、ガラスで構成される。
図5では、配光パターンの一例を示したが、これに限定されるものではない。
また、光源12も1つに限定されるものではなく、例えば、列状に配置してもよく、マトリクス状に配置してもよい。光源を複数設ける場合、例えば、1つの光源12に対して、1つの遮光部14を設ける構成でもよい。この場合、複数の遮光部14の各遮光膜22は、全て同じパターンでもよく、それぞれ異なるパターンでもよい。
図6はヘッドライトユニットによる配光パターンの一例を示す模式図であり、図7はヘッドライトユニットによる配光パターンの他の例を示す模式図である。なお、図6に示す配光パターン30と図7に示す配光パターン32はいずれも光が照射される領域を示している。また、図6に示す領域31及び図7に示す領域31は、いずれも遮光膜22を設けていない場合に光源12(図4参照)で照射される照射領域を示す。
遮光膜22のパターンにより、例えば、図6に示す配光パターン30のように、エッジ30aで光の強度が急激に低下している。図6に示す配光パターン30は、例えば、左側通行において、対向車に光を照らさないパターンとなる。
また、図7に示す配光パターン32のように、図6に示す配光パターン30の一部を切り欠いたパターンとすることもできる。この場合も、図6に示す配光パターン30と同じく、エッジ32aで光の強度が急激に低下しており、例えば、左側通行において、対向車に光を照らさないパターンとなる。更に、切欠部33でも光の強度が急激に低下している。このため、切欠部33に対応する領域に、例えば、道路がカーブしている、上り傾斜、下り傾斜等の状態を示すマークを表示することができる。これにより、夜間走行時の安全性を向上させることができる。
また、遮光部14で、光源12からの光を遮光可能なシェード部材を構成してもよい。この場合、図示しない駆動機構により、光源12とレンズ16との間に、必要に応じて進入させて、特定の配光パターンを得る構成とすることもできる。
試験に使用する組成物を製造するために、まず、色材分散液及び無機粒子分散液を調製した。
(色材分散液A-1(チタンブラック分散液A-1)の調製)
平均粒径15nmの酸化チタンMT-150A(商品名:テイカ社製)を100g、BET表面積300m2/gのシリカ粒子AEROGIL(登録商標)300/30(エボニック製)を25g、及び、分散剤Disperbyk190(商品名:ビックケミー社製)を100g秤量し、イオン交換水71gを加えてKURABO製MAZERSTAR KK-400Wを使用して、公転回転数1360rpm、自転回転数1047rpmにて20分間処理することにより均一な混合物水溶液を得た。この水溶液を石英容器に充填し、小型ロータリーキルン(株式会社モトヤマ製)を用いて酸素雰囲気中で920℃に加熱した後、窒素で雰囲気を置換し、同温度でアンモニアガスを100mL/minで5時間流すことにより窒化還元処理を実施した。終了後回収した粉末を乳鉢で粉砕し、Si原子を含有し、比表面積73m2/gである、チタンブラック(a-1)〔チタンブラック粒子及びSi原子を含む被分散体〕を得た。
得られた分散物を攪拌機により十分に攪拌し、プレミキシングを行った。得られた分散物に対し、シンマルエンタープライゼス社製のNPM Pilotを使用して下記分散条件にて分散処理を行い、色材分散液A-1(チタンブラック分散液A-1)を得た。
・ビーズ径:φ0.05mm
・ビーズ充填率:65体積%
・ミル周速:10m/sec
・セパレーター周速:11m/s
・分散処理する混合液量:15.0g
・循環流量(ポンプ供給量):60kg/hour
・処理液温度:20~25℃
・冷却水:水道水 5℃
・ビーズミル環状通路内容積:2.2L
・パス回数:84パス
通常のオイルファーネス法で、カーボンブラックを製造した。但し、原料油として、Na分量、Ca分量、及び、S分量の少ないエチレンボトム油を用い、ガス燃料を用いて燃焼を行った。更に、反応停止水として、イオン交換樹脂で処理した純水を用いた。
ホモミキサーを用いて、得られたカーボンブラック(540g)を純水(14500g)と共に5,000~6,000rpmで30分間撹拌し、スラリーを得た。このスラリーをスクリュー型撹拌機付容器に移して、約1,000rpmで混合しながら、その容器内に、エポキシ樹脂「エピコート828」(ジャパンエポキシレジン社製)(60g)を溶解したトルエン(600g)を少量ずつ添加した。約15分間で、水に分散していたカーボンブラックは全量トルエン側に移行し、粒径約1mmの粒となった。
次に、60メッシュ金網で水切りを行った後、分離された粒を真空乾燥機に入れ、70℃で7時間乾燥し、トルエン及び水を除去して、樹脂被覆カーボンブラックを得た。得られた樹脂被覆カーボンブラックの樹脂被覆量は、カーボンブラックと樹脂の合計量に対して10質量%であった。
得られた分散物を攪拌機により十分に攪拌し、プレミキシングを行った。得られた分散物に対し、寿工業株式会社製のウルトラアペックスミルUAM015を使用して下記条件にて分散処理を行い、分散組成物を得た。分散終了後、フィルターによりビーズと分散液を分離して、黒色色材として樹脂被覆カーボンブラックを含有する色材分散液A-2(樹脂被覆カーボンブラック分散液A-2)を得た。
・ビーズ径:φ0.05mm
・ビーズ充填率:75体積%
・ミル周速:8m/sec
・分散処理する混合液量:500g
・循環流量(ポンプ供給量):13kg/hour
・処理液温度:25~30℃
・冷却水:水道水(5℃)
・ビーズミル環状通路内容積:0.15L
・パス回数:90パス
黒色色材としての有機顔料(Irgaphor Black S0100CF(BASF社製))(150質量部)、後述の色材分散液用樹脂(100質量部)、及び、3-メトキシブチルアセテート(MBA)(750質量部)を混合した。
得られた混合物を、ホモミキサー(プライミクス社製)で20分間撹拌して、予備分散液を得た。更に、得られた予備分散液に対し、遠心分離セパレーターを具備したウルトラアペックスミル(寿工業株式会社製)を使用して、下記分散条件にて3時間分散処理を行い、分散組成物を得た。分散終了後、フィルターによりビーズと分散液を分離して、黒色色材として有機顔料を含有する色材分散液A-3(有機顔料分散液A-3)を得た。
色材分散液A-3の固形分濃度は25質量%であり、有機顔料/樹脂成分の割合は60/40(質量比)であった。
・使用ビーズ:φ0.30mmのジルコニアビーズ(YTZボール、ネツレン社製)
・ビーズ充填率:75体積%
・ミル周速:8m/sec
・分散処理する混合液量:1000g
・循環流量(ポンプ供給量):13kg/hour
・処理液温度:25~30℃
・冷却水:水道水(5℃)
・ビーズミル環状通路内容積:0.15L
・パス回数:90パス
黒色色材としてのVALIFAST BLACK 3804(商品名、オリエント化学工業株式会社製、ソルベントブラック34のC.I.で規定される染料)(20質量部)に対し、後述の色材分散液用樹脂(5.5質量部)を加えた。次いで、混合物をPGMEA(74.5質量部)に溶解させることにより、色材分散液A-4(黒色染料溶液A-4)を得た。
