JP7155576B2 - Curable composition, cured product thereof, and electronic device - Google Patents

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JP7155576B2 JP2018064239A JP2018064239A JP7155576B2 JP 7155576 B2 JP7155576 B2 JP 7155576B2 JP 2018064239 A JP2018064239 A JP 2018064239A JP 2018064239 A JP2018064239 A JP 2018064239A JP 7155576 B2 JP7155576 B2 JP 7155576B2
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Description

本発明は、硬化性組成物、その硬化物、及び電子デバイスに関する。 The present invention relates to a curable composition, a cured product thereof, and an electronic device.

有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子や有機薄膜太陽電池等の有機材料からなる機能素子は、曲げることが可能で、折りたたんだり巻きつけたりして使用することができるフレキシブル性を有する機能素子として期待されている。 Functional elements made of organic materials, such as organic electroluminescence (EL) elements and organic thin-film solar cells, are expected to be flexible functional elements that can be bent, folded, and wound. .

有機EL素子は、TFT等の駆動回路が形成されたガラスやフィルム等の基板上に、陰極及び陽極によって挟持された発光層を含む薄膜積層体からなる素子部本体が形成された構造を有している。素子部の発光層又は電極といった層は、水分又は酸素により劣化しやすく、劣化によって輝度の低下が発生する。そのため、有機EL素子は、外部からの水分又は不純物の浸入を遮断するように封止されている。高品質で高信頼性の有機EL素子の実現に向けて、より高性能な封止方法や封止材料が望まれており、従来から種々技術が検討されている。 An organic EL element has a structure in which an element body composed of a thin film laminate including a light-emitting layer sandwiched between a cathode and an anode is formed on a substrate such as glass or film on which a drive circuit such as a TFT is formed. ing. A layer such as a light-emitting layer or an electrode in an element portion is easily deteriorated by moisture or oxygen, and luminance is lowered due to the deterioration. Therefore, the organic EL element is sealed so as to block entry of moisture or impurities from the outside. Toward the realization of high-quality and highly-reliable organic EL devices, there is a demand for higher performance encapsulation methods and encapsulation materials, and various techniques have been studied in the past.

有機EL素子の代表的な封止方法として、予め乾燥剤を挿入した金属製又はガラス製の封止キャップを、封止用接着剤を用いて有機EL素子の基板に固定する方法が検討されている(特許文献1)。この方法は、有機EL素子の基板外周部に接着剤を塗布し、その上に封止キャップを設置し、次いで接着剤を固化させることによって、基板と封止キャップとを固定し、有機EL素子を密閉している。しかし、ガラス製の封止キャップは、平坦なガラス基板に乾燥剤を挿入するための掘り込みを加工することによって作製されるため、高コストであり、かつデバイス全体が厚膜化する傾向がある。また、中空構造のため、パネルの大型化に伴い、ガラス基板のゆがみや撓みを生じやすく、耐衝撃性にも問題があった。更に、封止キャップによる封止は、封止キャップの内側に乾燥剤が挿入されることになるため、封止キャップ側から光を取り出すことはできない。すなわち、光源から放たれた光は素子の基板側から取り出されることになり、ボトムエミッション型の素子に制限される。ボトムエミッション型の素子の場合、基板に形成された駆動回路部による開口率の低下、及び駆動回路部によって光が一部遮られることによる取り出し効率の低下の問題がある。そのため、有機EL素子の基板の反対側から光を取り出すトップエミッション型の素子に適用可能な封止方法の開発が望まれている。 As a representative sealing method for organic EL elements, a method of fixing a metal or glass sealing cap into which a desiccant is inserted in advance to the substrate of the organic EL element using a sealing adhesive has been studied. (Patent Document 1). In this method, an adhesive is applied to the periphery of the substrate of the organic EL element, a sealing cap is placed thereon, and the adhesive is solidified to fix the substrate and the sealing cap, and the organic EL element is produced. is sealed. However, since the glass sealing cap is made by processing a groove for inserting a desiccant into a flat glass substrate, it is expensive and tends to increase the thickness of the entire device. . In addition, due to the hollow structure, the glass substrate tends to warp or bend as the size of the panel increases, and there is also a problem in impact resistance. Furthermore, sealing with a sealing cap means that a desiccant is inserted inside the sealing cap, so light cannot be extracted from the side of the sealing cap. That is, the light emitted from the light source is taken out from the substrate side of the element, which is limited to bottom emission type elements. In the case of a bottom emission type element, there are problems such as a decrease in aperture ratio due to the drive circuit formed on the substrate and a decrease in extraction efficiency due to partial light blocking by the drive circuit. Therefore, it is desired to develop a sealing method that can be applied to a top emission type device in which light is extracted from the opposite side of the substrate of the organic EL device.

トップエミッション型の素子やフレキシブル有機EL素子に適用可能な代表的な封止方法として、薄膜封止法がある。薄膜封止法は、有機EL素子の上に無機又は有機材料からなる薄膜を多層積層する方法である(特許文献2)。代表的な封止膜には無機材料として窒化シリコンが使用されており、(メタ)アクリレート樹脂やエポキシ樹脂等の有機材料と積層させて使用されることが多い。トップエミッション型素子の場合は、光を取り出す方向に封止材が存在する。一般的に、有機EL素子では電極や封止膜に用いる無機材料のように屈折率の高い部材(高屈折率部材)が多く使用されている。このため、封止膜に用いる有機材料としては、低透湿性に加え、前記高屈折率部材に接するように配置された場合であっても、該高屈折率部材との界面で生じる光の反射を抑制するため、高い屈折率を有することが求められている。 A thin film encapsulation method is a representative encapsulation method applicable to top emission type elements and flexible organic EL elements. The thin film encapsulation method is a method of laminating a multilayer of thin films made of inorganic or organic materials on an organic EL element (Patent Document 2). Silicon nitride is used as an inorganic material for a typical sealing film, and it is often used by being laminated with an organic material such as (meth)acrylate resin or epoxy resin. In the case of a top-emission type device, the encapsulant exists in the direction in which light is extracted. In general, organic EL elements often use members with a high refractive index (high refractive index members) such as inorganic materials used for electrodes and sealing films. For this reason, the organic material used for the sealing film should have low moisture permeability, and even if it is placed in contact with the high refractive index member, the light reflection occurring at the interface with the high refractive index member should be low. In order to suppress this, it is required to have a high refractive index.

