JP6960910B2 - 高濃度noを吸入療法ガスとともに拡散させるための装置および方法 - Google Patents
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Description
2NO→N2O2
N2O2+O2→2NO2
により与えられる。
本発明は、以下で提示される実施例により、さらに説明される。係る実施例の使用は、単に説明を目的とし、本発明の、または任意の例示的な用語の、範囲および意味をいかなる方法でも制限しない。同様に本発明は、本明細書で記載のいかなる特定の好適な実施形態にも限定されない。実際に、本発明の多数の改変および変形は、本明細書を読むことにより、当業者に明らかとなるであろう。したがって本発明は、添付の請求項の言語と、係る請求項が権利を与えられた等価物の全範囲と、によってのみ限定される。
高NO供給源濃度(例えば4880ppm)および本明細書で記載の例示的な拡散器(例えば図8A〜図8Bに示される拡散器)を利用するNO送達システムが、低NO供給源濃度(例えば800ppm)および従来のインジェクタモジュールを利用する従来のNO送達システムと比較された。FGFは、例示的な人工呼吸器パラメータ(例えば、40の呼吸速度、30mlの1回換気量、60%のFiO2、0.5SLPMバイアス流、その他)を有する新生児用人工呼吸器により提供された。図14から見られ得るように、拡散器を利用する高NO供給源濃度システム(システム2)は、NO供給源濃度が顕著により高いにも関わらず、より低いNO供給源濃度における従来のNO送達システム(システム1)と同等な量のNO2を生成した。
次に、実施例1のシステム2において使用されるNO送達システムは、加熱された人工呼吸器の呼吸回路(例えば約38℃)とともに使用された。図16から見られ得るように、人工呼吸器の呼吸回路を加熱することにより、試験されたすべての条件下でNO2レベルが低下した。
実施例1のシステム2において使用されるNO送達システムは、様々なNO供給源濃度を有するよう、および、FGF速度とNO含有ガス速度との様々な比を提供するよう、改変された。複数のガスサンプリング地点が、NOおよびNO2の濃度測定のために使用された。これらの測定値は、チューブの断面内のガスの任意の不均一な分布を考慮して平均化される。NO2濃度は、NO注入地点から下流側の3つの異なる地点T0:T1(NO注入地点から203mm下流側)、T2(NO注入地点から673mm下流側)、およびT3(NO注入地点から2268mm下流側)において測定された。以下で記載の実験に対して、T0〜T1の領域は、不均一ガス分布を有すると考えられ、T2〜T3の領域は均質ガス分部を有すると考えられた。NO2変換率は、測定されたNO2濃度から、NO供給ボンベからのNO2寄与分を減算し、NO2濃度における純増加分をサンプリング地点間の滞留時間により除算する(体積流量を区域の体積で徐算する)ことにより判定された。
実施例3のNO送達システムは、様々な流量を有する人工呼吸器をシミュレートするよう改変された。0.5SLPMの最小流れおよび5SLPMの最大流れを有する矩形波流が、吸気から呼気への比(高から低への流れ比)が2:2〜1:3の範囲で変化する状態で、使用された。図22A〜図22Bでは、発生したNO2がppmにおいてNOの設定用量のパーセンテージとして示されている。図22A〜図22Bから見られ得るように、大部分のNO2は、より高い呼気(低流)比で発生した。図22Bから見られ得るように、高パーセンテージのNOが低い設定用量においてNO2に変換された。なお、吸気:呼気比が1:3、NO設定用量が1ppmのときに、ほぼ25%のNOがNO2に変換された。
懸下される漏斗を利用するNO送達システム(実施例1のシステム3)および実施例3のNO送達システムのNO2発生率が、10ppmNOの設定用量および4880ppmNOのボンベ濃度においてT0〜T1まで比較された。この比較結果が以下の表4で示される。
Claims (21)
- 高濃度ガスを横方向ガスストリームに注入するための拡散装置であって、前記拡散装置は、
厚さ、外側表面、および中空内部領域を包囲する内側表面を有する壁部を含む本体と、
前記本体の内側表面から前記中空内部領域内に延長する突起物と、
前記壁部および前記突起物を通って注入ポートに至る注入流路であって、前記注入ポートは、前記高濃度ガスを、前記本体の内側表面からある距離において前記横方向ガスストリーム内に注入し、前記注入ポートは、前記中空内部領域の中心から凹陥した流出口を有する、流入流路と、
を含む、拡散装置。 - 前記中空内部領域はある直径を有し、前記内側表面から前記注入ポート流出口までの前記突起物の長さは、前記中空内部領域の直径の約30%乃至約45%の範囲内にある、請求項1に記載の拡散装置。
- 前記注入ポートは、約0.7mm乃至約2.4mmの範囲内の内径を有する、請求項1または2に記載の拡散装置。
- 前記本体は、約10mm乃至約25mmの範囲内の外径および約10mm乃至約25mmの範囲内の内径を有する円筒形壁部を含む環状本体であり、前記内径は前記外径よりも前記円筒形壁部の厚さだけ小さい、請求項1〜3のうちのいずれか1項に記載の拡散装置。
- 前記円筒形壁部の厚さは、約1mm乃至約3.175mmの範囲内にあり、前記注入流路は、前記中空内部領域の長手方向軸に対して約60度乃至約120度の範囲内の角度を形成する、請求項1〜4のうちのいずれか1項に記載の拡散装置。
- 前記拡散装置は、呼吸チューブ内への挿入のために構成および寸法取りされている、請求項1〜5のうちのいずれか1項に記載の拡散装置。
- 前記拡散装置は、流れセンサを含むインジェクタモジュールに対して一体化されている、請求項1〜6のうちのいずれか1項に記載の拡散装置。
- 前記拡散装置は、厚さ、外側表面、および内側表面を有する壁部と、第1直径を有する流入端部と、前記流入端部と反対側において第2直径を有する流出端部とを有するテーパ状区域をさらに含み、前記第1直径は約6mm乃至約18mmの範囲内にあり、前記第2直径は約3.17mm乃至約9.5mmの範囲内にあり、前記第2直径は第1直径よりも小さく、前記テーパ状区域は前記突起物に接続され、前記突起物から懸下されている、請求項1〜7のうちのいずれか1項に記載の拡散装置。
- 前記テーパ状区域は軸周りに対称であり、前記注入流路は、前記テーパ状区域の軸に対して約60度乃至約120度の範囲の角度を形成する、請求項8に記載の拡散装置。
- 前記テーパ状区域は、漏斗形状、円維台形状、またはベル形状である、請求項8に記載の拡散装置。
- 前記拡散装置は複数の注入ポートを含む、請求項1〜10のうちのいずれか1項に記載の拡散装置。
- 前記注入流路および前記注入ポートのうちの1つ以上は、比例バルブまたは可変オリフィスを有する、請求項1〜11のうちのいずれか1項に記載の拡散装置。
- 請求項1〜12のうちのいずれか1項に記載の拡散装置を含む一酸化窒素送達システム。
- N 2 分子およびO 2 分子を含む第1ガスストリームは、NO分子およびN 2 分子を含む第2ガスストリームと混合される、請求項13に記載の一酸化窒素送達システム。
- 前記第2ガスストリームは、前記中空内部領域に進入して、前記中空内部領域内で前記第1ガスストリームと少なくとも部分的に拡散し、前記第1ガスストリームは第1速度を有し、前記第2ガスストリームは第2速度を有し、前記第1速度と前記第2速度との比は2:1よりも小さい、請求項14に記載の一酸化窒素送達システム。
- 加熱要素をさらに含む、請求項13〜15のうちのいずれか1項に記載の一酸化窒素送達システム。
- 前記第2ガスストリーム中のNOの濃度は、400ppm超乃至約10,000ppmの範囲内にある、請求項14〜16のうちのいずれか1項に記載の一酸化窒素送達システム。
- 前記第2ガスストリームの流量は、前記第1ガスストリームの流量に線形比例する、請求項14〜17のうちのいずれか1項に記載の一酸化窒素送達システム。
- 前記第1速度と前記第2速度との比は約1:1よりも小さいかまたは等しい、請求項16〜18のうちのいずれか1項に記載の一酸化窒素送達システム。
- 前記第1ガスストリームが2SLPMよりも小さい体積流量を有するとき、約1:1よりも小さいかまたは等しい前記比が提供される、請求項19に記載の一酸化窒素送達システム。
- 前記第2ガスストリームは、複数のパルスとして前記第1ガスストリームに注入される、請求項14〜20のうちのいずれか1項に記載の一酸化窒素送達システム。
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