全質量に対して、それぞれ、チタンブラック(a-1)が48.37質量%、後述の色材分散液用樹脂が7.55質量%、溶剤(シクロペンタノン/PGMEA=3/2(質量比)の混合溶剤)が44.08質量%の含有量であるようにした以外は、色材分散液A-1と同様にして、色材分散液A-5(チタンブラック分散液A-5)を得た。
全質量に対して、それぞれ、チタンブラック(a-1)が19.20質量%、後述の色材分散液用樹脂が7.55質量%、溶剤(シクロペンタノン/PGMEA=3/2(質量比)の混合溶剤)が73.25質量%の含有量であるようにした以外は、色材分散液A-1と同様にして、色材分散液A-6(チタンブラック分散液A-6)を得た。
以下に示す窒化ジルコニウム粉末Zr-1を製造し、製造した窒化ジルコニウム粉末Zr-1を用いて、色材分散液A-7(窒化ジルコニウム分散液A-7)を調製した。
BET法により測定される比表面積から算出される平均一次粒子径が50nmの単斜晶系二酸化ジルコニウム粉末7.4gに、平均一次粒子径が150μmの金属マグネシウム粉末7.3gと平均一次粒子径が200nmの窒化マグネシウム粉末9.0gを添加し、石英製ガラス管に黒鉛のボートを内装した反応装置により均一に混合した。このとき金属マグネシウムの添加量は二酸化ジルコニウムの5.0倍モル、窒化マグネシウムの添加量は二酸化ジルコニウムの0.5倍モルであった。この混合物を窒素ガスの雰囲気下、700℃の温度で60分間焼成して焼成物を得た。この焼成物を、1リットルの水に分散し、10%塩酸を徐々に添加して、pHを1以上で、温度を100℃以下に保ちながら洗浄した後、25%アンモニア水にてpH7~8に調整し、濾過した。その濾過固形分を水中に400g/リットルに再分散し、もう一度、上述と同様に酸洗浄、アンモニア水でのpH調整をした後、濾過した。このように酸洗浄-アンモニア水によるpH調整を2回繰り返した後、濾過物をイオン交換水に固形分換算で500g/リットルで分散させ、60℃での加熱攪拌とpH7への調整をした後、吸引濾過装置で濾過し、更に等量のイオン交換水で洗浄し、設定温度;120℃の熱風乾燥機にて乾燥することにより、窒化ジルコニウム粉末Zr-1を得た。
全質量に対して、それぞれ、窒化ジルコニウム粉末Zr-1が25.00質量%、後述の色材分散液用樹脂が8.33質量%、溶剤(シクロペンタノン/PGMEA=3/2(質量比)の混合溶剤)が66.67質量%の含有量であるようにした以外は、色材分散液A-1と同様にして、色材分散液A-7(窒化ジルコニウム分散液A-7)を得た。
以下に示す窒化ジルコニウム粉末Zr-2を製造し、製造した窒化ジルコニウム粉末Zr-2を用いて、色材分散液A-8(窒化ジルコニウム分散液A-8)を調製した。
上述のZr-1の0.1モルに対しアルコールとしてエタノールを12モル添加し、Zr-1をエタノールに分散させて、ビーズミルにより湿式粉砕することにより、Zr-1の分散液を得た。次いでこのZr-1の分散液に、濃度調整のためのエタノールを6モル添加した後、シリカ膜を形成するためのシリカ源としてオルトけい酸テトラメチルを1×10-2モル添加した。次にこのオルトけい酸テトラメチルが添加されたZr-1の分散液にアルカリ源(反応開始剤)として水酸化ナトリウムを1×10-3モル添加して分散液での反応を開始した。更にこの分散液を洗浄し乾燥した後に焼成することにより、窒化ジルコニウムZr-1がシリカ膜により被覆された粉末Zr-2を得た。
なお、上記分散液の洗浄は、この分散液から不純物を除去するために、分散液を遠心分離器にかけた後に、分散液をイオン交換樹脂製のフィルタに通すことにより行った。また上記焼成は、窒素ガス雰囲気中で350℃に5時間保持する処理であった。
Zr-2における、被覆粒子の全質量に対する金属酸化物(シリカからなる金属酸化物被覆層)の含有量は5質量%であった。
なお、被覆の有無はFE-STEM/EDS(エネルギー分散型X線解析装置付き電解放出型走査透過電子顕微鏡)で確認し、上記含有量はESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)で確認した。
全質量に対して、それぞれ、窒化ジルコニウム粉末Zr-2が25.00質量%、後述の色材分散液用樹脂が8.33質量%、溶剤(シクロペンタノン/PGMEA=3/2(質量比)の混合溶剤)が66.67質量%の含有量であるようにした以外は、色材分散液A-1と同様にして、色材分散液A-8(窒化ジルコニウム分散液A-8)を得た。
以下に示す窒化ジルコニウム粉末Zr-3~Zr-9を製造し、製造した窒化ジルコニウム粉末を用いて、色材分散液A-9~A-15(窒化ジルコニウム分散液A-9~A-15)を調製した。
上述のZr-1を水と混合し、サンドミルを用いて、粉末の重量として100g/リットルの水性スラリーに調整し粉末濃度100g/リットルの水分散液を得た。このスラリーを撹拌しながら60℃に加熱し、この温度を保持しながら、アルミン酸ナトリウム水溶液と希硫酸溶液とを上記水性スラリーのpHを7.0に保持しながら30分間同時に添加し、引き続き30分間熟成した。
この後、得られた中和反応生成物を濾過、洗浄し、120℃の温度で5時間乾燥し、窒化ジルコニウムの粉末母体がアルミナ膜により被覆された粉末(アルミナで被覆された窒化ジルコニウム)を得た。
上記におけるアルミン酸ナトリウム水溶液の添加量は、Zr-1の100質量部に対して、Al2O3として、0.1~25質量部に相当する量の範囲内とした。
アルミン酸ナトリウム水溶液の添加量を調整して、それぞれ、以下に示す被覆量で金属酸化物被覆層(アルミナ)によって被覆された窒化ジルコニウムである、Zr-3~Zr-9を得た。
種類 被覆量
-------------------
Zr-3 1質量%
Zr-4 2質量%
Zr-5 3質量%
Zr-6 5質量%
Zr-7 7質量%
Zr-8 8質量%
Zr-9 10質量%
===================
上記被覆量は、被覆粒子の全質量に対する金属酸化物(アルミナからなる金属酸化物被覆層)の含有量を意味する。
なお、被覆の有無はFE-STEM/EDSで確認し、上記被覆量はESCAで確認した。
全質量に対して、それぞれ、窒化ジルコニウム粉末Zr-3~Zr-9のいずれかが25.00質量%、後述の色材分散液用樹脂が8.33質量%、溶剤(シクロペンタノン/PGMEA=3/2(質量比)の混合溶剤)が66.67質量%の含有量であるようにした以外は、色材分散液A-1と同様にして、色材分散液A-9~A-15(窒化ジルコニウム分散液A-9~A-15)を得た。
なお、窒化ジルコニウム粉末Zr-3を使用して得られた色材分散液が色材分散液A-9であり、窒化ジルコニウム粉末Zr-4を使用して得られた色材分散液が色材分散液A-10であり、窒化ジルコニウム粉末Zr-5を使用して得られた色材分散液が色材分散液A-11であり、窒化ジルコニウム粉末Zr-6を使用して得られた色材分散液が色材分散液A-12であり、窒化ジルコニウム粉末Zr-7を使用して得られた色材分散液が色材分散液A-13であり、窒化ジルコニウム粉末Zr-8を使用して得られた色材分散液が色材分散液A-14であり、窒化ジルコニウム粉末Zr-9を使用して得られた色材分散液が色材分散液A-15である。
(合成例1:無機粒子分散液PS-1の製造)
