JP7190984B2 - 光重合可能な物質のステレオリソグラフィ固化による成形本体の層ごとの構築 - Google Patents
光重合可能な物質のステレオリソグラフィ固化による成形本体の層ごとの構築 Download PDFInfo
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- 238000010276 construction Methods 0.000 title claims description 13
- 238000007711 solidification Methods 0.000 title claims description 9
- 230000008023 solidification Effects 0.000 title claims description 9
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 claims description 60
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 21
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 20
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 claims 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000013499 data model Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001550 time effect Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/20—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/40—Picture signal circuits
- H04N1/401—Compensating positionally unequal response of the pick-up or reproducing head
- H04N1/4015—Compensating positionally unequal response of the pick-up or reproducing head of the reproducing head
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- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
- B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
- B29C64/135—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
- B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/20—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
- B29C64/264—Arrangements for irradiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/20—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
- B29C64/264—Arrangements for irradiation
- B29C64/277—Arrangements for irradiation using multiple radiation means, e.g. micromirrors or multiple light-emitting diodes [LED]
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/20—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
- B29C64/264—Arrangements for irradiation
- B29C64/277—Arrangements for irradiation using multiple radiation means, e.g. micromirrors or multiple light-emitting diodes [LED]
- B29C64/282—Arrangements for irradiation using multiple radiation means, e.g. micromirrors or multiple light-emitting diodes [LED] of the same type, e.g. using different energy levels
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/20—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
