JP6908214B1 - 多端子チップインダクタ - Google Patents

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Abstract

多端子チップインダクタ(101)は、複数の基材層にそれぞれ形成された複数のコイル導体と、複数のコイル導体を層間接続する層間接続導体と、複数のコイル導体及び層間接続導体による一連のコイル導体の複数箇所にそれぞれ接続される複数の外部電極と、を備える。複数の外部電極は共用の外部電極を含み、複数のコイル導体のうち、共用の外部電極(GND)と、この共用の外部電極(GND)に回路上隣接する第1外部電極(L1in)とが接続される第1コイル導体(L10)は、互いに並列接続された複数の第1コイル導体(L12),(L13),(L14)を含む。

Description

本発明は、複数の基材層の積層体内にコイル導体を備え、複数のインダクタンス値を有する素子として用いる多端子チップインダクタに関する。
従来、基材層の積層体内にコイル導体を設けることによって、複数のインダクタンスを有する積層インダクタンス素子が構成されている。
例えば特許文献1には、フェライト積層体内に、螺旋状の積層コイルと、そのコイルの途中を端子に接続する引き出し線が形成された積層インダクタンス素子が示されている。
特開平10−208943号公報
一般に、独立した複数のコイルを積層体内に設けることによって、複数のインダクタンスを有する積層インダクタンス素子が得られるが、このように独立した複数のコイルを備えると、コイル同士が干渉して、各インダクタが単独状態である場合に比較して、各インダクタのQ値が低下する。
一方、特許文献1に示されるように、一連のコイル導体パターンを形成し、その途中を端子に引き出す構成であれば、上記コイル同士の干渉は回避できる。そのため、基本的にQ値の高いインダクタンス素子が構成されるが、更に高いQ値を得るためには、コイル導体パターンの線幅や厚みを大きくすることになり、その結果、全体のサイズが大型化してしまう。
本発明の目的は、上記コイル同士の干渉を回避し、大型化することなく更にQ値の高いインダクタンス素子として用いることのできる多端子チップインダクタを提供することにある。
本開示の一例としての多端子チップインダクタは、複数の基材層と、当該複数の基材層のうち所定の複数の基材層にそれぞれ形成された複数のコイル導体と、当該複数のコイル導体を層間接続する層間接続導体と、前記複数のコイル導体にそれぞれ接続される複数の外部電極と、を備え、前記複数のコイル導体及び前記層間接続導体により、共通のコイル開口を有する一連のコイル導体が形成され、前記複数の外部電極は、共用の外部電極と、当該共用の外部電極に回路上隣接する第1外部電極と、当該第1外部電極に比べて前記共用の外部電極から回路上離れた第2外部電極と、を含み、前記一連のコイル導体は、前記共用の外部電極と前記第1外部電極との間に接続される部分である第1コイル導体と、前記第1外部電極と前記第2外部電極との間に接続される部分である第2コイル導体と、を含み、前記第1コイル導体は、互いに並列接続された複数のコイル導体を含むことを特徴とする。
上記構成により、どのインダクタンス値を選択する場合でも、並列接続された複数のコイル導体が使用されるので、各外部電極から見たインダクタンス素子のQ値を効果的に高めることができる。
本発明によれば、コイル同士の干渉が回避され、大型化することなくQ値の高いインダクタンス素子として用いることのできる多端子チップインダクタが得られる。
図1は第1の実施形態に係る多端子チップインダクタ101の内部の構造を示す透過斜視図である。 図2は、図1に示す多端子チップインダクタ101をY方向に視た正面図である。 図3は、多端子チップインダクタ101の各基材層に形成されている導体パターンを示す分解平面図である。 図4は多端子チップインダクタ101の回路図である。 図5はキャリアアグリゲーションに対応する共振周波数調整回路である。 図6は第2の実施形態に係る多端子チップインダクタ102の回路図である。 図7は比較例としての多端子チップインダクタの正面図である。 図8は図7に示す多端子チップインダクタの各基材層に形成されている導体パターンを示す分解平面図である。
以降、図を参照して幾つかの具体的な例を挙げて、本発明を実施するための複数の形態を示す。各図中には同一箇所に同一符号を付している。要点の説明又は理解の容易性を考慮して、実施形態を説明の便宜上、複数の実施形態に分けて示すが、異なる実施形態で示した構成の部分的な置換又は組み合わせは可能である。第2の実施形態以降では第1の実施形態と共通の事柄についての記述を省略し、異なる点についてのみ説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については実施形態毎には逐次言及しない。
《第1の実施形態》