スルーリア4110(日揮触媒化成社製、固形分20%、イソプロピルアルコール溶剤、中空シリカゾル、平均一次粒子径60nm)100gに、KBM-503(信越化学工業社製、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)4g、10質量%蟻酸水溶液0.5g、及び、水1gを混合し、混合液を得た。得られた混合液を60℃で3時間撹拌した。更に、ロータリーエバポレータを用いて、混合液中の溶剤を、1-メトキシ-2-プロパノールに置き換えた。混合液の固形分濃度を確認し、更に必要量の1-メトキシ-2-プロパノールで希釈することで、固形分20質量%の無機粒子分散液PS-1(メタクリル基で表面修飾された中空シリカの分散液)を得た。
3口フラスコに無機粒子分散液PS-1(上段で作製した固形分が20質量%の分散液)(30.0g)、X-22-2404(信越化学工業社製、片末端メタクリル変性シリコーンオイル、1.8g)、及び、PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、28.2g)を入れ、フラスコの内容物を、窒素雰囲気下で80℃に昇温した。このフラスコに、開始剤V-601(富士フイルム和光純薬社製、0.01g)を添加し、3時間撹拌した。更に、このフラスコに、V-601(0.02g)を添加し、2時間撹拌した。その後、フラスコの内容物を、精密濾過し、得られたろ物に、1-メトキシ-2-プロパノールを、固形分が20質量%になるように添加することで、無機粒子分散液S-1(31.3g)を得た。
合成例2のX-22-2404を、それぞれ、MAC6F13(東京化成工業社製、メタクリル酸1H,1H,2H,2H-トリデカフルオロ-n-オクチル)、及び、iBMA(東京化成工業社製、メタクリル酸イソブチル)に変更した以外は、合成例2と同様にして、無機粒子分散液S-2、及び、S-3を得た。
合成例2~4の無機粒子分散液PS-1を、PGM-AC-4130Y分散液に変更した以外は、合成例2~4と同様にして、無機粒子分散液S-5~S-7を得た。
なお、PGM-AC-4130Y分散液は、PGM-AC-4130Y(日産化学社製、固形分32質量%、1-メトキシ-2-プロパノール溶媒、メタクリル基で表面修飾された中実シリカの分散液)に、固形分が20質量%になるように1-メトキシ-2-プロパノールを添加して得た分散液である。
IPA-ST-L(日産化学社製、中実シリカ粒子のイソプロパノール分散液、固形分濃度30質量%、平均一次粒子径45nm)100質量部、エタノール100質量部、及び、下記に示すシランカップリング剤3質量部を混合した溶液に、1質量%アンモニア水1質量%を添加し、25℃で72時間撹拌した。得られた溶液を100質量部になるまで濃縮した。本溶液を遠心分離(毎分10000回転)し、上澄み液を廃棄した。1-メトキシ-2-プロパノール1000質量部を沈殿物に添加して、再度遠心分離を実施し、上澄み液を除去した。得られた沈殿物を減圧下50℃で24時間乾燥させることで、無機粒子を得た。得られた無機粒子を固形分が20質量%になるように1-メトキシ-2-プロパノールに分散させて無機粒子分散液S-13とした。
シランカップリング剤の種類を下記に示すシランカップリング剤に変更し、その添加量を2質量部にした以外は、合成例9と同様にして、無機粒子分散液S-14を得た。
シランカップリング剤の種類を下記に示すシランカップリング剤に変更し、その添加量を1質量部にした以外は、合成例9と同様にして、無機粒子分散液S-15を得た。
シランカップリング剤の種類を下記に示すシランカップリング剤に変更し、その添加量を2質量部にした以外は、合成例9と同様にして、無機粒子分散液S-16を得た。
シランカップリング剤の種類を下記に示すシランカップリング剤に変更し、その添加量を3質量部にした以外は、合成例9と同様にして、無機粒子分散液S-17を得た。
IPA-ST-L(日産化学社製、中実シリカ粒子のイソプロパノール分散液、固形分濃度30質量%、平均一次粒子径45nm)100gにKP-983(信越シリコーン社製、シランカップリング剤)10gを混合し、混合液とした。この混合液に、28%アンモニア水溶液を上記IPA-ST-L100gに対してアンモニアとして400ppmとなるように加え、40°Cで5時間攪拌した。その後、混合液に、固形分が20質量%になるように1-メトキシ-2-プロパノールを添加して、無機粒子分散液S-18を得た。
X-22-2404(1.8g)を、X-22-164(信越化学工業社製、両末端メタクリル変性シリコーンオイル)(1.8g)に変更した以外は、合成例5と同様にして、無機粒子分散液S-19を得た。
X-22-2404(1.8g)を、X-22-2404/X-22-164 = 2/1(質量比)の混合物(1.8g)に変更した以外は、合成例5と同様にして、無機粒子分散液S-20を得た。
X-22-2404(1.8g)を、X-22-2404/ノナメチレングリコールジメタクリレート=2/1(質量比)の混合物(1.8g)に変更した以外は、合成例5と同様にして、無機粒子分散液S-20を得た。
X-22-2404(1.8g)を、X-22-2404/X-22-164 = 2/1(質量比)の混合物(1.8g)に変更した以外は、合成例2と同様にして、無機粒子分散液S-20を得た。
表1中、「粒径(nm)」欄は、無機粒子分散液が含有する無機粒子の粒径(平均一次粒子径)(nm)を示す。
「中実/中空」欄は、無機粒子分散液が含有する無機粒子が中空粒子であるか、中実粒子であるかを示す。
「表面修飾」欄は、無機粒子の表面修飾(被覆層)において、被覆層の表面に存在する置換基が含有する基を示す。ただし、同欄中の「両末端(シロキサン)」の記載は、両末端にメタクリロイル基を有するシロキサン化合物を用いて被覆層を形成していることを示す。「両末端(非シロキサン)」の記載は、両末端にメタクリロイル基を有する非シロキサン化合物を用いて被覆層を形成していることを示す。「KP-983」の記載は、シランカップリング剤としてKP-983を使用して、被覆層を形成していることを示す。「PhF5」の記載は、ペンタフルオロフェニル基を示す。
「SP値」欄は、無機粒子分散液が含有する無機粒子のSP値(MPa0.5)を示す。無機粒子のSP値の測定方法は、明細書中で記載した通りである。
・B-1:下記構造の樹脂(各繰り返し単位に付した小数点下一桁まで表示の数字は、各繰り返し単位のモル比を示す。重量平均分子量:18500、酸価:92mgKOH/g)
上記エポキシアクリレート溶液25質量部及び、トリメチロールプロパン(TMP)0.76質量部、ビフェニルテトラカルボン酸2無水物(BPDA)3.3質量部、テトラヒドロフタル酸無水物(THPA)3.5質量部を、温度計、攪拌機、冷却管を取り付けたフラスコに入れ、攪拌しながら105℃までゆっくり昇温し反応させた。フラスコ内の樹脂溶液が透明になったところで、メトキシブチルアセテートで希釈し、固形分50質量%となるよう調製し、酸価115mgKOH/g、重量平均分子量2600(GPCで測定したポリスチレン換算値)の樹脂(B-2)を含む溶液を得た。
・C-1:下記構造を持つオキシム系開始剤
・C-3:Omnirad 369(IGM Resins B.V.社製)
D-1:NK エステル A-TMMT(4官能アクリレート、新中村化学社製)
D-2:KAYARAD UX DPHA-40H(多官能ウレタンアクリレート、日本化薬者製)
