JP7202642B2 - 荷電粒子ビーム装置、及び制御方法 - Google Patents
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Description
作業者が特定の構造が現れたことを検知するためには、低速スキャンによるノイズの低減や、高分解能なレンズモードの使用などによって、解像度の高い画像を取得する必要がある。
(1)本発明の一態様に係る荷電粒子ビーム装置は、前記試料の断面が走査型電子顕微鏡によって観察されて得られるSEM画像である加工断面画像と、予め登録された前記加工断面画像である判定基準画像との一致の程度を示す一致度が所定の値以上であるか否かを判定する画像一致度判定部と、前記画像一致度判定部の判定結果に応じて所定の処理を行う判定後処理部とを備える。
ここで解像度の高い画像を取得するには、通常の解像度の画像を取得するよりも時間がかかり、加工時間が長くなってしまう。例えば、低速スキャンでは、通常のスキャンに比べてスキャン時間がかかる。また、高分解能なレンズモードを用いた場合は、通常のレンズモードとの切り替えに時間がかかる。
上記(5)に記載の態様に係る荷電粒子ビーム装置では、特定の構造が現れている試料Sの断面に対して所定の分析を行う処理を行うことができる。
荷電粒子ビーム装置10は、試料室11と、ステージ12と、駆動機構13と、集束イオンビーム鏡筒14と、電子ビーム鏡筒15と、検出器16と、ガス供給部17と、表示装置20と、制御部21と、入力デバイス22とを備える。
駆動機構13は、ステージ12を駆動する。駆動機構13は、ステージ12に接続された状態で試料室11の内部に収容されており、制御部21から出力される制御信号に応じてステージ12を所定軸に対して変位させる。駆動機構13は、水平面に平行かつ互いに直交するX軸及びY軸と、X軸及びY軸に直交する鉛直方向のZ軸とに沿って平行にステージ12を移動させる移動機構13aを備えている。駆動機構13は、ステージ12をX軸またはY軸周りに回転させるチルト機構13bと、ステージ12をZ軸周りに回転させる回転機構13cと、を備えている。
集束イオンビーム鏡筒14は、試料室11の内部においてビーム出射部(不図示)を、照射領域内のステージ12の鉛直方向上方の位置でステージ12に臨ませるとともに、光軸を鉛直方向に平行にして、試料室11に固定されている。これによって、集束イオンビーム鏡筒14は、ステージ12に固定された試料Sなどの照射対象に鉛直方向上方から下方に向かい集束イオンビームを照射可能である。ここで、集束イオンビーム鏡筒14は、光軸を鉛直方向に対して傾斜した方向に平行にして、試料室11に固定されてもよい。
電子ビーム鏡筒15及び検出器16は、走査型電子顕微鏡30を構成する。
入力デバイス22は、荷電粒子ビーム装置10の作業者からの各種の操作を受け付ける。入力デバイス22は、一例として、作業者の入力操作に応じた信号を出力するマウス及びキーボードである。
制御部21は、一例として、PC(Personal Computer)である。
駆動機構制御部230は、駆動機構13に駆動制御信号MSを出力することによって、駆動機構13を制御する。駆動制御信号MSは、ステージ12を所定軸に対して変位させるための信号である。
画像生成部270は、検出データDに基づいて、二次荷電粒子の検出量を照射位置に対応付けた輝度信号に変換して、二次荷電粒子の検出量の2次元位置分布によって試料Sの断面の形状を示す画像データを生成する。画像データには、加工断面画像SIが含まれる。画像生成部270は、加工断面画像SIを表示装置20に表示させる。
画像登録部242は、試料Sの断面に特定の構造が現れていると登録画像判定部241が判定した加工断面画像SIを判定基準画像CIとして登録する。ここで画像登録部242は、加工断面画像SIを判定基準画像CIとして記憶部260に記憶させることにより、加工断面画像SIを登録する。
判定後処理部243は、画像一致度判定部250の判定結果に応じて所定の処理を行う。ここで所定の処理とは、一例として、試料Sの加工を終了する処理である。
ステップS30:登録画像判定部241は、画像生成部270によって生成される加工断面画像SI1を取得する。ここで加工断面画像SI1は、第1モードM1において走査型電子顕微鏡30によって試料Sの断面が観察された結果に基づくSEM画像である。
また、加工断面画像SI1とは、画像一致度判定部250が判定を行う前の期間において第1モードM1を用いて走査型電子顕微鏡30によって観察されて得られるSEM画像である。つまり、登録画像判定部241は、加工断面画像SIとして、画像一致度判定部250が判定を行う前の期間において第1モードM1を用いて走査型電子顕微鏡30によって観察されて得られるSEM画像を判定に用いる。
