JP6864517B2 - Powder supply member and powder supply device using the member - Google Patents

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JP6864517B2 JP2017063592A JP2017063592A JP6864517B2 JP 6864517 B2 JP6864517 B2 JP 6864517B2 JP 2017063592 A JP2017063592 A JP 2017063592A JP 2017063592 A JP2017063592 A JP 2017063592A JP 6864517 B2 JP6864517 B2 JP 6864517B2
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Description

本発明は、粉体の供給速度の変化を抑制できるとともに、粉体の供給速度の変化を持続して抑制できる粉体供給用部材およびその部材を用いた粉体供給装置に関する。 The present invention relates to a powder supply member capable of suppressing a change in the powder supply rate and continuously suppressing a change in the powder supply rate, and a powder supply device using the member.

食用粉体(穀粉など)、合成樹脂粉体、金属粉体、セラミック粉体などの種々の粉体(粉粒体ともいう)に対して所定の処理を行う装置として、粉体処理装置がある。このような粉体処理装置には、粉体を所定の位置に供給する粉体供給装置が組み込まれている。 There is a powder processing device as a device that performs a predetermined treatment on various powders (also referred to as powder or granular material) such as edible powder (grain powder, etc.), synthetic resin powder, metal powder, ceramic powder, etc. .. Such a powder processing apparatus incorporates a powder supply apparatus that supplies powder to a predetermined position.

ここで、粉体処理装置は、所定量の粉体に対して所定の処理を行うことがある。このため、粉体処理装置に組み込まれる粉体供給装置は、粉体を処理する位置に所定量の粉体を所定時間で供給するために、粉体の供給速度を一定に保つこと、つまり、粉体の供給速度を安定化することが求められる。 Here, the powder processing apparatus may perform a predetermined treatment on a predetermined amount of powder. Therefore, the powder supply device incorporated in the powder processing device keeps the powder supply rate constant in order to supply a predetermined amount of powder to the position for processing the powder in a predetermined time, that is, It is required to stabilize the powder supply rate.

特許文献1や特許文献2に開示される粉体処理装置には、粉体供給装置としてコンジット(配管)が組み込まれており、このコンジット(配管)における粉体と接触する面には、ポリテトラフオロエチレンやナイロンからなる皮膜が形成されている。これにより、粉体の流動性を向上させている。 The powder processing apparatus disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2 incorporates a conduit (piping) as a powder supply device, and the surface of the conduit (piping) that comes into contact with powder is polytetra. A film made of fluoroethylene or nylon is formed. This improves the fluidity of the powder.

特開2000−118501号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-118501 特開2001−139152号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-139152

しかしながら、ポリテトラフオロエチレンやナイロンからなる皮膜は、耐摩耗性に乏しく、粉体が皮膜に衝突することにより、皮膜が摩耗したり、皮膜が欠けたりすることがある。皮膜の摩耗や欠損が進行すると、粉体と接触する面に粉体が堆積したり、堆積した粉体が固化したりし、粉体の移動が阻害される。このため、特許文献1や特許文献2に開示される粉体供給装置は、粉体の供給速度が継時的に変化しやすいという問題がある。 However, the film made of polytetrafluoroethylene or nylon has poor wear resistance, and when the powder collides with the film, the film may be worn or the film may be chipped. As the film wears or breaks, the powder is deposited on the surface in contact with the powder, or the deposited powder is solidified, and the movement of the powder is hindered. Therefore, the powder supply device disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2 has a problem that the powder supply rate tends to change over time.

そこで、本発明は、上記課題を解決するために、粉体の供給速度の変化を抑制できるとともに、粉体の供給速度の変化を持続して抑制できる粉体供給用部材およびその部材を用いた粉体供給装置を提供することを目的とする。 Therefore, in order to solve the above problems, the present invention uses a powder supply member capable of suppressing a change in the powder supply rate and continuously suppressing a change in the powder supply rate, and a member thereof. It is an object of the present invention to provide a powder supply device.

第1の発明は、粉体と接触する凹凸面を有し、前記凹凸面の算術平均粗さRaが0.2μm以上、1.8μm以下であり、前記凹凸面の表面自由エネルギーγsが35mJ/m以下であり、前記凹凸面のビッカース硬度が400以上であることを特徴とする粉体供給用部材である。 The first invention has an uneven surface in contact with powder, the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface is 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, and the surface free energy γs of the uneven surface is 35 mJ /. It is a powder supply member having m 2 or less and having a Vickers hardness of 400 or more on the uneven surface.

第2の発明は、粉体を所定の位置に供給する粉体供給装置であって、前記粉体と接触する部材として、第1の発明の粉体供給用部材を用いたことを特徴とする粉体供給装置である。 The second invention is a powder supply device that supplies powder to a predetermined position, and is characterized in that the powder supply member of the first invention is used as a member that comes into contact with the powder. It is a powder supply device.

第3の発明は、前記粉体供給装置が、振動フィーダまたはスクリューフィーダであることを特徴とする第2の発明の粉体供給装置である。 The third invention is the powder supply device of the second invention, characterized in that the powder supply device is a vibration feeder or a screw feeder.

本発明によれば、粉体と接触する面を、算術平均粗さRaが0.2μm以上、1.8μm以下であり、表面自由エネルギーγsが35mJ/m以下である凹凸面とすることにより、粉体の供給速度が変化することを抑制できる。また、凹凸面のビッカース硬度を400以上とすることにより、粉体が接触する面の強度を向上させることができる。これにより、粉体と接触する凹凸面の形状を維持し続けることができ、粉体の供給速度の変化を持続して抑制することができる。 According to the present invention, the surface in contact with the powder is an uneven surface having an arithmetic mean roughness Ra of 0.2 μm or more and 1.8 μm or less and a surface free energy γs of 35 mJ / m 2 or less. , It is possible to suppress the change in the powder supply rate. Further, by setting the Vickers hardness of the uneven surface to 400 or more, the strength of the surface to which the powder comes into contact can be improved. As a result, the shape of the uneven surface in contact with the powder can be maintained, and the change in the powder supply rate can be continuously suppressed.

粉体供給用部材を用いた振動フィーダを示す図である。It is a figure which shows the vibration feeder which used the powder supply member. 粉体供給用部材を用いたスクリューフィーダを示す図である。It is a figure which shows the screw feeder which used the powder supply member.

本発明の実施形態について詳述する。本実施形態の粉体供給用部材は、粉体と接触する凹凸面を有する。凹凸面の算術平均粗さRaは、0.2μm以上、1.8μm以下である。また、凹凸面の表面自由エネルギーγsは、35mJ/m以下である。また、凹凸面のビッカース硬度は、400以上である。このような構成を備える粉体供給用部材は、粉体の供給速度の変化を抑制できるとともに、粉体の供給速度の変化を持続して抑制することができる。 Embodiments of the present invention will be described in detail. The powder supply member of the present embodiment has an uneven surface that comes into contact with the powder. The arithmetic mean roughness Ra of the uneven surface is 0.2 μm or more and 1.8 μm or less. The surface free energy γs of the uneven surface is 35 mJ / m 2 or less. The Vickers hardness of the uneven surface is 400 or more. The powder supply member having such a configuration can suppress the change in the powder supply rate and can continuously suppress the change in the powder supply rate.

本実施形態の粉体供給用部材は、粉体と接触する凹凸面を有する。凹凸面の算術平均粗さRaは、0.2μm以上、1.8μm以下である。算術平均粗さRaは、JIS B 0601で定義されている。算術平均粗さRaが0.2μm未満であったり、算術平均粗さRaが1.8μmよりも大きかったりすると、粉体と粉体供給用部材表面(凹凸面)との吸着エネルギーが高くなり、供給する粉体の流動性を低下させてしまい、好ましくない。凹凸面の算術平均粗さRaを0.2μm以上、1.8μm以下とすることにより、供給する粉体の流動性が低下することを抑制でき、粉体の供給速度が変化することを抑制できる。 The powder supply member of the present embodiment has an uneven surface that comes into contact with the powder. The arithmetic mean roughness Ra of the uneven surface is 0.2 μm or more and 1.8 μm or less. The arithmetic mean roughness Ra is defined in JIS B 0601. If the arithmetic average roughness Ra is less than 0.2 μm or the arithmetic average roughness Ra is larger than 1.8 μm, the adsorption energy between the powder and the surface (concavo-convex surface) of the powder supply member becomes high. This is not preferable because it reduces the fluidity of the supplied powder. By setting the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface to 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, it is possible to suppress a decrease in the fluidity of the powder to be supplied, and it is possible to suppress a change in the powder supply rate. ..

凹凸面は、粗さ曲線パラメータ(R)に限らず、断面曲線パラメータ(P)、うねり曲線パラメータ(W)を用いても表すことができる。各パラメータは、JIS B 0601で定義されている。 The uneven surface can be expressed not only by using the roughness curve parameter (R) but also by using the cross-section curve parameter (P) and the waviness curve parameter (W). Each parameter is defined in JIS B 0601.

凹凸面の表面自由エネルギーγsは、35.0mJ/m以下である。凹凸面の表面自由エネルギーγsを35.0mJ/m以下とすることで、表面自由エネルギーγsが35.0mJ/mを超える場合よりも粉体の流動性を高めることができる。この理由は現在のところ必ずしも明確ではないが、凹凸面の表面自由エネルギーγsが35.0mJ/m以下となることで、粉体と粉体供給用部材表面(凹凸面)との間に働く液架橋力や分子間力が低下することが原因の一つとして考えられる。 The surface free energy γs of the uneven surface is 35.0 mJ / m 2 or less. By setting the surface free energy γs of the uneven surface to 35.0 mJ / m 2 or less, the fluidity of the powder can be enhanced as compared with the case where the surface free energy γs exceeds 35.0 mJ / m 2. The reason for this is not always clear at present, but when the surface free energy γs of the uneven surface is 35.0 mJ / m 2 or less, it works between the powder and the surface (concave surface) of the powder supply member. One of the causes is considered to be a decrease in liquid cross-linking force and intermolecular force.

ここで、凹凸面の表面自由エネルギーγsは、下記(1)式で定義することができる。
γs =γsd +γs ---------------- (1)
γs:凹凸面の表面自由エネルギー
γsd:凹凸面の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γsp:凹凸面の極性成分に由来する表面自由エネルギー
Here, the surface free energy γs of the uneven surface can be defined by the following equation (1).
γs = γs d + γs ---------------- (1)
γs: Surface free energy of uneven surface γs d : Surface free energy derived from non-polar component of uneven surface γs p : Surface free energy derived from polar component of uneven surface

凹凸面の非極性成分に由来する表面自由エネルギーγsd及び凹凸面の極性成分に由来する表面自由エネルギーγspは、測定対象である凹凸面上の2種類の測定用液体の接触角(θ)をそれぞれ接触角計で測定し、測定された接触角(θ)を下記(2)式にそれぞれ当てはめ、接触角(θ)を当てはめた2つの下記(2)式を連立方程式として解くことにより算出することができる。なお、測定用液体は、下記(2)式中のγL(表面張力)、γLd(非極性成分に由来する表面自由エネルギー)及びγLp(極性成分に由来する表面自由エネルギー)が既知である液体を用いることができ、例えば、水やジヨードメタンを用いることができる。 The surface free energy γ s d derived from the non-polar component of the uneven surface and the surface free energy γ s p derived from the polar component of the uneven surface are the contact angles (θ) of the two types of liquids for measurement on the uneven surface to be measured. Are measured with a contact angle meter, the measured contact angle (θ) is applied to the following equation (2), and the two equations (2) below to which the contact angle (θ) is applied are solved as simultaneous equations. can do. As the liquid for measurement, γL (surface tension), γL d (surface free energy derived from non-polar component) and γL p (surface free energy derived from polar component) in the following equation (2) are known. A liquid can be used, for example, water or diiodomethane can be used.

(1+cosθ)×γL/4=(γsd×γLd)/(γsd+γLd)+(γsp×γLp)/(γsp +γLp) ---------------- (2)
θ :凹凸面上の測定用液体の接触角
γL:測定用液体の表面張力
γLd:測定用液体の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γLp:測定用液体の極性成分に由来する表面自由エネルギー
γsd:凹凸面の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γsp:凹凸面の極性成分に由来する表面自由エネルギー
(1 + cosθ) x γL / 4 = (γs d x γL d ) / (γs d + γL d ) + (γs p x γL p ) / (γs p + γL p ) ------------ ---- (2)
θ: Contact angle of liquid for measurement on uneven surface γL: Surface tension of liquid for measurement γL d : Surface free energy derived from non-polar component of liquid for measurement γL p : Surface free energy derived from polar component of liquid for measurement Energy γs d : Surface free energy derived from the non-polar component of the uneven surface γs p : Surface free energy derived from the polar component of the uneven surface

また、凹凸面の表面自由エネルギーγsは、上記(2)式により算出された凹凸面の非極性成分に由来する表面自由エネルギーγsdおよび凹凸面の極性成分に由来する表面自由エネルギーγspを上記(1)式に当てはめることで算出することができる。 The surface free energy γ s of the uneven surface is the surface free energy γ s d derived from the non-polar component of the uneven surface calculated by the above equation (2) and the surface free energy γ s p derived from the polar component of the uneven surface. It can be calculated by applying it to equation (1).