- B29C64/264—Arrangements for irradiation
- B29C64/286—Optical filters, e.g. masks
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/30—Auxiliary operations or equipment
- B29C64/386—Data acquisition or data processing for additive manufacturing
- B29C64/393—Data acquisition or data processing for additive manufacturing for controlling or regulating additive manufacturing processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y30/00—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B33Y50/00—Data acquisition or data processing for additive manufacturing
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
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Description
制御ユニットによって規定される輪郭を有する露光領域を露光するための露光ユニットであって、露光ユニットは、所定の露光フィールドを集合的に覆う複数の画素を露光するために構成され、制御ユニットの制御下で、それぞれ規定された層輪郭を有する露光領域を一緒に規定する画素を選択的に露光することによって、露光フィールド内の露光領域の露光を行うように配置され、露光ユニットは、ゼロと最大強度との間で調節可能な露光強度で各画素のための露光光を発生させ得、露光光は、それぞれの画素に露光ユニットの結像オプティクスによって投射され、制御ユニットは、露光されるべき層の露光領域を規定するデータを使用して、固化されるべき層のそれぞれの露光領域を一緒に規定する画素を選択的に活性にするために露光ユニットを制御し、かつ所定の均質化係数を利用することによって露光ユニットを制御するために配置され、各画素は、均質化係数に関連付けられ、この均質化係数は、露光光を発生させるために、それぞれの画素に関連付けられた均質化係数で乗算された均一な基本強度によって決定される露光強度が各画素のために使用されると、露光の部位において実際に有効な強度が、露光フィールド内の位置とは無関係に各画素に対して等しいような様式で予め決定されており、
制御ユニットは、露光領域の各露光の前に、それぞれの露光領域における最大露光強度に対する露光ユニットの最大強度の比率として規定される明度調整係数を決定し、それぞれの露光領域の露光のために明度調整係数で乗算された露光強度を使用するためにさらに配置されることを特徴とする。
本発明は、以下の項目をさらに提供する。
(項目1)
連続層における光重合可能な物質のステレオリソグラフィ固化による成形本体の層ごとの構築のための方法であって、前記層ごとの構築は、各層のために予め規定された層輪郭を有する露光領域内での露光のために露光ユニットを利用し、
前記露光ユニットは、所定の露光フィールドにおいて複数の画素を露光するために構成され、前記露光ユニットは、選択的に画素を露光するように制御ユニットによって制御されることによって露光を行うように構成され、前記画素は、各それぞれの層のための前記予め規定された層輪郭を有する前記露光領域を集合的に規定し、
前記露光ユニットは、ゼロ~最大強度の間で調節可能な露光強度で各画素のための露光光を発生させるように前記制御ユニットによって制御可能であるように構成され、前記露光光は、関連付けられた画素に結像オプティクスによって投射され、
前記制御ユニットは、前記露光ユニットを制御する場合、先だって決定された均質化係数を使用し、
各画素は、先だって決定される均質化係数に関連付けられ、それによって、露光光を発生させるために、各それぞれの画素に関連付けられた前記均質化係数で乗算された均一な基本強度によって決定された各画素のための露光強度が使用されると、各画素のために実際にもたらされる強度は、前記露光フィールドにおける位置とは無関係に各画素のために同じであり、
露光領域を露光する前に、前記制御ユニットは、前記露光ユニットの最大強度と現在の露光領域に存在する最大露光強度との間の比率として明度調整係数を決定し、前記露光ユニットを制御するために、それぞれの露光領域を露光するための前記明度調整係数で乗算された前記露光強度を使用することを特徴とする、方法。
(項目2)
前記明度調整係数を使用しない露光のための前記露光領域における層の固化に必要とされるであろう露光時間が、前記明度調整係数で除算され、前記除算された露光時間を使用する前記露光領域の短縮された露光が行われることを特徴とする、上記項目に記載の方法。
(項目3)
前記明度調整係数を使用しない露光領域における層の固化に必要とされるであろう前記露光ユニットの光源の強度が、前記露光領域の露光を前記光源の低減した強度で行うために、前記明度調整係数で除算することによって低減させられることを特徴とする、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目4)