D-3:KAYARAD DPHA(5~6官能アクリレート、日本化薬製)
・p-メトキシフェノール
・シクロペンタノン
・PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
(実施例1の組成物の製造)
下記成分を、混合して実施例1の組成物を得た。
===============================
成分 添加量
-------------------------------
・色材分散液 A-1 : 72質量部
・樹脂 B-1 : 0.2質量部
・重合開始剤 C-1 : 2質量部
・重合性化合物 D-1 : 4.8質量部
・無機粒子分散液 S-1 : 調整
・重合禁止剤 p-メトキシフェノール : 0.003質量部
・溶剤 シクロペンタノン/PGMEA=50/50(質量比):調整
===============================
なお、「無機粒子分散液」及び「溶剤」の添加量としての「調整」との記載は、上記各成分の添加量の合計を100質量部としつつ、かつ、得られる組成物中における、全固形分に対する無機粒子の含有量が5.0質量%になるように、それぞれの添加量を調整したことを意味する。
また、実施例1の組成物で使用した色材分散液A-1においては、色材分散液用樹脂として、樹脂B-1を添加した。
ただし、樹脂B-2及びB-4は、樹脂含有液中に樹脂が分散した状態で得られている。そのため、樹脂B-2又はB-4を使用する場合、樹脂B-2又はB-4そのもの(固形分)が0.2質量部含有されるように、上記樹脂含有液を添加して組成物を調製した。
「無機粒子分散液」及び「溶剤」の添加量は、各成分の添加量の合計を100質量部としつつ、かつ、得られる組成物中における、全固形分に対する無機粒子の含有量が5.0質量%になるように、それぞれの添加量を調整した。
ただし、無機粒子分散液を使用しない場合は、単に、各成分の添加量の合計を100質量部になるように溶剤を添加した。この場合、得られる組成物中における、全固形分に対する無機粒子の含有量は0質量%である。
また、各組成物で使用する色材分散液に添加する色材分散液用樹脂は、それぞれ、下記表の「樹脂」欄に記載の樹脂と同じ樹脂を使用した。例えば、実施例1の組成物で使用する色材分散液A-1が含有する色材分散液用樹脂は樹脂B-1であり、実施例12の組成物で使用する色材分散液A-1が含有する色材分散液用樹脂は樹脂B-3である。なお、樹脂B-2又はB-4を色材分散液用樹脂として使用する場合、樹脂B-2又はB-4そのもの(固形分)を色材分散液用樹脂とした。
〔遮光膜の作製〕
上記で得られた組成物をガラス基板上にスピンコート法により塗布し、露光後の膜厚が1.5μmになるような塗膜を作製した。100℃で120秒のプリベークを行った後、基板全面に対してUX-1000SM-EH04(ウシオ電機社製)を用いて高圧水銀ランプ(ランプパワー50mW/cm2)にて1000mJ/cm2の露光量で露光した。露光後の基板を220℃で300秒のポストベークを行い、遮光膜(硬化膜)付き基板を得た。
得られた遮光膜(硬化膜)付き基板における遮光膜の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、実施例5の組成物を用いて形成した遮光膜では、表面に無機粒子が空気界面側に偏在し、黒色色材を実質的に含有しない上側層を形成していることが確認された。
また、実施例1の組成物を用いて形成した遮光膜では、遮光膜の空気界面側に偏在した無機粒子が凝集していることが確認された。
得られた遮光膜(硬化膜)付き基板を以下の試験に使用した。
遮光膜付き基板に対し、日本分光株式会社製分光器V7200(商品名)VARユニットを用いて角度5°の入射角で波長940nmの光を入射し、得られた反射率スペクトルより、赤外線に対する反射率(低反射性)を下記基準で評価した。
「A」反射率が、3.0%以下
「B」反射率が、3.0%超、3.6%以下
「C」反射率が、3.6%超、9.0%以下
「D」反射率が、9.0%超
試験に用いる光を波長940nmの光から波長550nmの光に変更した以外は赤外線に対する低反射性の評価をしたのと同様にして、可視光に対する反射率(低反射性)を下記基準で評価した。
「A」反射率が、1.6%以下
「B」反射率が、1.6%超、2.2%以下
「C」反射率が、2.2%超、3.0%以下
「D」反射率が、3.0%超
遮光膜付き基板について、分光光度計U-4100(日立ハイテクノロジーズ製)、積分球型受光ユニットにより、400~1100nmの透過率スペクトルを測定した。
最大透過率を示す波長における透過率(%)の値から次の式よりOD値を算出し、下記基準に照らして評価した。
OD=-log10(透過率/100)
「A」ODが、3.2以上
「B」ODが、3.0以上、3.2未満
「C」ODが、2.6以上、3.0未満
「D」ODが、2.6未満
各実施例の組成物の特徴及び評価の結果を下記表に示す。
表4、5中、「黒色色材」欄における「種類」欄は、組成物が含有する黒色色材の種類を示す。「TB」はチタンブラックを意味し、「CB」はカーボンブラックを意味し、「有機」は有機顔料を意味し、「染料」は黒色染料を意味し、「ZrB」は窒化ジルコニウム(窒化ジルコニウムは、被覆の有無、及び、被覆の種類を問わず、いずれも「ZrB」と記載した)を意味する。
「黒色色材」欄における「量」欄は、組成物が含有する黒色色材の、組成物中の全固形分に対する含有量(質量%)を示す。
「樹脂」欄、「重合開始剤」欄、「重合性化合物」欄は、それぞれ、使用した、樹脂、重合開始剤、重合性化合物の種類を示す。
「樹脂SP値」欄は、組成物が含有する樹脂のSP値(MPa0.5)を示す。樹脂のSP値は明細書中で説明した通りの計算で求めた値である。
「ΔSP」欄は、組成物中の、樹脂のSP値から、無機粒子のSP値を引いた差の値(MPa0.5)を示す。
「算術平均粗さ」欄は、実施例で作製した遮光膜の表面の算術平均粗さ(nm)を示す。
中でも、被覆層が、フッ素原子を含有する場合、被覆層は、(好ましくは被覆層の表面に存在する置換基として)、炭素数が9以上でありフッ素原子以外の置換基を含有しないフルオロアルキル基を有することが好ましく、炭素数が9以上でありフッ素原子以外の置換基を含有しない直鎖状であるフルオロアルキル基を有することがより好ましいことが確認された(実施例7、31~34の比較等参照)。
被覆層がケイ素原子を含有する場合、被覆層は、(好ましくは被覆層の表面に存在する置換基として)、saが5以上である一般式(2)で表される基を有することが好ましいことが確認された(実施例6、35の比較等参照)。
また、両末端にメタクリロイル基を有するシロキサン化合物、両末端にメタクリロイル基を有する非シロキサン化合物、又は、KP-983を使用して被覆層が形成されていることも好ましいことが確認された(実施例36~40の結果等参照)。
中でも、被覆層が炭素数9以上であり直鎖状である無置換のフルオロアルキル基を有する場合、両末端にメタクリロイル基を有するシロキサン化合物を使用して被覆層が形成されている場合、両末端にメタクリロイル基を有する非シロキサン化合物を使用して被覆層が形成されている場合、又は、KP-983を使用して形成されている場合、無機粒子が中空粒子以外であっても特に優れた結果を示しており、更に優れた本発明の効果を実現できることが確認された。