本実施形態の粉体供給用部材において、凹凸面のビッカース硬度は、400以上である。凹凸面のビッカース硬度を400以上とすることにより、粉体と接触する面の機械的強度を確保することができ、粉体による凹凸面の摩耗や欠けなどを抑制することができる。このため、凹凸面の形状を維持し続けることができ、粉体の供給速度の変化を持続して抑制することができる。 In the powder supply member of the present embodiment, the Vickers hardness of the uneven surface is 400 or more. By setting the Vickers hardness of the uneven surface to 400 or more, the mechanical strength of the surface in contact with the powder can be ensured, and wear or chipping of the uneven surface due to the powder can be suppressed. Therefore, the shape of the uneven surface can be continuously maintained, and the change in the powder supply rate can be continuously suppressed.

凹凸面のビッカース硬度は、JIS Z 2244に準拠し、25gの荷重でビッカース硬さ試験を行なうことにより測定できる。ここで、粉体供給用部材の表面に凹凸面が形成されたままでは、凹凸面のビッカース硬度を測定できない。そこで、粉体供給用部材の表面(凹凸面)から内部に向かって粉体供給用部材を切断したときの切断面を研磨し、この切断面を用いて凹凸面のビッカース硬度を測定することができる。 The Vickers hardness of the uneven surface conforms to JIS Z 2244 and can be measured by performing a Vickers hardness test with a load of 25 g. Here, if the uneven surface is still formed on the surface of the powder supply member, the Vickers hardness of the uneven surface cannot be measured. Therefore, it is possible to polish the cut surface when the powder supply member is cut from the surface (concavo-convex surface) of the powder supply member toward the inside, and measure the Vickers hardness of the uneven surface using this cut surface. it can.

本実施形態の粉体供給用部材は、粉体と接触しながら粉体を移動させ、粉体を所定の位置に供給するための部材である。粉体供給用部材は、例えば、後述する粉体供給装置の部材として用いることができる。 The powder supply member of the present embodiment is a member for moving the powder while in contact with the powder and supplying the powder to a predetermined position. The powder supply member can be used, for example, as a member of a powder supply device described later.

本実施形態の粉体供給用部材は、基材に対して所定の処理を行うことで製造することができる。基材の材料としては、様々な材料を用いることができ、例えば、金属、金属合金、樹脂、セラミックスを用いることができる。 The powder supply member of the present embodiment can be manufactured by performing a predetermined treatment on the base material. As the material of the base material, various materials can be used, and for example, metals, metal alloys, resins, and ceramics can be used.

上述した金属としては、例えば、鉄、アルミニウム、銅、亜鉛、チタン、マグネシウムを用いることができる。上述した金属合金としては、例えば、鉄合金(ステンレス鋼など)、アルミニウム合金、銅合金(真鍮(黄銅など))、亜鉛合金、チタン合金、マグネシウム合金を挙げることができる。 As the metal described above, for example, iron, aluminum, copper, zinc, titanium, and magnesium can be used. Examples of the metal alloy described above include iron alloys (stainless steel and the like), aluminum alloys, copper alloys (brass (brass and the like)), zinc alloys, titanium alloys, and magnesium alloys.

樹脂としては、例えば、ABS、ポリプロピレン(PP)、ポリアセタール(POM)、ポリカーボネイド(PC)、PC+ABS、ポリアミド(PA)6ナイロン、ポリエステル、ポリエステルテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、変性ポリフェニレンエーテル(MPPE)、変性ポリフェニレンオキサイド(PPO)、ポリサルホン(PSF)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリアリレート(液晶ポリマー)、ポリイミド(PI)、ノリル樹脂(SABIC社 登録商標)を挙げることができる。 Examples of the resin include ABS, polypropylene (PP), polyacetylene (POM), polycarbonate (PC), PC + ABS, polyamide (PA) 6 nylon, polyester, polyester terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), and modified polyphenylene ether. (MPPE), Modified Polyphenylene Oxide (PPO), Polysalphon (PSF), Polyethersalfone (PES), Polyetherimide (PEI), Polyphenylene Sulfide (PPS), Polyetheretherketone (PEEK), Polyallylate (Liquid crystal polymer) ), Polypropylene (PI), Noryl resin (registered trademark of SABIC).

セラミックスとしては、例えば、アルミナ、シリカ、ステアタイト、ジルコニア、ジルコン、マグネシア、ハイドロキシアパタイト、窒化チタン、炭化チタン、炭窒化チタン、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、タングステンカーバイド、ガラス、セメント、コンクリート、ファインセラミックス、フェライト、コーディライト、フォルステライト、ムライト、高温超伝導セラミックスを挙げることができる。 Ceramics include, for example, alumina, silica, steatite, zirconia, zircone, magnesia, hydroxyapatite, titanium nitride, titanium carbide, titanium carbonitride, aluminum nitride, boron nitride, tungsten carbide, glass, cement, concrete, fine ceramics, etc. Examples thereof include ferrite, cordylite, forsterite, mulite, and high-temperature superconducting ceramics.

ここで、凹凸面の表面自由エネルギーγsを35.0mJ/m以下とするだけ、もしくは凹凸面の算術平均粗さRaを0.2μm以上、1.8μm以下とするだけでは、粉体の供給速度が変化しやすくなる。また、凹凸面の表面自由エネルギーγsを35.0mJ/m以下とし、凹凸面の算術平均粗さRaを0.2μm以上、1.8μm以下とすることに加えて、凹凸面のビッカース硬度を400以上としなければ、粉体の摩擦などにより凹凸面の形状が維持されにくくなり、粉体の供給速度が継時的に変化しやすくなる。つまり、粉体の供給速度の変化を抑制するとともに、粉体の供給速度の変化を持続して抑制するためには、凹凸面の表面自由エネルギーγs、凹凸面の算術平均粗さRa、及び凹凸面のビッカース硬度を上記所定の範囲内にすることが必要である。 Here, if the surface free energy γs of the uneven surface is set to 35.0 mJ / m 2 or less, or the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface is set to 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, the powder is supplied. The speed is likely to change. Further, the surface free energy γs of the uneven surface is set to 35.0 mJ / m 2 or less, the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface is set to 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, and the Vickers hardness of the uneven surface is set. If it is not 400 or more, it becomes difficult to maintain the shape of the uneven surface due to friction of the powder or the like, and the powder supply speed tends to change over time. That is, in order to suppress the change in the powder supply rate and continuously suppress the change in the powder supply rate, the surface free energy γs of the uneven surface, the arithmetic mean roughness Ra of the uneven surface, and the unevenness are suppressed. It is necessary to keep the Vickers hardness of the surface within the above-mentioned predetermined range.

上述したように、従来の粉体供給装置では、ポリテトラフオロエチレンやナイロンからなる皮膜を形成することにより、粉体の流動性を向上させている。しかしながら、ポリテトラフオロエチレンやナイロンからなる皮膜は、粉体の衝突による皮膜の摩耗や欠損を抑制するのに十分な硬度としにくい。このため、従来の粉体供給装置では、皮膜の摩耗や欠損により粉体の流動性が低下しやすくなり、粉体の供給速度が継時的に変化しやすくなる。一方、本実施形態の粉体供給用部材は、凹凸面の表面自由エネルギーγsを35.0mJ/m以下とするとともに、凹凸面の算術平均粗さRaを0.2μm以上、1.8μm以下とすることにより、粉体の供給速度が変化することを抑制している。このため、粉体と接触する面に、ポリテトラフオロエチレンやナイロンからなる皮膜を形成する必要がない。従って、凹凸面のビッカース硬度を400以上とすることができ、粉体の供給速度の変化を持続して抑制することができる。 As described above, in the conventional powder supply device, the fluidity of the powder is improved by forming a film made of polytetrafluoroethylene or nylon. However, it is difficult for a film made of polytetrafluoroethylene or nylon to have sufficient hardness to suppress abrasion or chipping of the film due to powder collision. For this reason, in the conventional powder supply device, the fluidity of the powder tends to decrease due to wear or chipping of the film, and the powder supply rate tends to change over time. On the other hand, in the powder supply member of the present embodiment, the surface free energy γs of the uneven surface is 35.0 mJ / m 2 or less, and the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface is 0.2 μm or more and 1.8 μm or less. By doing so, the change in the powder supply rate is suppressed. Therefore, it is not necessary to form a film made of polytetrafluoroethylene or nylon on the surface in contact with the powder. Therefore, the Vickers hardness of the uneven surface can be set to 400 or more, and the change in the powder supply rate can be continuously suppressed.

(第一実施形態)
次に、粉体供給用部材の第一実施形態について説明する。
(First Embodiment)
Next, the first embodiment of the powder supply member will be described.

本実施形態の粉体供給用部材では、所定の処理がされた基材の表面に凹凸面が形成される。基材の表面に形成される凹凸面は、上述したように、算術平均粗さRaが0.2μm以上、1.8μm以下であり、表面自由エネルギーγsが35.0mJ/m以下であり、ビッカース硬度が400以上である。 In the powder supply member of the present embodiment, an uneven surface is formed on the surface of the base material that has been subjected to a predetermined treatment. As described above, the uneven surface formed on the surface of the base material has an arithmetic average roughness Ra of 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, and a surface free energy γs of 35.0 mJ / m 2 or less. Vickers hardness is 400 or more.

次に、本実施形態の粉体供給用部材を製造する方法について説明する。 Next, a method of manufacturing the powder supply member of the present embodiment will be described.

粉体供給用部材は、基材に対して、少なくとも表面硬化処理を行うことにより製造することができる。 The powder supply member can be produced by performing at least a surface hardening treatment on the base material.

まず、本実施形態の粉体供給用部材に用いられる基材の材料について説明する。本実施形態の粉体供給用部材において、基材の材料は、チタンが用いられる。チタンあるいはチタン合金は人体に対する安全性の高い金属として知られ、インプラント治療にも用いられている。 First, the material of the base material used for the powder supply member of the present embodiment will be described. In the powder supply member of the present embodiment, titanium is used as the material of the base material. Titanium or titanium alloy is known as a metal with high safety to the human body and is also used for implant treatment.

次に、表面硬化処理について説明する。表面硬化処理とは、基材の表面を硬化させる処理である。表面硬化処理によって、基材の表面に凹凸面を形成することができるとともに、基材表面の表面自由エネルギーγsを調整することもできる。 Next, the surface hardening treatment will be described. The surface hardening treatment is a treatment for hardening the surface of the base material. By the surface hardening treatment, an uneven surface can be formed on the surface of the base material, and the surface free energy γs of the surface of the base material can be adjusted.

表面硬化処理としては、例えば、表面焼入れ法、拡散浸透法を用いることができる。表面焼入れ法としては、具体的に、高周波焼入、レーザ焼入、電子ビーム焼入等を用いることができる。また、拡散浸透法としては、具体的に、固体浸炭、液体浸炭、ガス浸炭、真空浸炭、プラズマ浸炭、高周波焼入浸炭、塩浴窒化、ガス窒化、プラズマ窒化、塩浴軟窒化、浸硫窒化、ガス軟窒化、高周波焼入窒化、ガス浸炭窒化、液体浸炭窒化、TDプロセス、固体ほう化、液体ほう化、気体ほう化等を用いることができる。 As the surface hardening treatment, for example, a surface quenching method or a diffusion permeation method can be used. As the surface hardening method, specifically, induction hardening, laser hardening, electron beam hardening and the like can be used. Specific examples of the diffusion permeation method include solid carburizing, liquid carburizing, gas carburizing, vacuum carburizing, plasma carburizing, high-frequency carburizing, salt bath nitriding, gas nitriding, plasma nitriding, salt bath soft nitriding, and sulphurizing nitriding. , Gas soft nitriding, high frequency quench nitriding, gas carburizing nitriding, liquid carburizing nitriding, TD process, solid boring, liquid boring, gas boring and the like can be used.

表面硬化処理の具体的な内容に基づいて、凹凸面の算術平均粗さRaが0.2μm以上、1.8μm以下となり、凹凸面の表面自由エネルギーγsが35.0mJ/m以下となり、凹凸面のビッカース硬度が400以上となるような処理条件を予め決めておくことができる。これにより、予め決められた処理条件において、表面硬化処理を行うことにより、凹凸面の算術平均粗さRaを0.2μm以上、1.8μm以下とすることができ、凹凸面の表面自由エネルギーγsを35.0mJ/m以下とすることができ、凹凸面のビッカース硬度を400以上とすることができる。 Based on the specific contents of the surface hardening treatment, the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface is 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, the surface free energy γs of the uneven surface is 35.0 mJ / m 2 or less, and the uneven surface is uneven. The processing conditions such that the Vickers hardness of the surface is 400 or more can be determined in advance. As a result, the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface can be set to 0.2 μm or more and 1.8 μm or less by performing the surface hardening treatment under predetermined treatment conditions, and the surface free energy γs of the uneven surface can be set. Can be 35.0 mJ / m 2 or less, and the Vickers hardness of the uneven surface can be 400 or more.

本実施形態の粉体供給用部材に用いられる基材の材料はチタン(Ti)であるため、基材に対して、塩浴窒化、ガス窒化、プラズマ窒化、塩浴軟窒化、浸硫窒化、ガス軟窒化、高周波焼入窒化といった窒化処理で表面硬化処理を行うことにより、基材の表層部を窒化物(例えば、TiN)で形成することができる。また、Tiで形成された基材に対して、固体浸炭、液体浸炭、ガス浸炭、真空浸炭、プラズマ浸炭、高周波焼入浸炭といった炭化処理で表面硬化処理を行うことにより、基材の表層部を炭化物(例えば、TiC)で形成することができる。さらに、Tiで形成された基材に対して、ガス浸炭窒化、液体浸炭窒化、高周波焼入浸炭窒化といった炭窒化処理で表面硬化処理を行うことにより、基材の表層部を炭窒化物(例えば、TiCN)で形成することができる。ここで、粉体供給用部材の内部では、表面硬化処理による硬化が行われにくいため、粉体供給用部材の内部は、Tiのままとなる。 Since the material of the base material used for the powder supply member of the present embodiment is titanium (Ti), salt bath nitriding, gas nitriding, plasma nitriding, salt bath soft nitriding, distillation nitriding, By performing surface hardening treatment by nitriding treatment such as gas soft nitriding and high frequency quench nitriding, the surface layer portion of the base material can be formed of nitride (for example, TiN). Further, the surface layer portion of the base material is formed by subjecting the base material formed of Ti to a surface hardening treatment such as solid carburizing, liquid carburizing, gas carburizing, vacuum carburizing, plasma carburizing, and induction hardening carburizing. It can be formed of carbide (eg TiC). Further, the surface layer portion of the base material is carbonitride (for example) by performing surface hardening treatment on the base material formed of Ti by carbon nitriding treatment such as gas nitriding, liquid carburizing nitriding, and induction hardening nitriding. , TiCN). Here, since it is difficult for the powder supply member to be cured by the surface hardening treatment, the inside of the powder supply member remains Ti.

なお、上述した窒化処理については、処理温度を550〜1000℃、処理時間を1〜20時間と適宜選択することができ、処理温度を800〜900℃とすることが好ましく、処理時間を6〜8時間とすることが好ましい。また、上述した炭化処理については、処理温度を800〜1400℃、処理時間を1分〜60時間、焼入れ温度を850℃、焼入れ時間を15分〜100分と適宜選択することができ、処理温度を930〜1050℃、処理時間を30分以上とすることが好ましい。さらに、上述した炭窒化処理については、処理温度を550〜900℃、処理時間を15分〜4時間と適宜選択することができ、処理温度を750〜850℃とすることが好ましい。 Regarding the above-mentioned nitriding treatment, the treatment temperature can be appropriately selected from 550 to 1000 ° C. and the treatment time can be appropriately selected from 1 to 20 hours. It is preferably 8 hours. Further, regarding the carbonization treatment described above, the treatment temperature can be appropriately selected from 800 to 1400 ° C., the treatment time from 1 minute to 60 hours, the quenching temperature from 850 ° C., and the quenching time from 15 minutes to 100 minutes. Is preferably 930 to 1050 ° C. and the treatment time is preferably 30 minutes or more. Further, for the above-mentioned carbonitriding treatment, the treatment temperature can be appropriately selected from 550 to 900 ° C. and the treatment time from 15 minutes to 4 hours, and the treatment temperature is preferably 750 to 850 ° C.

粉体供給用部材を製造するとき、基材に対して、表面硬化処理だけでなく、加工処理を行うこともできる。加工処理とは、基材の表面に凹凸を形成する処理である。加工処理によって、基材表面を硬化させることができるとともに、基材表面の表面自由エネルギーγsを調整することもできる。加工処理としては、例えば、ブラスト、ピーニング、バフ研磨、ラッピング、ブラッシング、ヘアライン、エッチング等を用いることができる。 When manufacturing a powder supply member, the base material can be processed not only by surface hardening treatment but also by processing treatment. The processing treatment is a treatment for forming irregularities on the surface of the base material. By the processing, the surface of the base material can be cured, and the surface free energy γs of the surface of the base material can be adjusted. As the processing, for example, blasting, peening, buffing, lapping, brushing, hairline, etching and the like can be used.

ブラスト処理に用いられる研磨剤としては、例えば、JIS R 6001に規定される研磨剤を用いることができる。また、研磨剤の粒度は、例えば、JIS R 6001に規定される♯400〜♯3000とすることができる。研磨剤の粒度が♯400未満の場合、凹凸面の算術平均粗さRaや凹凸面の表面自由エネルギーγsを上記所定の範囲内にしにくくなり、粉体の供給速度が変化しやすくなるため、好ましくない。研磨剤の粒度が♯3000を超える場合、算術平均粗さRaのバラつきが大きくなり凹凸面の形状の制御が困難となることがある。また、研磨剤を基材に衝突させる方法としては、例えば、研磨剤を所定の圧力で噴出して基材に衝突させる方法がある。研磨剤を噴出する所定の圧力は、例えば、0.3MPa〜1.0MPaとすることができる。研磨剤を噴出する圧力が0.3MPa未満の場合、凹凸面の算術平均粗さRaや凹凸面の表面自由エネルギーγsを上記所定の範囲内にしにくくなる。研磨剤を噴出する圧力が1.0MPaを超える場合、基材への負荷が大きくなるために変形、劣化等の問題を生じやすくなる。また、算術平均粗さRaのバラつきが大きくなり凹凸面の形状の制御が困難となることがある。 As the abrasive used for the blasting treatment, for example, the abrasive specified in JIS R 6001 can be used. The particle size of the abrasive can be, for example, # 400 to # 3000 specified in JIS R 6001. When the particle size of the abrasive is less than # 400, it is difficult to keep the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface and the surface free energy γs of the uneven surface within the above-mentioned predetermined ranges, and the powder supply rate is likely to change, which is preferable. Absent. When the particle size of the abrasive exceeds # 3000, the variation in the arithmetic mean roughness Ra may become large, and it may be difficult to control the shape of the uneven surface. Further, as a method of colliding the abrasive with the base material, for example, there is a method of ejecting the abrasive with a predetermined pressure to collide with the base material. The predetermined pressure for ejecting the abrasive can be, for example, 0.3 MPa to 1.0 MPa. When the pressure for ejecting the abrasive is less than 0.3 MPa, it becomes difficult to keep the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface and the surface free energy γs of the uneven surface within the above-mentioned predetermined ranges. When the pressure for ejecting the abrasive exceeds 1.0 MPa, the load on the base material becomes large, so that problems such as deformation and deterioration are likely to occur. In addition, the variation in the arithmetic mean roughness Ra may become large, and it may be difficult to control the shape of the uneven surface.

上述した加工処理が、研磨剤を基材に衝突させるなどの物理的な衝撃を加える処理である場合、この物理的な衝撃により、基材に加工硬化を発生させることもでき、基材の硬度を向上させることができる。また、加工硬化を発生させると、基材の表面(凹凸面)から内部に向かって硬度が緩やかに減少する、硬度勾配を発生させることができる。ここで、基材の内部において、硬度が極端に異なる部分があると、この部分が破断の起点になりやすい。上述したように硬度勾配を発生させれば、硬度が極端に異なる部分が発生しにくくなり、破断の発生を防止することができる。 When the above-mentioned processing process is a process of applying a physical impact such as causing an abrasive to collide with a base material, the physical impact can also cause work hardening on the base material, and the hardness of the base material can be generated. Can be improved. Further, when work hardening is generated, a hardness gradient can be generated in which the hardness gradually decreases from the surface (concavo-convex surface) of the base material toward the inside. Here, if there is a portion inside the base material having extremely different hardness, this portion tends to be the starting point of fracture. If the hardness gradient is generated as described above, it is difficult to generate a portion having extremely different hardness, and it is possible to prevent the occurrence of fracture.

表面硬化処理および加工処理を行うとき、表面硬化処理および加工処理を行う順序は適宜決めることができる。すなわち、加工処理を行った後に、表面硬化処理を行ったり、表面硬化処理を行った後に、加工処理を行ったりすることができる。 When the surface hardening treatment and the processing treatment are performed, the order in which the surface hardening treatment and the processing treatment are performed can be appropriately determined. That is, the surface hardening treatment can be performed after the processing treatment, or the processing treatment can be performed after the surface hardening treatment.

上述したように、表面硬化処理を行うだけでも、凹凸面の算術平均粗さRaを0.2μm以上、1.8μm以下とし、凹凸面の表面自由エネルギーγsを35.0mJ/m以下とし、凹凸面のビッカース硬度を400以上とすることができるが、加工処理を行うことにより、凹凸面の算術平均粗さRaや凹凸面の表面自由エネルギーγsや凹凸面のビッカース硬度を所望の値に設定しやすくなる。 As described above, the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface is set to 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, and the surface free energy γs of the uneven surface is set to 35.0 mJ / m 2 or less just by performing the surface hardening treatment. The Vickers hardness of the uneven surface can be set to 400 or more, but by performing the processing, the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface, the surface free energy γs of the uneven surface, and the Vickers hardness of the uneven surface are set to desired values. It will be easier to do.

ここで、表面硬化処理と加工処理の具体的な内容に基づいて、凹凸面の算術平均粗さRaが0.2μm以上、1.8μm以下となり、凹凸面の表面自由エネルギーγsが35.0mJ/m以下となり、凹凸面のビッカース硬度が400以上となるような処理条件を予め決めておくことができる。これにより、予め決められた処理条件において、加工処理を行うことにより、凹凸面の算術平均粗さRaを0.2μm以上、1.8μm以下とすることができ、凹凸面の表面自由エネルギーγsを35.0mJ/m以下とすることができ、凹凸面のビッカース硬度を400以上とすることができる。 Here, based on the specific contents of the surface hardening treatment and the processing treatment, the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface is 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, and the surface free energy γs of the uneven surface is 35.0 mJ / The processing conditions such that the m 2 or less and the Vickers hardness of the uneven surface are 400 or more can be determined in advance. As a result, the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface can be set to 0.2 μm or more and 1.8 μm or less by performing the processing under predetermined processing conditions, and the surface free energy γs of the uneven surface can be reduced. It can be 35.0 mJ / m 2 or less, and the Vickers hardness of the uneven surface can be 400 or more.

なお、上述した表面硬化処理を行うことで粉体供給用部材の表層部に形成されるチタン化合物や,表面硬化処理および加工処理を行うことで粉体供給用部材の表層部に形成されるチタン化合物は、表面硬化処理や加工処理の具体的な処理条件に基づき、チタン原子と表面硬化原子が所定の比率を示す化合物とすることができる。粉体供給用部材の表層部に形成されるチタン化合物を、チタン原子と表面硬化原子が所定の比率を示す化合物とすることで、粉体供給用部材の表面(凹凸面)の硬度を向上させることができるとともに、凹凸面の表面自由エネルギーγsを調整することもできる。例えば、表面硬化処理として窒化処理を行う場合、粉体供給用部材の表層部に形成されるチタン化合物のチタン原子と窒素原子の組成比率が、TixNy(0.76≦x≦4、0.17≦y≦3)となるように処理を行うことが好ましい。 It should be noted that the titanium compound formed on the surface layer portion of the powder supply member by performing the above-mentioned surface hardening treatment, and the titanium formed on the surface layer portion of the powder supply member by performing the surface hardening treatment and processing treatment. The compound can be a compound in which titanium atoms and surface-hardened atoms show a predetermined ratio based on specific treatment conditions of the surface hardening treatment or the processing treatment. By making the titanium compound formed on the surface layer of the powder supply member a compound in which titanium atoms and surface-hardened atoms show a predetermined ratio, the hardness of the surface (concave and convex surface) of the powder supply member is improved. At the same time, the surface free energy γs of the uneven surface can be adjusted. For example, when nitriding is performed as a surface hardening treatment, the composition ratio of titanium atoms and nitrogen atoms of the titanium compound formed on the surface layer of the powder supply member is TixNy (0.76 ≦ x ≦ 4, 0.17). It is preferable to carry out the treatment so that ≦ y ≦ 3).