これに対し、例えば、材料中に硫黄原子を導入して屈折率を向上させる手法が知られている。しかしながら、硫黄原子を有する分子は臭気が強いことも多く、チオール等は特に臭気が強いため、硫黄原子を導入すると同時に臭気を抑制する必要があった。また、材料中に硫黄原子を導入する場合、同時に膜の強度が低下する場合があるため、屈折率と膜の強度とを両立させる必要があった。 On the other hand, for example, a method of introducing sulfur atoms into the material to improve the refractive index is known. However, molecules having a sulfur atom often have a strong odor, and thiols and the like have a particularly strong odor. Therefore, it was necessary to suppress the odor while introducing the sulfur atom. In addition, when sulfur atoms are introduced into the material, the strength of the film may decrease at the same time, so it is necessary to achieve both the refractive index and the strength of the film.

特許第4876609号公報Japanese Patent No. 4876609 特開2012-059553号公報JP 2012-059553 A

本発明は、前記事情に鑑みなされたもので、低臭気、低透湿性及び高い屈折率を有する硬化物を与える硬化性組成物、該組成物から得られる硬化物、及び該硬化物を備える電子デバイスを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a curable composition that provides a cured product having low odor, low moisture permeability and a high refractive index, a cured product obtained from the composition, and an electronic device comprising the cured product. The purpose is to provide a device.

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、所定のフェニルスルフィド誘導体及びフルオレン誘導体を含む硬化性組成物によって、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。 The present inventors have made intensive studies to achieve the above objects, and as a result, have found that the above problems can be solved by a curable composition containing a given phenyl sulfide derivative and a fluorene derivative, and have completed the present invention. .

すなわち、本発明は、下記硬化性組成物、その硬化物、及び電子デバイスを提供する。
1.(A)下記式(1)で表されるフェニルスルフィド誘導体、及び
(B)下記式(2)で表されるフルオレン誘導体
を含む硬化性組成物。

Figure 0007155576000001
(式中、RP1及びRP2は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性不飽和結合含有基であり;
P3及びRP4は、それぞれ独立に、重合性不飽和結合含有基であり;
1~R6は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボキシ基、Z1で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基、Z2で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基、Z2で置換されていてもよい炭素数2~20のヘテロアリール基、-NHY1、-NY23、-C(O)Y4、-OY5、-SY6、-SO37、-C(O)OY8、-OC(O)Y9、-C(O)NHY10、又は-C(O)NY1112であり、a~fが2以上の整数のとき、各R1~各R6は、互いに同一であっても異なっていてもよく;
1~Y12は、それぞれ独立に、Z1で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基、Z2で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基、又はZ2で置換されていてもよい炭素数2~20のヘテロアリール基であり;
Lは、単結合又は2価の連結基であり;
1及びL2は、それぞれ独立に、Z2で置換されていてもよいフェニレン基、又はZ2で置換されていてもよいナフタレンジイル基であり;
3及びL4は、それぞれ独立に、炭素数1~6の2価炭化水素基であり;
1は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボキシ基、Z3で置換されていてもよい炭素数1~20のアルコキシ基、Z3で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基、又はZ3で置換されていてもよい炭素数2~20のヘテロアリール基であり;
2は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボキシ基、Z3で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基、又はZ3で置換されていてもよい炭素数1~20のアルコキシ基であり;
3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、又はカルボキシ基であり;
a~fは、それぞれ独立に、0~4の整数であり;
pは、0~10の整数であり;
q及びrは、それぞれ独立に、0~10の整数である。)
2.(A)成分が、下記式(1')で表される化合物である1の硬化性組成物。
Figure 0007155576000002
3.(B)成分が、下記式(2')で表される化合物である1又は2の硬化性組成物。
Figure 0007155576000003
(式中、R11及びR12は、水素原子又はメチル基である。)
4.更に、(C)ラジカル重合開始剤を含む1~3のいずれかの硬化性組成物。
5.溶媒を含まない1~4のいずれかの硬化性組成物。
6.電子デバイス用封止材料である1~5のいずれかの硬化性組成物。
7.有機EL素子用封止材料である6の硬化性組成物。
8.1~7のいずれかの硬化性組成物から得られる硬化物。
9.(A)下記式(1)で表されるフェニルスルフィド誘導体及び(B)下記式(2)で表されるフルオレン誘導体から得られる共重合体を含む硬化物。
Figure 0007155576000004
(式中、RP1~RP4、R1~R6、L、L1~L4、a~f、p、q及びrは、前記と同じ。)
10.8又は9の硬化物を備える電子デバイス。
11.8又は9の硬化物を備える有機EL素子。 That is, the present invention provides the following curable composition, its cured product, and electronic device.
1. A curable composition comprising (A) a phenyl sulfide derivative represented by the following formula (1) and (B) a fluorene derivative represented by the following formula (2).
Figure 0007155576000001
(Wherein, R P1 and R P2 are each independently a hydrogen atom or a polymerizable unsaturated bond-containing group;
R P3 and R P4 are each independently a polymerizable unsaturated bond-containing group;
R 1 to R 6 each independently represent a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an amino group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxy group, and the number of carbon atoms optionally substituted by Z 1 an alkyl group of 1 to 20, an aryl group of 6 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 2 , a heteroaryl group of 2 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 2 , —NHY 1 , —NY 2 Y 3 , —C(O)Y 4 , —OY 5 , —SY 6 , —SO 3 Y 7 , —C(O)OY 8 , —OC(O)Y 9 , —C(O)NHY 10 , or -C(O)NY 11 Y 12 , and when a to f are integers of 2 or more, each R 1 to each R 6 may be the same or different;
Y 1 to Y 12 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 1 , an aryl group having 6 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 2 , or Z 2 A heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with;
L is a single bond or a divalent linking group;
L 1 and L 2 are each independently a phenylene group optionally substituted with Z 2 or a naphthalene diyl group optionally substituted with Z 2 ;
L 3 and L 4 are each independently a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms;
Z 1 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an amino group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxy group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 3 ; an aryl group having 6 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 3 or a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 3 ;
Z 2 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an amino group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxy group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 3 ; or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 3 ;
Z 3 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an amino group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, or a carboxy group;
a to f are each independently an integer of 0 to 4;
p is an integer from 0 to 10;
q and r are each independently an integer of 0-10. )
2. The curable composition of 1, wherein the component (A) is a compound represented by the following formula (1′).
Figure 0007155576000002
3. The curable composition of 1 or 2, wherein component (B) is a compound represented by the following formula (2′).
Figure 0007155576000003
(In the formula, R 11 and R 12 are hydrogen atoms or methyl groups.)
4. 3. The curable composition according to any one of 1 to 3, further comprising (C) a radical polymerization initiator.
5. The curable composition of any one of 1 to 4 that does not contain solvent.
6. The curable composition according to any one of 1 to 5, which is a sealing material for electronic devices.
7. The curable composition of 6, which is a sealing material for organic EL elements.
8. A cured product obtained from the curable composition according to any one of 1 to 7.
9. A cured product containing a copolymer obtained from (A) a phenyl sulfide derivative represented by the following formula (1) and (B) a fluorene derivative represented by the following formula (2).
Figure 0007155576000004
(Wherein, R P1 to R P4 , R 1 to R 6 , L, L 1 to L 4 , a to f, p, q and r are the same as above.)
10. An electronic device comprising the cured product of 8 or 9.
11. An organic EL device comprising the cured product of 8 or 9.