実施例1において、重合性化合物D-1の1/2量(質量基準)を重合性化合物D-3に置き換えて同様に評価した結果、実施例1と同様の結果であった。実施例1において、重合禁止剤を添加せずに同様に評価した結果、実施例1と同様の結果であった。
重合性化合物D-1の1/2量を重合性化合物D-3に置き換えて同様に評価した結果、実施例1と同様の結果であった。
実施例1において、重合禁止剤を添加せずに同様に評価した結果、実施例1と同様の結果であった。
実施例1において、組成物中に存在する樹脂B-1全量(色材分散液用樹脂として含有する樹脂B-1も含む量)のうちの1/4量(質量基準)を樹脂B-2に置き換えて同様に評価した結果、実施例1と同様の結果であった。なお、実施例1の組成物が含有する無機粒子との関係において、樹脂B-1は特定樹脂に該当し、樹脂B-2はその他の樹脂に該当する。
12・・・光源
14・・・遮光部
16・・・レンズ
20・・・基体
22・・・遮光膜
23・・・開口部
30・・・配光パターン
30a・・・エッジ
31・・・領域
32・・・配光パターン
32a・・・エッジ
33・・・切欠部
100・・・固体撮像装置
101・・・固体撮像素子
102・・・撮像部
103・・・カバーガラス
104・・・スペーサー
105・・・積層基板
106・・・チップ基板
107・・・回路基板
108・・・電極パッド
109・・・外部接続端子
110・・・貫通電極
111・・・レンズ層
112・・・レンズ材
113・・・支持体
114、115・・・遮光膜
201・・・受光素子
202・・・カラーフィルタ
203・・・マイクロレンズ
204・・・基板
205b・・・青色画素
205r・・・赤色画素
205g・・・緑色画素
205bm・・・ブラックマトリクス
206・・・pウェル層
207・・・読み出しゲート部
208・・・垂直転送路
209・・・素子分離領域
210・・・ゲート絶縁膜
211・・・垂直転送電極
212・・・遮光膜
213、214・・・絶縁膜
215・・・平坦化膜
300・・・赤外線センサ
310・・・固体撮像素子
311・・・赤外線吸収フィルタ
312・・・カラーフィルタ
313・・・赤外線透過フィルタ
314・・・樹脂膜
315・・・マイクロレンズ
316・・・平坦化膜
Claims (26)
- 黒色色材、無機粒子、及び、樹脂を含有する組成物であって、
前記樹脂が、特定樹脂を含有し、
前記無機粒子が、無機物質と、前記無機物質を被覆する被覆層とを含有する修飾無機物質であり、
前記特定樹脂のSP値と、前記無機粒子のSP値との差の値が1.5MPa0.5以上であり、
前記被覆層が、以下に示す要件のいずれか1つ以上を満たす、組成物。
要件1:前記被覆層が、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する重合体を含有する被覆層である。
一般式(1)中、R S1 は、置換基を含有してもよいアルキル基、又は、水素原子を表す。L S1 は、単結合又は2価の連結基を表す。S S1 は、置換基を表す。
要件2:前記被覆層が、前記無機物質にエチレン性不飽和基を含有するシランカップリング剤を反応させて前記無機物質の表面上に形成されたエチレン性不飽和基に、エチレン性不飽和基の数が2以上であるエチレン性不飽和基含有モノマーのエチレン性不飽和基を重合させて形成された被覆層である。
要件3:前記被覆層の表面に存在する置換基として、一般式(SS1)で表される基、フルオロアルキル基、及び、フルオロアリール基のいずれか1種以上を含有する被覆層である。
*-L S2 -O-SiR S2 3 (SS1)
一般式(SS1)中、*は結合位置を表す。R S2 は、置換基を含有してもよい炭素数1~20の炭化水素基を表す。L S2 は、単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するR S2 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。 - 前記無機粒子のSP値が20MPa0.5未満である、請求項1に記載の組成物。
- 前記無機粒子が中空粒子である、請求項1又は2に記載の組成物。
- 前記無機粒子がシリカ粒子である、請求項1~3のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記無機粒子の粒径が、1~100nmである、請求項1~4のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記特定樹脂のSP値が20MPa0.5以上である、請求項1~5のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記特定樹脂が、酸基を含有する、請求項1~6のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記特定樹脂が、エチレン性不飽和基を含有する、請求項1~7のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記黒色色材がV、Zr、及び、Nbからなる群から選択される1種以上の金属の、窒化物又は酸窒化物を含有する黒色顔料、カーボンブラック、黒色染料、及び、有機顔料である黒色顔料からなる群から選択される1種以上である、請求項1~8のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記黒色色材がTi、V、Zr、及び、Nbからなる群から選択される1種以上の金属の、窒化物又は酸窒化物を含有する、請求項1~8のいずれか1項に記載の組成物。
- 更に、重合開始剤を含有し、
前記重合開始剤がオキシム化合物を含有し、
前記オキシム化合物の含有量が、前記重合開始剤の全質量に対して40~100質量%である、請求項1~10のいずれか1項に記載の組成物。 - 前記差の値が2.3MPa0.5以上である、請求項1~11のいずれか1項に記載の組成物。
- 請求項1~12のいずれか1項に記載の組成物を用いて形成された、遮光膜。
- 黒色色材、及び、無機粒子を含有する遮光膜であって、
前記無機粒子の粒径が、1~100nmであり、
前記無機粒子が、無機物質と、前記無機物質を被覆する被覆層とを含有する修飾無機物質であり、
表面の算術平均粗さが18nm以上であり、
前記被覆層が、以下に示す要件のいずれか1つ以上を満たす、遮光膜。
要件1:前記被覆層が、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する重合体を含有する被覆層である。
一般式(1)中、R S1 は、置換基を含有してもよいアルキル基、又は、水素原子を表す。L S1 は、単結合又は2価の連結基を表す。S S1 は、置換基を表す。
要件2:前記被覆層が、前記無機物質にエチレン性不飽和基を含有するシランカップリング剤を反応させて前記無機物質の表面上に形成されたエチレン性不飽和基に、エチレン性不飽和基の数が2以上であるエチレン性不飽和基含有モノマーのエチレン性不飽和基を重合させて形成された被覆層である。