図1は第1の実施形態に係る多端子チップインダクタ101の内部の構造を示す透過斜視図である。図2は図1に示す多端子チップインダクタ101を座標系XYZのY方向に視た正面図である。但し、後述の外部電極の図示は省略している。図3は多端子チップインダクタ101の各基材層に形成されている導体パターンを示す分解平面図である。図4は多端子チップインダクタ101の回路図である。
この多端子チップインダクタ101は、複数の基材層S1〜S10と、これら複数の基材層S1〜S10のうち所定の複数の基材層S2〜S8にそれぞれ形成された複数のコイル導体と、これら複数のコイル導体を層間接続する層間接続導体と、複数のコイル導体及び層間接続導体による一連のコイル導体の複数箇所にそれぞれ接続される複数の外部電極L1in,L2in,L3in,GNDと、を備える。
図3においては、基材層S1〜S10による積層体の底面S0も表している。この底面S0は多端子チップインダクタ101の実装面である。基材層S8には第1コイル導体L11が形成されている。基材層S7には第1コイル導体L12、基材層S6には第1コイル導体L13、基材層S5には第1コイル導体L14がそれぞれ形成されている。基材層S4には第1コイル導体L15が形成されている。基材層S3には第2コイル導体L22及び第3コイル導体L31が形成されている。基材層S2には第3コイル導体L32が形成されている。
基材層S8には層間接続導体V4a、基材層S7には層間接続導体V4b,V3a、基材層S6には層間接続導体V4c,V3bがそれぞれ形成されている。基材層S5には層間接続導体V3c、基材層S4には層間接続導体V2、基材層S3には層間接続導体V1がそれぞれ形成されている。
第1コイル導体L11の第1端は共用の外部電極GNDに接続されている。層間接続導体V4aは第1コイル導体L11の第2端と第1コイル導体L12の第1端とを層間接続する。層間接続導体V4bは第1コイル導体L12の第1端と第1コイル導体L13の第1端とを層間接続する。層間接続導体V4cは第1コイル導体L14の第1端と第1コイル導体L13の第1端とを層間接続する。
層間接続導体V3aは第1コイル導体L12の第2端と第1コイル導体L13の第2端とを層間接続する。層間接続導体V3bは第1コイル導体L14の第2端と第1コイル導体L13の第2端とを層間接続する。層間接続導体V3cは第1コイル導体L15の第1端と第1コイル導体L14の第2端とを層間接続する。
層間接続導体V2は第2コイル導体L22の第1端と第2コイル導体L21の第2端とを層間接続し、層間接続導体V1は第3コイル導体L32の第1端と第3コイル導体L31の第2端とを層間接続する。
第1コイル導体L15の第2端と第2コイル導体L21の第1端とは接続されていて(連続していて)、この第1コイル導体L15の第2端と第2コイル導体L21の第1端は外部電極L1inに接続されている。また、第2コイル導体L22の第2端と第3コイル導体L31の第1端とは接続されていて(連続していて)、この第2コイル導体L22の第2端と第3コイル導体L31の第1端は外部電極L2inに接続されている。
このように、複数のコイル導体及び複数の層間接続導体によって、複数ターンの一連のコイル導体が構成され、この一連のコイル導体は、複数の基材層の積層方向から視て(Z方向に視て)同一箇所を周回する形状である。そして、互いに並列接続された複数の第1コイル導体L12,L13,L14は、複数の基材層の積層方向から視て(Z方向に視て)同一形状である。本実施形態では、一連のコイル導体は、偏平八角形状の辺に沿って周回する形状である。
図3では基材層S1,S9,S10をそれぞれ1層で表しているが、必要に応じてこれら基材層は複数層あってもよい。
基材層S1〜S10は、感光性絶縁ペースト及び感光性導電ペーストのスクリーン印刷、露光及び現像によって形成され、これら基材層の積層形成によって積層体は形成される。
具体的には、感光性絶縁ペースト層をスクリーン印刷し、紫外線を照射し、アルカリ溶液で現像する。これにより外部電極用の開口やビアホール等を有する絶縁基材パターンを形成する。また、感光性導電ペーストをスクリーン印刷し、紫外線を照射し、アルカリ溶液で現像することによって導体パターンを形成する。この絶縁基材パターン及び導体パターンの積層によって、マザー積層体を得る。その後、このマザー積層体を個片に分断することによって多数の積層体を得る。各外部電極の表面には、はんだ付け性向上、導電率向上、耐環境性向上を目的として、例えばNi / Auめっきを施す。
上記積層体の形成方法はこれに限らない。例えば、導体パターン形状に開口したスクリーン版による導体ペーストを印刷し積層する工法でもよい。絶縁基材に導体箔を貼付し、導体箔のパターンニングによって各基材層の導体パターンを形成してもよい。また、外部電極の形成方法もこれに限らず、例えば、積層した素体に対する導体ペーストのディッピングやスパッタリング法によって、積層体の底面及び側面に外部電極を形成してもよく、さらに、その表面にめっき加工を施してもよい。
図3、図4に示すように、共用の外部電極GNDと、この外部電極GNDに回路上隣接する外部電極L1inとの間に接続される第1コイル導体L11〜L15のうち、第1コイル導体L12,L12,L13は並列接続されている。
図4において、第1コイル導体L11〜L15は包括的に第1コイル導体L10、第2コイル導体L21,L22は包括的に第2コイル導体L20、第3コイル導体L31,L32は包括的に第3コイル導体L30、でそれぞれ表すことができる。外部電極L1in−GND間のインダクタンスは第1コイル導体L10によるインダクタのインダクタンス、外部電極L2in−GND間のインダクタンスは第1コイル導体L10及び第2コイル導体L20によるインダクタのインダクタンス、外部電極L3in−GND間のインダクタンスはコイル導体L10,L20,L30によるインダクタのインダクタンスである。
このように、共用の外部電極GNDと第1外部電極L1inとの間に接続される第1コイル導体L10が、並列接続された複数のコイル導体を含むことにより、この並列接続部が無い構成に比較して、第1コイル導体L10によるコイルのQ値は高い。そして、外部電極L1in−GND間のコイル導体を使用する場合、外部電極L2in−GND間のコイル導体を使用する場合、外部電極L3in−GND間のコイル導体を使用する場合、のいずれにおいても、インダクタ内に第1コイル導体L10を含むので、そのいずれの場合でもQ値の高いインダクタとして使用できる。ちなみに、第1コイル導体L10、第2コイル導体L20、第3コイル導体L30のいずれも並列接続構造とすれば、コイルのQ値を高めることはできるが、全体のサイズが非常に大きくなってしまう。限られたサイズのチップ素子であるためには、共用の外部電極GNDと第1外部電極L1inとの間に接続される第1コイル導体L10が、並列接続された複数のコイル導体を含んでいることが重要であり、効果的である。
上記一連のコイル導体が、複数の基材層の積層方向から視て同一箇所を周回する形状であることにより、つまり、一連のコイル導体により複数層に亘って形成されるコイルの内縁(コイル開口)もコイル外縁も積層方向に重なっているので、コイル導体の各部を周回する磁束が重なって、インダクタのインダクタンスが高まる。そのため、必要なインダクタンスを得るために要するコイル導体の線長を短縮化でき、その分、より高いQ値が得られる。
なお、Q値を高めたい第1コイル導体の線幅を特に拡げることでもQ値を向上させることできるが、図1、図3等に示した例では、第1コイル導体L10だけでなく、一連のコイル導体の全体が同一の線幅であるため、上記コイル導体の各部を周回する磁束の重なり効果が大きくなって、より高いQ値が得られる。
また、本実施形態では、並列接続された複数のコイル導体を含む第1コイル導体L10は、他のコイル導体よりも、複数の基材層の積層方向の一端面である実装面とは反対面側寄りに配置されている。そのため、この多端子チップインダクタ101が電子機器の回路基板に実装された状態で、その回路基板に形成されているグランド導体から第1コイル導体L10が離れるので、グランド導体との不要結合による渦電流の発生が抑制され、インダクタのQ値低下が抑制される。
ここで、本実施形態の多端子チップインダクタ101に対する比較例としての多端子チップインダクタの構成例、及び、その多端子チップインダクタと本実施形態の多端子チップインダクタとの特性差について示す。
図7は比較例としての多端子チップインダクタの正面図である。但し、図2の例と同様に、外部電極の図示は省略している。図8は図7に示す多端子チップインダクタの各基材層に形成されている導体パターンを示す分解平面図である。
この比較例としての多端子チップインダクタにおいては、複数の基材層S1〜S11を備え、第1コイル導体L1は第1コイル導体L11,L12の2層で構成されていて、第2コイル導体L2は第2コイル導体L21〜L23の3層で構成されていて、第3コイル導体L3は第3コイル導体L31〜L33の3層で構成されている。
第1の実施形態で示した多端子チップインダクタ101の特性と、上記比較例としての多端子チップインダクタの特性は次とおりである。
[多端子チップインダクタ101]
Figure 0006908214
[比較例の多端子チップインダクタ]
Figure 0006908214
表1と表2を対比すれば明らかなように、外部電極L3in−GND間のインダクタンスや外部電極L2in−GND間のインダクタンスのように、大きなインダクタンスを有するインダクタについてQ値が特に改善されている。
なお、本実施形態では、一連のコイル導体は、偏平八角形状の辺に沿って周回する形状であり、各外部電極L1in,L2in,L3in,GNDが四隅に配置されているので、これら外部電極と一連のコイル導体との間に比較的大きな間隔が生じて、外部電極L1in,L2in,L3in,GNDへの渦電流の発生、インダクタンスの低下が抑制される。
また、一連のコイル導体が外部電極L1in,L2in,L3in,GNDだけを避けて、基材層の縁に沿って周回する形状であるので、積層体内部の容積を効率的に利用できる。