ステップS60:SEM制御部210は、観察モードMを第2モードM2に設定する。観察モードMが第2モードM2に設定されることにより、スキャン速度は通常の速度に設定される。
画像一致度判定部250は、画像の一致度を判定する公知のアリゴリズムを用いて判定を行う。
その後、制御部21は薄片試料作製処理を終了する。
つまり、判定基準画像CIとは、特定の構造が撮像されたSEM画像であり、判定後処理とは、所定の分析を行う処理である。
また、上述した実施形態における制御部21の一部、または全部を、LSI(Large Scale Integration)等の集積回路として実現してもよい。制御部21の各機能ブロックは個別にプロセッサ化してもよいし、一部、または全部を集積してプロセッサ化してもよい。また、集積回路化の手法はLSIに限らず専用回路、または汎用プロセッサで実現してもよい。また、半導体技術の進歩によりLSIに代替する集積回路化の技術が出現した場合、当該技術による集積回路を用いてもよい。
Claims (4)
- 試料に向けて荷電粒子ビームを照射することによって当該試料を加工する荷電粒子ビーム装置であって、
前記試料の断面が走査型電子顕微鏡によって観察されて得られるSEM画像である加工断面画像と、予め登録された前記加工断面画像である判定基準画像との一致の程度を示す一致度が所定の値以上であるか否かを判定する画像一致度判定部と、
前記画像一致度判定部の判定結果に応じて所定の処理を行う判定後処理部と、
前記画像一致度判定部が判定を行う前の期間において、前記加工断面画像に基づいて前記断面に特定の構造が現れているか否かを判定する登録画像判定部と、
前記期間において前記断面に前記特定の構造が現れていると前記登録画像判定部が判定する場合、前記加工断面画像を前記判定基準画像として登録する画像登録部と、
を備え、
前記登録画像判定部は、前記加工断面画像として、前記期間において第1モードを用いて前記走査型電子顕微鏡によって観察されて得られる前記SEM画像を判定に用い、
前記画像登録部は、前記期間において前記断面に前記特定の構造が現れていると前記登録画像判定部が判定する場合、前記第1モードよりも解像度が低い第2モードを用いて前記走査型電子顕微鏡によって当該断面が観察されて得られる前記加工断面画像を前記判定基準画像として登録し、
前記画像一致度判定部は、前記加工断面画像として、前記第2モードを用いて前記走査型電子顕微鏡によって観察されて得られる前記SEM画像を判定に用いる
荷電粒子ビーム装置。 - 前記判定基準画像とは、複数の前記加工断面画像であり、
前記画像登録部は、前記期間において前記断面に前記特定の構造が現れていると前記登録画像判定部が判定する毎に前記加工断面画像を前記判定基準画像として登録する
請求項1に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 前記判定基準画像とは、特定の構造が撮像されたSEM画像であり、
前記所定の処理とは、所定の分析を行う処理である
請求項1または請求項2に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 試料に向けて荷電粒子ビームを照射することによって当該試料を加工する荷電粒子ビーム装置における制御方法おいて、
前記試料の断面が走査型電子顕微鏡によって観察されて得られるSEM画像である加工断面画像と、予め登録された前記加工断面画像である判定基準画像との一致の程度を示す一致度が所定の値以上であるか否かを判定する画像一致度判定過程と、
前記画像一致度判定過程の判定結果に応じて所定の処理を行う判定後処理過程と、
前記画像一致度判定過程が判定を行う前の期間において、前記加工断面画像に基づいて前記断面に特定の構造が現れているか否かを判定する登録画像判定過程と、
前記期間において前記断面に前記特定の構造が現れていると前記登録画像判定過程が判定する場合、前記加工断面画像を前記判定基準画像として登録する画像登録過程と、
を有し、
前記登録画像判定過程は、前記加工断面画像として、前記期間において第1モードを用いて前記走査型電子顕微鏡によって観察されて得られる前記SEM画像を判定に用い、
前記画像登録過程は、前記期間において前記断面に前記特定の構造が現れていると前記登録画像判定過程が判定する場合、前記第1モードよりも解像度が低い第2モードを用いて前記走査型電子顕微鏡によって当該断面が観察されて得られる前記加工断面画像を前記判定基準画像として登録し、
前記画像一致度判定過程は、前記加工断面画像として、前記第2モードを用いて前記走査型電子顕微鏡によって観察されて得られる前記SEM画像を判定に用いる
制御方法。
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