要件3:前記被覆層の表面に存在する置換基として、一般式(SS1)で表される基、フルオロアルキル基、及び、フルオロアリール基のいずれか1種以上を含有する被覆層である。
*-L S2 -O-SiR S2 3 (SS1)
一般式(SS1)中、*は結合位置を表す。R S2 は、置換基を含有してもよい炭素数1~20の炭化水素基を表す。L S2 は、単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するR S2 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。 - 前記無機粒子がシリカ粒子である、請求項14に記載の遮光膜。
- 前記黒色色材がV、Zr、及び、Nbからなる群から選択される1種以上の金属の、窒化物又は酸窒化物を含有する黒色顔料、カーボンブラック、黒色染料、及び、有機顔料である黒色顔料からなる群から選択される1種以上である、請求項14又は15に記載の遮光膜。
- 前記黒色色材がTi、V、Zr、及び、Nbからなる群から選択される1種以上の金属の、窒化物及び酸窒化物の少なくとも一方を含有する、請求項14又は15に記載の遮光膜。
- 前記無機粒子が、空気界面側に偏在している、請求項13~17のいずれか1項に記載の遮光膜。
- 前記無機粒子同士が、凝集している、請求項18に記載の遮光膜。
- 膜厚が、0.4~2.5μmである、請求項13~19のいずれか1項に記載の遮光膜。
- 表面の算術平均粗さが、30~80nmである、請求項13~20のいずれか1項に記載の遮光膜。
- 請求項13~21のいずれか1項に記載の遮光膜を含有する、カラーフィルタ。
- 請求項13~21のいずれか1項に記載の遮光膜を含有する、光学素子。
- 請求項13~21のいずれか1項に記載の遮光膜を含有する、センサ。
- 請求項13~21のいずれか1項に記載の遮光膜を含有する、固体撮像素子。
- 車両用灯具のヘッドライトユニットであって、
光源と、
前記光源から出射された光の少なくとも一部を遮光する遮光部とを有し、
前記遮光部が、請求項13~21のいずれか1項に記載の遮光膜を含有する、ヘッドライトユニット。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019068433 | 2019-03-29 | ||
JP2019068433 | 2019-03-29 | ||
JP2020005314 | 2020-01-16 | ||
JP2020005314 | 2020-01-16 | ||
PCT/JP2020/010156 WO2020203080A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-03-10 | 組成物、遮光膜、カラーフィルタ、光学素子、センサ、固体撮像素子、ヘッドライトユニット |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020203080A1 JPWO2020203080A1 (ja) | 2020-10-08 |
JP7231713B2 true JP7231713B2 (ja) | 2023-03-01 |
Family
ID=72668585
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021511315A Active JP7231713B2 (ja) | 2019-03-29 | 2020-03-10 | 組成物、遮光膜、カラーフィルタ、光学素子、センサ、固体撮像素子、ヘッドライトユニット |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220018992A1 (ja) |
EP (1) | EP3951447A4 (ja) |
JP (1) | JP7231713B2 (ja) |
KR (1) | KR20210134712A (ja) |
CN (1) | CN113661417B (ja) |
TW (1) | TWI830892B (ja) |
WO (1) | WO2020203080A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7308083B2 (ja) * | 2019-06-26 | 2023-07-13 | 株式会社小糸製作所 | 車両用灯具 |
US20220102409A1 (en) * | 2020-09-25 | 2022-03-31 | Visera Technologies Company Limited | Semiconductor device |
EP4318057A1 (en) * | 2021-03-29 | 2024-02-07 | FUJIFILM Corporation | Black photosensitive composition, manufacturing method of black photosensitive composition, cured film, color filter, light-shielding film, optical element, solid-state image capturing element, and headlight unit |
US11913634B2 (en) * | 2021-05-05 | 2024-02-27 | Wangs Alliance Corporation | Enhanced lighting |
JP2023047930A (ja) * | 2021-09-27 | 2023-04-06 | 三菱マテリアル株式会社 | 被覆窒化ジルコニウム粒子および黒色紫外線硬化型有機組成物 |
WO2023210489A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 東レ株式会社 | 黒色樹脂組成物、ブラックマトリックス基板および表示装置 |
WO2024166653A1 (ja) * | 2023-02-08 | 2024-08-15 | 株式会社カネカ | 光学基板及び固体撮像素子パッケージ |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002285007A (ja) | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 黒色樹脂組成物、黒色被膜、ブラックマトリックス基板および黒色樹脂組成物の製造方法 |
JP2007507847A (ja) | 2003-10-03 | 2007-03-29 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | ビーム色度の改善された自動車ヘッドランプ |
US20140353557A1 (en) | 2013-05-31 | 2014-12-04 | Cheil Industries Inc. | Photosensitive Resin Composition, Black Spacer Prepared by Using the Composition, and Color Filter Having the Black Spacer |