露光領域の露光を行う前に、前記露光領域の画像は、所定の変換マトリクスを使用して、前記露光ユニットを制御するために利用される予歪みした画像に変換され、前記所定の変換マトリクスは、前記露光ユニットの前記結像オプティクスの結像歪みに対して逆である変換を行い、それによって、前記露光領域の画像の予歪みが、前記露光領域上への前記露光ユニットの結像によって反転され、それによってキャンセルされることを特徴とする、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目5)
上記項目のいずれか一項の方法を行うためのデバイスであって、前記デバイスは、制御ユニット(10,20,30,40)によって規定される輪郭を有する露光領域を露光するための露光ユニットを含み、
前記露光ユニットは、所定の露光フィールドを集合的に覆う複数の画素を露光するために構成され、前記制御ユニットの制御下で、それぞれ規定された層輪郭を有する露光領域を一緒に規定する画素を選択的に露光することによって、前記露光フィールド内の前記露光領域の露光を行うように配置され、前記露光ユニットは、ゼロと最大強度との間で調節可能な露光強度で各画素のための露光光を発生させることが可能であり、その露光光は、それぞれの画素に前記露光ユニットの投射オプティクス(74)によって投射され、
前記制御ユニット(10,20,30,40)は、露光されるべき層の露光領域を規定するデータを使用して、固化されるべき層のそれぞれの露光領域を一緒に規定する画素を選択的に活性にするために前記露光ユニットを制御し、所定の均質化係数を利用することによって前記露光ユニットを制御するために配置され、各画素は、均質化係数に関連付けられ、前記均質化係数は、露光光を発生させるために、それぞれの画素に関連付けられた均質化係数で乗算された均一な基本強度によって決定される露光強度が各画素のために使用されると、露光の部位における実際に有効な強度は、前記露光フィールド内の位置とは無関係に各画素に対して等しい様式で予め決定されており、
前記制御ユニット(10,20,30,40)が、露光領域の各露光の前に、前記それぞれの露光領域における最大露光強度に対する前記露光ユニットの最大強の比率として規定される明度調整係数を決定し、前記それぞれの露光領域の露光のために前記明度調整係数で乗算された前記露光強度を使用するようにさらに配置されていることを特徴とする、デバイス。
(項目6)
前記露光ユニットは、光源(62)と、前記光源の光経路に位置しかつ前記制御ユニットによって制御される空間光変調器(50)であって、前記空間光変調器は、露光素子の二次元アレイを含み、各露光素子に対して、前記露光ユニットの露光フィールドにおける画素が割り当てられている、空間光変調器と、前記光源(62)と前記空間光変調器との間の光学素子(64, 66, 68, 70, 72)、および前記空間光変調器と前記露光領域との間の投射オプティクス(74)とを含み、前記投射オプティクスは、前記空間光変調器(50)の画像を前記露光フィールド上に投射することを特徴とする、上記項目に記載のデバイス。
(項目7)
前記露光ユニットは、前記制御ユニット(10,20,30,40)および前記空間光変調器(50)を協働するように配置することによって、ゼロと最大強度との間で調節可能な露光強度で各画素のための露光光を発生させ得るように構成され、それによって、それぞれの画素に関連付けられた前記空間光変調器の前記露光素子は、前記露光領域における前記それぞれの画素を露光するために、露光強度ゼロのための強度ゼロを有する光と、前記露光ユニットの最大露光強度における最大強度を有する光とを前記投射オプティクスに方向付けることを特徴とする、上記項目のいずれか一項に記載のデバイス。
(項目8)
前記制御ユニットは、前記明度調整係数を使用しない露光領域における層の固化に必要とされるであろう露光時間を前記明度調整係数で除算するようにさらに配置され、それによって、短縮された露光が行われることを特徴とする、上記項目のいずれか一項に記載のデバイス。
(項目9)
前記制御ユニットは、露光領域における層を固化する場合、前記明度調整係数を使用しない露光に必要とされる強度を前記明度調整係数で除算することによって、前記露光ユニットの前記光源の強度を低減させるように配置され、一方で、前記露光時間は、前記明度調整係数を使用しない露光と比較して、変化しないように維持されることを特徴とする、上記項目のいずれか一項に記載のデバイス。
(項目10)
前記空間光変調器(50)は、アレイ状に配置された複数のマイクロミラーアクチュエーターを有するマイクロビラーデバイスであるか、またはアレイ状に配置された複数のディスプレイ素子を有する液晶ディスプレイであり、各マイクロミラーアクチュエーターまたは各ディスプレイ素子は、それぞれ、前記露光フィールドにおける画素に関連付けられていることを特徴とする、上記項目のいずれか一項に記載のデバイス。
(項目11)