また、上述した表面硬化処理が行なわれた粉体供給用部材の内部構造(組成)や、表面硬化処理および加工処理が行なわれた粉体供給用部材の内部構造(組成)は、表面硬化処理や加工処理の具体的な処理条件に基づき、チタン原子と表面硬化原子が粉体供給用部材の表面から内部に向かって所定の比率を維持するような構造(組成)とすることができる。粉体供給用部材の内部構造(組成)を、チタン原子と表面硬化原子が内部に向かって所定の比率を維持するような構造(組成)とすることで、粉体供給用部材の表面(凹凸面)から内部に向かって硬度勾配が緩やかとなり、硬度が極端に異なる部分が発生しにくくなり、粉体供給用部材の破断の発生を防止することができる。例えば、表面硬化処理として窒化処理を行う場合、チタン原子と窒素原子の組成比率がTixNy(0.76≦x≦4、0.17≦y≦3)を維持するような構造(組成)とすることが好ましい。 Further, the internal structure (composition) of the powder supply member subjected to the above-mentioned surface hardening treatment and the internal structure (composition) of the powder supply member subjected to the surface hardening treatment and processing treatment are surface hardening treatment. The structure (composition) can be such that the titanium atom and the surface-hardened atom maintain a predetermined ratio from the surface of the powder supply member toward the inside based on the specific processing conditions of the processing. By making the internal structure (composition) of the powder supply member a structure (composition) in which titanium atoms and surface-hardened atoms maintain a predetermined ratio toward the inside, the surface (concavo-convexity) of the powder supply member is formed. The hardness gradient becomes gentle from the surface) to the inside, and it becomes difficult for portions having extremely different hardness to occur, and it is possible to prevent the occurrence of breakage of the powder supply member. For example, when nitriding is performed as a surface hardening treatment, the structure (composition) is such that the composition ratio of titanium atoms and nitrogen atoms maintains TixNy (0.76 ≦ x ≦ 4, 0.17 ≦ y ≦ 3). Is preferable.

(第二実施形態)
次に、粉体供給用部材の第二実施形態について説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the powder supply member will be described.

本実施形態の粉体供給用部材は、基材と、基材の表面(平坦面)に形成された皮膜とを有する。そして、皮膜の外面には、凹凸面が形成されており、皮膜の厚さは、凹凸面の形状に応じて異なっている。 The powder supply member of the present embodiment has a base material and a film formed on the surface (flat surface) of the base material. An uneven surface is formed on the outer surface of the film, and the thickness of the film varies depending on the shape of the uneven surface.

皮膜の外面に形成される凹凸面は、上述したように、算術平均粗さRaが0.2μm以上、1.8μm以下であり、表面自由エネルギーγsが35.0mJ/m以下である。
また、凹凸面が形成される皮膜のビッカース硬度は、400以上である。
As described above, the uneven surface formed on the outer surface of the film has an arithmetic mean roughness Ra of 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, and a surface free energy γs of 35.0 mJ / m 2 or less.
The Vickers hardness of the film on which the uneven surface is formed is 400 or more.

皮膜の主成分は、ニッケルである。所定の厚さを有する皮膜を形成したり、皮膜を加工しやすくしたりする上では、皮膜の主成分をニッケルとすることが好ましい。また、皮膜は、ニッケルの他に、リン、ホウ素、タングステン、モリブテン及びコバルトのうちの少なくとも1つを含んでいてもよい。そして、皮膜は、リン、ホウ素、タングステン、モリブテン及びコバルトのうちの少なくとも1つに加えて、耐摩耗性を示す無機微粒子、潤滑性を示す微粒子および非粘着性を示す微粒子の少なくとも1つを含んでいてもよい。 The main component of the film is nickel. In order to form a film having a predetermined thickness and to facilitate processing of the film, it is preferable that the main component of the film is nickel. Further, the film may contain at least one of phosphorus, boron, tungsten, molybdenum and cobalt in addition to nickel. Then, in addition to at least one of phosphorus, boron, tungsten, molybdenum and cobalt, the film contains at least one of inorganic fine particles exhibiting abrasion resistance, fine particles exhibiting lubricity and fine particles exhibiting non-adhesiveness. You may be.

基材の材料としては、様々な材料を用いることができ、例えば、上述した金属、金属合金、樹脂、セラミックスを用いることができる。 As the material of the base material, various materials can be used, and for example, the above-mentioned metals, metal alloys, resins, and ceramics can be used.

なお、本実施形態の粉体供給用部材において、基材に対する皮膜の密着性を向上させるために、皮膜と基材との間に下地層を形成することもできる。また、下地層は、皮膜と基材との間に、二層以上形成されてもよい。 In the powder supply member of the present embodiment, in order to improve the adhesion of the film to the base material, a base layer can be formed between the film and the base material. Further, the base layer may be formed in two or more layers between the film and the base material.

次に、本実施形態の粉体供給用部材の製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing the powder supply member of the present embodiment will be described.

基材に対して皮膜処理を行うことにより、基材の表面に、所定の厚さを有する皮膜を形成することができる。皮膜の厚さとしては、例えば、5μm以上有することが好ましく、10μm以上有することがより好ましい。次に、皮膜表面に対して加工処理を行うことにより、凹凸面を有する粉体供給用部材を製造することができる。皮膜の厚さを5μm以上とすることで、皮膜の表面に対して加工処理を行った際に、基材が皮膜の表面から露出しにくくなる。 By performing a film treatment on the base material, a film having a predetermined thickness can be formed on the surface of the base material. The thickness of the film is preferably, for example, 5 μm or more, and more preferably 10 μm or more. Next, by performing a processing treatment on the surface of the film, a powder supply member having an uneven surface can be manufactured. By setting the thickness of the film to 5 μm or more, it becomes difficult for the base material to be exposed from the surface of the film when the surface of the film is processed.

皮膜処理としては、湿式めっきによる皮膜処理法を用いることができる。具体的な皮膜処理は、基材の材料等を考慮して決めればよい。 As the film treatment, a film treatment method by wet plating can be used. The specific film treatment may be determined in consideration of the material of the base material and the like.

湿式めっきとしては、例えば、電解めっき、無電解めっきを挙げることができる。電解めっき及び無電解めっきとしては、例えば、合金めっき、複合めっきを挙げることができる。 Examples of the wet plating include electrolytic plating and electroless plating. Examples of electrolytic plating and electroless plating include alloy plating and composite plating.

合金めっきとしては、例えば、Zr−Ni合金めっき、Ni−P合金めっき、Ni−B合金めっき、Ni−B−P合金めっき、Ni−W合金めっき、Ni−P−W合金めっき、Ni−B−W合金めっき、Ni−Fe合金めっき、Ni−Mo合金めっき、Ni−Co合金めっき、Ni−N合金めっきを用いることができる。熱膨張率が低く、耐摩耗性の高いニッケル合金めっきを形成するためには、リン、ホウ素、タングステン、モリブテン及びコバルトのうちの少なくとも1つを含むニッケル合金めっきを用いることが好ましい。ここで、ニッケルのみを用いたニッケルめっきにより皮膜を形成した場合、凹凸面の形状を維持するのに十分な硬度が得られないことがある。このため、ニッケル合金めっきを用いることが好ましい。 Examples of alloy plating include Zr-Ni alloy plating, Ni-P alloy plating, Ni-B alloy plating, Ni-BP alloy plating, Ni-W alloy plating, Ni-P-W alloy plating, and Ni-B. −W alloy plating, Ni—Fe alloy plating, Ni—Mo alloy plating, Ni—Co alloy plating, Ni—N alloy plating can be used. In order to form a nickel alloy plating having a low coefficient of thermal expansion and high wear resistance, it is preferable to use a nickel alloy plating containing at least one of phosphorus, boron, tungsten, molybdenum and cobalt. Here, when the film is formed by nickel plating using only nickel, sufficient hardness may not be obtained to maintain the shape of the uneven surface. Therefore, it is preferable to use nickel alloy plating.

複合めっきで用いられる分散粒子の材料としては、例えば、炭化ケイ素、炭化クロム、炭化タングステン、炭化ホウ素、二酸化ケイ素、アルミナ、ジルコニア、酸化タングステン、二酸化チタン、二酸化モリブテン、黒鉛、窒化ホウ素、フッ化亜鉛、高分子フッ素化合物、フッ素樹脂を挙げることができる。これらの成分からなる分散粒子は、2種以上組合せて用いられてもよい。分散粒子として、例えば、炭化ケイ素、炭化クロム、炭化タングステン、炭化ホウ素、二酸化ケイ素、アルミナ、ジルコニア、酸化タングステン、二酸化チタンで形成された無機微粒子を用いた場合、粉体供給用部材の耐摩耗性を向上させることができる。また、分散粒子として、例えば、二酸化モリブテン、黒鉛、窒化ホウ素、フッ化亜鉛、高分子フッ素化合物で形成された微粒子を用いた場合、粉体供給用部材の自己潤滑性を向上させることができる。また、分散粒子として、例えば、フッ化亜鉛、フッ素樹脂で形成された微粒子を用いた場合、粉体供給用部材の非粘着性を向上させることができる。なお、上述した高分子フッ素化合物としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレンを用いることができる。 Materials for dispersed particles used in composite plating include, for example, silicon carbide, chromium carbide, tungsten carbide, boron nitride, silicon dioxide, alumina, zirconia, tungsten oxide, titanium dioxide, molybdenum dioxide, graphite, boron nitride, and zinc fluoride. , High molecular weight fluorine compound, and fluorine resin. Dispersed particles composed of these components may be used in combination of two or more. When inorganic fine particles formed of, for example, silicon carbide, chromium carbide, tungsten carbide, boron carbide, silicon dioxide, alumina, zirconia, tungsten oxide, and titanium dioxide are used as the dispersed particles, the abrasion resistance of the powder supply member is used. Can be improved. Further, when fine particles formed of, for example, molybdenum dioxide, graphite, boron nitride, zinc fluoride, or a polymer fluorine compound are used as the dispersed particles, the self-lubricating property of the powder supply member can be improved. Further, when fine particles formed of, for example, zinc fluoride or fluororesin are used as the dispersed particles, the non-adhesiveness of the powder supply member can be improved. As the above-mentioned polymer fluorine compound, for example, polytetrafluoroethylene can be used.

皮膜の主成分をニッケルとすることにより、ビッカース硬度が400以上であり、所定の厚みを有する皮膜を形成しやすくなる。一方、皮膜の主成分をニッケルとするだけでは、皮膜のビッカース硬度を400以上にしにくいときには、皮膜に対して熱処理を行うことができる。これにより、皮膜のビッカース硬度を400以上とすることができる。 By using nickel as the main component of the film, the Vickers hardness is 400 or more, and it becomes easy to form a film having a predetermined thickness. On the other hand, when it is difficult to increase the Vickers hardness of the film to 400 or more simply by using nickel as the main component of the film, the film can be heat-treated. As a result, the Vickers hardness of the film can be set to 400 or more.

加工処理は、皮膜の外面に凹凸を形成する処理である。加工処理によって、皮膜表面の表面自由エネルギーγsを調整することもできる。加工処理としては、上述した加工処理を用いることができる。また、ブラスト処理に用いられる研磨剤や研磨剤を衝突させる条件についても、上述した条件とすることができる。 The processing process is a process of forming irregularities on the outer surface of the film. The surface free energy γs of the film surface can also be adjusted by the processing. As the processing process, the above-mentioned processing process can be used. Further, the conditions for colliding the abrasives used for the blasting treatment and the abrasives can also be the above-mentioned conditions.

皮膜に対して熱処理および加工処理を行うとき、熱処理および加工処理を行う順序は適宜決めることができる。 When heat treatment and processing are performed on the film, the order in which the heat treatment and processing are performed can be appropriately determined.

基材に対して、皮膜の密着性を向上させるために、皮膜を形成する前に、基材の表面に前処理を行うことができる。この前処理には、基材の表面に下地層を形成する処理を組み合わせることができる。 In order to improve the adhesion of the film to the substrate, the surface of the substrate can be pretreated before forming the film. This pretreatment can be combined with a treatment of forming a base layer on the surface of the base material.

基材の材料が金属である場合の前処理方法としては、例えば、脱脂、酸処理、エッチング処理、酸活性、触媒活性処理を用いることができる。基材に対して前処理を行うとき、基材の材料等を考慮して、適宜前処理を選択することができる。また、基材の材料等を考慮して、場合によっては皮膜を形成する前にストライクめっきを用い、下地層を形成することもできる。 As the pretreatment method when the material of the base material is metal, for example, degreasing, acid treatment, etching treatment, acid activity, and catalytic activity treatment can be used. When the pretreatment is performed on the base material, the pretreatment can be appropriately selected in consideration of the material of the base material and the like. Further, in consideration of the material of the base material and the like, in some cases, strike plating may be used before forming the film to form the base layer.

基材の材料がアルミニウム合金である場合の前処理方法としては、例えば、研磨、脱脂、エッチング処理、酸処理、置換処理(ジンケート処理)を用いることができる。基材に対して前処理を行うとき、基材の材料等を考慮して、適宜前処理を選択することができる。また、基材の材料等を考慮して、場合によっては皮膜を形成する前にストライクめっきを用い、下地層を形成することもできる。 As a pretreatment method when the material of the base material is an aluminum alloy, for example, polishing, degreasing, etching treatment, acid treatment, and substitution treatment (zincate treatment) can be used. When the pretreatment is performed on the base material, the pretreatment can be appropriately selected in consideration of the material of the base material and the like. Further, in consideration of the material of the base material and the like, in some cases, strike plating may be used before forming the film to form the base layer.

基材の材料がセラミックスである場合の前処理方法としては、例えば、アルカリ脱脂、エッチング処理、中和、超音波洗浄、触媒活性処理を用いることができる。基材に対して前処理を行うとき、基材の材料等を考慮して、適宜前処理を選択することができる。 As the pretreatment method when the material of the base material is ceramics, for example, alkaline degreasing, etching treatment, neutralization, ultrasonic cleaning, and catalytic activation treatment can be used. When the pretreatment is performed on the base material, the pretreatment can be appropriately selected in consideration of the material of the base material and the like.

基材の材料が樹脂である場合の前処理方法としては、例えば、エッチング処理、触媒活性処理、アクセレーター処理を用いることができる。基材に対して前処理を行うとき、基材の材料等を考慮して、適宜前処理を選択することができる。 As a pretreatment method when the material of the base material is a resin, for example, an etching treatment, a catalytic activity treatment, and an accelerator treatment can be used. When the pretreatment is performed on the base material, the pretreatment can be appropriately selected in consideration of the material of the base material and the like.

ここで、皮膜と加工処理の具体的な内容に基づいて、凹凸面の算術平均粗さRaが0.2μm以上、1.8μm以下となり、凹凸面の表面自由エネルギーγsが35.0mJ/m以下となるような処理条件を予め決めておくことができる。これにより、予め決められた処理条件において、加工処理を行うことにより、凹凸面の算術平均粗さRaを0.2μm以上、1.8μm以下とし、凹凸面の表面自由エネルギーγsを35.0mJ/m以下とすることができる。 Here, based on the specific contents of the film and the processing, the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface is 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, and the surface free energy γs of the uneven surface is 35.0 mJ / m 2. The following processing conditions can be determined in advance. As a result, by performing the processing under predetermined processing conditions, the arithmetic average roughness Ra of the uneven surface is set to 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, and the surface free energy γs of the uneven surface is 35.0 mJ /. It can be m 2 or less.

また、上述したように、皮膜に対して熱処理を行うときには、皮膜の表面に加工処理を行った後に、熱処理を行うことが好ましい。 Further, as described above, when the heat treatment is performed on the film, it is preferable to perform the heat treatment after processing the surface of the film.

本実施形態の粉体供給用部材の製造方法では、上述したように、基材の表面に所定の厚さを有する皮膜を形成する皮膜処理の後に、皮膜の表面に凹凸面を形成する加工処理を行っている。このような製造方法により本実施形態の粉体供給用部材を製造することで、凹凸面の算術平均粗さRaや凹凸面の表面自由エネルギーγsや皮膜のビッカース硬度を上記所定の範囲内に調整しやすくなるとともに、皮膜を所望の厚さに調整しやすくなる。 In the method for manufacturing a powder supply member of the present embodiment, as described above, after a film treatment for forming a film having a predetermined thickness on the surface of a base material, a processing process for forming an uneven surface on the surface of the film. It is carried out. By manufacturing the powder supply member of the present embodiment by such a manufacturing method, the arithmetic mean roughness Ra of the uneven surface, the surface free energy γs of the uneven surface, and the Vickers hardness of the film can be adjusted within the above-mentioned predetermined ranges. At the same time, it becomes easy to adjust the film to a desired thickness.

凹凸面を形成する方法として、基材の表面に凹凸面を形成した後、基材の凹凸面に沿って均一の厚さを有する皮膜を形成する方法が考えられる。しかしながら、この方法では、均一な厚さを有する皮膜を基材の凹凸面に沿って形成させるためには、皮膜を薄膜とすることが必要である。このため、皮膜の剥離が生じやすく耐久性に乏しい皮膜になる傾向がある。また、基材の凹凸面上に、皮膜の剥離が生じにくい十分な耐久性を発揮する厚さの皮膜を形成した場合には、皮膜が基材の凹凸面に沿って形成されにくくなり、凹凸面の算術平均粗さRaを上記所定の範囲内に調整しにくくなる。さらに、基材の表面に凹凸面を形成する加工処理の際に、磨耗により基材の表面に熱が発生することがある。このため、基材として熱可塑性を有する材料を使用した場合には、基材の表面に微細な凹凸を形成しにくくなり、凹凸面の算術平均粗さRaを上記所定の範囲内に調整しにくくなる。つまり、上述した製造方法で本実施形態の粉体供給用部材を製造することにより、基材の材料に限定されることなく、樹脂やセラミックスなどの様々な材料を基材として用いることができる。 As a method of forming the uneven surface, a method of forming the uneven surface on the surface of the base material and then forming a film having a uniform thickness along the uneven surface of the base material can be considered. However, in this method, in order to form a film having a uniform thickness along the uneven surface of the base material, it is necessary to make the film a thin film. For this reason, the film tends to peel off and the film tends to have poor durability. Further, when a film having a thickness sufficient to exhibit sufficient durability is formed on the uneven surface of the base material, it becomes difficult for the film to be formed along the uneven surface of the base material, resulting in unevenness. It becomes difficult to adjust the arithmetic mean roughness Ra of the surface within the above-mentioned predetermined range. Further, during the processing process for forming an uneven surface on the surface of the base material, heat may be generated on the surface of the base material due to abrasion. Therefore, when a thermoplastic material is used as the base material, it is difficult to form fine irregularities on the surface of the base material, and it is difficult to adjust the arithmetic mean roughness Ra of the uneven surface within the above-mentioned predetermined range. Become. That is, by manufacturing the powder supply member of the present embodiment by the above-mentioned manufacturing method, various materials such as resin and ceramics can be used as the base material without being limited to the material of the base material.

次に、本実施形態の粉体供給用部材が用いられる粉体供給装置について説明する。 Next, a powder supply device using the powder supply member of the present embodiment will be described.

粉体供給装置は、粉体を所定の位置に供給する装置であり、粉体が自重により所定の位置に供給される装置を含む。粉体供給装置としては、例えば、振動フィーダ、スクリューフィーダ、テーブルフィーダ、電磁フィーダ、ベルトフィーダ、ロータリーフィーダ、ホッパー、シュート、配管などを挙げることができる。この粉体供給装置には、粉体と接触する部材が含まれる。そこで、粉体と接触する部材として、本実施形態の粉体供給用部材が用いられる。 The powder supply device is a device that supplies powder to a predetermined position, and includes a device that supplies the powder to a predetermined position by its own weight. Examples of the powder feeder include a vibration feeder, a screw feeder, a table feeder, an electromagnetic feeder, a belt feeder, a rotary feeder, a hopper, a chute, and piping. This powder supply device includes a member that comes into contact with the powder. Therefore, as the member that comes into contact with the powder, the powder supply member of the present embodiment is used.

なお、粉体供給装置は、粉体に対して所定の処理を行う粉体処理装置に組み込まれて用いられてもよい。粉体処理装置が行う所定の処理としては、例えば、粉砕、造粒、搬送(移送)、分級、選別、混合、攪拌、混練、捏和(ねっか)、乾燥、集塵、貯蔵、整粒といった処理を挙げることができる。 The powder supply device may be used by being incorporated in a powder processing device that performs a predetermined treatment on the powder. Predetermined processing performed by the powder processing apparatus includes, for example, crushing, granulation, transfer (transfer), classification, sorting, mixing, stirring, kneading, kneading (nekka), drying, dust collection, storage, and granulation. Such processing can be mentioned.

粉体供給装置では、粉体の移動が一時的に滞って粉体が堆積し、その後、堆積した粉体がまとまって移動する現象(脈動という)が発生することがある。本実施形態の粉体供給用部材を用いれば、粉体を安定して供給できるため、脈動の発生を防止することができる。 In the powder supply device, the movement of the powder is temporarily stagnant and the powder is deposited, and then the deposited powder may move together (called pulsation). By using the powder supply member of the present embodiment, the powder can be stably supplied, so that the occurrence of pulsation can be prevented.

また、振動フィーダでは、流動性に優れた粉体が使用され、振動フィーダに適用できる粉体が限られていると言われていた。本実施形態の粉体供給用部材では、粉体の種類にかかわらず、粉体を安定供給することができるため、振動フィーダにおいて、本実施形態の粉体供給用部材を用いることで、振動フィーダでも安定供給が可能な粉体の種類を増やすことができる。また、振動フィーダに適用できる粉体の種類が増加することにより、従来の振動フィーダに適用できない粉体について、粉体の供給工程等を簡素化することができる。 Further, it has been said that powder having excellent fluidity is used in the vibration feeder, and the powder applicable to the vibration feeder is limited. Since the powder supply member of the present embodiment can stably supply the powder regardless of the type of the powder, the vibration feeder can be used by using the powder supply member of the present embodiment. However, it is possible to increase the types of powder that can be stably supplied. Further, by increasing the types of powder that can be applied to the vibration feeder, it is possible to simplify the powder supply process and the like for the powder that cannot be applied to the conventional vibration feeder.

また、粉体をスムーズに移動させるために、ガスの圧力を用いて粉体を移動させることがあるが、本実施形態の粉体供給用部材を用いることにより、過剰なガスを供給しなくても、粉体をスムーズに移動させることができる。また、振動によって粉体を供給する場合にも、振動時に過剰な力を発生させなくても、粉体をスムーズに移動させることができる。このように、本実施形態の粉体供給用部材によれば、過剰なガスや過剰な振動力を粉体に与えなくても、粉体をスムーズに移動させることができ、粉体を供給するために消費される電力を低減(省エネルギー化)することができる。 Further, in order to move the powder smoothly, the powder may be moved by using the pressure of the gas, but by using the powder supply member of the present embodiment, it is not necessary to supply an excess gas. However, the powder can be moved smoothly. Further, even when the powder is supplied by vibration, the powder can be smoothly moved without generating an excessive force during vibration. As described above, according to the powder supply member of the present embodiment, the powder can be smoothly moved and the powder is supplied without applying an excessive gas or an excessive vibration force to the powder. Therefore, the power consumption can be reduced (energy saving).

また、フィーダをホッパーの下部に設けた従来の粉体供給装置では、ホッパー内において、粉体が固まってしまったり、ブリッジングを引き起こしたりしてしまい、粉体のスムーズな供給が出来ない場合が多い。この問題を解決するために、従来では、一般的に複雑な装置設計がなされている。本実施形態の粉体供給用部材を用いたホッパーでは、複雑な装置設計を行わなくても、粉体を安定して供給でき、粉体が固まったり、ブリッジングを引き起こしたりすることを防止できる。また、ホッパー内のブリッジングを防ぐことにより、ブリッジング状態の粉体が瞬間的に落下することを防ぐこともでき、粉体の供給量のバラツキが増加したり、フラッシングが発生したりすることを防ぐことができる。 Further, in the conventional powder supply device in which the feeder is provided at the lower part of the hopper, the powder may solidify or cause bridging in the hopper, and the powder may not be smoothly supplied. There are many. In order to solve this problem, conventionally, a complicated device design is generally made. In the hopper using the powder supply member of the present embodiment, the powder can be stably supplied without complicated device design, and it is possible to prevent the powder from solidifying or causing bridging. .. In addition, by preventing bridging in the hopper, it is possible to prevent the powder in the bridging state from dropping momentarily, which increases the variation in the amount of powder supplied and causes flushing. Can be prevented.

粉体の供給のために、粉体供給装置の一部(配管等)を傾斜させる場合において、本実施形態の粉体供給用部材を用いれば、円滑に粉体を流動させることができる。このため、必要最低限の範囲内で傾斜角度を設定すればよく、極端な傾斜角度を設定しなくてもよい。極端な傾斜角度を設定すると、上述した脈動によって瞬間的に多量の粉体が落下してしまうが、本実施形態の粉体供給用部材を用いれば、極端な傾斜角度を設定しなくてよいため、脈動に伴う粉体の落下を防ぐこともできる。 When a part (pipe, etc.) of the powder supply device is tilted for powder supply, the powder supply member of the present embodiment can be used to smoothly flow the powder. Therefore, the tilt angle may be set within the minimum necessary range, and it is not necessary to set an extreme tilt angle. If an extreme tilt angle is set, a large amount of powder will drop momentarily due to the above-mentioned pulsation, but if the powder supply member of the present embodiment is used, it is not necessary to set an extreme tilt angle. , It is also possible to prevent the powder from falling due to pulsation.

ベルトフィーダ、テーブルフィーダ、スクリューフィーダなどのように、定量の粉体を供給する粉体供給装置としては、種々のものが知られている。これらの粉体供給装置では、基本的に、粉体の供給力(スクリューフィーダの場合、スクリューの回転数)と粉体の供給量とが一定の比例関係にあることを利用して、所望の供給量となるように供給力を設定している。本実施形態の粉体供給用部材を用いることにより、粉体が円滑に供給されるため、上述した粉体供給装置における基本的な設定に基づいて、粉体の供給量に応じた供給力を設定でき、この供給力の設定によって供給量を制御できるようになる。すなわち、供給量の制御が簡単に行えるようになる。 Various powder supply devices such as belt feeders, table feeders, screw feeders, and the like that supply a fixed amount of powder are known. In these powder supply devices, basically, the powder supply force (in the case of a screw feeder, the number of rotations of the screw) and the powder supply amount are in a certain proportional relationship, which is desired. The supply capacity is set so that it is the supply amount. Since the powder is smoothly supplied by using the powder supply member of the present embodiment, the supply capacity according to the powder supply amount is increased based on the basic settings in the powder supply device described above. It can be set, and the supply amount can be controlled by setting this supply capacity. That is, the supply amount can be easily controlled.

粉体の付着や一時的な粉体の堆積を防止するために、ガス圧や振動などを粉体に加えることがあるが、その際に加えられた力により粉体が破壊されてしまい、所望の粒径や形状を有する粉体を製造できないなどの問題が生じることがある。本実施形態の粉体供給用部材を用いれば、粉体を安定供給できるため、ガス圧や振動などを粉体に加えなくてもよい。仮に、ガス圧や振動などを粉体に加える場合であっても、粉体に加えられる力を低減でき、製造したい粉体の状態を維持することができる。 Gas pressure or vibration may be applied to the powder in order to prevent the adhesion of the powder or temporary accumulation of the powder, but the force applied at that time destroys the powder, which is desirable. There may be a problem that a powder having the same particle size and shape cannot be produced. By using the powder supply member of the present embodiment, the powder can be stably supplied, so that it is not necessary to apply gas pressure or vibration to the powder. Even when gas pressure, vibration, or the like is applied to the powder, the force applied to the powder can be reduced, and the state of the powder to be produced can be maintained.

本実施形態の粉体供給用部材によれば、流動性に劣る粉体を用いても、この粉体を円滑に供給でき、供給量のばらつきを抑制できる。また、スクリューフィーダのトラフや配管のサイズを小型化しても、粉体の流動性を確保することができ、粉体を安定して供給できる様になる。また、V字型のトラフを用いた場合にも、本実施形態の粉体供給用部材によれば、脈動やブリッジングを抑制することができるため、より鋭角なV字型のトラフを用いることもできる。 According to the powder supply member of the present embodiment, even if a powder having inferior fluidity is used, the powder can be smoothly supplied and the variation in the supply amount can be suppressed. Further, even if the size of the trough and the pipe of the screw feeder is reduced, the fluidity of the powder can be ensured and the powder can be stably supplied. Further, even when a V-shaped trough is used, the powder supply member of the present embodiment can suppress pulsation and bridging, so that a sharper V-shaped trough should be used. You can also.

上述したように、本実施形態の粉体供給用部材を粉体供給装置に適用することにより、粉体供給装置の簡素化、小型化、粉体プロセス設計の幅を広げるなどのメリットを得られる。 As described above, by applying the powder supply member of the present embodiment to the powder supply device, merits such as simplification and miniaturization of the powder supply device and widening of the range of powder process design can be obtained. ..

次に、図1及び図2を用いて、本実施形態の粉体供給用部材が用いられる粉体供給装置についてより具体的に説明する。 Next, with reference to FIGS. 1 and 2, the powder supply device in which the powder supply member of the present embodiment is used will be described more specifically.

図1は、粉体に接触する部材として、本実施形態の粉体供給用部材を用いた振動フィーダ10を示す図である。なお、図1に示す振動フィーダ10では、粉体15と接触する部材として、第一実施形態の粉体供給用部材が用いられているが、第二実施形態の粉体供給用部材が用いられてもよい。 FIG. 1 is a diagram showing a vibration feeder 10 using the powder supply member of the present embodiment as a member in contact with powder. In the vibration feeder 10 shown in FIG. 1, the powder supply member of the first embodiment is used as the member in contact with the powder 15, but the powder supply member of the second embodiment is used. You may.

振動フィーダ10は、振動により、粉体15を所定の位置に供給する粉体供給装置である。振動フィーダ10は、図1に示すように、振動発生装置16と振動発生装置16に固定されるトラフ12により構成される。トラフ12は、粉体供給用部材から構成されており、粉体15と接触する面に、凹凸面11が形成される。 The vibration feeder 10 is a powder supply device that supplies powder 15 to a predetermined position by vibration. As shown in FIG. 1, the vibration feeder 10 includes a vibration generator 16 and a trough 12 fixed to the vibration generator 16. The trough 12 is composed of a powder supply member, and an uneven surface 11 is formed on a surface that comes into contact with the powder 15.

トラフ12は、凹凸面11に対向する面において、振動発生装置16に固定されており、粉体15と接触する面(凹凸面11)が水平面に対して傾くように配設される。振動発生装置16が発生する振動によりトラフ12が振動することで、粉体15は、傾斜方向(図1に示す破線矢印方向)に向かって凹凸面11上を移動する。 The trough 12 is fixed to the vibration generator 16 on the surface facing the uneven surface 11, and is arranged so that the surface in contact with the powder 15 (concave surface 11) is inclined with respect to the horizontal plane. The trough 12 vibrates due to the vibration generated by the vibration generator 16, so that the powder 15 moves on the uneven surface 11 in the inclined direction (direction of the broken line arrow shown in FIG. 1).

振動フィーダ10が供給する粉体15としては、例えば、食品、飼料、医薬品、化粧料、電池材料、化成品等で用いられる粉体や、金属製又はセラミックス製の粉体がある。なお、振動フィーダ10が供給する粉体15は、上述した例の粉体に限られるものではない。 Examples of the powder 15 supplied by the vibration feeder 10 include powders used in foods, feeds, pharmaceuticals, cosmetics, battery materials, chemical products, etc., and powders made of metal or ceramics. The powder 15 supplied by the vibration feeder 10 is not limited to the powder of the above-mentioned example.

上述した食品や飼料としては、例えば、小麦粉、穀物、天然調味料、調味料、蛋白系食品、砂糖、糖類系、米、玄米、コーンスターチ、片栗粉、そば粉、コーヒー、ココア、食品添加物、卵白粉末、緑黄色野菜、根菜、茸、竹炭、まか、昆布、すっぽん、サメ軟骨、イースト菌、乳酸菌、酵素、香料、天然甘味料、粉末卵、粉末油脂、クロレラ、全脂粉乳、脱脂粉乳、各健康食品、セルロース等が挙げられる。 Examples of the above-mentioned foods and feeds include wheat flour, grains, natural seasonings, seasonings, protein-based foods, sugar, sugar-based rice, brown rice, cornstarch, kataguri flour, buckwheat flour, coffee, cocoa, food additives, and egg white. Powder, green and yellow vegetables, root vegetables, mushrooms, bamboo charcoal, mackerel, kelp, suppon, shark cartilage, yeast, lactic acid bacteria, enzymes, fragrances, natural sweeteners, powdered eggs, powdered fats and oils, chlorella, full-fat powdered milk, non-fat powdered milk, each health Examples include foods and cellulose.

上述した医薬品としては、例えば、漢方薬、農薬、無機薬品、酵素、抗生物質、ビタミン剤等が挙げられる。 Examples of the above-mentioned pharmaceuticals include Chinese herbs, pesticides, inorganic chemicals, enzymes, antibiotics, vitamins and the like.

上述した化成品としては、例えば、有機薬品、有機触媒、酢酸ビニル、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、PE樹脂、PTFE樹脂、界面活性剤、塩化ビニル、リグニン、洗剤、油脂類、脂肪酸、モノグリセライド、タルク、酵母、アルミン酸塩、各種リン酸化合物、ケイ酸ソーダ、炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、硫安、燐安、顔料、染料、塗料、トナー、無機触媒、P.V.C.、フタル酸ソーダ等が挙げられる。 Examples of the above-mentioned chemical products include organic chemicals, organic catalysts, vinyl acetate, melamine resin, urea resin, phenol resin, PE resin, PTFE resin, surfactants, vinyl chloride, lignin, detergents, fats and oils, fatty acids, and monoglycerides. , Tarku, yeast, aluminate, various phosphoric acid compounds, sodium silicate, calcium carbonate, white carbon, sulfur cheap, phosphorus cheap, pigments, dyes, paints, toners, inorganic catalysts, P.I. V. C. , Soda phthalate and the like.

金属製の粉体としては、例えば、Si、Ag、Cu、Ni、Sn、Al、WC、Co、Fe、Zn、Cr、W、Cu−W、Ag−W、高速度鋼、超合金、溶射用粉末、合金鋼、アルミ合金、鉛合金、銅合金、アルミニウム合金、亜鉛合金、錫合金、Ni基合金、Co基合金、ネオジム磁石用粉、アモルファス、真鍮、フェロアロイ、分散強化合金、ステンレス鋼、ヘビーアロイ、スーパーアロイ、絶縁被膜処理鉄、各種希土類合金、マグネタイト等が挙げられる。 Examples of metal powders include Si, Ag, Cu, Ni, Sn, Al, WC, Co, Fe, Zn, Cr, W, Cu-W, Ag-W, high-speed steel, superalloys, and sprayed. Powder, alloy steel, aluminum alloy, lead alloy, copper alloy, aluminum alloy, zinc alloy, tin alloy, Ni-based alloy, Co-based alloy, neodymium magnet powder, amorphous, brass, ferroalloy, dispersion-reinforced alloy, stainless steel, Examples include heavy alloys, super alloys, insulating coating-treated irons, various rare earth alloys, and magnetites.

セラミックス製の粉体としては、例えば、アルミナ、シリカ、ステアタイト、ジルコニア、ジルコン、イットリア、マグネシア、炭酸マグネシウム、炭酸カリウム、リン酸カルシウム、水酸化マグネシウム、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ジルコン酸鉛、酸化鉛、ハイドロキシアパタイト、窒化ガリウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化チタン、炭化チタン、炭窒化チタン、窒化アルミニウム、石灰炭、珪石、石灰石、ソーダ灰、陶石、長石、粘土、蛍石、サファイア、ルビー、ガーネット、窒化ホウ素、タングステンカーバイド、ガラス、セメント、コンクリート、ファインセラミックス、フェライト、コーディライト、フォルステライト、ムライト、高温超伝導セラミックス、タイル陶器、陶磁器材料等が挙げられる。 Examples of ceramic powders include alumina, silica, steatite, zirconia, zircon, itria, magnesia, magnesium carbonate, potassium carbonate, calcium phosphate, magnesium hydroxide, titanium oxide, barium titanate, potassium titanate, and titanic acid. Magnesium, lead zirconate titanate, lead oxide, hydroxyapatite, gallium nitride, silicon nitride, silicon carbide, titanium nitride, titanium carbide, titanium nitride, aluminum nitride, lime charcoal, silica stone, limestone, soda ash, pottery stone, slab , Clay, fluorite, sapphire, ruby, garnet, boron nitride, tungsten carbide, glass, cement, concrete, fine ceramics, ferrite, cordylite, forsterite, mulite, high temperature superconducting ceramics, tile pottery, ceramic materials, etc. Be done.

ここで、振動フィーダ10を構成するトラフ12は、第一実施形態の粉体供給用部材と同様の製造方法により製造することができる。トラフ12の形状は、振動フィーダ10が組み込まれる粉体処理装置などの構造に応じて決定されるため、トラフ12は、粉体処理装置の構造に応じた所望の形状に成形すればよい。例えば、トラフ12は、粉体15が移動する方向に対して垂直な面における断面形状を、V字形状、略V字形状、U字形状、又は略U字形状とすることができる。トラフ12を所望の形状に成形するときには、基材を所望の形状に形成した後に、上述した表面硬化処理だけを行ったり、表面硬化処理および加工処理を行ったりすればよい。 Here, the trough 12 constituting the vibration feeder 10 can be manufactured by the same manufacturing method as the powder supply member of the first embodiment. Since the shape of the trough 12 is determined according to the structure of the powder processing apparatus or the like in which the vibration feeder 10 is incorporated, the trough 12 may be formed into a desired shape according to the structure of the powder processing apparatus. For example, the trough 12 may have a V-shaped, substantially V-shaped, U-shaped, or substantially U-shaped cross-sectional shape on a plane perpendicular to the direction in which the powder 15 moves. When the trough 12 is formed into a desired shape, after the base material is formed into the desired shape, only the above-mentioned surface hardening treatment, or the surface hardening treatment and the processing treatment may be performed.

次に、粉体と接触する部材として、本実施形態の粉体供給用部材を用いたスクリューフィーダ20について、図2を用いて説明する。なお、図2に示すスクリューフィーダ20では、粉体25と接触する部材として、第一実施形態の粉体供給用部材が用いられているが、第二実施形態の粉体供給用部材が用いられてもよい。 Next, the screw feeder 20 using the powder supply member of the present embodiment as a member in contact with the powder will be described with reference to FIG. In the screw feeder 20 shown in FIG. 2, the powder supply member of the first embodiment is used as the member in contact with the powder 25, but the powder supply member of the second embodiment is used. You may.

スクリューフィーダ20は、スクリュー23が回転することにより、粉体25を所定の位置に供給する粉体供給装置である。スクリューフィーダ20は、図2に示すように、中空のトラフ22と、トラフ22の内部に収められるスクリュー23により構成される。トラフ22及びスクリュー23は、上述した粉体供給用部材から構成されており、粉体25と接触する面に、凹凸面21が形成される。なお、粉体25は、上述した粉体を用いることができる。 The screw feeder 20 is a powder supply device that supplies powder 25 to a predetermined position by rotating the screw 23. As shown in FIG. 2, the screw feeder 20 is composed of a hollow trough 22 and a screw 23 housed inside the trough 22. The trough 22 and the screw 23 are composed of the powder supply member described above, and the uneven surface 21 is formed on the surface in contact with the powder 25. As the powder 25, the above-mentioned powder can be used.

トラフ22には、粉体25をトラフ22の内部に搬入するための搬入口22aと、トラフ22の内部を通過した粉体25を搬出するための搬出口22bが設けられている。スクリュー23は、軸23bと軸23bの表面に形成される螺旋状のスクリュー羽23aから構成される。また、軸23bの一端側には、モーターMに取り付けられる回転軸24が固定されており、モーターMが駆動することにより、スクリュー23が矢印R方向に回転する。搬入口22aから搬入された粉体25は、スクリュー23が回転することにより、スクリュー羽23aにより搬出口22b側に送り出され、搬出口22bから搬出される。なお、スクリュー23は、スクリュー羽23aのみから構成することもできる。スクリュー23をスクリュー羽23aのみから構成する場合、モーターMに取り付けられる回転軸24は、スクリュー羽23aの一端側に固定される。 The trough 22 is provided with a carry-in inlet 22a for carrying the powder 25 into the trough 22 and an carry-out port 22b for carrying out the powder 25 that has passed through the inside of the trough 22. The screw 23 is composed of a shaft 23b and a spiral screw blade 23a formed on the surface of the shaft 23b. Further, a rotating shaft 24 attached to the motor M is fixed to one end side of the shaft 23b, and the screw 23 rotates in the arrow R direction when the motor M is driven. The powder 25 carried in from the carry-in port 22a is sent out to the carry-out port 22b side by the screw blades 23a as the screw 23 rotates, and is carried out from the carry-out port 22b. The screw 23 may be composed of only the screw blades 23a. When the screw 23 is composed of only the screw blades 23a, the rotating shaft 24 attached to the motor M is fixed to one end side of the screw blades 23a.

スクリューフィーダ20を構成するトラフ22およびスクリュー23は、第一実施形態の粉供給用部材と同様の製造方法を用いて製造することができる。トラフ22およびスクリュー23の形状は、上述したトラフ12と同様に、粉体処理装置の構造に応じた所望の形状に成形することができる。例えば、トラフ22は、粉体25が移動する方向に対して垂直な面における断面形状を、円形状、V字形状、略V字形状、U字形状、又は略U字形状とすることができる。トラフ22およびスクリュー23を粉体処理装置の構造に応じた所望の形状に成形するときには、基材を所望の形状に形成した後に、上述した表面硬化処理だけを行ったり、表面硬化処理および加工処理を行ったりすればよい。 The trough 22 and the screw 23 constituting the screw feeder 20 can be manufactured by using the same manufacturing method as the powder supply member of the first embodiment. The shapes of the trough 22 and the screw 23 can be formed into a desired shape according to the structure of the powder processing apparatus, similarly to the trough 12 described above. For example, the trough 22 can have a circular shape, a V-shape, a substantially V-shape, a U-shape, or a substantially U-shape in a cross-sectional shape on a plane perpendicular to the direction in which the powder 25 moves. .. When the trough 22 and the screw 23 are formed into a desired shape according to the structure of the powder processing apparatus, after the base material is formed into the desired shape, only the above-mentioned surface hardening treatment is performed, or the surface hardening treatment and processing treatment are performed. You can do it.

ここで、本実施形態の粉体供給用部材が用いられる粉体供給装置は、粉体と接触する面に、算術平均粗さRaが0.2μm以上、1.8μm以下あり、表面自由エネルギーγsが35.0mJ/m以下である凹凸面を有する。このため、粉体と接触する面(凹凸面)において、粉体の流動性が低下することを抑制することができ、粉体の輸送時に生じる脈動、粉体の付着(堆積)や粉体の固化、及び粉体のブリッジや詰りや閉塞を抑制することができる。従って、粉体の移動が阻害されることを抑制することができ、粉体の供給速度が変化することを抑制できる(つまり、粉体の供給速度を安定化することができる)。また、凹凸面のビッカース硬度が400以上であることにより、粉体が接触する面の強度を向上させることができる。これにより、粉体と接触する凹凸面の形状を維持し続けることができ、粉体の供給速度の変化を持続して抑制することができる(つまり、粉体の供給速度を持続して安定化することができる)。 Here, in the powder supply device in which the powder supply member of the present embodiment is used, the surface in contact with the powder has an arithmetic average roughness Ra of 0.2 μm or more and 1.8 μm or less, and the surface free energy γs. Has an uneven surface of 35.0 mJ / m 2 or less. Therefore, it is possible to suppress the decrease in the fluidity of the powder on the surface (concave and convex surface) in contact with the powder, and the pulsation, the adhesion (deposition) of the powder and the powder occur during the transportation of the powder. Solidification and bridging, clogging and clogging of powder can be suppressed. Therefore, it is possible to suppress the movement of the powder from being hindered, and it is possible to suppress the change in the powder supply rate (that is, the powder supply rate can be stabilized). Further, when the Vickers hardness of the uneven surface is 400 or more, the strength of the surface with which the powder comes into contact can be improved. As a result, the shape of the uneven surface in contact with the powder can be maintained, and the change in the powder supply rate can be continuously suppressed (that is, the powder supply rate is continuously stabilized. can do).

一方、凹凸面の算術平均粗さRaや凹凸面の表面自由エネルギーγsを上記所定の範囲外とした場合には、粉体と接触する面(凹凸面)において粉体の流動性が低下しやすくなり、粉体の供給速度が変化しやすくなる。また、凹凸面のビッカース硬度を400未満とした場合には、凹凸面の形状を維持しにくくなり、粉体の供給速度が変化しやすくなる。 On the other hand, when the arithmetic mean roughness Ra of the uneven surface or the surface free energy γs of the uneven surface is out of the above-mentioned predetermined range, the fluidity of the powder tends to decrease on the surface (concave surface) in contact with the powder. Therefore, the powder supply rate is likely to change. Further, when the Vickers hardness of the uneven surface is set to less than 400, it becomes difficult to maintain the shape of the uneven surface, and the powder supply rate tends to change.

粉体の供給速度を安定化するために、粉体と接触する面の摩擦係数を低下させることが一般的に知られている。しかしながら、粉体と接触する面の摩擦係数が、本実施形態に係る粉体供給装置よりも低い粉体供給装置であっても、粉体と接触する面の算術平均粗さRaと表面自由エネルギーγsの両方が上記所定の範囲内にない場合には、粉体の流動性が低下しやすくなり、粉体の供給速度が変化しやすくなる。このことから、粉体と接触する面の摩擦係数を低下させるだけでは、粉体の供給速度の安定化が必ずしも達成されないことが理解できる。 It is generally known to reduce the friction coefficient of the surface in contact with the powder in order to stabilize the powder supply rate. However, even in a powder supply device in which the friction coefficient of the surface in contact with the powder is lower than that of the powder supply device according to the present embodiment, the arithmetic average roughness Ra and the surface free energy of the surface in contact with the powder When both γs are not within the above-mentioned predetermined ranges, the fluidity of the powder tends to decrease, and the powder supply rate tends to change. From this, it can be understood that the stabilization of the powder supply rate is not always achieved only by reducing the friction coefficient of the surface in contact with the powder.

次に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(実施例1〜3)
チタン板を所定の角度に折り曲げたV字形状の基材を用意した。基材に対し、ブラストによる加工処理を行った。加工処理された基材に対し、ガス窒化による表面硬化処理を行い、実施例1〜3の粉体供給用部材を得た。なお、実施例1〜3の粉体供給用部材において、ブラストによる加工処理は、異なる条件で行った。
(Examples 1 to 3)
A V-shaped base material obtained by bending a titanium plate at a predetermined angle was prepared. The base material was processed by blasting. The processed base material was surface-hardened by gas nitriding to obtain the powder supply members of Examples 1 to 3. In the powder supply members of Examples 1 to 3, the processing by blasting was performed under different conditions.

(実施例4)
実施例1の加工処理を行わなかった。これ以外の条件は、実施例1と同様の条件により、実施例4の粉体供給用部材を得た。
(Example 4)
The processing of Example 1 was not performed. As for the other conditions, the powder supply member of Example 4 was obtained under the same conditions as in Example 1.

(実施例5)
実施例1の加工処理の順序と、実施例1の表面硬化処理の順序を入れ替えた。すなわち、実施例1の表面硬化処理をした後、実施例1の加工処理をした。これ以外の条件は、実施例1と同様の条件により、実施例5の粉体供給用部材を得た。
(Example 5)
The order of the processing treatment of Example 1 and the order of the surface hardening treatment of Example 1 were exchanged. That is, after the surface hardening treatment of Example 1, the processing treatment of Example 1 was performed. As for the other conditions, the powder supply member of Example 5 was obtained under the same conditions as in Example 1.

(実施例6)
実施例2の加工処理の順序と、実施例2の表面硬化処理の順序を入れ替えた。すなわち、実施例2の表面硬化処理をした後、実施例2の加工処理をした。これ以外の条件は、実施例2と同様の条件により、実施例6の粉体供給用部材を得た。
(Example 6)
The order of the processing treatment of Example 2 and the order of the surface hardening treatment of Example 2 were exchanged. That is, after the surface hardening treatment of Example 2, the processing treatment of Example 2 was performed. As for the other conditions, the powder supply member of Example 6 was obtained under the same conditions as in Example 2.

(実施例7)
実施例3の加工処理の順序と、実施例3の表面硬化処理の順序を入れ替えた。すなわち、実施例3の表面硬化処理をした後、実施例3の加工処理をした。これ以外の条件は、実施例3と同様の条件により、実施例7の粉体供給用部材を得た。
(Example 7)
The order of the processing treatment of Example 3 and the order of the surface hardening treatment of Example 3 were exchanged. That is, after the surface hardening treatment of Example 3, the processing treatment of Example 3 was performed. As for the other conditions, the powder supply member of Example 7 was obtained under the same conditions as in Example 3.

(実施例8)
実施例1のガス窒化による表面硬化処理に代えて、真空浸炭による表面硬化処理を行った。これ以外の条件は、実施例1と同様の条件により、実施例8の粉体供給用部材を得た。
(Example 8)
Instead of the surface hardening treatment by gas nitriding in Example 1, the surface hardening treatment by vacuum carburizing was performed. As for the other conditions, the powder supply member of Example 8 was obtained under the same conditions as in Example 1.

(実施例9)
実施例8の加工処理を行わなかった。これ以外の条件は、実施例8と同様の条件により、実施例9の粉体供給用部材を得た。
(Example 9)
The processing of Example 8 was not performed. As for the other conditions, the powder supply member of Example 9 was obtained under the same conditions as in Example 8.