WO2017150069A1 (ja) | 2016-02-29 | 2017-09-08 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、樹脂膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像装置、及び、画像表示装置 |
JP2018519641A (ja) | 2015-06-30 | 2018-07-19 | ツェットカーヴェー グループ ゲーエムベーハー | 車両投光器用の発光モジュール |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19520964A1 (de) * | 1995-06-08 | 1996-12-12 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Beschichtete anorganische Pigmente, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
JP2000089026A (ja) * | 1998-07-13 | 2000-03-31 | Toray Ind Inc | カラ―フィルタおよびそれを用いたカラ―液晶表示装置 |
AU785282B2 (en) * | 2001-06-20 | 2006-12-21 | Rohm And Haas Company | Coating with improved hiding, compositions prepared therewith, and processes for the preparation thereof |
JP4284908B2 (ja) * | 2001-12-25 | 2009-06-24 | ソニー株式会社 | Mos型固体撮像装置およびその製造方法 |
WO2006070795A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-06 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | 黒色系酸窒化チタン |
CN102286218A (zh) * | 2006-09-04 | 2011-12-21 | Jsr株式会社 | 颜料树脂组合物、喷墨方式滤色器用树脂组合物、滤色器以及液晶显示装置 |
JP5136139B2 (ja) * | 2007-03-20 | 2013-02-06 | 東レ株式会社 | 樹脂ブラックマトリクス用黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス、カラーフィルターおよび液晶表示装置 |
JP5340198B2 (ja) * | 2009-02-26 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物 |
JP5934463B2 (ja) * | 2009-07-07 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 遮光膜用着色組成物、遮光膜及び遮光パターンの形成方法、並びに固体撮像素子及びその製造方法 |
TWI516450B (zh) * | 2009-10-19 | 2016-01-11 | 富士軟片股份有限公司 | 鈦黑分散物、感光性樹脂組成物、晶圓級透鏡、遮光膜及其製造方法、以及固態攝像元件 |
JP2011225836A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-10 | Rohm & Haas Co | 不透明化粒子およびその粒子から形成される組成物 |
KR101800344B1 (ko) * | 2010-08-26 | 2017-11-22 | 스미토모 오사카 세멘토 가부시키가이샤 | 흑색막, 흑색막이 있는 기재 및 화상 표시 장치, 및 흑색 수지 조성물 및 흑색 재료 분산액 |
KR101867851B1 (ko) * | 2010-12-28 | 2018-06-15 | 후지필름 가부시키가이샤 | 티타늄블랙 분산 조성물, 그것을 함유하는 흑색 감방사선성 조성물, 흑색 경화막, 고체 촬상 소자, 및 흑색 경화막의 제조 방법 |
JP6027775B2 (ja) * | 2012-05-31 | 2016-11-16 | 京セラオプテック株式会社 | 遮光塗料、遮光膜、該遮光膜を有する樹脂レンズ、および該樹脂レンズの製造方法 |
CN106459238B (zh) * | 2014-05-27 | 2018-11-13 | 富士胶片株式会社 | 遮光性组合物 |
TWI686670B (zh) * | 2015-03-30 | 2020-03-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 著色感光性組成物、硬化膜、圖案形成方法、帶遮光膜的紅外線截止濾光片、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外感測器 |
WO2017056803A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線カットフィルタ、近赤外線カットフィルタの製造方法、および固体撮像素子 |
JP6745869B2 (ja) * | 2016-02-29 | 2020-08-26 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、組成物の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子および画像表示装置 |
CN109073799B (zh) * | 2016-03-31 | 2021-03-09 | 富士胶片株式会社 | 组合物、固化膜、滤色器、遮光膜、固体摄像元件及图像显示装置 |
JP6777745B2 (ja) * | 2016-09-12 | 2020-10-28 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜の製造方法、近赤外線カットフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法および赤外線センサの製造方法 |
CA3111745C (en) * | 2016-12-21 | 2023-04-04 | Viavi Solutions Inc. | Particles having a vapor deposited colorant |
JP6845469B2 (ja) | 2017-02-27 | 2021-03-17 | 三菱ケミカル株式会社 | 画像表示装置用着色硬化膜、画像表示装置用感光性着色組成物及び画像表示装置 |
TW202132362A (zh) * | 2020-02-14 | 2021-09-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 感光性組成物、像素之形成方法、濾光器之製造方法、固體攝像元件之製造方法及圖像顯示裝置之製造方法 |