本発明の硬化性組成物は、低臭気、低透湿性及び高い屈折率を有する硬化物を与えることができ、有機EL素子等の電子デバイス用封止材料として好適である。 The curable composition of the present invention can give a cured product having low odor, low moisture permeability and high refractive index, and is suitable as a sealing material for electronic devices such as organic EL elements.

[硬化性組成物]
本発明の硬化性組成物は、(A)下記式(1)で表されるフェニルスルフィド誘導体、及び(B)下記式(2)で表されるフルオレン誘導体を含むものである。

Figure 0007155576000005
[Curable composition]
The curable composition of the present invention contains (A) a phenyl sulfide derivative represented by the following formula (1) and (B) a fluorene derivative represented by the following formula (2).
Figure 0007155576000005

式(1)中、RP1及びRP2は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性不飽和結合含有基である。式(2)中、RP3及びRP4は、それぞれ独立に、重合性不飽和結合含有基である。 In formula (1), R P1 and R P2 are each independently a hydrogen atom or a polymerizable unsaturated bond-containing group. In formula (2), R P3 and R P4 are each independently a polymerizable unsaturated bond-containing group.

前記重合性不飽和結合含有基としては、重合性炭素-炭素二重結合を有する基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイル基等が挙げられる。これらのうち、特に、RP1及びRP2としてはビニル基又はアリル基が好ましく、RP3及びRP4としては(メタ)アクリロイル基が好ましい。 The polymerizable unsaturated bond-containing group is preferably a group having a polymerizable carbon-carbon double bond, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group, and a (meth)acryloyl group. Of these, R P1 and R P2 are preferably vinyl groups or allyl groups, and R P3 and R P4 are preferably (meth)acryloyl groups.

式(1)及び(2)中、R1~R6は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボキシ基、Z1で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基、Z2で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基、Z2で置換されていてもよい炭素数2~20のヘテロアリール基、-NHY1、-NY23、-C(O)Y4、-OY5、-SY6、-SO37、-C(O)OY8、-OC(O)Y9、-C(O)NHY10、又は-C(O)NY1112である。なお、a~fが2以上の整数のとき、各R1~各R6は、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In formulas (1) and (2), R 1 to R 6 each independently represent a halogen atom, nitro group, cyano group, amino group, aldehyde group, hydroxy group, thiol group, sulfonic acid group, carboxy group, Z an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with 1 ; an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 2 ; heteroaryl groups, —NHY 1 , —NY 2 Y 3 , —C(O)Y 4 , —OY 5 , —SY 6 , —SO 3 Y 7 , —C(O)OY 8 , —OC(O)Y 9 , —C(O)NHY 10 , or —C(O)NY 11 Y 12 . When a to f are integers of 2 or more, each R 1 to R 6 may be the same or different.

1~Y12は、それぞれ独立に、Z1で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基、Z2で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基、又はZ2で置換されていてもよい炭素数2~20のヘテロアリール基である。 Y 1 to Y 12 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 1 , an aryl group having 6 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 2 , or Z 2 A heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with .

式(1)中、Lは、単結合又は2価の連結基である。 In Formula (1), L is a single bond or a divalent linking group.

式(2)中、L1及びL2は、それぞれ独立に、Z2で置換されていてもよいフェニレン基、又はZ2で置換されていてもよいナフタレンジイル基である。 In formula (2), L 1 and L 2 are each independently a phenylene group optionally substituted with Z 2 or a naphthalenediyl group optionally substituted with Z 2 .

式(2)中、L3及びL4は、それぞれ独立に、炭素数1~6の2価炭化水素基である。 In formula (2), L 3 and L 4 are each independently a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.

1は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボキシ基、Z3で置換されていてもよい炭素数1~20のアルコキシ基、Z3で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基、又はZ3で置換されていてもよい炭素数2~20のヘテロアリール基である。 Z 1 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an amino group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxy group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 3 ; It is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 or a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 .

2は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボキシ基、Z3で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基、又はZ3で置換されていてもよい炭素数1~20のアルコキシ基である。 Z 2 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an amino group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxy group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 3 ; or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 .

3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、又はカルボキシ基である。 Z3 is a halogen atom, nitro group, cyano group, amino group, aldehyde group, hydroxy group, thiol group, sulfonic acid group, or carboxy group.

前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

前記炭素数1~20のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等の炭素数1~20の直鎖状又は分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ビシクロブチル基、ビシクロペンチル基、ビシクロヘキシル基、ビシクロヘプチル基、ビシクロオクチル基、ビシクロノニル基、ビシクロデシル基等の炭素数3~20の環状アルキル基が挙げられる。 The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic, and specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, and isobutyl. straight groups having 1 to 20 carbon atoms such as group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group and n-decyl group; Chain or branched alkyl group; cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group, cyclodecyl group, bicyclobutyl group, bicyclopentyl group, bicyclohexyl group, bicycloheptyl group , a bicyclooctyl group, a bicyclononyl group, a bicyclodecyl group, and other cyclic alkyl groups having 3 to 20 carbon atoms.

前記炭素数6~20のアリール基としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントリル基、2-アントリル基、9-アントリル基、1-フェナントリル基、2-フェナントリル基、3-フェナントリル基、4-フェナントリル基、9-フェナントリル基等が挙げられる。 Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthryl group, 2-anthryl group, 9-anthryl group, 1-phenanthryl group, 2-phenanthryl group, 3-phenanthryl group, 4-phenanthryl group, 9-phenanthryl group and the like.

前記炭素数2~20のヘテロアリール基としては、2-チエニル基、3-チエニル基、2-フラニル基、3-フラニル基、2-オキサゾリル基、4-オキサゾリル基、5-オキサゾリル基、3-イソオキサゾリル基、4-イソオキサゾリル基、5-イソオキサゾリル基、2-チアゾリル基、4-チアゾリル基、5-チアゾリル基、3-イソチアゾリル基、4-イソチアゾリル基、5-イソチアゾリル基、2-イミダゾリル基、4-イミダゾリル基、2-ピリジル基、3-ピリジル基、4-ピリジル基等が挙げられる。 Examples of the heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms include 2-thienyl group, 3-thienyl group, 2-furanyl group, 3-furanyl group, 2-oxazolyl group, 4-oxazolyl group, 5-oxazolyl group, 3- isoxazolyl group, 4-isoxazolyl group, 5-isoxazolyl group, 2-thiazolyl group, 4-thiazolyl group, 5-thiazolyl group, 3-isothiazolyl group, 4-isothiazolyl group, 5-isothiazolyl group, 2-imidazolyl group, 4- imidazolyl group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group and the like.

これらのうち、R1~R6としては、ハロゲン原子、Z1で置換されていてもよい炭素数1~10のアルキル基、又はZ2で置換されていてもよい炭素数6~14のアリール基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましい。 Among these, R 1 to R 6 are a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms optionally substituted by Z 1 , or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms optionally substituted by Z 2 is preferred, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferred.

Lで表される2価の連結基としては、炭素数1~6の2価炭化水素基、カルボニル基、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、カーボネート結合、アミド結合、又はこれらが複数個連結した基等が挙げられる。前記2価炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチレン基、エタン-1,1-ジイル基、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、シクロペンタン-1,2-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、シクロヘキサン-1,2-ジイル基、シクロヘキサン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基等のアルカンジイル基等が挙げられる。 The divalent linking group represented by L includes a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a carbonyl group, an ether bond, a thioether bond, an ester bond, a carbonate bond, an amide bond, or a plurality of these linked. and the like. The divalent hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic, and specific examples thereof include a methylene group, an ethane-1,1-diyl group, an ethane-1,2-diyl group, a propane- 1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group, propane-2,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, cyclopentane-1,2- diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, hexane-1,6-diyl group, cyclohexane-1,2-diyl group, cyclohexane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, etc. An alkanediyl group and the like can be mentioned.

これらのうち、Lとしては、単結合、炭素数1~2の2価炭化水素基、チオエーテル結合、カーボネート結合、アミド結合が好ましく、単結合がより好ましい。 Among these, L is preferably a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 2 carbon atoms, a thioether bond, a carbonate bond or an amide bond, more preferably a single bond.

1及びL2で表される、Z2で置換されていてもよいフェニレン基としては、1,2-フェニレン基、1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、2-メチルベンゼン-1,4-ジイル基、2-アミノベンゼン-1,4-ジイル基、2,4-ジブロモベンゼン-1,3-ジイル基、2,6-ジブロモベンゼン-1,4-ジイル基等が挙げられる。Z2で置換されていてもよいナフタレンジイル基としては、ナフタレン-1,2-ジイル基、ナフタレン-1,4-ジイル基、ナフタレン-1,5-ジイル基、ナフタレン-1,8-ジイル基、ナフタレン-2,3-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基等が挙げられる。 The phenylene groups optionally substituted by Z 2 represented by L 1 and L 2 include 1,2-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,4-phenylene group, 2-methylbenzene- 1,4-diyl group, 2-aminobenzene-1,4-diyl group, 2,4-dibromobenzene-1,3-diyl group, 2,6-dibromobenzene-1,4-diyl group and the like. . The naphthalene diyl group optionally substituted by Z 2 includes naphthalene-1,2-diyl group, naphthalene-1,4-diyl group, naphthalene-1,5-diyl group and naphthalene-1,8-diyl group. , naphthalene-2,3-diyl group and naphthalene-2,6-diyl group.

これらのうち、L1及びL2としては、1,4-フェニレン基、1,3-フェニレン基、2-メチルベンゼン-1,4-ジイル基、ナフタレン-1,4-ジイル基、ナフタレン-1,5-ジイル基が好ましく、1,4-フェニレン基、ナフタレン-1,5-ジイル基がより好ましい。 Among these, L 1 and L 2 are 1,4-phenylene group, 1,3-phenylene group, 2-methylbenzene-1,4-diyl group, naphthalene-1,4-diyl group, naphthalene-1 ,5-diyl group is preferred, and 1,4-phenylene group and naphthalene-1,5-diyl group are more preferred.

3及びL4で表される炭素数1~6の2価炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチレン基、エタン-1,1-ジイル基、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、シクロペンタン-1,2-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、シクロヘキサン-1,2-ジイル基、シクロヘキサン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基等のアルカンジイル基等が挙げられる。 The divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms represented by L 3 and L 4 may be linear, branched or cyclic. Diyl group, ethane-1,2-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group, propane-2,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane- 1,5-diyl group, cyclopentane-1,2-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, hexane-1,6-diyl group, cyclohexane-1,2-diyl group, cyclohexane-1,3 -diyl group, alkanediyl group such as cyclohexane-1,4-diyl group, and the like.

これらのうち、L3及びL4としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基が好ましく、エタン-1,2-ジイル基がより好ましい。 Among these, L 3 and L 4 are preferably a methylene group, an ethane-1,2-diyl group and a propane-1,2-diyl group, more preferably an ethane-1,2-diyl group.

式(1)及び(2)中、a~fは、それぞれ独立に、0~4の整数であるが、0~2が好ましく、0又は1がより好ましく、0が最適である。 In formulas (1) and (2), a to f are each independently an integer of 0 to 4, preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1, and most preferably 0.

式(1)中、pは、0~10の整数であるが、0~4が好ましく、0又は1がより好ましく、0が最適である。式(2)中、q及びrは、それぞれ独立に、0~10の整数であるが、0~4が好ましく、0~2がより好ましく、0又は1が最適である。 In formula (1), p is an integer of 0 to 10, preferably 0 to 4, more preferably 0 or 1, and most preferably 0. In formula (2), q and r are each independently an integer of 0 to 10, preferably 0 to 4, more preferably 0 to 2, and most preferably 0 or 1.

(A)成分としては、屈折率、粘度及び製造の観点から、下記式(1')で表される化合物が好ましい。

Figure 0007155576000006
As the component (A), a compound represented by the following formula (1′) is preferable from the viewpoint of refractive index, viscosity and production.
Figure 0007155576000006

(B)成分としては、膜の硬化性、屈折率及び水蒸気バリア性の観点から、下記式(2')で表される化合物が好ましい。

Figure 0007155576000007
(式中、R11及びR12は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。) As the component (B), a compound represented by the following formula (2′) is preferable from the viewpoint of film curability, refractive index and water vapor barrier properties.
Figure 0007155576000007
(In the formula, R 11 and R 12 are each independently a hydrogen atom or a methyl group.)

本発明の組成物中、(A)成分の含有量は、50~99.9質量%が好ましく、60~95質量%がより好ましく、65~85質量%がより一層好ましい。また、(B)成分の含有量は、0.1~50質量%が好ましく、5~40質量%がより好ましく、15~35質量%がより一層好ましい。 The content of component (A) in the composition of the present invention is preferably 50 to 99.9% by mass, more preferably 60 to 95% by mass, and even more preferably 65 to 85% by mass. The content of component (B) is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and even more preferably 15 to 35% by mass.

(A)成分及び(B)成分は、それぞれ、1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、(A)成分及び(B)成分は、市販品を使用することができる。 The (A) component and the (B) component may each be used singly or in combination of two or more. In addition, a commercial item can be used for the (A) component and the (B) component.

本発明の組成物は、更に、(C)ラジカル重合開始剤を含んでもよい。前記ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤でもよく、熱ラジカル重合開始剤でもよいが、分解(ラジカル発生)と同時に気体を発生しないものが好ましい。ラジカル重合開始剤によって、光硬化処理又は低温硬化処理が可能となる。 The composition of the present invention may further contain (C) a radical polymerization initiator. The radical polymerization initiator may be a photo-radical polymerization initiator or a thermal radical polymerization initiator, but is preferably one that does not decompose (generate radicals) and generate gas at the same time. The radical polymerization initiator enables photo-curing treatment or low-temperature curing treatment.

前記光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾフェノン誘導体、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、N-アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン化合物、アルミナート錯体、有機過酸化物、N-アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられる。更に具体的には、ベンゾフェノン、1,3-ジ(tert-ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'-テトラキス(tert-ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3-フェニル-5-イソオキサゾロン、2-メルカプトベンズイミダゾール、ビス(2,4,5-トリフェニル)イミダゾール、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン、ビス(η5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル)ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)フェニル)チタニウム等が挙げられるが、これらに限定されない。 Examples of photoradical polymerization initiators include benzophenone derivatives, imidazole derivatives, bisimidazole derivatives, N-arylglycine derivatives, organic azide compounds, titanocene compounds, aluminate complexes, organic peroxides, N-alkoxypyridinium salts, thioxanthone derivatives, and the like. is mentioned. More specifically, benzophenone, 1,3-di(tert-butyldioxycarbonyl)benzophenone, 3,3′,4,4′-tetrakis(tert-butyldioxycarbonyl)benzophenone, 3-phenyl-5- isoxazolone, 2-mercaptobenzimidazole, bis(2,4,5-triphenyl)imidazole, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-benzyl- 2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, bis(η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl)bis(2,6-difluoro-3-(1H-pyrrole- 1-yl)phenyl)titanium and the like, but are not limited to these.

前記光ラジカル重合開始剤としては市販品を使用することもでき、例えば、BASF社製のIRGACURE(登録商標)651、184、369、784等が挙げられる。また、前記以外の市販品も使用でき、具体的には、BASF社製IRGACURE(登録商標)500、907、379、819、127、500、754、250、1800、1870、OXE01、TPO、DAROCUR(登録商標)1173;Lambson社製Speedcure(登録商標)MBB、PBZ、ITX、CTX、EDB;Lamberti社製Esacure(登録商標)ONE、KIP150、KTO46;日本化薬(株)製KAYACURE(登録商標)DETX-S、CTX、BMS、DMBI等が挙げられる。 Commercially available products can also be used as the radical photopolymerization initiator, and examples thereof include IRGACURE (registered trademark) 651, 184, 369, 784 manufactured by BASF. In addition, commercially available products other than the above can also be used. Lambson Speedcure (registered trademark) MBB, PBZ, ITX, CTX, EDB; Lamberti Esacure (registered trademark) ONE, KIP150, KTO46; Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYACURE (registered trademark) DETX -S, CTX, BMS, DMBI and the like.

前記熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセチルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、過酸化水素、tert-ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジ-tert-ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、tert-ブチルペルオキシアセテート、tert-ブチルペルオキシピバレート、tert-ブチルペルオキシ-2-エチルヘキサノエート(tert-ブチル2-エチルヘキサンペルオキソエート)等の過酸化物;2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、(1-フェニルエチル)アゾジフェニルメタン、2,2'-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2'-アゾビスイソブチレート、2,2'-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、1,1'-アゾビス(1-シクロヘキサンカルボニトリル)、2-(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2,4,4-トリメチルペンタン)、2-フェニルアゾ-2,4-ジメチル-4-メトキシバレロニトリル、2,2'-アゾビス(2-メチルプロパン)等のアゾ系化合物;過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等の過硫酸塩等が挙げられるが、これらに限定されない。また、前記熱ラジカル重合開始剤としては、市販品を使用することができる。 Examples of the thermal radical polymerization initiator include acetyl peroxide, benzoyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, hydrogen peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, and dilauroyl. Peroxides such as peroxides, tert-butylperoxyacetate, tert-butylperoxypivalate, tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate (tert-butyl 2-ethylhexaneperoxoate); 2,2'-azobis isobutyronitrile, 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), (1-phenylethyl)azodiphenylmethane, 2,2'-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), Dimethyl 2,2'-azobisisobutyrate, 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis(1-cyclohexanecarbonitrile), 2-(carbamoylazo)isobutyro Nitriles, 2,2'-azobis(2,4,4-trimethylpentane), 2-phenylazo-2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile, 2,2'-azobis(2-methylpropane) and other azo system compounds; persulfates such as ammonium persulfate, sodium persulfate, potassium persulfate, etc., but not limited thereto. Moreover, a commercial item can be used as said thermal radical polymerization initiator.

前記ラジカル重合開始剤のうち、利便性及び安定性の観点から、光ラジカル重合開始剤が好ましい。光ラジカル重合開始剤のうち、特に、(A)成分や(B)成分による吸収を避けるため、UV-A(315~400nm)の領域に吸収を有するものが好ましく、350nm以上に吸収を有するものがより好ましい Among the radical polymerization initiators, photoradical polymerization initiators are preferable from the viewpoint of convenience and stability. Among the radical photopolymerization initiators, those having absorption in the UV-A (315 to 400 nm) region are preferable, and those having absorption at 350 nm or more, in order to avoid absorption by the component (A) or component (B). is more preferred

前記ラジカル重合開始剤の含有量は、本発明の組成物中、0~10質量%であるが、含む場合は、0.01~7質量%が好ましく、0.1~5質量%がより好ましい。 The content of the radical polymerization initiator is 0 to 10% by mass in the composition of the present invention. .

本発明の組成物は、溶媒を含む溶媒型組成物としてもよく、溶媒を含まない無溶媒型組成物としてもよいが、電子デバイスに用いられる有機膜を劣化させることがないことから、無溶媒型であることが好ましい。なお、溶媒を使用する場合、使用可能な溶媒としては、他の成分と相溶性を有し、硬化したあとに残存しないか、又は残存した場合でも電子デバイスに用いられる有機膜を劣化させないものであれば、特に限定されない。 The composition of the present invention may be a solvent-type composition containing a solvent or may be a solvent-free composition containing no solvent. A mold is preferred. When a solvent is used, the solvent should be compatible with other components and should not remain after curing, or even if it does remain, it should not degrade the organic film used in the electronic device. If there is, it is not particularly limited.

本発明の組成物の粘度は、塗布性及び取扱いの点から、25℃において、0.1~1,000mPa・sが好ましく、1~200mPa・sがより好ましい。なお、本発明において、粘度は、E型粘度計による測定値である。 The viscosity of the composition of the present invention is preferably from 0.1 to 1,000 mPa·s, more preferably from 1 to 200 mPa·s at 25° C. from the viewpoints of applicability and handling. In addition, in this invention, a viscosity is a measured value by an E-type viscometer.

本発明の組成物は、更に必要に応じて、(A)及び(B)成分以外の重合性化合物(例えば、エポキシ系化合物、アクリル系化合物、オレフィン系化合物等)、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、レベリング剤、消泡剤、顔料、紫外線吸収剤、イオン吸着体、顔料、蛍光体、離型剤、セルロース等の有機フィラー等の従来公知の添加剤を、本発明の効果を損なわない範囲で含んでもよい。 The composition of the present invention further optionally contains polymerizable compounds other than components (A) and (B) (e.g., epoxy compounds, acrylic compounds, olefin compounds, etc.), polymerization inhibitors, and antioxidants. , Light stabilizers, plasticizers, leveling agents, antifoaming agents, pigments, ultraviolet absorbers, ion adsorbents, pigments, phosphors, release agents, organic fillers such as cellulose, etc. may be contained within a range that does not impair the effect of

[電子デバイス]
本発明の組成物は、電子デバイスの封止材料として好適に使用できる。前記電子デバイスとしては、特に限定されないが、有機EL素子、有機薄膜太陽電池、発光ダイオード素子等が挙げられる。本発明の組成物は、これらのうち、有機EL素子用封止材料として好適であり、特にトップエミッション型有機EL素子用封止材料として好適である。
[Electronic device]
The composition of the present invention can be suitably used as a sealing material for electronic devices. Examples of the electronic device include, but are not limited to, an organic EL element, an organic thin film solar cell, a light emitting diode element, and the like. Among these, the composition of the present invention is suitable as a sealing material for organic EL elements, and particularly suitable as a sealing material for top emission type organic EL elements.

電子デバイスの封止方法としては、特に限定されず、従来公知の方法でよい。例えば、本発明の組成物を基板や素子の上に塗布した後、前記組成物を硬化させることで電子デバイスを封止することができる。このとき、塗布方法としては、スピンコート法、キャストコート法、ブレードコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、スプレーコート法、インクジェット法、印刷法(凸版、凹版、平版、スクリーン印刷等)等が挙げられる。 The method for sealing the electronic device is not particularly limited, and conventionally known methods may be used. For example, an electronic device can be sealed by applying the composition of the present invention onto a substrate or an element and then curing the composition. At this time, the coating method includes a spin coating method, a cast coating method, a blade coating method, a dip coating method, a roll coating method, a bar coating method, a die coating method, a spray coating method, an inkjet method, a printing method (letterpress, intaglio, lithography). , screen printing, etc.).

また、本発明の組成物をフィルム状に成形し、得られたフィルムを基板や素子の上に重ねることで封止してもよい。 Alternatively, the composition of the present invention may be formed into a film, and the resulting film may be placed on a substrate or element for sealing.

以下、合成例及び実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。なお、使用した試薬は、以下のとおりである。
(1)MPV:ビス(4-ビニルチオフェニル)スルフィド(住友精化(株)製)
(2)A-BPEF:9,9-ビス[4-(2-アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン(NKエステルA-BPEF、新中村化学工業(株)製)
(3)Irg. TPO:Irgacure TPO(BASF社製)
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples and Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The reagents used are as follows.
(1) MPV: Bis(4-vinylthiophenyl) sulfide (manufactured by Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd.)
(2) A-BPEF: 9,9-bis[4-(2-acryloyloxyethoxy)phenyl]fluorene (NK Ester A-BPEF, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
(3) Irg. TPO: Irgacure TPO (manufactured by BASF)

[1]硬化性組成物の調製
[実施例1-1]硬化性組成物Aの調製
MPV5.0g、A-BPEF1.0g及びIrg. TPO 0.06gを、ミックスローターにて室温で均一に混合し、硬化性組成物Aを調製した。
[1] Preparation of curable composition [Example 1-1] Preparation of curable composition A 5.0 g of MPV, 1.0 g of A-BPEF and 0.06 g of Irg. TPO are uniformly mixed in a mix rotor at room temperature. and a curable composition A was prepared.

[実施例1-2]硬化性組成物Bの調製
MVP及びA-BPEFの量をそれぞれ4.5g及び1.5gにした以外は、実施例1-1と同様の方法で、硬化性組成物Bを調製した。
[Example 1-2] Preparation of curable composition B A curable composition was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that the amounts of MVP and A-BPEF were changed to 4.5 g and 1.5 g, respectively. B was prepared.

[実施例1-3]硬化性組成物Cの調製
MVP及びA-BPEFの量をそれぞれ4.3g及び1.7gにした以外は、実施例1-1と同様の方法で、硬化性組成物Cを調製した。
[Example 1-3] Preparation of curable composition C A curable composition was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that the amounts of MVP and A-BPEF were changed to 4.3 g and 1.7 g, respectively. C was prepared.

[実施例1-4]硬化性組成物Dの調製
MVP及びA-BPEFの量をそれぞれ4.0g及び2.0gにした以外は、実施例1-1と同様の方法で、硬化性組成物Dを調製した。
[Example 1-4] Preparation of curable composition D A curable composition was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that the amounts of MVP and A-BPEF were changed to 4.0 g and 2.0 g, respectively. D was prepared.

[比較例1-1]組成物Eの調製
MPV6.0g及びIrg. TPO0.06gを、ミックスローターにて室温で均一に混合し、組成物Eを調製した。
[Comparative Example 1-1] Preparation of Composition E 6.0 g of MPV and 0.06 g of Irg.TPO were uniformly mixed in a mix rotor at room temperature to prepare composition E.

[比較例1-2]
A-BPEF6.0g及びIrg. TPO0.06gを、ミックスローターにて室温で攪拌し、組成物の調製を試みたが、均一な組成物は調製できなかった。
[Comparative Example 1-2]
An attempt was made to prepare a composition by stirring 6.0 g of A-BPEF and 0.06 g of Irg.TPO in a mix rotor at room temperature, but a uniform composition could not be prepared.

[2]硬化膜の作製及び光学特性評価
[実施例2-1]硬化膜Aの作製
厚さ100μmのシリコーンゴム製のスペーサーを石英基板と離型ガラス基板との間に挟み込んだものを準備し、硬化性組成物Aを流し込んだ。これをUV-A波長での積算照射量が3,000mJ/cm2となるよう、石英基板側からUV光を照射した(フュージョンUVシステムズ CV-110QC-G Hバルブ)。これを更に100℃の定温送風オーブンにて30分加熱させ、冷却後に離型ガラス基板を除去し、石英基板上に厚さ100μmの硬化膜Aを形成した。
[2] Production of Cured Film and Evaluation of Optical Properties [Example 2-1] Production of Cured Film A A silicon rubber spacer having a thickness of 100 μm was sandwiched between a quartz substrate and a release glass substrate. , curable composition A was cast. This was irradiated with UV light from the quartz substrate side (Fusion UV Systems CV-110QC-G H bulb) so that the cumulative irradiation dose at the UV-A wavelength was 3,000 mJ/cm 2 . This was further heated in a constant temperature blower oven at 100° C. for 30 minutes, and after cooling, the release glass substrate was removed to form a cured film A having a thickness of 100 μm on the quartz substrate.

[実施例2-2]硬化膜Bの作製
硬化性組成物Aのかわりに硬化性組成物Bを用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、石英基板上に厚さ100μmの硬化膜Bを形成した。
[Example 2-2] Preparation of cured film B A 100 μm-thick film was formed on a quartz substrate in the same manner as in Example 2-1, except that the curable composition B was used instead of the curable composition A. A cured film B was formed.

[実施例2-3]硬化膜Cの作製
硬化性組成物Aのかわりに硬化性組成物Cを用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、石英基板上に厚さ100μmの硬化膜Cを形成した。
[Example 2-3] Preparation of cured film C A 100 µm-thick film was formed on a quartz substrate in the same manner as in Example 2-1, except that the curable composition C was used instead of the curable composition A. A cured film C was formed.

[実施例2-4]硬化膜Dの作製
硬化性組成物Aのかわりに硬化性組成物Dを用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、石英基板上に厚さ100μmの硬化膜Dを形成した。
[Example 2-4] Production of cured film D A film having a thickness of 100 µm was formed on a quartz substrate in the same manner as in Example 2-1, except that curable composition D was used instead of curable composition A. A cured film D was formed.

[比較例2-1]
硬化性組成物Aのかわりに組成物Eを用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で硬化膜の形成を試みたが、硬化膜を形成できなかった。
[Comparative Example 2-1]
An attempt was made to form a cured film in the same manner as in Example 2-1, except that composition E was used instead of curable composition A, but no cured film could be formed.

<透過率・屈折率の測定>
硬化膜A~Dについて、紫外可視分光光度計((株)島津製作所製UV-2600)で透過率を測定し、400~800nmの平均透過率を計算した。プリズムカプラ(メトリコン社製Model 2010)を使用して、波長589nmの光の屈折率(25℃)を測定した。結果を表1に示す。
<Measurement of transmittance and refractive index>
The transmittance of the cured films A to D was measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-2600 manufactured by Shimadzu Corporation), and the average transmittance of 400 to 800 nm was calculated. A prism coupler (Model 2010 manufactured by Metricon) was used to measure the refractive index (25° C.) of light with a wavelength of 589 nm. Table 1 shows the results.

Figure 0007155576000008
Figure 0007155576000008

硬化物A~Dは、いずれも可視光域での透明性があり、屈折率も高かった。 Cured products A to D were all transparent in the visible light region and had a high refractive index.

[3]硬化膜の作製及び耐透湿性評価
[実施例2-1]硬化膜A'の作製
石英基板をアセテートフィルム基板へ変更した以外は、実施例2-1と同様の方法で、アセテートフィルム上に厚さ100μmの硬化膜を形成し、アセテートフィルムを剥離し、硬化膜A'を得た。
[3] Preparation of cured film and evaluation of moisture permeability resistance [Example 2-1] Preparation of cured film A' Acetate film was prepared in the same manner as in Example 2-1, except that the quartz substrate was changed to an acetate film substrate. A cured film having a thickness of 100 μm was formed thereon, and the acetate film was peeled off to obtain a cured film A′.

[実施例2-2]硬化膜B'の作製
硬化性組成物Aのかわりに硬化性組成物Bを用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、硬化膜B'を得た。
[Example 2-2] Preparation of cured film B' Cured film B' was obtained in the same manner as in Example 2-1 except that the curable composition B was used instead of the curable composition A. .