前記光源(62)は、LED光源であり、前記LED光源の光は、断面において閉じられ、光路を形成するミラー付きの外側ガラス壁構造から構成された光ミキシングバー(64)に方向付けられ、前記LED光源(62)から発せられた光は、前記ミラー付きガラス壁構造の内側表面上での多数の反射によって均質化され、前記光ミキシングバー(64)を離れる光は、投射光学素子(72)によって、マイクロミラーデバイス上に方向付けられ、そのマイクロミラーデバイスのマイクロミラーアクチュエーターは、露光素子として、前記露光フィールドにおける前記関連付けられた画素または不活性領域に光を選択的に方向付け、それによって、後者の場合、前記マイクロミラーアクチュエーターに関連付けられた前記画素が、前記関連付けられたマイクロミラーアクチュエーターからの光を受け取らないことを特徴とする、上記項目のいずれか一項に記載のデバイス。
(項目12)
前記光ミキシングバー(64)によって発せられた光は、TIRプリズム(72)上に方向付けられ、TIRプリズム(72)は、前記LED光源(62)から発生し、前記光ミキシングバーにおいて均質化された光線を前記マイクロミラーデバイス上に方向付け、前記制御ユニットは、各マイクロミラーアクチュエーターを計時様式で周期的に傾けるために配置され、それによって、各マイクロミラーアクチュエーターが、デューティーサイクルに従ってゼロと最大露光強度との間の露光強度で光を伝えることを特徴とする、上記項目のいずれか一項に記載のデバイス。
(項目13)
前記光ミキシングバー(64)と前記TIRプリズム(72)との間において、1つ以上の集光レンズ、開口部(68)および1つ以上の焦点レンズ(70)が、この順序で位置し、前記露光領域に投射されるべき光は、前記TIRプリズム(72)上に方向付けられ、前記TIRプリズムを通過した後、前記露光フィールド上に前記マイクロミラーデバイスを投射する投射レンズ(74)を通過することを特徴とする、上記項目のいずれか一項に記載のデバイス。
(摘要)
本発明は、各層のためのそれぞれ予め規定された層輪郭を有する予め規定された露光領域における露光ユニットによる露光による連続層におけるステレオリソグラフィによる成形本体の層ごとの構築のための方法に関し、露光ユニットは、所定の露光フィールドにおいて複数の画素を露光するために構成され、露光ユニットは、選択的に画素を露光するように制御ユニットによって制御されることによって露光を行うように構成され、画素は、予め規定された層輪郭を有する露光領域を集合的に規定し、露光ユニットは、0と最大強度との間の硬化可能な露光強度で各画素のための露光光を発生させるように制御ユニットによって制御可能であるように構成され、露光光は、露光ユニットの結像対物レンズ(74)によって、関連付けられた画素上に投射され、露光ユニットの制御において、決定されている所定の均質化係数が使用され、それによって、露光光を発生させるために、各それぞれの画素に関連付けられた均質化係数で乗算された均一な基本強度によって決定される露光強度が各画素のために使用される場合、各画素のために実際にもたらされる強度は、上記露光フィールドにおける位置とは無関係に、各画素のために同じであり、方法は、露光領域を露光する前に、制御ユニットが、上記露光ユニットの最大強度と現在の露光領域に存在する最大露光強度との間の比率として明度調整係数を決定し、露光ユニットを制御するために、それぞれの露光領域を露光するための明度調整係数で乗算された露光強度を使用することを特徴とする。
Claims (13)
- 連続層における光重合可能な物質のステレオリソグラフィ固化による成形本体の層ごとの構築のための方法であって、前記層ごとの構築は、各層のために予め規定された層輪郭を有する露光領域内での露光のために露光ユニットを利用し、
前記露光ユニットは、所定の露光フィールドにおいて複数の画素を露光するために構成されており、前記露光ユニットは、複数の画素を選択的に露光するように制御ユニットによって制御されることによって露光を行うように構成されており、前記複数の画素は、各それぞれの層のための前記予め規定された層輪郭を有する前記露光領域を集合的に規定し、
前記露光ユニットは、ゼロ~最大強度の間で調節可能な露光強度で各画素のための露光光を発生させるように前記制御ユニットによって制御可能であるように構成されており、前記露光光は、関連付けられた画素に結像オプティクスによって投射され、
前記制御ユニットは、前記露光ユニットを制御する場合、先だって決定された均質化係数を使用し、
各画素は、先だって決定される均質化係数に関連付けられており、それによって、露光光を発生させるために、各それぞれの画素に関連付けられた前記均質化係数で乗算された均一な基本強度によって決定された各画素のための露光強度が使用されると、各画素のために実際にもたらされる強度は、前記露光フィールドにおける位置とは無関係に各画素に対して同じであり、
露光領域を露光する前に、前記制御ユニットは、前記露光ユニットの最大強度と現在の露光領域に存在する最大露光強度との間の比率として明度調整係数を決定し、前記露光ユニットを制御するために、それぞれの露光領域を露光するための前記明度調整係数で乗算された前記露光強度を使用することを特徴とする、方法。 - 前記明度調整係数を使用しない露光のための前記露光領域における層の固化に必要とされるであろう露光時間が、前記明度調整係数で除算され、前記除算された露光時間を使用する前記露光領域の短縮された露光が行われることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記明度調整係数を使用しない露光領域における層の固化に必要とされるであろう前記露光ユニットの光源の強度が、前記露光領域の露光を前記光源の低減した強度で行うために、前記明度調整係数で除算することによって低減させられることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 露光領域の露光を行う前に、前記露光領域の画像は、所定の変換マトリクスを使用して、前記露光ユニットを制御するために利用される予歪みした画像に変換され、前記所定の変換マトリクスは、前記露光ユニットの前記結像オプティクスの結像歪みに対して逆である変換を行い、それによって、前記露光領域の画像の予歪みが、前記露光領域上への前記露光ユニットの結像によって反転され、それによってキャンセルされることを特徴とする、請求項1~3のいずれかの請求項に記載の方法。
- 請求項1~4のいずれかに記載の方法を行うためのデバイスであって、前記デバイスは、制御ユニット(10,20,30,40)によって規定される輪郭を有する露光領域を露光するための露光ユニットを含み、
前記露光ユニットは、所定の露光フィールドを集合的に覆う複数の画素を露光するために構成されており、前記露光ユニットは、前記制御ユニットの制御下で、それぞれ規定された層輪郭を有する露光領域を一緒に規定する複数の画素を選択的に露光することによって、前記露光フィールド内の前記露光領域の露光を行うように配置されており、前記露光ユニットは、ゼロと最大強度との間で調節可能な露光強度で各画素のための露光光を発生させることが可能であり、前記露光光は、それぞれの画素に前記露光ユニットの投射オプティクス(74)によって投射され、
前記制御ユニット(10,20,30,40)は、露光されるべき層の露光領域を規定するデータを使用して、固化されるべき層のそれぞれの露光領域を一緒に規定する複数の画素を選択的に活性にするために前記露光ユニットを制御し、所定の均質化係数を利用することによって前記露光ユニットを制御するために配置されており、各画素は、均質化係数に関連付けられており、前記均質化係数は、露光光を発生させるために、それぞれの画素に関連付けられた均質化係数で乗算された均一な基本強度によって決定される露光強度が各画素のために使用されると、露光の部位における実際に有効な強度は、前記露光フィールド内の位置とは無関係に各画素に対して等しい様式で予め決定されており、
前記制御ユニット(10,20,30,40)が、露光領域の各露光の前に、前記それぞれの露光領域における最大露光強度に対する前記露光ユニットの最大強度の比率として規定される明度調整係数を決定し、前記それぞれの露光領域の露光のために前記明度調整係数で乗算された前記露光強度を使用するようにさらに配置されていることを特徴とする、デバイス。 - 前記露光ユニットは、光源(62)と、空間光変調器(50)と、前記光源(62)と前記空間光変調器との間の光学素子(64, 66, 68, 70, 72)と、前記空間光変調器と前記露光領域との間の投射オプティクス(74)とを含み、前記空間光変調器は、前記光源の光経路に位置し、かつ、前記制御ユニットによって制御され、前記空間光変調器は、露光素子の二次元アレイを含み、各露光素子に対して、前記露光ユニットの露光フィールドにおける画素が割り当てられており、前記投射オプティクスは、前記空間光変調器(50)の画像を前記露光フィールド上に投射することを特徴とする、請求項5に記載のデバイス。
- 前記露光ユニットは、前記制御ユニット(10,20,30,40)および前記空間光変調器(50)を協働するように配置することによって、ゼロと最大強度との間で調節可能な露光強度で各画素のための露光光を発生させ得るように構成されており、それによって、それぞれの画素に関連付けられた前記空間光変調器の前記露光素子は、前記露光領域における前記それぞれの画素を露光するために、露光強度ゼロのための強度ゼロを有する光と、前記露光ユニットの最大露光強度における最大強度を有する光とを前記投射オプティクスに方向付けることを特徴とする、請求項6に記載のデバイス。
- 前記空間光変調器(50)は、アレイ状に配置されている複数のマイクロミラーアクチュエーターを有するマイクロビラーデバイスであるか、または、アレイ状に配置されている複数のディスプレイ素子を有する液晶ディスプレイであり、各マイクロミラーアクチュエーターまたは各ディスプレイ素子は、それぞれ、前記露光フィールドにおける画素に関連付けられていることを特徴とする、請求項6~7のいずれかに記載のデバイス。
- 前記光源(62)は、LED光源であり、前記LED光源の光は、断面において閉じられ、光路を形成するミラー付きの外側ガラス壁構造から構成されている光ミキシングバー(64)に方向付けられ、前記LED光源(62)から発せられた光は、前記ミラー付きの外側ガラス壁構造の内側表面上での多数の反射によって均質化され、前記光ミキシングバー(64)を離れる光は、投射光学素子(72)によって、マイクロミラーアクチュエーターを有するマイクロミラーデバイス上に方向付けられ、前記マイクロミラーデバイスの前記マイクロミラーアクチュエーターは、露光素子として、前記露光フィールドにおける前記関連付けられた画素または不活性領域に光を選択的に方向付け、それによって、後者の場合、前記マイクロミラーアクチュエーターに関連付けられた前記画素が、前記関連付けられたマイクロミラーアクチュエーターからの光を受け取らないことを特徴とする、請求項6~8のいずれかに記載のデバイス。