-
2020
- 2020-03-10 JP JP2021511315A patent/JP7231713B2/ja active Active
- 2020-03-10 CN CN202080025128.7A patent/CN113661417B/zh active Active
- 2020-03-10 EP EP20782063.0A patent/EP3951447A4/en active Pending
- 2020-03-10 WO PCT/JP2020/010156 patent/WO2020203080A1/ja unknown
- 2020-03-10 KR KR1020217031231A patent/KR20210134712A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-03-26 TW TW109110302A patent/TWI830892B/zh active
-
2021
- 2021-09-26 US US17/485,490 patent/US20220018992A1/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002285007A (ja) | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 黒色樹脂組成物、黒色被膜、ブラックマトリックス基板および黒色樹脂組成物の製造方法 |
JP2007507847A (ja) | 2003-10-03 | 2007-03-29 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | ビーム色度の改善された自動車ヘッドランプ |
US20140353557A1 (en) | 2013-05-31 | 2014-12-04 | Cheil Industries Inc. | Photosensitive Resin Composition, Black Spacer Prepared by Using the Composition, and Color Filter Having the Black Spacer |
JP2018519641A (ja) | 2015-06-30 | 2018-07-19 | ツェットカーヴェー グループ ゲーエムベーハー | 車両投光器用の発光モジュール |
WO2017150069A1 (ja) | 2016-02-29 | 2017-09-08 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、樹脂膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像装置、及び、画像表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3951447A4 (en) | 2022-07-06 |
WO2020203080A1 (ja) | 2020-10-08 |
CN113661417A (zh) | 2021-11-16 |
TWI830892B (zh) | 2024-02-01 |
US20220018992A1 (en) | 2022-01-20 |
CN113661417B (zh) | 2023-09-26 |
JPWO2020203080A1 (ja) | 2020-10-08 |
EP3951447A1 (en) | 2022-02-09 |
KR20210134712A (ko) | 2021-11-10 |
TW202041590A (zh) | 2020-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7231713B2 (ja) | 組成物、遮光膜、カラーフィルタ、光学素子、センサ、固体撮像素子、ヘッドライトユニット | |
JP7109565B2 (ja) | 遮光性組成物、硬化膜、遮光膜、固体撮像素子 | |
TWI798453B (zh) | 遮光性樹脂組成物、硬化膜、濾色器、遮光膜、固體攝像元件、圖像顯示裝置 | |
TWI803686B (zh) | 遮光性組成物、硬化膜、濾色器、遮光膜、光學元件、固體攝像元件、頭燈單元 | |
JP7245843B2 (ja) | 遮光膜、遮光膜の製造方法、光学素子、固体撮像素子、ヘッドライトユニット | |
JP7373000B2 (ja) | 金属窒化物含有粒子、分散組成物、硬化性組成物、硬化膜、及びそれらの製造方法、並びにカラーフィルタ、固体撮像素子、固体撮像装置、赤外線センサ | |
US20220010121A1 (en) | Composition, cured film, color filter, light shielding film, optical element, solid-state imaging element, headlight unit, modified silica particles, and method for producing modified silica particles | |
JP7288515B2 (ja) | 分散液、組成物、硬化膜、カラーフィルタ、光学素子、固体撮像素子及びヘッドライトユニット | |
KR102379844B1 (ko) | 경화막의 제조 방법, 고체 촬상 소자의 제조 방법, 화상 표시 장치의 제조 방법 | |
TW201938597A (zh) | 硬化膜的製造方法、固體攝像元件的製造方法 | |
JP7301143B2 (ja) | 感光性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、光学素子、固体撮像素子、赤外線センサ、ヘッドライトユニット | |
WO2020054261A1 (ja) | 遮光性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置 | |
TWI851808B (zh) | 感光性組成物、硬化膜、濾色器、遮光膜、光學元件、固體攝像元件、紅外線感測器、頭燈單元 | |
TW202422228A (zh) | 遮光膜、遮光膜之製造方法、光學元件、固體攝像元件、頭燈單元 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210922 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210922 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221101 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230207 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230216 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7231713 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |