JP7220147B2 - 垂直基板ホルダ - Google Patents
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Description
物品であって、
コーティングデバイスを含有する薄膜堆積システムにおいて略垂直な形態に基板を保持するためのフレームであって、当該フレームが当該基板よりも寸法に関して大きく、当該基板が少なくとも正面、背面、および少なくとも一つの縁を有し、
当該フレームが、
a)平坦なフレーム部およびチャネル部を含み、前記物品が前記薄膜堆積システム内にあるとき、当該平坦なフレーム部が前記コーティングデバイスと前記基板の少なくとも一部の間に配置され、かつ当該チャネル部が前記少なくとも一つの基板縁に隣接して配置され、
i.前記平坦なフレーム部が、前記正面上で前記基板と接触する保護スペーサを含み、当該保護スペーサが、当該基板の表面を引っ掻くことがない材料を含む、
フレーム、および
二つ以上のクランプであって、
a)前記背面上で前記基板と接触するバンパであって、当該基板の表面を引っ掻くことがない材料を含むバンパ、
b)前記バンパに前記チャネル部を直接的または間接的に接続する剛性カンチレバー、および
c)前記基板上に25N未満の反力を提供する加力テンショナ機構
を含む二つ以上のクランプ
を含み、
基板が前記フレーム内にあるとき、当該基板が、0°よりも大きく約10°までの前方への傾きの角度φに保持され、0℃から400℃までの範囲にわたって1°/分から40°/分までの熱変化を受ける間に100MPa未満の最大主応力を経験するように設計された物品。
前記バンパおよび保護スペーサが有機ポリマーから作製される、実施形態1の物品。
前記最大主応力が80MPa以下である、実施形態1または2の物品。
前記反力が15N未満である、実施形態1から3のいずれかの物品。
前記基板が、0°よりも大きく約3°までの前方の傾きの角度φに保持される、実施形態1から4のいずれかの物品。
前記二つ以上のクランプが、それぞれ前記基板面に直交する軸上で回転可能である、実施形態1から5のいずれかの物品。
前記基板の前記背面に直交し、前記バンパが当該基板に接触する一点を通過する仮想的な線が、前記保護スペーサも通過することになる、実施形態1から6のいずれかの物品。
物品であって、
コーティングデバイスを含有する薄膜堆積システムにおいて略垂直な形態で基板を保持するためのフレームであって、当該フレームが当該基板よりも寸法に関して大きく、当該基板が少なくとも正面、背面、および少なくとも一つの縁を有し、
当該フレームが、
a)平坦なフレーム部を含み、前記物品が前記薄膜堆積システム内にあるとき、当該平坦なフレーム部が前記コーティングデバイスと前記基板の少なくとも一部の間に配置され、
i)前記平坦なフレーム部が、前記正面上で前記基板と接触する保護スペーサを含み、当該保護スペーサが、当該基板の表面を引っ掻くことがない材料を含む、
フレーム、および
二つ以上のクランプであって、
a)前記フレームにカンチレバーを直接的または間接的に接続するカンチレバースペーサ、
b)前記背面上で前記基板に接触する任意のバンパであって、当該基板の表面を引っ掻くことがない材料を含むバンパ、
c)前記バンパに前記カンチレバースペーサを直接的または間接的に接続する剛性カンチレバーであって、前記任意のバンパがないとき、前記背面上で前記基板と接触し、かつ当該基板の表面を引っ掻くことがない材料を含む剛性カンチレバー、および
d)前記基板上に25N未満の反力を提供する加力テンショナ機構
を含む二つ以上のクランプ
を含み、
基板が前記フレーム内にあるとき、当該基板が、0°よりも大きく約10°までの前方への傾きの角度φに保持され、0℃から300℃までの範囲にわたって5°/分から40°/分までの熱変化を受ける間に100MPa未満の最大主応力を経験するように設計された物品。
前記バンパおよび保護スペーサが有機ポリマーから作製される、実施形態8の物品。
前記最大主応力が80MPa以下である、実施形態8または9の物品。
前記反力が15N未満である、実施形態8から10のいずれかの物品。
前記基板が、0°よりも大きく約3°までの前方の傾きの角度φに保持される、実施形態8から11のいずれかの物品。
前記二つ以上のクランプが、それぞれ前記基板面に直交する軸上で回転可能である、実施形態8から12のいずれかの物品。
前記基板の前記背面に直交し、前記バンパが当該基板に接触する一点を通過する仮想的な線が、前記保護スペーサも通過することになる、実施形態8から13のいずれかの物品。
物品であって、