- 前記光ミキシングバー(64)によって発せられた光は、TIRプリズム(72)上に方向付けられ、TIRプリズム(72)は、前記LED光源(62)から発生し、前記光ミキシングバーにおいて均質化された光線を前記マイクロミラーデバイス上に方向付け、前記制御ユニットは、各マイクロミラーアクチュエーターを計時様式で周期的に傾けるために配置されており、それによって、各マイクロミラーアクチュエーターが、デューティーサイクルに従ってゼロと最大露光強度との間の露光強度で光を伝えることを特徴とする、請求項9に記載のデバイス。
- 前記光ミキシングバー(64)と前記TIRプリズム(72)との間において、1つ以上の集光レンズおよび開口部(68)および1つ以上の焦点レンズ(70)が、この順序で位置し、前記露光領域に投射されるべき光は、前記TIRプリズム(72)上に方向付けられ、前記TIRプリズムを通過した後、前記露光フィールド上に前記マイクロミラーデバイスを投射する投射レンズ(74)を通過することを特徴とする、請求項10に記載のデバイス。
- 前記制御ユニットは、前記明度調整係数を使用しない露光領域における層の固化に必要とされるであろう露光時間を前記明度調整係数で除算するようにさらに配置されており、それによって、短縮された露光が行われることを特徴とする、請求項5~11のいずれかに記載のデバイス。
- 前記制御ユニットは、露光時間中に露光領域における層を固化する場合、前記明度調整係数を使用しない露光に必要とされる強度を前記明度調整係数で除算することによって、前記露光ユニットの前記光源の強度を低減させるように配置されており、一方で、前記露光時間は、前記明度調整係数を使用しない露光と比較して、変化しないように維持されることを特徴とする、請求項6~11のいずれかに記載のデバイス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP18190700.7 | 2018-08-24 | ||
EP18190700.7A EP3613560B1 (de) | 2018-08-24 | 2018-08-24 | Verfahren zum schichtweisen aufbau eines formkörpers durch stereolithographisches aushärten von photopolymerisierbarem material |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020029093A JP2020029093A (ja) | 2020-02-27 |
JP7190984B2 true JP7190984B2 (ja) | 2022-12-16 |
Family
ID=63405046
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019139542A Active JP7190984B2 (ja) | 2018-08-24 | 2019-07-30 | 光重合可能な物質のステレオリソグラフィ固化による成形本体の層ごとの構築 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11607840B2 (ja) |
EP (1) | EP3613560B1 (ja) |
JP (1) | JP7190984B2 (ja) |
CN (1) | CN110856980B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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2018
- 2018-08-24 EP EP18190700.7A patent/EP3613560B1/de active Active
-
2019
- 2019-07-30 JP JP2019139542A patent/JP7190984B2/ja active Active
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- 2019-08-19 CN CN201910763556.9A patent/CN110856980B/zh active Active
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- 2023-02-22 US US18/172,502 patent/US12053923B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3613560B1 (de) | 2020-07-22 |
US11607840B2 (en) | 2023-03-21 |
US12053923B2 (en) | 2024-08-06 |
CN110856980B (zh) | 2021-08-10 |
CN110856980A (zh) | 2020-03-03 |
US20230191692A1 (en) | 2023-06-22 |
US20200061907A1 (en) | 2020-02-27 |
EP3613560A1 (de) | 2020-02-26 |
JP2020029093A (ja) | 2020-02-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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