JP7063680B2 - Image processing equipment, foreign matter inspection equipment, image processing method, and foreign matter inspection method - Google Patents

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Description

本発明は、画像処理装置、異物検査装置、画像処理方法、および異物検査方法に関する。 The present invention relates to an image processing apparatus, a foreign matter inspection apparatus, an image processing method, and a foreign matter inspection method.

リチウムイオン二次電池等の非水電解液二次電池は、パーソナルコンピュータ、携帯電話、および携帯情報端末等の電池として広く使用されている。とりわけ、リチウムイオン二次電池は、従前の二次電池と比較して、COの排出量を削減し、省エネに寄与する電池として、注目されている。 Non-aqueous electrolyte secondary batteries such as lithium ion secondary batteries are widely used as batteries for personal computers, mobile phones, mobile information terminals and the like. In particular, the lithium ion secondary battery is attracting attention as a battery that reduces CO 2 emissions and contributes to energy saving as compared with the conventional secondary battery.

従来、非水電解液二次電池用セパレータがコアに対して捲回されてなるセパレータ捲回体の開発が進められている。併せて、このセパレータ捲回体に付着した異物を検出する異物検査が検討されている。 Conventionally, the development of a separator winder in which a separator for a non-aqueous electrolytic solution secondary battery is wound around a core has been promoted. At the same time, a foreign matter inspection for detecting a foreign matter adhering to the separator winding body is being studied.

上記異物検査への適用が可能な検査の一例として、特許文献1に開示されている技術が挙げられる。特許文献1に開示されている技術においては、検査対象物の画像データから、各画素の濃度値を積算して積算値を算出し、この積算値を所定の閾値と比較することにより、欠陥を検出する。 As an example of the inspection applicable to the foreign matter inspection, the technique disclosed in Patent Document 1 can be mentioned. In the technique disclosed in Patent Document 1, defects are found by integrating the density values of each pixel from the image data of the inspection target and calculating the integrated value, and comparing the integrated value with a predetermined threshold value. To detect.

特開2005-265467号公報(2005年9月29日公開)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-265467 (published on September 29, 2005)

特許文献1に開示されている技術においては、欠陥である異物の有無を検出し、さらに当該異物に対応する範囲に基づいて当該異物の平面的なサイズを推定することができるが、当該異物の立体的なサイズを推定することが困難であるという問題が発生する。 In the technique disclosed in Patent Document 1, the presence or absence of a foreign substance that is a defect can be detected, and the planar size of the foreign substance can be estimated based on the range corresponding to the foreign substance. The problem arises that it is difficult to estimate the three-dimensional size.

本発明の一態様は、異物の立体的なサイズを推定することを可能とする、画像処理装置、異物検査装置、画像処理方法、および異物検査方法を実現することを目的とする。 One aspect of the present invention is to realize an image processing apparatus, a foreign matter inspection apparatus, an image processing method, and a foreign matter inspection method capable of estimating a three-dimensional size of a foreign matter.

上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る画像処理装置は、異物を含む検査対象物を透過した電磁波の画像に対して画像処理を行う画像処理装置において、上記画像を構成する多数の画素それぞれに対応した第1画素値を記憶する記憶部と、上記各画素において、上記各第1画素値と上記異物を含まない検査対象物による減衰後の第1画素値に相当する背景値との差に比例する、上記各画素の第2画素値を算出する画素値演算部と、特定の連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する画素値積算部と、を備える。 In order to solve the above-mentioned problems, the image processing apparatus according to one aspect of the present invention constitutes the above-mentioned image in an image processing apparatus that performs image processing on an image of an electromagnetic wave transmitted through an inspection object containing a foreign substance. A storage unit that stores the first pixel value corresponding to each of a large number of pixels, and a background corresponding to each of the first pixel values and the first pixel value after attenuation by the inspection object containing no foreign matter in each of the pixels. It includes a pixel value calculation unit that calculates the second pixel value of each pixel, which is proportional to the difference from the value, and a pixel value integration unit that integrates each second pixel value of the pixel group belonging to a specific continuous region. ..

上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る画像処理方法は、異物を含む検査対象物を透過した電磁波の画像に対して画像処理を行う画像処理方法において、上記画像を構成する多数の画素それぞれに対応した第1画素値を記憶する記憶工程と、上記各画素において、上記各第1画素値と上記異物を含まない検査対象物による減衰後の第1画素値に相当する背景値との差に比例する、上記各画素の第2画素値を算出する画素値演算工程と、特定の連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する画素値積算工程と、を含む。 In order to solve the above-mentioned problems, the image processing method according to one aspect of the present invention constitutes the above-mentioned image in an image processing method for performing image processing on an image of an electromagnetic wave transmitted through an inspection object containing a foreign substance. A storage process for storing the first pixel value corresponding to each of a large number of pixels, and a background corresponding to each of the first pixel values and the first pixel value after attenuation by an inspection object containing no foreign matter in each of the pixels. It includes a pixel value calculation step of calculating the second pixel value of each pixel, which is proportional to the difference from the value, and a pixel value integration step of integrating each second pixel value of a pixel group belonging to a specific continuous region. ..

特に、本発明の一態様に係る画像処理装置および画像処理方法において、上記各画素の第2画素値は、上記各画素における、上記各第1画素値と上記背景値との差の、当該背景値に対する比率である。 In particular, in the image processing apparatus and image processing method according to one aspect of the present invention, the second pixel value of each pixel is the background of the difference between the first pixel value and the background value in each pixel. The ratio to the value.

上記の構成によれば、第2画素値が、異物における画素に対応する部分の厚みに応じた値となる。そして、特定の連続領域に属する複数の画素それぞれの第2画素値を積算した値が、異物における当該複数の画素に対応する部分の体積に応じた値となる。従って、異物の一部又は全部の体積を推定することができるため、ある一定以上の体積を有する異物の有無を判定することができる。つまり、上記の構成によれば、異物の立体的なサイズを推定することが可能となる。 According to the above configuration, the second pixel value is a value corresponding to the thickness of the portion corresponding to the pixel in the foreign matter. Then, the value obtained by integrating the second pixel values of each of the plurality of pixels belonging to the specific continuous region becomes a value corresponding to the volume of the portion of the foreign substance corresponding to the plurality of pixels. Therefore, since the volume of a part or all of the foreign matter can be estimated, the presence or absence of the foreign matter having a certain volume or more can be determined. That is, according to the above configuration, it is possible to estimate the three-dimensional size of the foreign matter.

本発明の一態様に係る画像処理装置において、上記画素値積算部は、上記多数の画素それぞれを注目画素とし、当該注目画素を包含する上記連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する。 In the image processing apparatus according to one aspect of the present invention, the pixel value integrating unit uses each of the large number of pixels as the pixel of interest and integrates the second pixel value of each pixel group belonging to the continuous region including the pixel of interest. do.

本発明の一態様に係る画像処理方法は、上記画素値積算工程にて、上記多数の画素それぞれを注目画素とし、当該注目画素を包含する上記連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する。 In the image processing method according to one aspect of the present invention, in the pixel value integration step, each of the large number of pixels is set as a pixel of interest, and each second pixel value of the pixel group belonging to the continuous region including the pixel of interest is set. Accumulate.

上記の構成によれば、検出下限値として設定する異物の体積に概ね対応した連続領域を設定し、当該異物に対応する積算値を閾値として用いることにより、検出下限値以上の体積を有する異物を選択的に検出することができる。 According to the above configuration, a continuous region substantially corresponding to the volume of the foreign matter set as the lower limit of detection is set, and the integrated value corresponding to the foreign matter is used as the threshold value to obtain the foreign matter having a volume equal to or larger than the lower limit of detection. It can be detected selectively.

本発明の一態様に係る画像処理装置において、上記画素値積算部は、閾値よりも減衰量が大きい値を示す第2画素値を有し、かつ、連続領域をなす複数の画素それぞれの第2画素値を積算する。 In the image processing apparatus according to one aspect of the present invention, the pixel value integrating unit has a second pixel value indicating a value whose attenuation is larger than a threshold value, and is a second pixel of each of a plurality of pixels forming a continuous region. Pixel values are integrated.

本発明の一態様に係る画像処理方法は、上記画素値積算工程にて、閾値よりも減衰量が大きい値を示す第2画素値を有し、かつ、連続領域をなす複数の画素それぞれの第2画素値を積算する。 The image processing method according to one aspect of the present invention has a second pixel value indicating a value whose attenuation is larger than a threshold value in the pixel value integration step, and is the first of each of a plurality of pixels forming a continuous region. 2 Pixel values are integrated.

上記の構成によれば、閾値よりも減衰量が大きい値を示す第2画素値を有し、かつ、連続領域をなす複数の画素は、1つの独立した異物に対応するものとみなすことができる。従って、1つの独立した異物の体積を推定することができる。 According to the above configuration, a plurality of pixels having a second pixel value indicating a value whose attenuation is larger than the threshold value and forming a continuous region can be regarded as corresponding to one independent foreign substance. .. Therefore, the volume of one independent foreign body can be estimated.

本発明の一態様に係る異物検査装置は、上記画像処理装置を備える。 The foreign matter inspection device according to one aspect of the present invention includes the above-mentioned image processing device.

本発明の一態様に係る異物検査方法は、上記画像処理方法を含む。 The foreign matter inspection method according to one aspect of the present invention includes the above image processing method.

上記の構成によれば、上記異物検査装置および上記異物検査方法は、それぞれ、上記画像処理装置および上記画像処理方法と同様の効果を奏する。 According to the above configuration, the foreign matter inspection apparatus and the foreign matter inspection method have the same effects as the image processing apparatus and the image processing method, respectively.

本発明の一態様によれば、異物の立体的なサイズを推定することが可能となる。 According to one aspect of the present invention, it is possible to estimate the three-dimensional size of a foreign substance.

本発明の一態様に係る異物検査装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows the schematic structure of the foreign matter inspection apparatus which concerns on one aspect of this invention. イメージセンサの主面の平面図である。It is a top view of the main surface of an image sensor. 複数の参照画素の設定例を示す平面図である。It is a top view which shows the setting example of a plurality of reference pixels. 画像処理装置による画像処理の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of image processing by an image processing apparatus. 記憶部によって記憶された各第1画素値を、図2に示した多数の画素それぞれと対応付けて示している。Each first pixel value stored by the storage unit is shown in association with each of the large number of pixels shown in FIG. 図5に示した各第1画素値、および各画素について設定された背景値に基づいて、画素値演算部によって算出された各第2画素値を、図2に示した多数の画素それぞれと対応付けて示している。Each second pixel value calculated by the pixel value calculation unit based on each first pixel value shown in FIG. 5 and the background value set for each pixel corresponds to each of a large number of pixels shown in FIG. It is attached and shown. 図6に示した各第2画素値に基づいて、画素値積算部によって積算された各積算値を、図2に示した多数の画素それぞれと対応付けて示している。Based on each second pixel value shown in FIG. 6, each integrated value integrated by the pixel value integrating unit is shown in association with each of the large number of pixels shown in FIG. 電磁波発生源における電磁波の発生部分の中心と、ある1画素の四隅とによって構成される四角錐を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the quadrangular pyramid which consists of the center of the electromagnetic wave generation part in the electromagnetic wave generation source, and the four corners of a certain pixel. 図1に示す異物検査装置の第1変形例の概略構成を示す図である。It is a figure which shows the schematic structure of the 1st modification of the foreign matter inspection apparatus shown in FIG. 1. 図1に示す異物検査装置の第2変形例の概略構成を示す図である。It is a figure which shows the schematic structure of the 2nd modification of the foreign matter inspection apparatus shown in FIG. 回転機構による検査対象物の回転を説明する図である。It is a figure explaining the rotation of an inspection object by a rotation mechanism. 電磁波としてX線を用いた異物検査装置における、画素値積算部の有効性について検証を行った結果を示す表である。It is a table which shows the result of having verified the effectiveness of the pixel value integrating part in the foreign matter inspection apparatus which used X-ray as an electromagnetic wave.

図1は、本発明の一態様に係る異物検査装置100の概略構成を示す図である。図2は、イメージセンサ3の主面31の平面図である。 FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a foreign matter inspection device 100 according to an aspect of the present invention. FIG. 2 is a plan view of the main surface 31 of the image sensor 3.

異物検査装置100は、検査対象物1に付着した異物13を検出するものである。検査対象物1は、非水電解液二次電池用セパレータ12がコア11に対して捲回されてなるセパレータ捲回体である。但し、検査対象物1は、非水電解液二次電池用セパレータ12以外のフィルムがコア11に対して捲回されてなるものであってもよいし、フィルムがコア11に対して捲回されてなるものでなくてもよい。異物検査装置100は、電磁波発生源2、イメージセンサ3、および画像処理装置4を備えている。 The foreign matter inspection device 100 detects the foreign matter 13 adhering to the inspection object 1. The inspection object 1 is a separator wound body in which a separator 12 for a non-aqueous electrolytic solution secondary battery is wound around a core 11. However, the inspection object 1 may be a film other than the separator 12 for a non-aqueous electrolytic solution secondary battery wound around the core 11, or the film is wound around the core 11. It does not have to be. The foreign matter inspection device 100 includes an electromagnetic wave generation source 2, an image sensor 3, and an image processing device 4.

電磁波発生源2は、検査対象物1の側面の一方に対して電磁波21を照射する。電磁波21は、検査対象物1および異物13を透過して、検査対象物1の側面の他方から出る。検査対象物1のそれぞれの側面とは、非水電解液二次電池用セパレータ12の幅方向端部それぞれによって構成された面である。非水電解液二次電池用セパレータ12の幅方向とは、非水電解液二次電池用セパレータ12の面に沿った方向であって、非水電解液二次電池用セパレータ12の製造工程において非水電解液二次電池用セパレータ12が搬送される方向に対して垂直な方向である。ここでは、電磁波21として、電磁波発生源2から放射状に出射されるX線を適用している。 The electromagnetic wave generation source 2 irradiates one of the side surfaces of the inspection object 1 with the electromagnetic wave 21. The electromagnetic wave 21 passes through the inspection object 1 and the foreign matter 13 and exits from the other side of the inspection object 1. Each side surface of the inspection object 1 is a surface formed by each of the widthwise end portions of the separator 12 for a non-aqueous electrolytic solution secondary battery. The width direction of the separator 12 for a non-aqueous electrolyte secondary battery is the direction along the surface of the separator 12 for a non-aqueous electrolyte secondary battery, and is used in the manufacturing process of the separator 12 for a non-aqueous electrolyte secondary battery. The direction is perpendicular to the direction in which the separator 12 for the non-aqueous electrolytic solution secondary battery is conveyed. Here, as the electromagnetic wave 21, X-rays radially emitted from the electromagnetic wave generation source 2 are applied.

イメージセンサ3は、主面31を有している。主面31には、検査対象物1および異物13を透過した電磁波21を受け、この電磁波21の画像を構成する多数の画素32が設けられている。図示の便宜上、図2においては、多数の画素32のうち、15行15列の行列状に配置された225個の画素32を抜粋して示している。ここでは、イメージセンサ3として、X線イメージセンサを適用している。 The image sensor 3 has a main surface 31. The main surface 31 is provided with a large number of pixels 32 that receive the electromagnetic wave 21 transmitted through the inspection object 1 and the foreign matter 13 and constitute an image of the electromagnetic wave 21. For convenience of illustration, FIG. 2 shows an excerpt of 225 pixels 32 arranged in a matrix of 15 rows and 15 columns from a large number of pixels 32. Here, an X-ray image sensor is applied as the image sensor 3.

多数の画素32が構成する画像は、検査画像において背景をなす検査対象物1と、背景に対してコントラストのある異物13とを撮影した画像であると言える。 It can be said that the image composed of a large number of pixels 32 is an image obtained by photographing the inspection object 1 forming the background in the inspection image and the foreign matter 13 having contrast with respect to the background.

本実施形態では、異物13は、例えば金属異物など、透過するX線を、検査対象物1よりもより大きく減衰させる材質であるものとして説明する。この場合、多数の画素32が構成する画像は、異物13を含む検査対象物1を透過し、検査対象物1よりも検査対象物1に付着した異物13によってより大きく減衰された電磁波21の画像であるとも言える。 In the present embodiment, the foreign matter 13 will be described as being a material that attenuates the transmitted X-rays, such as a metallic foreign matter, more than the inspection target 1. In this case, the image composed of a large number of pixels 32 is an image of the electromagnetic wave 21 that has passed through the inspection object 1 including the foreign matter 13 and is more attenuated by the foreign matter 13 attached to the inspection object 1 than the inspection object 1. It can also be said that.

なお、異物13は、逆に、例えば検査対主物1内に形成された空洞欠陥(気泡)等、透過するX線を、検査対象物1よりもより小さく減衰させる材質であってもよい。この場合、多数の画素32が構成する画像は、異物13を含む検査対象物1を透過し、検査対象物1よりも検査対象物1に付着した異物13によってより小さく減衰された電磁波21の画像であるとも言える。 On the contrary, the foreign matter 13 may be made of a material that attenuates the transmitted X-rays, such as a cavity defect (air bubble) formed in the inspection object 1, to be smaller than that of the inspection object 1. In this case, the image composed of a large number of pixels 32 is an image of the electromagnetic wave 21 that has passed through the inspection object 1 including the foreign matter 13 and is attenuated smaller by the foreign matter 13 attached to the inspection object 1 than the inspection object 1. It can also be said that.

いずれも場合であっても、多数の画素32が構成する画像は、検査画像において背景をなす検査対象物1と、背景に対してコントラストのある異物13とを撮影した画像である。 In any case, the image composed of a large number of pixels 32 is an image obtained by photographing the inspection object 1 forming the background in the inspection image and the foreign matter 13 having contrast with respect to the background.

画像処理装置4は、多数の画素32が構成する画像に対して画像処理を行うものである。画像処理装置4は、記憶部41、画素値演算部42、背景値設定部43、および画素値積算部44を備えている。 The image processing device 4 performs image processing on an image composed of a large number of pixels 32. The image processing device 4 includes a storage unit 41, a pixel value calculation unit 42, a background value setting unit 43, and a pixel value integration unit 44.

記憶部41は、例えば周知の記憶媒体によって構成されている。記憶部41は、画像処理装置4が画像処理を行う上記の画像を構成する、多数の画素32それぞれに対応した画素値を記憶する。以下では、記憶部41が記憶する画素値を、第1画素値と呼ぶ。本願明細書において、第1画素値および後述する背景値は、対応する画像が明るい程大きい値になるものとしているが、当該画像の明るさに対する大小関係は反転していてもよい。 The storage unit 41 is composed of, for example, a well-known storage medium. The storage unit 41 stores pixel values corresponding to each of a large number of pixels 32 that constitute the above image for which the image processing device 4 performs image processing. Hereinafter, the pixel value stored in the storage unit 41 is referred to as a first pixel value. In the present specification, the first pixel value and the background value described later are assumed to be larger as the corresponding image is brighter, but the magnitude relationship with respect to the brightness of the image may be reversed.

図3は、複数の参照画素34の設定例を示す平面図である。図3において複数の参照画素34は、網掛けで図示された複数の画素32である。参照画素34は、後述するとおり、対応する注目画素33の背景値を設定するために必要な画素32である。 FIG. 3 is a plan view showing a setting example of a plurality of reference pixels 34. In FIG. 3, the plurality of reference pixels 34 are the plurality of pixels 32 shown in shading. As will be described later, the reference pixel 34 is a pixel 32 necessary for setting the background value of the corresponding pixel of interest 33.

画素値演算部42は、例えばCPU(Central Processing Unit)またはハードウェアロジックによって構成されている。以下では、一例として、図3に示す注目画素33について説明を行う。注目画素33は、後述するとおり、対応する複数の参照画素34により、その背景値が設定される画素32である。画素値演算部42は、多数の画素32それぞれを注目画素33とし、記憶部42に記憶された第1画素値に基づいて、当該注目画素33の第2画素値を算出する。換言すれば、画素値演算部42は、各画素32の第2画素値を算出する。 The pixel value calculation unit 42 is configured by, for example, a CPU (Central Processing Unit) or hardware logic. Hereinafter, the pixel of interest 33 shown in FIG. 3 will be described as an example. As will be described later, the pixel of interest 33 is a pixel 32 whose background value is set by the corresponding plurality of reference pixels 34. The pixel value calculation unit 42 uses each of the large number of pixels 32 as the pixel of interest 33, and calculates the second pixel value of the pixel of interest 33 based on the first pixel value stored in the storage unit 42. In other words, the pixel value calculation unit 42 calculates the second pixel value of each pixel 32.

ここで、注目画素33および上記各画素32のそれぞれに関し、第2画素値は、第1画素値と背景値との差の、当該背景値に対する比率である。当該背景値は、検査対象物1による電磁波21の減衰量に相当する値であると言える。つまり、注目画素33および上記各画素32のそれぞれに関し、第2画素値は、「(第1画素値-背景値)/背景値」である。第2画素値の演算結果は、当該背景値に対する当該差の比率を求めることから、相対濃度とも呼ばれる。 Here, with respect to each of the pixel of interest 33 and each of the above pixels 32, the second pixel value is the ratio of the difference between the first pixel value and the background value to the background value. It can be said that the background value corresponds to the amount of attenuation of the electromagnetic wave 21 by the inspection object 1. That is, the second pixel value is "(first pixel value-background value) / background value" with respect to each of the pixel of interest 33 and each of the above pixels 32. The calculation result of the second pixel value is also called a relative density because the ratio of the difference to the background value is obtained.

背景値設定部43は、例えばCPUまたはハードウェアロジックによって構成されている。背景値設定部43は、各注目画素33に関し、注目画素33の近傍に位置し、かつ、注目画素33に対して予め定められた位置関係にある参照画素34の第1画素値に基づき背景値とみなす値を定め、その値を注目画素33の背景値として設定する。ここで言う各注目画素33は、上記各画素32に相当する。 The background value setting unit 43 is configured by, for example, a CPU or hardware logic. The background value setting unit 43 has a background value based on the first pixel value of the reference pixel 34, which is located in the vicinity of the pixel of interest 33 and has a predetermined positional relationship with respect to the pixel of interest 33. A value to be regarded as is determined, and that value is set as a background value of the pixel of interest 33. Each pixel of interest 33 referred to here corresponds to each of the pixels 32.

画素値積算部44は、特定の連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する。 The pixel value integrating unit 44 integrates each second pixel value of the pixel group belonging to a specific continuous region.

図4は、画像処理装置4による画像処理の流れを示すフローチャートである。 FIG. 4 is a flowchart showing the flow of image processing by the image processing device 4.

多数の画素32が電磁波21の画像を構成すると、まず、記憶部41は、多数の画素32それぞれに対応した第1画素値を記憶する。この処理は、図4のステップS1に相当する。図5には、記憶部41によって記憶された各第1画素値を、図2に示した多数の画素32それぞれと対応付けて示している。図5は、上述した225個の画素32のうち、中央の5×5=25個の画素32が、検査対象物1および異物13によって減衰された電磁波21の画像を構成しており、その他の画素32が、検査対象物1によって減衰された電磁波21の画像を構成している例を示している。当該中央の25個の画素32は、画素群37に対応する。図5中、A1およびA2の定義は、以下のとおりである。 When a large number of pixels 32 form an image of the electromagnetic wave 21, the storage unit 41 first stores the first pixel value corresponding to each of the large number of pixels 32. This process corresponds to step S1 in FIG. FIG. 5 shows each first pixel value stored by the storage unit 41 in association with each of the large number of pixels 32 shown in FIG. In FIG. 5, among the above-mentioned 225 pixels 32, the central 5 × 5 = 25 pixels 32 constitute an image of the electromagnetic wave 21 attenuated by the inspection object 1 and the foreign matter 13. An example is shown in which the pixel 32 constitutes an image of the electromagnetic wave 21 attenuated by the inspection object 1. The 25 pixels 32 in the center correspond to the pixel group 37. In FIG. 5, the definitions of A1 and A2 are as follows.

A1:検査対象物1による電磁波21の減衰量に対応する第1画素値
A2:検査対象物1および異物13による電磁波21の減衰量に対応する第1画素値
続いて、背景値設定部43は、各画素32について、背景値を設定する。この処理は、図4のステップS2に相当する。背景値設定部43が背景値を設定することによって、異物検査装置100においては、以下の効果を奏する。
A1: First pixel value corresponding to the attenuation amount of the electromagnetic wave 21 due to the inspection object 1 A2: First pixel value corresponding to the attenuation amount of the electromagnetic wave 21 due to the inspection object 1 and the foreign matter 13 Next, the background value setting unit 43 , A background value is set for each pixel 32. This process corresponds to step S2 in FIG. By setting the background value by the background value setting unit 43, the foreign matter inspection device 100 has the following effects.

すなわち、上記の構成によれば、注目画素33の近傍に位置する参照画素34の第1画素値に基づき背景値を設定する。これにより、例えばX線による透過検査において、透過率が多少のバラツキを有するものの相対的に高い検査対象物1と、その検査対象物1に含まれ、透過率が相対的に低い異物13を検出する場合において、当該バラツキの影響を低減した第2画素値を得ることができる。そして、第2画素値を参照して異物13を検出することによって、高精度の異物検査が可能となる。 That is, according to the above configuration, the background value is set based on the first pixel value of the reference pixel 34 located in the vicinity of the attention pixel 33. As a result, for example, in a transmission inspection using X-rays, a relatively high inspection target 1 having a slight variation in transmittance and a foreign substance 13 contained in the inspection target 1 having a relatively low transmittance are detected. In this case, it is possible to obtain a second pixel value in which the influence of the variation is reduced. Then, by detecting the foreign matter 13 with reference to the second pixel value, high-precision foreign matter inspection becomes possible.

すなわち、上記の構成によれば、検査対象物1における透過率の分布をキャンセルすることができる。例えば、当該分布に対応する、検査対象物1内の位置に対する透過率の傾斜における等高線が直線でなくとも、その等高線の曲率が低ければ、背景値を概ね正確に、すなわちわずかの誤差で、設定することができ、ひいては正しい第2画素値を算出することができる。 That is, according to the above configuration, it is possible to cancel the distribution of the transmittance in the inspection object 1. For example, even if the contour line in the slope of the transmittance with respect to the position in the inspection object 1 corresponding to the distribution is not a straight line, if the curvature of the contour line is low, the background value is set almost accurately, that is, with a slight error. As a result, the correct second pixel value can be calculated.

ところで、本実施形態においては、電磁波発生源2は、電子を金属板に当てることでX線を発生させるが、電子が当たる場所が加熱されるため、電子を当てる当該金属板の場所を変えるべく当該金属板が振動される。これにより、電磁波発生源2は、当該X線を、点状ではなく面状で発生させる。この結果、電磁波発生源2が電磁波21として当該X線を照射する場合、撮影の度に、電磁波21の画像の明るさの分布にバラツキが生じ得る。また、電磁波21の画像に生じるノイズに起因して、撮影の度に、電磁波21の画像の明るさの分布にバラツキが生じ得る。このような場合であっても、上記の構成によれば、上記バラツキの影響を低減した第2画素値を得ることができる。 By the way, in the present embodiment, the electromagnetic wave generation source 2 generates X-rays by hitting an electron on a metal plate, but since the place where the electron hits is heated, the place where the electron hits the metal plate is changed. The metal plate is vibrated. As a result, the electromagnetic wave generation source 2 generates the X-rays in a planar shape instead of a dot shape. As a result, when the electromagnetic wave generation source 2 irradiates the X-ray as the electromagnetic wave 21, the distribution of the brightness of the image of the electromagnetic wave 21 may vary every time the image is taken. Further, due to the noise generated in the image of the electromagnetic wave 21, the distribution of the brightness of the image of the electromagnetic wave 21 may vary every time the image is taken. Even in such a case, according to the above configuration, it is possible to obtain a second pixel value in which the influence of the above variation is reduced.

第1画素値が極端に大きい画素32、および第1画素値が極端に小さい画素32を避けて参照画素34を設定することによって、背景値が所望の値から著しく離れることを防ぐことができる。結果、上記バラツキの影響を低減した第2画素値を得ることができる。 By setting the reference pixel 34 while avoiding the pixel 32 having an extremely large first pixel value and the pixel 32 having an extremely small first pixel value, it is possible to prevent the background value from being significantly deviated from the desired value. As a result, it is possible to obtain a second pixel value in which the influence of the above variation is reduced.

参照画素34は、少なくとも1つ設定されていればよいが、図3に示すように複数であることが好ましい。これにより、背景値とみなす値を定めるため使用可能な第1画素値の数が増えるため、背景値の設定方法の選択肢を広げることができる。当該選択肢について、以下に説明する。 At least one reference pixel 34 may be set, but it is preferable that the number of reference pixels 34 is a plurality as shown in FIG. As a result, the number of first pixel values that can be used to determine the value to be regarded as the background value increases, so that the options for setting the background value can be expanded. The options will be described below.

図3に示すように、複数の参照画素34は、対応する注目画素33を取り囲むように配置された複数の画素32であることが好ましい。 As shown in FIG. 3, the plurality of reference pixels 34 are preferably a plurality of pixels 32 arranged so as to surround the corresponding pixel of interest 33.

上記の構成によれば、背景値を設定するための値として相応しくない第1画素値を有する不適画素35が、ある参照画素34およびその近傍に集中して位置している場合に、複数の参照画素34に占める不適画素35の割合を小さくすることができる。従って、不適画素35の第1画素値が、背景値の設定に悪影響を及ぼす虞を低減することができる。 According to the above configuration, when unsuitable pixels 35 having a first pixel value that is not suitable as a value for setting a background value are concentrated in a certain reference pixel 34 and its vicinity, a plurality of references are made. The ratio of the unsuitable pixel 35 to the pixel 34 can be reduced. Therefore, it is possible to reduce the possibility that the first pixel value of the unsuitable pixel 35 adversely affects the setting of the background value.

すなわち、図3において、斜線が付された各画素32を不適画素35とすると、図中左上に複数の不適画素35が集中している。上記の構成によれば、不適画素35に該当する参照画素34も存在するが、不適画素35に該当しない参照画素34が多数存在している。このように、複数の参照画素34に占める不適画素35の割合を小さくすることができる。 That is, in FIG. 3, assuming that each of the shaded pixels 32 is an unsuitable pixel 35, a plurality of unsuitable pixels 35 are concentrated in the upper left of the figure. According to the above configuration, there are reference pixels 34 that correspond to the unsuitable pixels 35, but there are many reference pixels 34 that do not correspond to the unsuitable pixels 35. In this way, the ratio of the unsuitable pixel 35 to the plurality of reference pixels 34 can be reduced.

なお、不適画素35の一例として、検査対象物1に貼られたテープまたはラベル14を透過した電磁波21の画像を構成する画素32が挙げられる。これらの画素32にて得られる第1画素値は、検査対象物1そのものを透過した電磁波21の画像であって、影の無い画像を構成する画素32にて得られる第1画素値と比較して、極端に小さい値となる傾向がある。 As an example of the unsuitable pixel 35, the pixel 32 constituting the image of the electromagnetic wave 21 transmitted through the tape or the label 14 attached to the inspection object 1 can be mentioned. The first pixel value obtained from these pixels 32 is an image of the electromagnetic wave 21 transmitted through the inspection object 1 itself, and is compared with the first pixel value obtained from the pixels 32 constituting the shadow-free image. Therefore, it tends to be an extremely small value.

図3に示すように、複数の参照画素34は、対応する注目画素33からみて、行方向及び列方向に対称に配置された複数の画素32であることが好ましい。なお、当該行方向および当該列方向は、それぞれ、図3中「行方向」および「列方向」に対応する。 As shown in FIG. 3, the plurality of reference pixels 34 are preferably a plurality of pixels 32 arranged symmetrically in the row direction and the column direction with respect to the corresponding pixel of interest 33. The row direction and the column direction correspond to the "row direction" and the "column direction" in FIG. 3, respectively.

また、図3に示す複数の参照画素34は、注目画素33を中心として、画素群36を4回回転対称に配置したものであると言える。このように、複数の参照画素34は、対応する注目画素33を中心として、n(nは2以上の整数)回回転対称に配置された複数の画素32であることが好ましい。 Further, it can be said that the plurality of reference pixels 34 shown in FIG. 3 have the pixel group 36 arranged rotationally symmetrically four times around the pixel of interest 33. As described above, the plurality of reference pixels 34 are preferably a plurality of pixels 32 arranged symmetrically by n (n is an integer of 2 or more) around the corresponding pixel of interest 33.

上記の構成によれば、不適画素35が、注目画素33に対していずれの方向に集中して位置している場合であっても、複数の参照画素34に占める不適画素35の割合を小さくすることができる。従って、不適画素35の第1画素値が、背景値の設定に悪影響を及ぼす虞を低減することができる。 According to the above configuration, the ratio of the unsuitable pixel 35 to the plurality of reference pixels 34 is reduced even when the unsuitable pixel 35 is concentrated in any direction with respect to the attention pixel 33. be able to. Therefore, it is possible to reduce the possibility that the first pixel value of the unsuitable pixel 35 adversely affects the setting of the background value.

すなわち、図3において、注目画素33から図中左上に向かう方向に、複数の不適画素35が集中している。上記の構成によれば、不適画素35に該当する参照画素34も存在するが、不適画素35に該当しない参照画素34が多数存在している。このように、複数の参照画素34に占める不適画素35の割合を小さくすることができる。 That is, in FIG. 3, a plurality of unsuitable pixels 35 are concentrated in the direction from the attention pixel 33 toward the upper left in the figure. According to the above configuration, there are reference pixels 34 that correspond to the unsuitable pixels 35, but there are many reference pixels 34 that do not correspond to the unsuitable pixels 35. In this way, the ratio of the unsuitable pixel 35 to the plurality of reference pixels 34 can be reduced.

例えば、異物検査装置100において検査対象物1を撮影する向きを変化させる必要がある場合、これに伴い、複数の不適画素35が集中する位置も変化することとなる。異物検査装置100において検査対象物1の向きを十分に制御することが難しいことに起因して、やむを得ず検査対象物1の向きが変わってしまう場合についても同様に、複数の不適画素35が集中する位置が変化することとなる。異物検査装置100によれば、検査対象物1を撮影する向きの変化前および変化後の両方において、複数の参照画素34に占める不適画素35の割合を小さくすることができる。従って、異物検査装置100は、検査対象物1を撮影する向きに対する依存性が小さいものであると言える。 For example, when it is necessary to change the direction in which the inspection object 1 is photographed in the foreign matter inspection device 100, the position where the plurality of unsuitable pixels 35 are concentrated also changes accordingly. Similarly, when the orientation of the inspection object 1 is unavoidably changed due to the difficulty in sufficiently controlling the orientation of the inspection object 1 in the foreign matter inspection apparatus 100, a plurality of unsuitable pixels 35 are concentrated. The position will change. According to the foreign matter inspection device 100, the ratio of the unsuitable pixel 35 to the plurality of reference pixels 34 can be reduced both before and after the change in the direction in which the inspection object 1 is photographed. Therefore, it can be said that the foreign matter inspection device 100 has little dependence on the direction in which the inspection object 1 is photographed.

なお、複数の参照画素34は、図3において、互いに離れることなく注目画素33を取り囲むように配置された複数の画素32であるが、これに限定されない。すなわち、少なくとも1つの参照画素34が、他の参照画素34から離れて配置されていてもよい。例えば、各参照画素34が点在していてもよい。また、複数の参照画素34が複数のブロックに分かれており、各ブロックが点在しており、同一のブロックを構成する各参照画素34が互いに隣接していてもよい。 The plurality of reference pixels 34 are, but are not limited to, the plurality of pixels 32 arranged so as to surround the pixel of interest 33 without being separated from each other in FIG. That is, at least one reference pixel 34 may be arranged apart from the other reference pixels 34. For example, each reference pixel 34 may be scattered. Further, the plurality of reference pixels 34 may be divided into a plurality of blocks, the blocks may be scattered, and the reference pixels 34 constituting the same block may be adjacent to each other.

背景値設定部43は、複数の参照画素34それぞれの第1画素値の中央値、又は最大値及び最小値を除いた値のうち予め定められた順位にある値を背景値として設定する。当該中央値は、複数の参照画素34それぞれの第1画素値の総数が2p(pは自然数)個である場合、p番目に大きい第1画素値とp+1番目に大きい第1画素値との平均値であり、当該総数が2p+1個である場合、p+1番目に大きい第1画素値である。また、当該最大値及び最小値を除いた値のうち予め定められた順位は、ノイズ等の特性に応じ、本来の背景値を求めやすい順位であることが好ましい。当該順位として好ましい値は、当該総数の半分にできるだけ近い値であることが多いが、検査対象物1の形状および/または配置によっては、例えば最頻値の考え方を用いて当該順位を決定することが好ましい場合もある。これは、複数の参照画素34について明るさのヒストグラムを求め、出現頻度の高さに基づいて当該予め定められた順位を決定する(例えば、最も出現頻度が高い明るさに対応する順位を採用する)方法である。 The background value setting unit 43 sets the median value of the first pixel value of each of the plurality of reference pixels 34, or the value excluding the maximum value and the minimum value, which is in a predetermined order, as the background value. The median is the average of the p-th largest first pixel value and p + 1st-largest first pixel value when the total number of the first pixel values of each of the plurality of reference pixels 34 is 2p (p is a natural number). It is a value, and when the total number is 2p + 1, it is the first pixel value having the largest p + 1. Further, it is preferable that the predetermined rank among the values excluding the maximum value and the minimum value is a rank in which the original background value can be easily obtained according to the characteristics such as noise. The preferred value for the rank is often as close as possible to half of the total number, but depending on the shape and / or arrangement of the inspection object 1, the rank may be determined using, for example, the concept of the mode. May be preferable. This obtains a brightness histogram for a plurality of reference pixels 34 and determines the predetermined order based on the high frequency of appearance (for example, the order corresponding to the brightness with the highest frequency of appearance is adopted. ) The method.

上記の構成によれば、複数の参照画素34それぞれの第1画素値のうち、極端に大きな値または極端に小さな値が、背景値として設定されることを容易に防ぐことができる。つまり、背景値が、不当なまでに極端に明るい背景、または不当なまでに極端に暗い背景を示すことを防ぐことができる。また、このことの影響により、背景値が本来の値から大きくかい離することを容易に防ぐことができる。従って、撮影された画像により適合した背景値を設定することができる。 According to the above configuration, it is possible to easily prevent an extremely large value or an extremely small value from the first pixel values of each of the plurality of reference pixels 34 from being set as the background value. That is, it is possible to prevent the background value from showing an unreasonably extremely bright background or an unreasonably extremely dark background. Further, due to the influence of this, it is possible to easily prevent the background value from greatly deviating from the original value. Therefore, it is possible to set a background value that is more suitable for the captured image.

例えば、ある参照画素34が構成する画像にノイズが含まれている場合、当該参照画素34の第1画素値は、極端に大きい値または極端に小さい値となり得る。異物検査装置100は、このようなノイズに起因してその値が乱れた第1画素値が、背景値として適用される虞を低減したものであると言える。 For example, when the image composed of a reference pixel 34 contains noise, the first pixel value of the reference pixel 34 can be an extremely large value or an extremely small value. It can be said that the foreign matter inspection device 100 reduces the possibility that the first pixel value whose value is disturbed due to such noise is applied as the background value.

背景値設定部43は、電磁波21を検査対象物1および異物13にて反射させる異物検査において、検査対象物1による電磁波21の減衰量に相当する背景値を設定する場合においても適用可能である。 The background value setting unit 43 can also be applied in the case of setting a background value corresponding to the amount of attenuation of the electromagnetic wave 21 by the inspection object 1 in the foreign matter inspection in which the electromagnetic wave 21 is reflected by the inspection object 1 and the foreign matter 13. ..

続いて、画素値演算部42は、各画素32の第2画素値を算出する。この処理は、図4のステップS3に相当する。図6には、図5に示した各第1画素値、および各画素32について設定された背景値に基づいて、画素値演算部42によって算出された各第2画素値を、図2に示した多数の画素32それぞれと対応付けて示している。図6中、B1およびB2の定義は、以下のとおりである。 Subsequently, the pixel value calculation unit 42 calculates the second pixel value of each pixel 32. This process corresponds to step S3 in FIG. FIG. 6 shows each second pixel value calculated by the pixel value calculation unit 42 based on each first pixel value shown in FIG. 5 and the background value set for each pixel 32. It is shown in association with each of the large number of pixels 32. In FIG. 6, the definitions of B1 and B2 are as follows.

B1:B1=(A1-対応する画素32の背景値)/対応する画素32の背景値
B2:B2=(A2-対応する画素32の背景値)/対応する画素32の背景値
なお、理想的には、A1は対応する画素32の背景値と同じであり、B1は0となる。各第2画素値は、異物13における画素32に対応する部分の厚みに応じた値となる。
B1: B1 = (A1-background value of the corresponding pixel 32) / background value of the corresponding pixel 32 B2: B2 = (A2-background value of the corresponding pixel 32) / background value of the corresponding pixel 32 Ideal A1 is the same as the background value of the corresponding pixel 32, and B1 is 0. Each second pixel value is a value corresponding to the thickness of the portion of the foreign matter 13 corresponding to the pixel 32.

続いて、画素値積算部44は、特定の連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する。この処理は、図4のステップS4に相当する。 Subsequently, the pixel value integrating unit 44 integrates each second pixel value of the pixel group belonging to the specific continuous region. This process corresponds to step S4 in FIG.

図7には、図6に示した各第2画素値に基づいて、画素値積算部44によって積算された各積算値を、図2に示した多数の画素32それぞれと対応付けて示している。図7では、多数の画素32それぞれを注目画素33とし、注目画素33を中心として3行3列に設けられた計9つの画素32を連続領域とし、当該連続領域に属する画素群38に対応する当該9つの画素32の各第2画素値を積算する例を示している。図7中、C1~C7の定義は、以下のとおりである。 FIG. 7 shows each integrated value integrated by the pixel value integrating unit 44 based on each second pixel value shown in FIG. 6 in association with each of the large number of pixels 32 shown in FIG. .. In FIG. 7, each of a large number of pixels 32 is a pixel of interest 33, and a total of nine pixels 32 provided in 3 rows and 3 columns centered on the pixel of interest 33 are continuous regions, and correspond to a pixel group 38 belonging to the continuous region. An example of integrating the second pixel value of each of the nine pixels 32 is shown. In FIG. 7, the definitions of C1 to C7 are as follows.

C1:C1=9*B1
C2:C2=8*B1+1*B2
C3:C3=7*B1+2*B2
C4:C4=6*B1+3*B2
C5:C5=5*B1+4*B2
C6:C6=3*B1+6*B2
C7:C7=9*B2
上述したとおり、電磁波発生源2は、X線を、点状ではなく面状で発生させる。この結果、電磁波発生源2が電磁波21として当該X線を照射する場合、電磁波21の画像にボケが生じる。そのため、画像上の異物13の像では、ある画素32に本来反映されるべき減衰量の一部がその画素32の周辺の画素32へ反映されてしまう。
C1: C1 = 9 * B1
C2: C2 = 8 * B1 + 1 * B2
C3: C3 = 7 * B1 + 2 * B2
C4: C4 = 6 * B1 + 3 * B2
C5: C5 = 5 * B1 + 4 * B2
C6: C6 = 3 * B1 + 6 * B2
C7: C7 = 9 * B2
As described above, the electromagnetic wave generation source 2 generates X-rays in a planar shape instead of a dot shape. As a result, when the electromagnetic wave generation source 2 irradiates the X-ray as the electromagnetic wave 21, the image of the electromagnetic wave 21 is blurred. Therefore, in the image of the foreign matter 13 on the image, a part of the attenuation that should be originally reflected in a certain pixel 32 is reflected in the pixels 32 around the pixel 32.

また、X線は、可視光とは異なり、レンズを用いて、スポット径を絞ったり平行光へ変換したりすることが難しい。このため、可視光を用いる場合と比べて、画像に含まれる異物13の像にボケが生じやすい。 Further, unlike visible light, it is difficult to narrow the spot diameter or convert X-rays into parallel light by using a lens. Therefore, the image of the foreign matter 13 contained in the image is more likely to be blurred as compared with the case of using visible light.

しかし、上記の構成によれば、特定の連続領域に属する画素群の第2画素値を積算することから、その連続領域の大きさを、検出対象とする異物13の大きさよりも大きく設定しておくことにより、その異物13に起因して生じたX線の減衰量の総和を算出することができる。このため、画像に含まれる異物13の像を検出することができる。その結果、異物13の検出漏れの発生リスクを低減することができる。また、画像にボケが生じた場合であっても、異物13の検出漏れの発生リスクを低減することができるという利点を活用し、画像撮影における露光時間を従来よりも短縮することも可能である。なお、画素値積算部44が、各第2画素値の替わりに、記憶部41が記憶した各第1画素値を積算する構成であっても、これらの効果を得ることは可能である。 However, according to the above configuration, since the second pixel value of the pixel group belonging to the specific continuous region is integrated, the size of the continuous region is set to be larger than the size of the foreign matter 13 to be detected. By setting it, the total amount of X-ray attenuation caused by the foreign matter 13 can be calculated. Therefore, the image of the foreign matter 13 contained in the image can be detected. As a result, the risk of omission of detection of the foreign matter 13 can be reduced. Further, even if the image is blurred, the exposure time in image shooting can be shortened as compared with the conventional case by utilizing the advantage that the risk of omission of detection of foreign matter 13 can be reduced. .. It is possible to obtain these effects even if the pixel value integrating unit 44 integrates each first pixel value stored by the storage unit 41 instead of each second pixel value.

以上のことをまとめると、特定の連続領域は、少なくとも、検査対象物1および異物13によって減衰された電磁波21の画像を構成する全ての画素32を包含する領域より大きい領域とする。 To summarize the above, the specific continuous region is at least a region larger than the region including all the pixels 32 constituting the image of the electromagnetic wave 21 attenuated by the inspection object 1 and the foreign matter 13.

また、当該特定の連続領域は、当該画像における異物13のボケに対応する全ての画素32をさらに包含する領域より大きい領域とすることがより好ましい。これによると、より確実に、上記画像に含まれる異物13の像を検出することができる。 Further, it is more preferable that the specific continuous region is a region larger than the region further including all the pixels 32 corresponding to the blurring of the foreign matter 13 in the image. According to this, the image of the foreign matter 13 contained in the above image can be detected more reliably.

なお、上記特定の連続領域は、画像における異物13のボケに対応する画素が少なくとも包含される程度に適宜調整してもよい。 The specific continuous region may be appropriately adjusted so as to include at least the pixels corresponding to the blurring of the foreign matter 13 in the image.

また、特定の連続領域に属する複数の画素32それぞれの第2画素値の積算値が、異物13における当該複数の画素32に対応する部分の体積に応じた値となる。従って、異物13の一部又は全部の体積を推定することができるため、ある一定以上の体積を有する異物13の有無を判定することができる。つまり、上記の構成によれば、異物13の立体的なサイズを推定することが可能となる。 Further, the integrated value of the second pixel value of each of the plurality of pixels 32 belonging to the specific continuous region becomes a value corresponding to the volume of the portion of the foreign matter 13 corresponding to the plurality of pixels 32. Therefore, since the volume of a part or all of the foreign matter 13 can be estimated, the presence or absence of the foreign matter 13 having a certain volume or more can be determined. That is, according to the above configuration, it is possible to estimate the three-dimensional size of the foreign matter 13.

X線である電磁波21の減衰量と、異物13の体積との関係について、詳細に説明する。異物13の体積は、異物13の立体的なサイズに相当する。以下では、異物13のサイズが微小であるものとして説明を行う。具体的に、微小な異物13のサイズは、例えば直径0.05mm以上かつ直径0.3mm以下の球に収まる程度のサイズである。 The relationship between the amount of attenuation of the electromagnetic wave 21 which is an X-ray and the volume of the foreign matter 13 will be described in detail. The volume of the foreign matter 13 corresponds to the three-dimensional size of the foreign matter 13. Hereinafter, the description will be made assuming that the size of the foreign matter 13 is very small. Specifically, the size of the minute foreign matter 13 is, for example, a size that fits in a sphere having a diameter of 0.05 mm or more and a diameter of 0.3 mm or less.

電磁波21の透過率Tは、下記の数式(1)によって求められる。なお、数式(1)において、aは電磁波21が透過する物質の吸収係数であり、zは電磁波21が当該物質を透過する長さの合計である。なお、電磁波21の当該物質への入射が1回である場合、zは電磁波21透過方向に沿った当該物質の厚みである。電磁波21の当該物質への入射が複数回である場合の一例としては、当該物質の内部に空洞があったり、当該物質が湾曲している場合が挙げられる。 The transmittance T of the electromagnetic wave 21 is obtained by the following mathematical formula (1). In the mathematical formula (1), a is the absorption coefficient of the substance transmitted by the electromagnetic wave 21, and z is the total length of the electromagnetic wave 21 transmitted through the substance. When the electromagnetic wave 21 is incident on the substance once, z is the thickness of the substance along the transmission direction of the electromagnetic wave 21. As an example of the case where the electromagnetic wave 21 is incident on the substance multiple times, there is a case where there is a cavity inside the substance or the substance is curved.

Figure 0007063680000001
Figure 0007063680000001

また、電磁波21が異物13を透過することに起因して、電磁波21の画像がどの程度暗くなるのかについては、1-Tで表すことができる。この1-Tを遮蔽率と呼ぶ。 Further, how dark the image of the electromagnetic wave 21 is due to the transmission of the electromagnetic wave 21 through the foreign matter 13 can be represented by 1-T. This 1-T is called a shielding rate.

図8は、電磁波発生源2における電磁波21の発生部分の中心22と、ある1つの画素32の四隅とによって構成される四角錐23を示す斜視図である。四角錐23の中で、異物13について遮蔽率を積分する計算を、下記の数式(2)に示している。数式(2)の演算結果が、当該画素32における異物13に起因する電磁波21の強度の減衰率となる。なお、数式(2)中、xに対応するx方向およびyに対応するy方向は、いずれも異物13の厚み方向に対して垂直であり、かつ互いに垂直である。 FIG. 8 is a perspective view showing a quadrangular pyramid 23 composed of the center 22 of the generation portion of the electromagnetic wave 21 in the electromagnetic wave generation source 2 and the four corners of a certain pixel 32. The calculation for integrating the shielding rate for the foreign matter 13 in the quadrangular pyramid 23 is shown in the following mathematical formula (2). The calculation result of the mathematical formula (2) is the attenuation rate of the intensity of the electromagnetic wave 21 caused by the foreign matter 13 in the pixel 32. In the formula (2), the x direction corresponding to x and the y direction corresponding to y are both perpendicular to the thickness direction of the foreign matter 13 and perpendicular to each other.

Figure 0007063680000002
Figure 0007063680000002

ここで、異物13のサイズが微小である場合、異物13周辺において、画素32の面と略平行な四角錐23の断面寸法がほぼ一定である。このことから、異物13周辺において、四角錐23は、直方体に近似することができる。また、zが0とほぼ等しいとき、下記の数式(3)が成立する。 Here, when the size of the foreign matter 13 is small, the cross-sectional dimension of the quadrangular pyramid 23 substantially parallel to the surface of the pixel 32 is substantially constant around the foreign matter 13. From this, the quadrangular pyramid 23 can be approximated to a rectangular parallelepiped around the foreign body 13. Further, when z is substantially equal to 0, the following mathematical formula (3) is established.

Figure 0007063680000003
Figure 0007063680000003

これらにより、画素32における異物13に起因する電磁波21の強度の減衰率は、下記の数式(4)によって近似することができる。 As a result, the attenuation rate of the intensity of the electromagnetic wave 21 caused by the foreign matter 13 in the pixel 32 can be approximated by the following mathematical formula (4).

Figure 0007063680000004
Figure 0007063680000004

そして、数式(4)の演算結果は、上記直方体と異物13とが重なり合う部分の体積に相当する。以上のことから、X線である電磁波21の減衰量と、異物13の体積との間に、相関性があることが分かる。つまり、多数の画素32毎に、上述した相対濃度に基づいて、対応する上記直方体と重なり合う異物13の体積を求めることができる。 Then, the calculation result of the mathematical formula (4) corresponds to the volume of the portion where the rectangular parallelepiped and the foreign matter 13 overlap. From the above, it can be seen that there is a correlation between the amount of attenuation of the electromagnetic wave 21 which is an X-ray and the volume of the foreign matter 13. That is, for each of the large number of pixels 32, the volume of the foreign matter 13 that overlaps with the corresponding rectangular parallelepiped can be obtained based on the above-mentioned relative density.

ここからは、相対濃度(先に定義したB1およびB2)またはその積算値(先に定義したC1~C7)を、異物13の体積に変換するメカニズムについて補足する。検査対象物1による電磁波21の減衰量に対応する第1画素値(理想的には、背景値と等しい)をLとする。Lに異物13によるTを乗じたものLTが、実際の第1画素値となる。Lは電磁波21内における位置に応じて異なる値である。言い換えると、Lはx、yの関数L(x,y)である。第2画素値は、(LT-L)/L=(T-1)で表されるため、これに-1を乗じてx、yについて積分したもの、すなわち数式(2)は、数式(4)と近似的に一致する。数式(2)で求めた値を比例係数aで除すれば、異物13の体積が求まる。なお、第1画素値と背景値との差の積算値を用いた場合、(T-1)がL(T-1)になる。この場合、異物13の体積を推定するためには、Lが定数であることが必要である。換言すれば、検査対象物1が異物13を含まないことは、当該差の積算値を用いても推定可能である。 From here, the mechanism for converting the relative concentration (B1 and B2 defined above) or the integrated value thereof (C1 to C7 defined above) into the volume of the foreign substance 13 will be supplemented. Let L be the first pixel value (ideally equal to the background value) corresponding to the amount of attenuation of the electromagnetic wave 21 by the inspection object 1. The LT obtained by multiplying L by T due to the foreign matter 13 is the actual first pixel value. L is a value different depending on the position in the electromagnetic wave 21. In other words, L is a function L (x, y) of x, y. Since the second pixel value is represented by (LT-L) / L = (T-1), this is multiplied by -1 and integrated for x and y, that is, the mathematical formula (2) is the mathematical formula (4). ) Approximately. By dividing the value obtained by the mathematical formula (2) by the proportional coefficient a, the volume of the foreign matter 13 can be obtained. When the integrated value of the difference between the first pixel value and the background value is used, (T-1) becomes L (T-1). In this case, L needs to be a constant in order to estimate the volume of the foreign matter 13. In other words, it can be estimated that the inspection object 1 does not contain the foreign matter 13 by using the integrated value of the difference.

画素値積算部44は、多数の画素32それぞれを注目画素33とし、注目画素33を包含する特定の連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する。 The pixel value integrating unit 44 uses each of the large number of pixels 32 as the pixel of interest 33, and integrates each second pixel value of the pixel group belonging to the specific continuous region including the pixel of interest 33.

上記の構成によれば、検出下限値として設定する異物13の体積に概ね対応した連続領域を設定し、異物13に対応する積算値を閾値として用いることにより、検出下限値以上の体積を有する異物13を選択的に検出することができる。 According to the above configuration, by setting a continuous region substantially corresponding to the volume of the foreign matter 13 set as the lower limit of detection and using the integrated value corresponding to the foreign matter 13 as the threshold value, the foreign matter having a volume equal to or larger than the lower limit of detection is used. 13 can be selectively detected.

画素値積算部44は、閾値よりも減衰量が大きい値を示す第2画素値を有し、かつ、連続領域をなす複数の画素32それぞれの第2画素値を積算することが好ましい。当該閾値は、多数の画素32毎に、電磁波21の画像に生じるノイズやボケに左右されることなく、電磁波21が異物13によって減衰されていることを明確に把握することができるような値とすることが好ましい。 It is preferable that the pixel value integrating unit 44 has a second pixel value indicating a value whose attenuation is larger than the threshold value, and integrates the second pixel values of each of the plurality of pixels 32 forming the continuous region. The threshold value is set so that it can be clearly grasped that the electromagnetic wave 21 is attenuated by the foreign matter 13 for each of a large number of pixels 32 without being affected by noise or blurring generated in the image of the electromagnetic wave 21. It is preferable to do so.

閾値よりも減衰量が大きい値を示す第2画素値を有し、かつ、連続領域をなす複数の画素32は、1つの独立した異物13に対応するものとみなすことができる。従って、1つの独立した異物13の体積を推定することができる。 A plurality of pixels 32 having a second pixel value indicating a value having an attenuation larger than the threshold value and forming a continuous region can be regarded as corresponding to one independent foreign matter 13. Therefore, the volume of one independent foreign body 13 can be estimated.

また、画素値積算部44は、積算対象である少なくとも2つの第2画素値に対して重み付けを行ってもよい。 Further, the pixel value integration unit 44 may weight at least two second pixel values to be integrated.

例えば、異物13が球体である場合、異物13の中央から縁に向かう程、電磁波21と重なり合う異物13の体積が小さいため、画像が明るくなることが予想される。そして、異物13に対応して得られる値を最大化することを目的として、当該重み付けの一例として、異物13の縁に近い位置に対応する第2画素値ほど積算値への寄与が小さくなるように、積算に際し各第2画素値を重み付けすることが考えられる。 For example, when the foreign matter 13 is a sphere, it is expected that the image becomes brighter because the volume of the foreign matter 13 overlapping with the electromagnetic wave 21 is smaller toward the edge from the center of the foreign matter 13. Then, for the purpose of maximizing the value obtained corresponding to the foreign matter 13, as an example of the weighting, the contribution to the integrated value becomes smaller as the second pixel value corresponding to the position closer to the edge of the foreign matter 13 becomes smaller. In addition, it is conceivable to weight each second pixel value at the time of integration.

このように、画素値積算部44は、検出対象としている異物13が想定される形状(例えば、球体、多面体等)に応じて、各第2画素値それぞれに対して重み付けを行って積算値を得ることで、より、画像における異物13の像を漏れなく検出することができる。 In this way, the pixel value integrating unit 44 weights each of the second pixel values according to the shape (for example, a sphere, a polyhedron, etc.) in which the foreign matter 13 to be detected is assumed, and calculates the integrated value. By obtaining the image, the image of the foreign matter 13 in the image can be detected without omission.

異物検査装置100は、X線イメージセンサであるイメージセンサ3と、画像処理装置4とを備え、記憶部41は、当該X線イメージセンサにより取得された画像の画素値を第1画素値として記憶する。 The foreign matter inspection device 100 includes an image sensor 3 which is an X-ray image sensor and an image processing device 4, and the storage unit 41 stores the pixel value of the image acquired by the X-ray image sensor as the first pixel value. do.

但し、電磁波21は、X線に限定されるものではない。X線以外の電磁波21の一例として、可視光、赤外線等、周知の各種の電磁波が挙げられる。これに伴い、イメージセンサ3についても、電磁波21の種類に適したものを適宜選択可能である。X線イメージセンサ以外のイメージセンサ3の具体例として、FPD(Flat Panel Detector:フラットパネルディテクタ)が挙げられる。 However, the electromagnetic wave 21 is not limited to X-rays. As an example of the electromagnetic wave 21 other than X-rays, various well-known electromagnetic waves such as visible light and infrared rays can be mentioned. Along with this, it is possible to appropriately select an image sensor 3 suitable for the type of electromagnetic wave 21. A specific example of the image sensor 3 other than the X-ray image sensor is an FPD (Flat Panel Detector).

また、第2画素値として、上述した相対濃度の替わりに、第1画素値と背景値との差が用いられてもよい。但し、異物13の体積を推定するためには、第2画素値として当該相対濃度を用いることが好適である。 Further, as the second pixel value, the difference between the first pixel value and the background value may be used instead of the above-mentioned relative density. However, in order to estimate the volume of the foreign matter 13, it is preferable to use the relative density as the second pixel value.

また、異物検査装置100においては、画像処理装置4がイメージセンサ3の外部に設けられている構成である。しかしながら、画像処理装置4がイメージセンサ3の内部に設けられている構成であってもよい。 Further, in the foreign matter inspection device 100, the image processing device 4 is provided outside the image sensor 3. However, the image processing device 4 may be provided inside the image sensor 3.

図9は、図1に示す異物検査装置100の第1変形例である異物検査装置101の概略構成を示す図である。なお、以下、説明の便宜上、先に説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。異物検査装置101は、異物検査装置100の構成に加え、移動機構5を備えている。 FIG. 9 is a diagram showing a schematic configuration of a foreign matter inspection device 101, which is a first modification of the foreign matter inspection device 100 shown in FIG. 1. Hereinafter, for convenience of explanation, the same reference numerals are given to the members having the same functions as the members described above, and the description thereof will not be repeated. The foreign matter inspection device 101 includes a moving mechanism 5 in addition to the configuration of the foreign matter inspection device 100.

検査対象物1は、電磁波21の入射側に対応する電磁波発生源2側の側面と、電磁波21の出射側に対応するイメージセンサ3側の側面との間に、厚みを有するものであると言える。なお、当該厚みの方向は、図9中「MZ方向」に対応する。移動機構5は、検査対象物1を、MZ方向に対して略垂直な方向に平行移動させるものである。具体的には、移動機構5は、検査対象物1を、電磁波発生源2とイメージセンサ3との間を横断するように、MZ方向に対して略垂直な面に沿ったある1方向に移動させるものである。なお、検査対象物1の移動方向と平行な方向は、図9中「MY方向」に対応する。 It can be said that the inspection object 1 has a thickness between the side surface of the electromagnetic wave source 2 side corresponding to the incident side of the electromagnetic wave 21 and the side surface of the image sensor 3 side corresponding to the emission side of the electromagnetic wave 21. .. The direction of the thickness corresponds to the "MZ direction" in FIG. The moving mechanism 5 moves the inspection object 1 in a direction substantially perpendicular to the MZ direction. Specifically, the moving mechanism 5 moves the inspection object 1 in a certain direction along a plane substantially perpendicular to the MZ direction so as to cross between the electromagnetic wave generation source 2 and the image sensor 3. It is something that makes you. The direction parallel to the moving direction of the inspection object 1 corresponds to the "MY direction" in FIG.

また、イメージセンサ3は、TDI(Time Delay Integration)センサである。イメージセンサ3がTDIセンサである異物検査装置101においては、下記の要領で検査対象物1に付着した異物13を検出する。 Further, the image sensor 3 is a TDI (Time Delay Integration) sensor. In the foreign matter inspection device 101 in which the image sensor 3 is a TDI sensor, the foreign matter 13 adhering to the inspection object 1 is detected in the following manner.

まず、上述したように検査対象物1を移動機構5により平行移動させつつ、移動機構5により平行移動されている検査対象物1に対して電磁波21を照射する。そして、検査対象物1を透過した電磁波21をイメージセンサ3の多数の画素32が受け、多数の画素32が構成した電磁波21の画像から異物13を検出する。多数の画素32は、複数のタイミングについて電磁波21の画像を構成し、これにより、検査段毎に、検査対象物1における同一箇所の画像を構成する。なお、各検査段は、図3において列方向に並んだ複数の画素32からなる。当該複数のタイミングは、換言すれば、検査対象物1が互いに異なる位置にある複数の状態である。そして、当該検査段毎に構成した、検査対象物1における同一箇所の画像を重ね合わせることにより、異物13を顕在化させた画像を得、異物13を検出する。 First, while the inspection object 1 is translated by the moving mechanism 5 as described above, the electromagnetic wave 21 is applied to the inspection object 1 which is translated by the moving mechanism 5. Then, the electromagnetic wave 21 transmitted through the inspection object 1 is received by a large number of pixels 32 of the image sensor 3, and the foreign matter 13 is detected from the image of the electromagnetic wave 21 composed of the large number of pixels 32. The large number of pixels 32 form an image of the electromagnetic wave 21 at a plurality of timings, whereby an image of the same location on the inspection object 1 is formed for each inspection stage. It should be noted that each inspection stage is composed of a plurality of pixels 32 arranged in the column direction in FIG. In other words, the plurality of timings are a plurality of states in which the inspection objects 1 are located at different positions from each other. Then, by superimposing the images of the same portion on the inspection object 1 configured for each inspection stage, an image in which the foreign matter 13 is manifested is obtained, and the foreign matter 13 is detected.

異物検査装置101によると、厚みを有する検査対象物1を移動させながら行う検査において、ボケによる検査能力の低下を抑制して、検査の高効率化を図り、かつ、異物の検出漏れの発生リスクを低減することができる。 According to the foreign matter inspection device 101, in the inspection performed while moving the thick inspection object 1, the deterioration of the inspection ability due to the blur is suppressed, the inspection efficiency is improved, and the risk of foreign matter detection omission occurs. Can be reduced.

図10は、図1に示す異物検査装置100の第2変形例である異物検査装置102の概略構成を示す図である。図11は、回転機構6による検査対象物1の回転を説明する図である。異物検査装置102は、異物検査装置100の構成に加え、回転機構6を備えている。 FIG. 10 is a diagram showing a schematic configuration of a foreign matter inspection device 102, which is a second modification of the foreign matter inspection device 100 shown in FIG. 1. FIG. 11 is a diagram illustrating the rotation of the inspection object 1 by the rotation mechanism 6. The foreign matter inspection device 102 includes a rotation mechanism 6 in addition to the configuration of the foreign matter inspection device 100.

回転機構6は、検査対象物1を、電磁波21の入射側から電磁波21の出射側へと向かう方向、すなわちMZ方向と平行な方向に伸びる軸15に従って回転させるものである。図11に示すように、軸15は、検査対象物1の中心軸に相当する。 The rotation mechanism 6 rotates the inspection object 1 along a axis 15 extending in a direction from the incident side of the electromagnetic wave 21 toward the exit side of the electromagnetic wave 21, that is, in a direction parallel to the MZ direction. As shown in FIG. 11, the shaft 15 corresponds to the central axis of the inspection object 1.

また、イメージセンサ3は、TDIセンサである。イメージセンサ3がTDIセンサである異物検査装置102においては、下記の要領で検査対象物1に付着した異物13を検出する。 Further, the image sensor 3 is a TDI sensor. In the foreign matter inspection device 102 in which the image sensor 3 is a TDI sensor, the foreign matter 13 adhering to the inspection object 1 is detected in the following manner.

まず、上述したように検査対象物1を回転機構6により回転させつつ、回転機構6により回転されている検査対象物1に対して電磁波21を照射する。そして、検査対象物1を透過した電磁波21をイメージセンサ3の多数の画素32が受け、その後異物13を検出するまでの要領は、異物検査装置101と異物検査装置102とで同様である。 First, the electromagnetic wave 21 is applied to the inspection object 1 rotated by the rotation mechanism 6 while the inspection object 1 is rotated by the rotation mechanism 6 as described above. The procedure from receiving the electromagnetic wave 21 transmitted through the inspection object 1 to the large number of pixels 32 of the image sensor 3 and then detecting the foreign matter 13 is the same for the foreign matter inspection device 101 and the foreign matter inspection device 102.

検査対象物1を平行移動または回転させながら検査を行うことによって、検査の高効率化を図ることができる。一方、厚みを有する検査対象物1を平行移動または回転させながら行う検査において、異物13の像がボケることが問題となる。すなわち、TDIセンサであるイメージセンサ3を用いて上記いずれかの要領で検査対象物1に付着した異物13を検出する場合、各検査段が構成した画像において、異物13がMY方向にボケるケースがある。特に、検査対象物1の厚みが大きい場合、この傾向が顕著である。 By performing the inspection while moving or rotating the inspection object 1 in parallel, the efficiency of the inspection can be improved. On the other hand, in an inspection performed while moving or rotating a thick inspection object 1 in parallel, there is a problem that the image of the foreign matter 13 is blurred. That is, when the foreign matter 13 adhering to the inspection object 1 is detected by using the image sensor 3 which is a TDI sensor in any of the above manners, the foreign matter 13 is blurred in the MY direction in the image configured by each inspection stage. There is. This tendency is particularly remarkable when the thickness of the inspection object 1 is large.

異物検査装置101および異物検査装置102のそれぞれは、画像処理装置4、特に画素値積算部44を備えているため、異物検査装置100と同様の原理で、異物13の検出漏れの発生リスクを低減することができる。画像撮影における露光時間を従来よりも短縮することも可能であることについても、異物検査装置100と同様である。 Since each of the foreign matter inspection device 101 and the foreign matter inspection device 102 includes an image processing device 4, particularly a pixel value integrating unit 44, the risk of omission of detection of the foreign matter 13 is reduced by the same principle as that of the foreign matter inspection device 100. can do. Similar to the foreign matter inspection device 100, the exposure time in image capture can be shortened as compared with the conventional case.

以下では、電磁波21としてX線を用いた異物検査装置100における、画素値積算部44の有効性について検証を行った。図12は、当該検証の結果を示す表である。 In the following, the effectiveness of the pixel value integrating unit 44 in the foreign matter inspection device 100 using X-rays as the electromagnetic wave 21 was verified. FIG. 12 is a table showing the results of the verification.

まず、異物13を含む検査対象物1の画像を4回撮影し、それぞれ図12中「異物画像1」~「異物画像4」とした。また、異物13を含まない検査対象物1の画像を13回撮影し、それぞれ図12中「異物無画像1」~「異物無画像13」とした。 First, images of the inspection object 1 including the foreign matter 13 were taken four times and designated as "foreign matter image 1" to "foreign matter image 4" in FIG. 12, respectively. Further, the images of the inspection object 1 not including the foreign matter 13 were taken 13 times, and were designated as "foreign matter-free image 1" to "foreign matter-free image 13" in FIG. 12, respectively.

これらの画像のそれぞれについて、ある注目画素33に関し、下記に定義される手法1~手法7のそれぞれに従って、濃度値を求めた。このうち、手法3~手法7に関しては、各第2画素値の平均値を求める段階で、各第2画素値の積算値を用いることになる。 For each of these images, the density value was obtained for a certain pixel of interest 33 according to each of the methods 1 to 7 defined below. Of these, for methods 3 to 7, the integrated value of each second pixel value is used at the stage of obtaining the average value of each second pixel value.

手法1:注目画素33を中心として3行3列に設けられた計9つの画素32の各第2画素値のうち、3番目に小さい値を、濃度値とする
手法2:注目画素33を中心として3行3列に設けられた計9つの画素32の各第2画素値のうち、最も小さい値と、2番目に小さい値と、3番目に小さい値との平均値を、濃度値とする
手法3:注目画素33を中心として3行3列に設けられた計9つの画素32の各第2画素値の平均値を、濃度値とする
手法4:注目画素33を中心として4行4列に設けられた計16つの画素32の各第2画素値の平均値を、濃度値とする
手法5:注目画素33を中心として5行5列に設けられた計25つの画素32の各第2画素値の平均値を、濃度値とする
手法6:注目画素33を中心として5行5列に設けられた計25つの画素32の各第2画素値について、所定の正規分布に従って重み付けを行った値の平均値を、濃度値とする
手法7:注目画素33を中心として5行5列に設けられた計25つの画素32の各第2画素値について、手法6とは別の(具体的には、重み付けに用いるガウス重みの分散を変更した)正規分布に従って重み付けを行った値の平均値を、濃度値とする
そして、手法1~手法7のそれぞれについて、下記に定義される最悪S、最悪N、および最悪S/最悪N比を求めた。
Method 1: The third smallest value among the second pixel values of each of the nine pixels 32 provided in 3 rows and 3 columns centered on the pixel of interest 33 is set as the density value. Method 2: Centering on the pixel of interest 33 Of the second pixel values of each of the nine pixels 32 provided in 3 rows and 3 columns, the average value of the smallest value, the second smallest value, and the third smallest value is defined as the density value. Method 3: The average value of each second pixel value of a total of nine pixels 32 provided in 3 rows and 3 columns centered on the pixel of interest 33 is used as the density value. Method 4: 4 rows and 4 columns centered on the pixel of interest 33. Method 5: The average value of each second pixel value of a total of 16 pixels 32 provided in the above is used as a density value. Method 5: Each second of a total of 25 pixels 32 provided in 5 rows and 5 columns centered on the pixel of interest 33. Method 6: Using the Mean of Pixel Values as the Density Value: Each second pixel value of a total of 25 pixels 32 provided in 5 rows and 5 columns centered on the pixel 33 of interest was weighted according to a predetermined normal distribution. Method 7 using the average value of the values as the density value: Each second pixel value of a total of 25 pixels 32 provided in 5 rows and 5 columns centered on the pixel 33 of interest is different from method 6 (specifically). The mean value of the values weighted according to the normal distribution (with the dispersion of the Gaussian weight used for weighting changed) is taken as the density value. Then, for each of the methods 1 to 7, the worst S and the worst defined below. N and the worst S / worst N ratio were determined.

最悪S:「異物画像1」~「異物画像4」それぞれの濃度値のうち、最も0%に近いもの
最悪N:「異物無画像1」~「異物無画像13」それぞれの濃度値のうち、最も0%から遠いもの
最悪S/最悪N比:最悪Nに対する最悪Sの比率
なお、最悪S/最悪N比が1より大きければ、「異物画像1」~「異物画像4」それぞれと、「異物無画像1」~「異物無画像13」それぞれとが適切に区別されているとみなせるため、虚報(異物13が無いにも拘らず、異物13を検知したものとしてしまう現象)が無い状態における異物13の検出漏れが十分に抑制されていると言える。また、最悪S/最悪N比が大きい程、当該区別がより明確であるとみなせるため、虚報が無い状態における異物13の検出漏れの抑制効果が高いと言える。
Worst S: Of the density values of "Foreign matter image 1" to "Foreign matter image 4", the one closest to 0% Worst N: Of the density values of "Foreign matter-free image 1" to "Foreign matter-free image 13" Worst S / Worst N ratio: Ratio of worst S to worst N If the worst S / worst N ratio is larger than 1, "Foreign matter image 1" to "Foreign matter image 4" and "Foreign matter image 4" respectively. Since it can be considered that each of "no image 1" to "no foreign object image 13" is properly distinguished, a foreign substance in a state where there is no false information (a phenomenon in which a foreign substance 13 is detected even though there is no foreign substance 13). It can be said that the detection omission of 13 is sufficiently suppressed. Further, it can be said that the larger the worst S / worst N ratio is, the clearer the distinction can be considered, and therefore the effect of suppressing the detection omission of the foreign matter 13 in the absence of false news is high.

図12によれば、手法3~手法7のそれぞれにおいて、最悪S/最悪N比が1より大きいため、虚報が無い状態における異物13の検出漏れが十分に抑制されていることが分かる。一方、図12によれば、手法1および手法2のそれぞれにおいて、最悪S/最悪N比が1より小さいため、虚報が無い状態における異物13の検出漏れが十分に抑制されていないことが分かる。特に、手法3、手法4、手法5と移るにつれ、換言すれば、第2画素値を積算する対象の画素32の数が多くなるにつれ、最悪S/最悪N比が大きくなるため、虚報が無い状態における異物13の検出漏れの抑制効果が高くなると言える。 According to FIG. 12, since the worst S / worst N ratio is larger than 1 in each of the methods 3 to 7, it can be seen that the omission of detection of the foreign matter 13 in the absence of false news is sufficiently suppressed. On the other hand, according to FIG. 12, since the worst S / worst N ratio is smaller than 1 in each of the method 1 and the method 2, it can be seen that the omission of detection of the foreign matter 13 in the absence of false news is not sufficiently suppressed. In particular, as the method 3, method 4, and method 5 move, in other words, as the number of pixels 32 for which the second pixel value is integrated increases, the worst S / worst N ratio increases, so there is no false news. It can be said that the effect of suppressing the detection omission of the foreign matter 13 in the state is enhanced.

以上の結果から、注目画素33を包含する連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算することにより、虚報が無い状態における異物13の検出漏れを抑制する効果が向上するということが分かったため、異物検査装置100における画素値積算部44の有効性が分かった。 From the above results, it was found that by integrating the second pixel values of the pixel groups belonging to the continuous region including the pixel of interest 33, the effect of suppressing the detection omission of the foreign matter 13 in the absence of false news is improved. Therefore, the effectiveness of the pixel value integrating unit 44 in the foreign matter inspection device 100 was found.

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the claims, and the embodiments obtained by appropriately combining the technical means disclosed in the different embodiments. Is also included in the technical scope of the present invention.

1 検査対象物
11 コア
12 非水電解液二次電池用セパレータ
13 異物
14 テープまたはラベル
15 軸
2 電磁波発生源
21 電磁波
22 電磁波の発生部分の中心
23 四角錐
3 イメージセンサ
31 主面
32 画素
33 注目画素
34 参照画素
35 不適画素
36~38 画素群
4 画像処理装置
41 記憶部
42 画素値演算部
43 背景値設定部
44 画素値積算部
5 移動機構
6 回転機構
100、101、102 異物検査装置
1 Inspection target 11 Core 12 Non-aqueous electrolyte secondary battery separator 13 Foreign matter 14 Tape or label 15 Axis 2 Electromagnetic wave source 21 Electromagnetic wave 22 Center of electromagnetic wave generation part 23 Square cone 3 Image sensor 31 Main surface 32 Pixel 33 Attention Pixel 34 Reference pixel 35 Inappropriate pixel 36 to 38 Pixel group 4 Image processing device 41 Storage unit 42 Pixel value calculation unit 43 Background value setting unit 44 Pixel value integration unit 5 Movement mechanism 6 Rotation mechanism 100, 101, 102 Foreign matter inspection device

Claims (8)

異物を含む検査対象物を透過した電磁波の画像に対して画像処理を行う画像処理装置において、
上記画像を構成する多数の画素それぞれに対応した第1画素値を記憶する記憶部と、
上記各画素において、上記各第1画素値と上記異物を含まない検査対象物による減衰後の第1画素値に相当する背景値との差に比例する、上記各画素の第2画素値を算出する画素値演算部と、
特定の連続領域に属する画素群の各第2画素値積算値を求める画素値積算部と、
を備え
上記積算値は、上記異物における上記画素群に対応する部分の体積に応じた値であり、上記異物の一部又は全部の体積を推定することができる値であり、
上記各画素の第2画素値は、上記各画素における、上記各第1画素値と上記背景値との差の、当該背景値に対する比率である画像処理装置。
In an image processing device that performs image processing on an image of electromagnetic waves transmitted through an inspection object containing foreign matter.
A storage unit that stores the first pixel value corresponding to each of a large number of pixels constituting the image, and a storage unit.
In each of the above pixels, the second pixel value of each of the above pixels is calculated, which is proportional to the difference between the first pixel value and the background value corresponding to the first pixel value after attenuation by the inspection object containing no foreign matter. Pixel value calculation unit and
A pixel value integrating unit that obtains an integrated value of each second pixel value of a pixel group belonging to a specific continuous region, and a pixel value integrating unit.
Equipped with
The integrated value is a value corresponding to the volume of the portion of the foreign matter corresponding to the pixel group, and is a value at which the volume of a part or all of the foreign matter can be estimated.
The second pixel value of each of the pixels is an image processing apparatus that is a ratio of the difference between the first pixel value and the background value of each pixel to the background value .
上記画素値積算部は、上記多数の画素それぞれを注目画素とし、当該注目画素を包含する上記連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する請求項に記載の画像処理装置。 The image processing apparatus according to claim 1 , wherein the pixel value integrating unit uses each of the large number of pixels as a pixel of interest and integrates the second pixel value of each pixel group belonging to the continuous region including the pixel of interest. 上記画素値積算部は、閾値よりも減衰量が大きい値を示す第2画素値を有し、かつ、連続領域をなす複数の画素それぞれの第2画素値を積算する請求項1または2に記載の画像処理装置。 The pixel value integrating unit has a second pixel value indicating a value whose attenuation is larger than a threshold value, and the second pixel value of each of a plurality of pixels forming a continuous region is integrated according to claim 1 or 2 . Image processing device. 請求項1からのいずれか1項に記載の画像処理装置を備える異物検査装置。 A foreign matter inspection device including the image processing device according to any one of claims 1 to 3 . 異物を含む検査対象物を透過した電磁波の画像に対して画像処理を行う画像処理方法において、
上記画像を構成する多数の画素それぞれに対応した第1画素値を記憶する記憶工程と、
上記各画素において、上記各第1画素値と上記異物を含まない検査対象物による減衰後の第1画素値に相当する背景値との差に比例する、上記各画素の第2画素値を算出する画素値演算工程と、
特定の連続領域に属する画素群の各第2画素値積算値を求める画素値積算工程と、
を含み、
上記積算値は、上記異物における上記画素群に対応する部分の体積に応じた値であり、上記異物の一部又は全部の体積を推定することができる値であり、
上記各画素の第2画素値は、上記各画素における、上記各第1画素値と上記背景値との差の、当該背景値に対する比率である画像処理方法。
In an image processing method that performs image processing on an image of electromagnetic waves that have passed through an inspection object containing foreign matter.
A storage process for storing the first pixel value corresponding to each of a large number of pixels constituting the above image, and
In each of the above pixels, the second pixel value of each of the above pixels is calculated, which is proportional to the difference between the first pixel value and the background value corresponding to the first pixel value after attenuation by the inspection object containing no foreign matter. Pixel value calculation process and
A pixel value integration process for obtaining an integrated value of each second pixel value of a pixel group belonging to a specific continuous region, and
Including
The integrated value is a value corresponding to the volume of the portion of the foreign matter corresponding to the pixel group, and is a value at which the volume of a part or all of the foreign matter can be estimated.
The second pixel value of each pixel is an image processing method in which the difference between the first pixel value and the background value in each pixel is the ratio to the background value .
上記画素値積算工程にて、上記多数の画素それぞれを注目画素とし、当該注目画素を包含する上記連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する請求項に記載の画像処理方法。 The image processing method according to claim 5 , wherein in the pixel value integration step, each of the large number of pixels is set as a pixel of interest, and the second pixel value of each pixel group belonging to the continuous region including the pixel of interest is integrated. 上記画素値積算工程にて、閾値よりも減衰量が大きい値を示す第2画素値を有し、かつ、連続領域をなす複数の画素それぞれの第2画素値を積算する請求項5または6に記載の画像処理方法。 In claim 5 or 6, in the pixel value integration step, claim 5 or 6 has a second pixel value indicating a value whose attenuation is larger than a threshold value, and integrates the second pixel values of each of a plurality of pixels forming a continuous region. The image processing method described. 請求項5から7のいずれか1項に記載の画像処理方法を含む異物検査方法。 A foreign matter inspection method including the image processing method according to any one of claims 5 to 7 .
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