コーティングデバイスを含有する薄膜堆積システムにおいて略垂直な形態に基板を保持するためのフレームであって、当該フレームが当該基板よりも寸法に関して大きく、当該基板が少なくとも正面、背面、および少なくとも一つの縁を有し、
当該フレームが、
a)平坦なフレーム部を含み、前記物品が前記薄膜堆積システム内にあるとき、当該平坦なフレーム部が前記コーティングデバイスと前記基板の少なくとも一部の間に配置され、
i)前記平坦なフレーム部が、前記正面上で前記基板と接触する保護スペーサを含み、当該保護スペーサが、当該基板の表面を引っ掻くことがない材料を含む、フレーム、および
二つ以上のクランプであって、
a)前記背面上で前記基板に接触する任意のバンパ、
b)カンチレバースペーサを組み込み、前記バンパに前記フレームを直接的または間接的に接続する有機ポリマーカンチレバーであって、前記任意のバンパがないとき、当該剛性カンチレバーは前記背面上で前記基板と接触し、かつ当該基板の表面を引っ掻くことがない材料を含む有機ポリマーカンチレバー、および
c)前記基板上に25N未満の反力を提供する加力テンショナ機構
を含む二つ以上のクランプ
を含み、
基板が前記フレーム内にあるとき、当該基板が、0°よりも大きく約10°までの前方への傾きの角度φに保持され、0℃から300℃までの範囲にわたって5°/分から40°/分までの熱変化を受ける間に100MPa未満の最大主応力を経験するように設計された物品。
前記バンパおよび保護スペーサが有機ポリマーから作製される、実施形態15の物品。
前記最大主応力が80MPa以下である、実施形態15または16の物品。
前記反力が15N未満である、実施形態15から17のいずれかの物品。
前記基板が、0°よりも大きく約3°までの前方の傾きの角度φに保持される、実施形態15から18のいずれかの物品。
前記二つ以上のクランプが、それぞれ前記基板面に直交する軸上で回転可能である、実施形態15から19のいずれかの物品。
前記基板の前記背面に直交し、前記バンパが当該基板に接触する一点を通過する仮想的な線が、前記保護スペーサも通過することになる、実施形態15から20のいずれかの物品。
100B クランプ機構
110 頂部
120 フレーム
121 加力テンショナ
121A チャネル部(リブ部、加力テンショナ)
122 剛性カンチレバー、クランプ機構
123、143 バンパ
124、144 保護スペーサ、高温プラスチックダウェル
170 基板
226 シム(スペーサ)
227 シャフト
327 締付具(ボルト)
410 チャネル溝(溝付きブロック)
Claims (7)
- 物品であって、
少なくとも正面、背面、および少なくとも一つの縁を有する基板、
平坦なフレーム部を含み、該平坦なフレーム部が前記基板の前記正面の少なくとも一部に面するよう配置されたフレームであって、該フレームが前記基板よりも寸法に関して大きく、
i)前記平坦なフレーム部が、前記正面上で前記基板と接触する保護スペーサを含み、該保護スペーサが、該基板の表面を引っ掻くことがない材料を含む、
フレーム、および
二つ以上のクランプ機構であって、
a)前記背面上で前記基板と接触するバンパであって、該基板の表面を引っ掻くことがない材料を含むバンパ、
b)前記バンパに接続する剛性カンチレバー、
c)前記基板上に25N未満の反力を提供する加力テンショナであって、前記フレーム上に設けられ、前記フレームを前記剛性カンチレバーに接続するよう構成されている、加力テンショナ、および
d)前記加力テンショナと前記剛性カンチレバーとの間に配置されたシム、
を含む二つ以上のクランプ機構
を含み、
前記加力テンショナは、ボルトが前記シムおよび前記加力テンショナに対して前記剛性カンチレバーをクランプするねじ領域を内部に有し、
基板が前記フレーム内にあるとき、該基板が、0°よりも大きく10°までの前方への傾きの角度φに保持され、0℃から400℃までの範囲にわたって1°/分から40°/分までの熱変化を受ける間に100MPa未満の最大主応力を経験するように設計された物品。 - 前記バンパおよび保護スペーサが有機ポリマーから作製される、請求項1の物品。
- 前記最大主応力が80MPa以下である、請求項1または2の物品。
- 前記反力が15N未満である、請求項1から3のいずれかの物品。
- 前記基板が、0°よりも大きく3°までの前方の傾きの角度φに保持される、請求項1から4のいずれかの物品。
- 前記二つ以上のクランプ機構が、それぞれ前記基板面に直交する軸上で回転可能である、請求項1から5のいずれかの物品。
- 前記基板の前記背面に直交し、前記バンパが該基板に接触する一点を通過する仮想的な線が、前記保護スペーサも通過することになる、請求項1から6のいずれかの物品。
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