図5はキャリアアグリゲーションに対応する共振周波数調整回路である。この共振周波数調整回路は、主インダクタL0、多端子チップインダクタ101及びスイッチSWで構成されている。スイッチSWが第1ポートP1を選択しているとき、第1コイル導体L10によるインダクタが主インダクタL0に並列接続されることになる。また、スイッチSWが第2ポートP2を選択しているとき、第1コイル導体L10によるインダクタ及び第2コイル導体L20によるインダクタの直列回路が主インダクタL0に並列接続されることになる。また、スイッチSWが第3ポートP3を選択しているとき、第1コイル導体L10によるインダクタ、第2コイル導体L20によるインダクタ及び第3コイル導体L30によるインダクタの直列回路が主インダクタL0に並列接続されることになる。
本実施形態によれば、共用の外部電極GNDに接続される第1コイル導体L10が並列接続されたコイル導体を含むコイル導体であることにより、多端子チップインダクタ101全体のQ値を大きくできる。
なお、第1コイル導体L10によるインダクタのインダクタンスをL10、第2コイル導体L20によるインダクタのインダクタンスをL20、第3コイル導体L30によるインダクタのインダクタンスをL30でそれぞれ表すと、
L10>L20>L30
の関係にあってもよい。つまり、第1コイル導体L10によるインダクタのインダクタンスは、第1外部電極L1inと、この第1外部電極L1inに回路上隣接する第2外部電極L2inとが接続される第2コイル導体L20によるインダクタのインダクタンスより大きくしてもよい。
上記インダクタンスの大小関係であれば、スイッチSWの、ポートP1の選択、ポートP2の選択、ポートP3の選択の順にインダクタンスの増加量が小さくなって、共振周波数の微調整が可能となる。
《第2の実施形態》
第2の実施形態では、第1の実施形態で示した多端子チップインダクタに比べて外部電極の数の少ない多端子チップインダクタについて例示する。
図6は第2の実施形態に係る多端子チップインダクタ102の回路図である。この多端子チップインダクタ102は、共用の外部電極GNDと、この外部電極GNDに回路上隣接する外部電極L1inとの間に接続される第1コイル導体L10は第1コイル導体L11,L12の並列接続回路で構成されている。
この第2の実施形態で示すように、本発明は、外部電極として、三つの外部電極L1in,L2in,GNDだけを有する多端子チップインダクタにも適用できる。
最後に、上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではない。当業者にとって変形及び変更が適宜可能である。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲内と均等の範囲内での実施形態からの変更が含まれる。
例えば、外部電極の数は3以上であれば適用でき、共用の外部電極以外に4つ以上の外部電極を備えてもよい。
GND…共用の外部電極
L0…主インダクタ
L1,L10,L11〜L15…第1コイル導体
L2,L20,L21,L22…第2コイル導体
L3,L30,L31〜L33…第3コイル導体
L1in…第1外部電極
L2in…第2外部電極
L3in…外部電極
P1…第1ポート
P2…第2ポート
P3…第3ポート
S0…底面
S1〜S10…基材層
SW…スイッチ
V1,V2,V3a,V3b,V3c,V4a,V4b,V4c…層間接続導体
101,102…多端子チップインダクタ

Claims (4)

  1. 複数の基材層と、当該複数の基材層のうち所定の複数の基材層にそれぞれ形成された複数のコイル導体と、当該複数のコイル導体を層間接続する層間接続導体と、前記複数のコイル導体にそれぞれ接続される複数の外部電極と、を備える多端子チップインダクタにおいて、
    前記複数のコイル導体及び前記層間接続導体により、共通のコイル開口を有する一連のコイル導体が形成され、
    前記複数の外部電極は、共用の外部電極と、当該共用の外部電極に回路上隣接する第1外部電極と、当該第1外部電極に比べて前記共用の外部電極から回路上離れた第2外部電極と、を含み、
    前記一連のコイル導体は、前記共用の外部電極と前記第1外部電極との間に接続される部分である第1コイル導体と、前記第1外部電極と前記第2外部電極との間に接続される部分である第2コイル導体と、を含み、
    前記第1コイル導体は、互いに並列接続された複数のコイル導体を含むことを特徴とする多端子チップインダクタ。
  2. 前記一連のコイル導体は、前記複数の基材層の積層方向から視て同一箇所を周回する形状である、
    請求項1に記載の多端子チップインダクタ。
  3. 前記互いに並列接続された複数のコイル導体は、前記複数の基材層の積層方向から視て同一形状である、
    請求項2に記載の多端子チップインダクタ。
  4. 前記第1コイル導体は、前記第2コイル導体に比べて、前記複数の基材層の積層方向の一端面である実装面とは反対面側寄りに配置されている、
    請求項1から3のいずれかに記載の多端子チップインダクタ。
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