[実施例2-3]硬化膜C'の作製
硬化性組成物Aのかわりに硬化性組成物Cを用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、硬化膜C'を得た。
[Example 2-3] Preparation of cured film C' Cured film C' was obtained in the same manner as in Example 2-1 except that the curable composition C was used instead of the curable composition A. .

<水蒸気透過率の測定>
硬化膜A'~C'をそれぞれねじ締付式の透湿カップ(透過部φ30mm)に取り付け、JIS Z 0208を参考にして、40℃、90%RHの条件にて、水蒸気透過率(WVTR)を測定した。ねじ締付式の透湿カップとしては、市販されているものを用いることが可能であり、例えば井元製作所から市販されているものを用いることができる。乾燥させたねじ締付式の透湿カップを準備し、封ろう材を用いずに硬化膜とゴムパッキンとを重ね、硬化膜とカップとが密着する向きにして、硬化膜とパッキンとをカップ/金属板間に挟み、ねじによる締付により封をして試験体を作成した。試験体作成後の重量測定部分については、JIS Z 0208に従い測定を実施した。結果を表2に示す。
<Measurement of water vapor transmission rate>
The cured films A' to C' were each attached to a screw-fastened moisture permeable cup (permeable part φ30 mm), and with reference to JIS Z 0208, the water vapor transmission rate (WVTR) was measured under the conditions of 40 ° C. and 90% RH. was measured. As the screw tightening type moisture permeable cup, it is possible to use a commercially available one, for example, one commercially available from Imoto Seisakusho Co., Ltd. can be used. Prepare a dried screw-tightened moisture-permeable cup, put the cured film and rubber packing on top of each other without using a sealing filler material, place the cured film and the packing in the cup so that the cured film and the cup are in close contact with each other. / A specimen was prepared by sandwiching between metal plates and sealing by tightening with a screw. The weight measurement portion after preparation of the specimen was measured according to JIS Z 0208. Table 2 shows the results.

Figure 0007155576000009
Figure 0007155576000009

いずれの硬化膜も、水蒸気透過率が低く、封止材料として適用可能であることがわかった。すなわち、本発明の硬化性組成物は、高透明・高屈折率の封止材料として、電子デバイス等に適用可能である。 It was found that all of the cured films have low water vapor transmission rates and are applicable as sealing materials. That is, the curable composition of the present invention can be applied to electronic devices and the like as a highly transparent and highly refractive sealing material.

Claims (10)

(A)50~99.9質量%の下記式(1)で表されるフェニルスルフィド誘導体、及び
(B)0.1~50質量%の下記式(2)で表されるフルオレン誘導体
を含む電子デバイス用封止材料用硬化性組成物。
Figure 0007155576000010
(式中、RP1及びRP2は、それぞれ独立に、ビニル基、アリル基又は(メタ)アクリロイル基であり;
P3及びRP4は、それぞれ独立に、ビニル基、アリル基又は(メタ)アクリロイル基であり;
1~R6は、それぞれ独立に、ハロゲン原子又は炭素数1~0のアルキル基であり、a~fが2以上の整数のとき、各R1~各R6は、互いに同一であっても異なっていてもよく;
Lは、単結合又は2価の連結基であり;
1及びL2は、それぞれ独立に、1,4-フェニレン基、1,3-フェニレン基、2-メチルベンゼン-1,4-ジイル基、ナフタレン-1,4-ジイル基又はナフタレン-1,5-ジイル基であり;
3及びL4は、それぞれ独立に、炭素数1~6のメチレン基、エタン-1,2-ジイル基又はプロパン-1,2-ジイル基であり
~fは、それぞれ独立に、0~4の整数であり;
pは、であり;
q及びrは、0又は1である。)
(A) 50 to 99.9% by mass of a phenyl sulfide derivative represented by the following formula (1), and (B) 0.1 to 50% by mass of an electron containing a fluorene derivative represented by the following formula (2) A curable composition for a device sealing material .
Figure 0007155576000010
(Wherein, R P1 and R P2 are each independently a vinyl group, an allyl group or a (meth)acryloyl group;
R P3 and R P4 are each independently a vinyl group, an allyl group or a (meth)acryloyl group;
R 1 to R 6 each independently represent a halogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and when a to f are integers of 2 or more, each R 1 to R 6 are the same. may be different;
L is a single bond or a divalent linking group;
L 1 and L 2 are each independently 1,4-phenylene group, 1,3-phenylene group, 2-methylbenzene-1,4-diyl group, naphthalene-1,4-diyl group or naphthalene-1, is a 5-diyl group ;
L 3 and L 4 are each independently a methylene group having 1 to 6 carbon atoms, an ethane-1,2-diyl group or a propane-1,2-diyl group ;
a to f are each independently an integer of 0 to 4;
p is 0 ;
q and r are 0 or 1 ; )
a~fが、0である請求項1記載の硬化性組成物。2. The curable composition according to claim 1, wherein a to f are 0. (A)成分が、下記式(1')で表される化合物である請求項1又は2記載の硬化性組成物。
Figure 0007155576000011
3. The curable composition according to claim 1, wherein component (A) is a compound represented by the following formula (1').
Figure 0007155576000011
(B)成分が、下記式(2')で表される化合物である請求項1~3のいずれか1項記載の硬化性組成物。
Figure 0007155576000012
(式中、R11及びR12は、水素原子又はメチル基である。)
4. The curable composition according to any one of claims 1 to 3, wherein component (B) is a compound represented by the following formula (2').
Figure 0007155576000012
(In the formula, R 11 and R 12 are hydrogen atoms or methyl groups.)
更に、(C)ラジカル重合開始剤を含む請求項1~のいずれか1項記載の硬化性組成物。 5. The curable composition according to any one of claims 1 to 4 , further comprising (C) a radical polymerization initiator. 溶媒を含まない請求項1~のいずれか1項記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 1 to 5 , which does not contain a solvent. 有機エレクトロルミネッセンス素子用封止材料である請求項1~6のいずれか1項記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 1 to 6, which is a sealing material for organic electroluminescence devices. 請求項1~7のいずれか1項記載の硬化性組成物から得られる硬化物。 A cured product obtained from the curable composition according to any one of claims 1 to 7. 請求項記載の硬化物を備える電子デバイス。 An electronic device comprising the cured product according to claim 8 . 請求項記載の硬化物を備える有機エレクトロルミネッセンス素子。 An organic electroluminescence device comprising the cured product according to claim 8 .
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