JP7144523B2 - 実装ライン - Google Patents

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Description

本発明は、クリーム状のはんだを基板に付着させることによって、その基板に、そのはんだによるパターンを印刷するはんだ印刷機を備えた実装ラインに関する。
一般的なはんだ印刷機は、例えば、下記特許文献に記載されているように、
基板を保持する基板保持装置と、
複数の開口が設けられ、印刷の際に基板の表面に接触させられるマスクを保持するマスク保持装置と、
スキージを有し、そのスキージをマスクの上面を移動させることで、マスクの上面に供給されているクリーム状のはんだを、複数の開口を通して、基板保持装置に保持された基板に付着させるスキージ装置と、
マスク保持装置によって保持されたマスクの位置であって、基板保持装置によって保持された基板に対しての、その基板の表面に平行な一平面に沿った位置である対基板マスク位置を取得するために、そのマスクの表面を撮像する撮像装置と、
印刷の際、基板保持装置に対してマスク保持装置によって保持されたマスクを動かすことで、対基板マスク位置を調整する位置調整装置と、
当該はんだ印刷機の制御を司る制御装置と
を備え、
印刷の際、位置調整装置によって、対基板マスク位置を調整するように構成されている。
特開2017-154445号公報
発明の解決しようとする課題
近年、マスクに設けられた開口の微細化が進み、それに伴い、マスクが薄くなってきている。印刷終了後のマスクの基板からの引き離しの際、すなわち、版離れの際のマスクの平坦度を維持するために、マスクにテンションを付与することが行われているが、マスクが薄くなるに連れて、そのテンションを大きくしなければならない。大きなテンションは、マスクに歪を生じさせる一因となり、はんだ印刷機内の温度変化が大きい場合に、その歪は大きくなる。マスクに大きな歪が生じた場合に、対基板マスク位置の調整が困難となり、印刷不良を招いてしまう。したがって、マスクの歪を取得することや、その歪を考慮した対基板マスク位置の調整は、はんだ印刷機の実用性の向上に寄与する。本発明は、そのような実情に鑑みてなされたものであり、実用性の高いはんだ印刷機を備えた実装ラインを提供することを課題とする。
上記課題を解決するため、本発明の実装ラインは、
基板に電子部品を実装して電子回路を製造する実装ラインであって、
クリーム状のはんだを基板に付着させることによって、その基板に、そのはんだによるパターンを印刷するはんだ印刷機と、
前記はんだ印刷機の下流に配置された装置と
を備え、
前記はんだ印刷機が、
基板を保持する基板保持装置と、
複数の開口が設けられ、印刷の際に基板の表面に接触させられるマスクを保持するマスク保持装置と、
スキージを有し、そのスキージをマスクの上面を移動させることで、マスクの上面に供給されているクリーム状のはんだを、前記複数の開口を通して、前記基板保持装置に保持された基板に付着させるスキージ装置と、
前記マスク保持装置によって保持されたマスクの位置であって、前記基板保持装置によって保持された基板に対しての、その基板の表面に平行な一平面に沿った位置である対基板マスク位置を取得するために、そのマスクの表面を撮像する撮像装置と、
印刷の際、前記基板保持装置に対して前記マスク保持装置によって保持されたマスクを動かすことで、前記対基板マスク位置を調整する位置調整装置と、
当該はんだ印刷機の制御を司る制御装置と
を備え、
前記制御装置が、
マスクの歪の程度を判断するためにマスクの特定の箇所である歪判定箇所に設けられた特定のマークと、マスクに設けられた2以上の基準マークとの、前記撮像装置による撮像データに基づいて、マスクにおける前記歪判定箇所のズレである歪判定箇所マスク内位置ズレを取得し、その歪判定箇所マスク内位置ズレが設定値より小さいと判定した場合に、はんだパターンの位置ズレを管理するための特定の箇所である管理領域に設けられた前記複数の開口のうちのいずれかと、2以上の基準マークとの、前記撮像装置による撮像データに基づいて、マスクにおける前記管理領域のズレである管理領域マスク内位置ズレを取得し、印刷の際、その管理領域マスク内位置ズレに基づいて、前記管理領域とその管理領域に対応する基板の箇所との位置ズレである対基板位置ズレが、設定値以下となるように、前記位置調整装置によって前記対基板マスク位置を調整させるように構成され、かつ、印刷の際に調整された対基板マスク位置についてのデータを、当該はんだ印刷機の外部に送信可能に構成され、
前記はんだ印刷機の下流に配置された前記装置が、前記対基板マスク位置についてのデータを受信することを特徴とする
上記はんだ印刷機によれば、特定の箇所のズレであるマスク内位置ズレを取得することで、マスクの歪を取得することが可能であり、また、そのマスク内位置ズレに基づいて、適切な対基板マスク位置の調整が可能となる。さらに、調整された対基板マスク位置についてのデータが、はんだ印刷機からそれの下流に配置された装置に送信され、その装置が、そのデータを受信することで、そのデータを利用することが可能となる。その結果、本発明の実装ラインは、実用性の高いものとなる。
んだ印刷機が配備されている実施例の部品実装ラインを示す斜視図である。 外装パネルを外した状態のはんだ印刷機を示す斜視図である。 はんだ印刷機を構成する基板搬送コンベア装置,基板保持・昇降装置,マーク撮像装置を示す斜視図である。 はんだ印刷機を構成する基板搬送コンベア装置,基板保持・昇降装置,クリーニング装置を示す斜視図である。 はんだ印刷機を構成するマスク保持装置,位置調整装置,スキージ装置を示す斜視図である。 はんだ印刷機によるはんだパターンの基板への印刷に用いられるマスクを示す図である。 はんだ印刷機の制御装置によって実行されるマスク歪判定・位置調整プログラムを示すフローチャートである。
以下、本発明の代表的な実施形態を、実施例として、図を参照しつつ詳しく説明する。なお、本発明は、下記実施例の他、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した種々の態様で実施することができる。
[A]はんだ印刷機が配置される実装ライン
図1に示すように、はんだ印刷機10(以下、「印刷機10」と略す場合がある)は、実施例の実装ライン、すなわち、基板に電子部品(以下、「部品」と略す場合がある)を実装して電気回路を製造するライン内に配置される。実装ラインには、印刷機10の他、検査機12,5台の部品装着機14,リフロー炉16を含んで構成される。印刷機10は、後に詳しく説明するが、基板の表面にクリーム状はんだ(以下、「はんだ」と略す場合がある)を付着させてそのはんだによるパターン(以下、「はんだパターン」という場合がある)を印刷する。検査機12は、はんだ印刷機10によって印刷されたはんだパターンの位置精度,付着はんだ量等についての検査を行う。部品装着機14は、はんだパターンが印刷された基板上に部品を載置する。リフロー炉16は、部品が載置された基板のはんだを溶融させ、その後に凝固させることで、部品を基板に固定する。
[B]はんだ印刷機の構成
図2に、外装パネルを外した状態での印刷機10を示す。印刷機10は、各パイプを主体に構成されたベースフレーム20を有しており、そのベースフレーム20に支持されて配設された基板搬送コンベア装置22,基板保持・昇降装置24(基板保持装置の一種である),マスク保持装置26,位置調整装置28,スキージ装置30,クリーニング装置32,マーク撮像装置34(図2では省略、撮像装置の一種である)等によって構成されている。
図3に、基板搬送コンベア装置22(以下、単に、「コンベア装置22」と言う場合がある),基板保持・昇降装置24,マーク撮像装置34を示す。コンベア装置22は、基板Sが搬送される方向における上流側に位置する搬入部36,下流側に位置する搬出部38,それらの間に位置する中間部40の3つに区分けされる。搬入部36,搬出部38,中間部40は、それぞれ、ベースフレーム20に支持された1対の側板42を有している。それら1対の側板42の各々には、互い向かい合う面にコンベアベルトが周回可能に保持されており(図3では省略)、基板Sは、両端がそれらコンベアベルトに乗せられた状態で運ばれる。
基板保持・昇降装置24は、基台44と、基台44に支持されてコンベア装置22の中間部40の1対の側板42の間に位置するバックアップ台46とを備えている。このバックアップ台46は、基台44に配設されたバックアップ台昇降機構によって昇降可能とされており、コンベア装置22によって中間部40の所定の位置まで搬送された基板Sを、自身が上昇することによって、下方から持ち上げる。また、基板保持・昇降装置24は、1対の挟持体48を有して基台44に支持されたクランプ50を備えており、このクランプ50は、バックアップ台46によって持ち上げられた基板Sを、それの端部において挟持する。クランプ50は、基板Sを挟持した状態において、基台44に配設されたクランプ昇降機構によってバックアップ台46とともに昇降可能とされている。
マーク撮像装置34は、コンベア装置22および,基板保持・昇降装置24の上方、かつ、マスク保持装置26の下方に、それらに挟まれるようにして配設されている。マーク撮像装置34は、基板搬送方向に延びる1対のガイドレール52と、水平かつ基板搬送方向に直角な方向(以下、「前後方向」という場合がある)に延びるとともに1対のガイドレール52によってガイドされて基板搬送方向に移動可動な可動ビーム54と、可動ビーム54を移動させるビーム移動機構56と、可動ビーム54によってガイドされ前後方向に移動可能なスライド58と、スライド58を前後方向に移動させるスライド移動機構60と、スライド58に保持されたカメラ62とを有している。カメラ62は、下方をもまた上方をも撮像可能とされており、左右方向および前後方向に移動させられて、基板保持・昇降装置24によって保持された基板Sの表面(詳しくは、上面)とマスク保持装置26によって保持されたマスクM(図2参照、「スクリーン」,「スクリーンマスク」,「マスクスクリーン」等と呼ばれることもある)の下面との各々の任意の位置に付された位置基準マークを撮像可能とされている。
図4に、コンベア装置22,基板保持・昇降装置24,クリーニング装置32を示す。クリーニング装置32は、マーク撮像装置34の上方、かつ、マスク保持装置26の下方に、それらに挟まれるようにして配設されている。クリーニング装置32は、マスクMの下面をクリーニングするものであり、ベースフレーム20を構成してそれぞれが前後方向に延びる1対の支持ビーム64(チャンネル形状の部材と板状の部材とが接合されたものであり、図2を参照のこと)の下面に固定された1対のガイドレール66と、一対のガイドレール66によってガイドされて前後方向に移動可能なクリーニングユニット68と、そのクリーニングユニット68を前後方向に移動させるクリーニングユニット移動機構70とを有している。クリーニングユニット68は、よく知られたものであるため、ここでの説明は省略する。
図5に、マスク保持装置26,位置調整装置28,スキージ装置30を示す。それらは、ベースフレーム20を構成するコラム72に上架された1対の支持ビーム74に、支持されている。マスク保持装置26は、1対の支持ビーム74にそれぞれ支持された1対の保持桿76を有している。マスクMはマスク枠78に取り付けられており、1対の保持桿76は、このマスク枠78を保持している。ちなみに、マスクMの交換の際には、マスク枠78ごと交換される。1対の保持桿76の各々に対し、その各々の2か所の部位の位置を前後左右に変位させる1対の調整機構80を有している。それら2対の調整機構80によって、位置調整装置28が構成されており、その位置調整装置28によって、マスクMの位置調整(回転位置調整つまり姿勢調整を含む概念である)が行われる。詳しく言えば、位置調整装置28は、基板保持・昇降装置24によって保持された基板Sに対しての、その基板Sの表面に平行な一平面に沿ったマスクMの位置である対基板マスク位置を調整する機能を有している。
スキージ装置30は、可動ビーム82と、可動ビーム82に保持されたスキージユニット84とを含んで構成されている。可動ビーム82は、左右方向に延びる姿勢で、両端が1対の支持ビーム74に設けられた1対のガイドレール86によって支持され、前後方向に移動可能とされている。可動ビーム82が可動ビーム移動機構88によって移動させられる。スキージユニット84は、前後に並んで配置された1対のスキージ90と、1対のスキージ90をそれぞれ昇降させる1対のスキージ昇降機構92とを含んで構成されている。
マスクMには、後に詳しく説明するが、はんだパターンの多数の部位に対応して多数の小さな開口が形成されている。基板SがマスクMの下面に接触させられた状態において、マスクMの上面に供給されたはんだが、スキージ90がマスクMの上面に接触した状態で移動させられることによって、マスクMに形成された開口内にはんだが充填されることで、そのはんだがその開口を通って基板表面に付着させられ、謄写されるようにしてはんだパターンが印刷される。ちなみに、1対のスキージ90が交互に、方向を変えて移動させられて、はんだパターンの印刷は行われ、供給されたはんだは、印刷の際、1対のスキージ90の間において、あたかもロール状になって転がるようにしてマスクMの表面を移動する。
コンベア装置22等の上記各装置の作動の制御は、ベースフレーム20の下部に配設された制御装置94によって行われる(図2参照)。制御装置94は、コンピュータを中心的な構成要素とし、各装置のドライバ(駆動回路)を含んで構成されている。なお、制御装置94には、表示器,操作スイッチ等を含んで構成される操作パネル96(図1参照)が接続されている。
上記のように構成された印刷機10による印刷作業では、まず、コンベア装置22の搬入部36によって、印刷作業に供される基板Sが受け取られ、その基板Sは、搬入部36と中間部40とが協働することによって、中間部40の所定の位置、つまり、印刷作業位置まで搬送される。次に、基板保持・昇降装置24のバックアップ台46が上昇させられることによって、その基板Sが、コンベアから、クランプ50によって挟持可能な位置、つまり、クランプ位置まで持ち上げられ、その位置において、クランプ50によって挟持される。その状態において、マーク撮像装置34のカメラ62によって、その基板Sの表面(上面)に付された基板IDマークおよび基準マークが読み取られるとともに、マスクMの下面に付されている基準マークが読み取られる。それらの読取情報は、制御装置94によって処理され、その基板SのIDが認識されるとともに、基板SとマスクMとの位置ズレ量、すなわち、上記対基板マスク位置が認識される。認識された位置ズレ量に基づいて、位置調整装置28によって、基板Sの位置に合わせたマスクMの位置の調整、すなわち、対基板マスク位置の調整が行われる。この対基板マスク位置の調整については、後に詳しく説明する。
上記対基板マスク位置の調整の後、基板Sは、クランプ50によって挟持されたままで、マスクMの下面に当たり付く位置まで、バックアップ台46とともに持ち上げられる。基板Sがその位置まで持ち上げられた状態において、スキージ装置30によって、はんだパターンの印刷が行われる。具体的には、通常、1対のスキージ90の一方がマスクMの上面に当接した状態で、スキージユニット84が、前方から後方へ、若しくは、後方から前方へ、1回移動させられることによって行われる。この動作、つまり、印刷が完了した基板Sは、バックアップ台46とともに、クランプ位置まで下降させられ、その位置においてクランプ50による挟持が解除された後、バックアップ台46がさらに下降することによって、その基板Sは、コンベアに載置される。その後、基板Sは、コンベア装置22の中間部40および搬出部38が協働して搬出部38に搬送され、搬出部38によって、当該印刷機10の下流側に搬出される。なお、認識されたIDに関する情報は、印刷完了情報とともに送信される。
[C]マスクの歪の問題
マスクMは、概して矩形形状をなす相当に薄いステンレス製のものであり、図6に示すように、4辺がマスク枠78に保持されている。印刷後の基板Sからの離脱、すなわち、版離れが良好なように、ピンと張られた状態で保持されている。つまり、マスクMの表面に平行な平面に沿った方向にテンションが掛けられている。そのテンションが適正となるように、外周部が、メッシュ100とされている。はんだパターンを印刷するための開口102は、中央部に形成されている。ちなみに、マスクMには、多数の開口102が穿設されているが、図では、一部だけが描かれて、他は省略されている。
マスクMには、上述したように、基板Sの基準マークに対応して、基準マーク104が付されている。一例ではあるが、基板Sの基準マークは、基板Sの互いに向かい合う2辺の中央に設けられており、マスクMの基準マーク104も、基板Sの2つの基準マークにそれぞれ対応する位置に、2つ設けられている。
マスクMが相当に薄いこと、マスクMに多数の開口102が穿設されていること、マスクMにテンションが掛けられていることから、マスクMが歪むことが予測される。図6にでは、2点鎖線で示す基板Sの理論形状L*が実線Lで示す形状となるようにマスクMが歪んでしまっている状態を、極端に示している。このような歪は、開口102のズレを生じさせ、印刷されたはんだパターンの位置精度を悪化させることにつながる。
マスクMの歪についてさらに説明すれば、マスクMに歪が生じると、マスクMの表面に沿った平面内におけるマスクMの特定の箇所の位置がズレてしまうことになる。本印刷機10では、マスクMの表面に沿った平面をXY平面とし、2つの基準マーク104を結ぶ線の中点を原点とするXY座標(線分に平行な軸がX軸であり、線分に直角な軸がY軸である)を規定した場合、マスクMの特定の箇所の実際の座標位置(X,Y)の理論上の座標位置(X*,Y*)に対しての変位を、その特定の箇所のマスクMのXY平面におけるズレ、すなわち、マスク内位置ズレ(実際には、理論上の座標位置と実際の座標位置との距離)と認定するようにされている。そして、本印刷機10は、いくつかの箇所のマスク内位置ズレを取得し、取得したそのマスク内位置ズレに基づいて、印刷の際のマスクMの基板Sに対する位置の調整、すなわち、対基板マスク位置の調整を行うとともに、いずれかの箇所のマスク内位置ズレがある程度大きくなっている場合に、その旨を外部に報知するようにされている。
ちなみに、図6に示すマスクMでは、マスクMの歪の程度を判断するための特定の箇所として、9つの歪判定箇所P1~P9が設定されており、それらそれぞれに、上述の基準マーク104とは別に、特定のマークとしての歪判定用マーク106が付設されている。また、印刷後の基板Sにおけるはんだパターンのズレを管理するための特定の箇所として、3つの管理領域RA,RB,RCが設定されている。いずれの管理領域もマスクMの歪が生じ易いと想定されている位置である。また、管理領域RAの内の開口102によるはんだパターンは、基板Sにおける印刷位置について特に高い精度が要求されている。
なお、図では、管理領域RA,RB,RCの理論上の座標位置を、それぞれ、RA(X*,Y*),RB(X*,Y*),RC(X*,Y*)と、実際の座標位置を、それぞれ、RA(X,Y),RB(X,Y),RC(X,Y)と、マスク内位置ズレを、それぞれ、ΔRA,ΔRB,ΔRCと表している。歪判定箇所P1~P9についても、それぞれ、理論上の座標位置を、P1(X*,Y*)~P9(X*,Y*)と、実際の座標位置を、P1(X,Y)~P9(X,Y)と、マスク内位置ズレを、ΔP1~ΔP9と表すが、図では省略している。ちなみに、管理領域RA,RB,RCのマスク内位置ズレΔRA,ΔRB,ΔRCは、図では、極端ではあるが、ΔRA>ΔRB>ΔRCとなっていることが示されている。また、図では、歪判定箇所P1についてだけ、理論上の座標位置P1(X*,Y*)が実際の座標位置P1(X,Y)となって、マスク内位置ズレΔP1が存在していることを示しているようにされているが、他の歪判定箇所P1~P9についてのマスク内位置ズレΔP1~ΔP9等については省略している。
[D]マスクの歪に関連して制御装置が行う処理
制御装置94は、印刷を行う際に、基板Sがクランプ50によって挟持されたときに、図7にフローチャートを示すマスク歪判定・位置調整プログラムを実行する。以下、そのフローチャートに沿って、マスク内位置ズレの取得,対基板マスク位置の調整等に関して制御装置94が実行する処理について説明する。
マスク歪判定・位置調整プログラムに従う処理では、まず、ステップ1(以下、「S1」と略す。他のステップも同様である)において、クランプされた基板Sに付された基板IDマークをマーク撮像装置34によって撮像させ、その基板SのIDを取得するとともに、その基板Sの基準マークをマーク撮像装置34によって撮像させ、その撮像によって得られた撮像データに基づいて、クランプされた基板Sの位置(回転姿勢をも含む概念である)を取得する。続くS2では、マスクMに付された基準マーク104をマーク撮像装置34によって撮像させ、その撮像によって得られた撮像データに基づいて、マスクMの位置(回転姿勢をも含む概念である)を取得するとともに、上述したXY座標、すなわち、マスク座標を設定する。
続いて、S3において、歪判定箇所P1~P9をマーク撮像装置34によって撮像させ、マスク座標における歪判定箇所P1~P9の位置ズレ、すなわち、歪判定箇所P1~P9のマスク内位置ズレΔP1~ΔP9を取得する。そして、S4において、マスクMの歪が大きいか否かが判定される。具体的には、取得されたマスク内位置ズレΔP1~ΔP9のいずれかが、設定値(閾値)ΔPTH以上である場合、マスクMの歪が大きいと判定される。マスクMの歪が大きいと判定された場合、S5において、その旨が、操作パネル96を介してオペレータに報知される。
マスクの歪が大きくはないと判定された場合、S6において、管理領域RA,RB,RCをマーク撮像装置34によって撮像させ、管理領域RA,RB,RCのマスク座標における位置ズレ、すなわち、マスク内位置ズレΔRA,ΔRB,ΔRCが取得される。ちなみに、管理領域RA,RB,RCには特定のマークは付されておらず、それらの管理領域ΔRA,ΔRB,ΔRCに存在する開口102が撮像され、その撮像された開口102のマスク内位置ズレが、管理領域RA,RB,RCのマスク内位置ズレΔRA,ΔRB,ΔRCとして認定される。
本印刷機10では、基板Sに対するマスクMの位置、すなわち、対基板マスク位置の調整についてのモード(以下、「位置決めモード」という場合がある)として、2つのモード、具体的には、重点モードと平均モードの2つが準備されている。マスクMによる印刷作業に対して、それらのモードのいずれかが設定されている。平均モードは、3つの管理領域RA,RB,RCの各々の対基板位置ズレが平均化するように、詳しく言えば、3つの管理領域RA,RB,RCの対基板位置ズレの平均が最も小さくなるように、マスクMを基板Sに対して位置決めするモードであり、重点モードは、はんだパターンの印刷位置に最も高い精度が要求される領域、すなわち、図6に示すマスクMでは管理領域RAの対基板位置ズレが0となるように、マスクMを基板Sに対して位置決めするモードである。なお、重点モードにおける他の管理領域については、それら管理領域の対基板位置ズレができるだけ小さくなるように、マスクMが基板Sに対して位置決めされる。具体的には、図6に示すマスクMでは、管理領域RB,RCの対基板位置ズレの平均が最も小さくなるように、マスクMが基板Sに対して位置決めされる。さらに言えば、歪判定箇所P1~P9のマスク内位置ズレΔP1~ΔP9による判定によって歪は大きくないと判定されたマスクMであれば、平均モードでマスクMを基板Sに位置決めした場合には、管理領域RA,RB,RCのいずれの対基板位置ズレも、ある値より大きくなることはないため、平均モードは、複数の管理領域のいずれにおいても対基板位置ズレが設定値以下となるように、マスクMが基板Sに対して位置決めされることになる。
本プログラムに従う処理では、S7において、位置決めモードが、平均モードと重点モードとのいずれに設定されているかが判断される。位置決めモードが平均モードに設定されている場合、S8において、管理領域RA,RB,RCの各々の対基板位置ズレが平均化されるように、対基板マスク位置、詳しく言えば、対基板マスク位置を調整するための調整量δ(X,Y,θ)(以下、「対基板マスク位置調整量」という場合があり、X方向,Y方向,回転方向のそれぞれの補正量と考えることができる)が演算で求められる。一方で、位置決めモードが重点モードに設定されている場合は、S9において、管理領域RAの対基板位置ズレが0となるように、対基板マスク位置調整量が演算で求められる。S8,S9における、対基板マスク位置調整量の演算は、S1,S2で取得された基板Sの位置、マスクMの位置に基づいて行われる。演算の詳細については、単に数学的な手法によればよいため、ここでの説明は省略する。
続くS10では、S8若しくはS9において求められた対基板マスク位置調整量が、今回の印刷作業における対基板マスク位置調整量として決定され、S11では、対基板マスク位置調整量によるマスクMの位置決めを行った場合の管理領域RA,RB,RCの各々の対基板位置ズレが特定される。
そして、S12において、決定された対基板マスク位置調整量に基づいて、位置調整装置28に、マスクMの基板Sに対しての位置調整を行わせ、位置調整の後、S13において、印刷が行われる。具体的には、制御装置94は、基板保持,昇降装置24によって基板Sを上昇させるとともに、スキージ装置30によってはんだを基板Sに付着させる。
印刷の後、S14において、特定されていた管理領域RA,RB,RCの各々の対基板位置ズレについてのデータが、S1によって取得された基板IDとともに、下流側に配置されている検査機12,部品装着機14に送信され、当該マスク歪判定・位置調整プログラムの1回の実行が終了させられる。送信されたデータは、例えば、検査機12において、はんだパターンの位置精度に関する合否判定をする際の閾値の設定に用いられ、部品装着機14において、部品の装着精度の向上のために用いられる。
なお、上記プログラムに従う処理では、歪判定箇所P1~P9のマスク内位置ズレΔP1~ΔP9による判定において、特定のマークである歪判定用マークが用いられていたが、いずれかの開口102が穿設されている箇所を歪判定箇所とし、その開口102の撮像によって得られた撮像データに基づいて、その開口102のマスク内位置ズレを取得するようにしてもよい。また、上記プログラムに従う処理では、管理領域のマスク内位置ズレを取得する際、その領域内の開口102を撮像して得られた撮像データを利用していたが、その領域内に特定のマークを設け、そのマークを撮像して得られた撮像データを利用して、その領域のマスク内位置ズレを取得するようにしてもよい。
10:はんだ印刷機 20:ベースフレーム 22:基板搬送コンベア装置 24:基板保持・昇降装置〔基板保持装置〕 26:マスク保持装置 28:位置調整装置 30:スキージ装置 34:マーク撮像装置〔撮像装置〕 78:マスク枠 90:スキージ 94:制御装置 96:操作パネル 100:メッシュ 102:開口 104:基準マーク 106:歪判定用マーク〔特定のマーク〕 M:マスク S:基板 RA,RB,RC:管理領域 P1~P9:歪判定箇所 ΔRA,ΔRB,ΔRC,ΔP1~ΔP9:マスク内位置ズレ δ(X,Y,θ):対基板マスク位置調整量

Claims (4)

  1. 基板に電子部品を実装して電子回路を製造する実装ラインであって、
    クリーム状のはんだを基板に付着させることによって、その基板に、そのはんだによるパターンを印刷するはんだ印刷機と、
    前記はんだ印刷機の下流に配置された装置と
    を備え、
    前記はんだ印刷機が、
    基板を保持する基板保持装置と、
    複数の開口が設けられ、印刷の際に基板の表面に接触させられるマスクを保持するマスク保持装置と、
    スキージを有し、そのスキージをマスクの上面を移動させることで、マスクの上面に供給されているクリーム状のはんだを、前記複数の開口を通して、前記基板保持装置に保持された基板に付着させるスキージ装置と、
    前記マスク保持装置によって保持されたマスクの位置であって、前記基板保持装置によって保持された基板に対しての、その基板の表面に平行な一平面に沿った位置である対基板マスク位置を取得するために、そのマスクの表面を撮像する撮像装置と、
    印刷の際、前記基板保持装置に対して前記マスク保持装置によって保持されたマスクを動かすことで、前記対基板マスク位置を調整する位置調整装置と、
    当該はんだ印刷機の制御を司る制御装置と
    を備え、
    前記制御装置が、
    マスクの歪の程度を判断するためにマスクの特定の箇所である歪判定箇所に設けられた特定のマークと、マスクに設けられた2以上の基準マークとの、前記撮像装置による撮像データに基づいて、マスクにおける前記歪判定箇所のズレである歪判定箇所マスク内位置ズレを取得し、その歪判定箇所マスク内位置ズレが設定値より小さいと判定した場合に、はんだパターンの位置ズレを管理するための特定の箇所である管理領域に設けられた前記複数の開口のうちのいずれかと、2以上の基準マークとの、前記撮像装置による撮像データに基づいて、マスクにおける前記管理領域のズレである管理領域マスク内位置ズレを取得し、印刷の際、その管理領域マスク内位置ズレに基づいて、前記管理領域とその管理領域に対応する基板の箇所との位置ズレである対基板位置ズレが、設定値以下となるように、前記位置調整装置によって前記対基板マスク位置を調整させるように構成され、かつ、印刷の際に調整された対基板マスク位置についてのデータを、当該はんだ印刷機の外部に送信可能に構成され、
    前記はんだ印刷機の下流に配置された前記装置が、前記対基板マスク位置についてのデータを受信することを特徴とする実装ライン。
  2. それぞれが前記管理領域となる複数の箇所がマスクに設定されており、
    前記はんだ印刷機において、前記制御装置が、
    印刷の際、前記複数の箇所の各々の管理領域マスク内位置ズレに基づいて、前記複数の箇所の1つとその1つに対応する基板の箇所との位置ズレである対基板位置ズレが、前記複数の箇所のいずれにおいても設定値以下となるように、前記位置調整装置によって前記対基板マスク位置を調整させるように構成された請求項1に記載の実装ライン。
  3. それぞれが前記管理領域となる複数の箇所がマスクに設定されており、
    前記はんだ印刷機において、前記制御装置が、
    印刷の際、前記複数の箇所の各々の管理領域マスク内位置ズレに基づいて、前記複数の箇所の各々とその各々に対応する基板の箇所との位置ズレである対基板位置ズレが、平均化するように、前記位置調整装置によって対基板マスク位置を調整させるように構成された請求項1に記載の実装ライン。
  4. 前記はんだ印刷機において、前記制御装置が、
    取得された前記歪判定箇所マスク内位置ズレが閾値以上となっている場合に、その旨を、当該はんだ印刷機の外部に報知するように構成された請求項1ないし請求項3のいずれか1つに記載の実装ライン。
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