(実施例10〜11)
ステンレス鋼板を所定の角度に折り曲げたV字形状の基材を用意した。基材に対し、脱脂及び酸処理による前処理を実施した後、ストライクニッケルめっきを行った。その後、Ni−P合金めっきにより皮膜処理を行い、膜厚30μmの皮膜を形成した。皮膜が形成された基材に対し、ブラストによる加工処理を行った。その後、熱処理を行い、Ni−Pからなる皮膜を備える実施例10〜11の粉体供給用部材を得た。なお、実施例10〜11の粉体供給用部材において、ブラストによる加工処理は、異なる条件で行った。
(Examples 10 to 11)
A V-shaped base material obtained by bending a stainless steel plate at a predetermined angle was prepared. The base material was subjected to pretreatment by degreasing and acid treatment, and then subjected to strike nickel plating. Then, a film treatment was performed by Ni-P alloy plating to form a film having a film thickness of 30 μm. The base material on which the film was formed was processed by blasting. Then, heat treatment was performed to obtain a powder supply member of Examples 10 to 11 having a film made of Ni-P. In the powder supply members of Examples 10 to 11, the processing by blasting was performed under different conditions.

(実施例12)
実施例10の加工処理の順序と、実施例10の熱処理の順序を入れ替えた。すなわち、実施例10の熱処理をした後、実施例10の加工処理を行った。これ以外の条件は、実施例10と同様の条件により、Ni−Pからなる皮膜を備える実施例12の粉体供給用部材を得た。
(Example 12)
The order of the processing in Example 10 and the order of the heat treatment in Example 10 were exchanged. That is, after the heat treatment of Example 10, the processing of Example 10 was performed. As for the other conditions, the powder supply member of Example 12 having a film made of Ni-P was obtained under the same conditions as in Example 10.

(実施例13)
実施例10のNi−P合金めっきによる皮膜処理に代えて、Ni−W合金めっきにより皮膜処理を行い、膜厚が10μmの皮膜を形成した。これ以外の条件は、実施例10と同様の条件によりNi−Wからなる皮膜を備える実施例13の粉体供給用部材を得た。
(Example 13)
Instead of the film treatment by Ni-P alloy plating of Example 10, the film treatment was performed by Ni-W alloy plating to form a film having a film thickness of 10 μm. As for the other conditions, the powder supply member of Example 13 having a film made of Ni-W was obtained under the same conditions as in Example 10.

(実施例14)
実施例10の基材に代えて、アルミニウム合金板を所定の角度に折り曲げたV字形状の基材を用いた。実施例10の前処理に代えて、研磨、脱脂、エッチング処理、酸処理及びジンケート処理による前処理を実施した。これら以外の条件は、実施例10と同様の条件により、Ni−Pからなる皮膜を備える実施例14の粉体供給用部材を得た。
(Example 14)
Instead of the base material of Example 10, a V-shaped base material obtained by bending an aluminum alloy plate at a predetermined angle was used. Instead of the pretreatment of Example 10, pretreatment by polishing, degreasing, etching treatment, acid treatment and gincate treatment was carried out. Under the same conditions as in Example 10, a powder supply member of Example 14 having a film made of Ni-P was obtained.

(実施例15)
ABS樹脂板を所定の角度に折り曲げたV字形状の基材を用意した。基材に対し、エッチング処理、触媒活性処理、アクセレーター処理による前処理を実施した。その後、Ni−P合金めっきにより皮膜処理を行い、膜厚30μmの皮膜を形成した。皮膜が形成された基材に対し、ブラストによる加工処理を行い、Ni−Pからなる皮膜を備える実施例15の粉体供給用部材を得た。
(Example 15)
A V-shaped base material obtained by bending an ABS resin plate at a predetermined angle was prepared. The base material was pretreated by etching treatment, catalytic activity treatment, and accelerator treatment. Then, a film treatment was performed by Ni-P alloy plating to form a film having a film thickness of 30 μm. The base material on which the film was formed was processed by blasting to obtain a powder supply member of Example 15 having a film made of Ni-P.

(実施例16)
実施例15のNi−P合金めっきによる皮膜処理に代えて、Ni−B合金めっきによる皮膜処理を行い、膜厚10μmの皮膜を得た。これ以外の条件は、実施例15と同様の条件により、Ni−Bからなる皮膜を備える実施例16の粉体供給用部材を得た。
(Example 16)
Instead of the film treatment by Ni-P alloy plating of Example 15, the film treatment by Ni-B alloy plating was performed to obtain a film having a film thickness of 10 μm. As for the other conditions, the powder supply member of Example 16 having a film made of Ni—B was obtained under the same conditions as in Example 15.

(比較例1)
チタン板を所定の角度に折り曲げたV字形状の基材を用意した。この基材を比較例1の粉体供給用部材とした。
(Comparative Example 1)
A V-shaped base material obtained by bending a titanium plate at a predetermined angle was prepared. This base material was used as the powder supply member of Comparative Example 1.

(比較例2)
実施例1のガス窒化による表面硬化処理を行わなかった。これ以外の条件は、実施例1と同様の条件により、比較例2の粉体供給用部材を得た。
(Comparative Example 2)
The surface hardening treatment by gas nitriding of Example 1 was not performed. As for the other conditions, the powder supply member of Comparative Example 2 was obtained under the same conditions as in Example 1.

(比較例3)
比較例2のブラストによる加工処理の条件を変更した。これ以外の条件は、比較例2と同様の条件により、比較例3の粉体供給用部材を得た。
(Comparative Example 3)
The conditions for processing by blasting in Comparative Example 2 were changed. As for the other conditions, the powder supply member of Comparative Example 3 was obtained under the same conditions as in Comparative Example 2.

(比較例4)
実施例1のブラストによる加工処理の条件を変更した。これ以外の条件は、実施例1と同様の条件により、比較例4の粉体供給用部材を得た。
(Comparative Example 4)
The conditions for processing by blasting in Example 1 were changed. As for the other conditions, the powder supply member of Comparative Example 4 was obtained under the same conditions as in Example 1.

(比較例5)
ステンレス鋼板を所定の角度に折り曲げたV字形状の基材を用意した。基材に対し、実施例10と同様の条件により、前処理を実施した。その後、ストライクニッケルめっきを行った後、Ni−P合金めっきによる皮膜処理を行い、膜厚30μmの皮膜を得た。その後、熱処理を行い、Ni−Pからなる皮膜を備える比較例5の粉体供給用部材を得た。
(Comparative Example 5)
A V-shaped base material obtained by bending a stainless steel plate at a predetermined angle was prepared. The base material was pretreated under the same conditions as in Example 10. Then, after performing strike nickel plating, a film treatment by Ni-P alloy plating was performed to obtain a film having a film thickness of 30 μm. Then, heat treatment was performed to obtain a powder supply member of Comparative Example 5 having a film made of Ni-P.

(比較例6)
実施例10のブラストによる加工処理の条件を変更した。これ以外の条件は、実施例10と同様の条件により、Ni−Pからなる皮膜を備える比較例6の粉体供給用部材を得た。
(Comparative Example 6)
The conditions for processing by blasting in Example 10 were changed. As for the other conditions, the powder supply member of Comparative Example 6 having a film made of Ni-P was obtained under the same conditions as in Example 10.

(参考例1)
ステンレス鋼板を所定の角度に折り曲げたV字形状の基材を用意した。この基材を参考例1の粉体供給用部材とした。
(Reference example 1)
A V-shaped base material obtained by bending a stainless steel plate at a predetermined angle was prepared. This base material was used as the powder supply member of Reference Example 1.

(参考例2)
ステンレス鋼板を所定の角度に折り曲げたV字形状の基材を用意した。基材に対し、ブラストによる加工処理を行い、参考例2の粉体供給用部材を得た。
(Reference example 2)
A V-shaped base material obtained by bending a stainless steel plate at a predetermined angle was prepared. The base material was processed by blasting to obtain a powder supply member of Reference Example 2.

実施例1〜16、比較例1〜6及び参考例1〜2の粉体供給用部材を用意した。これらの粉体供給用部材について、マイクロビッカース硬さ試験機(株式会社ミツトヨ製)を用いて、凹凸面(比較例1,5及び参考例1については、粉体供給用部材の表面)のビッカース硬度(Hv)を測定した。具体的には、粉体供給用部材の表面から内部に向かって粉体供給用部材を切断したときの切断面を研磨し、この切断面を用いて凹凸面のビッカース硬度を測定した。また、これらの粉体供給用部材について、表面粗さ形状測定機サーフコム570A(株式会社東京精密製)を用いて、凹凸面(比較例1,5及び参考例1については、粉体供給用部材の表面)の算術平均粗さRa(μm)を測定した。また、これらの粉体供給用部材について、接触角計DropMaster300型(協和界面科学(株)製)を使用して測定した水及びジヨードメタンの接触角を用いて、凹凸面(比較例1,5及び参考例1については、粉体供給用部材の表面)の表面自由エネルギーγs(mJ/m)を算出した。結果を表1〜3に示す。 The powder supply members of Examples 1 to 16, Comparative Examples 1 to 6 and Reference Examples 1 to 2 were prepared. For these powder supply members, a Vickers hardness tester (manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.) was used to obtain Vickers on uneven surfaces (for Comparative Examples 1 and 5 and Reference Example 1, the surface of the powder supply member). Hardness (Hv) was measured. Specifically, the cut surface when the powder supply member was cut from the surface of the powder supply member toward the inside was polished, and the Vickers hardness of the uneven surface was measured using this cut surface. Further, regarding these powder supply members, a surface roughness shape measuring machine Surfcom 570A (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.) was used to obtain uneven surfaces (for Comparative Examples 1 and 5 and Reference Example 1, powder supply members. The arithmetic mean roughness Ra (μm) of the surface) was measured. Further, regarding these powder supply members, using the contact angles of water and diiodomethane measured using a contact angle meter DropMaster 300 type (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), uneven surfaces (Comparative Examples 1 and 5 and For Reference Example 1, the surface free energy γs (mJ / m 2 ) of the surface of the powder supply member) was calculated. The results are shown in Tables 1-3.

[表1]

Figure 0006864517
[Table 1]
Figure 0006864517

[表2]

Figure 0006864517
[Table 2]
Figure 0006864517

[表3]

Figure 0006864517
[Table 3]
Figure 0006864517

〈評価1〉
LF−02電磁フィーダ((株)アイシンナノテクノロジーズ製、振動フィーダ)を用意した。この振動フィーダのトラフとして、実施例1〜16、比較例1〜6及び参考例1〜2の粉体供給用部材(長さが179mm、高さが25mm、曲げ半径Rが1.5)を用意した。これらの粉体供給用部材を、水平面に対して15°傾斜させて、振動フィーダにそれぞれ固定した。振幅の強さを50%に設定し、振動フィーダの振動部(振動発生装置)を駆動させた。振動フィーダの振動部の中心に対応するトラフ(粉体供給用部材)上の位置に、粉体として、メジアン径が1.5μmの銀粒子3gを投入し、トラフから銀粒子を落下させた。落下した銀粒子の重量を2秒おきに計測し、初期投入量の半分(1.5g)の銀粒子が落下した時点で、振動フィーダの振動部の中心に対応するトラフ上の位置に、銀粒子を3g追加で投入した。この操作を3分間繰り返し、トラフから落下した銀粒子の重量を3分間2秒おきに計測した。この計測は、それぞれの振動フィーダについて、3回実施した。
<Evaluation 1>
An LF-02 electromagnetic feeder (vibration feeder manufactured by Aisin Nano Technologies Co., Ltd.) was prepared. As the trough of this vibration feeder, the powder supply members (length 179 mm, height 25 mm, bending radius R 1.5) of Examples 1 to 16, Comparative Examples 1 to 6 and Reference Examples 1 and 2 are used. I prepared it. These powder supply members were tilted by 15 ° with respect to the horizontal plane and fixed to the vibration feeders, respectively. The strength of the amplitude was set to 50%, and the vibrating part (vibration generator) of the vibration feeder was driven. As powder, 3 g of silver particles having a median diameter of 1.5 μm was charged at a position on the trough (powder supply member) corresponding to the center of the vibrating portion of the vibration feeder, and the silver particles were dropped from the trough. The weight of the dropped silver particles is measured every 2 seconds, and when half of the initial input amount (1.5 g) of the silver particles is dropped, silver is placed at the position on the trough corresponding to the center of the vibrating part of the vibration feeder. An additional 3 g of particles was added. This operation was repeated for 3 minutes, and the weight of the silver particles dropped from the trough was measured every 2 seconds for 3 minutes. This measurement was performed three times for each vibration feeder.

銀粒子の供給速度の変化についての評価は、以下の評価基準に従って行った。ここで、評価が「◎」又は「○」である場合、粉体の供給速度の変化を抑制できると判断した。評価が「×」である場合、粉体の供給速度の変化を抑制できないと判断した。結果を後述する表4に記載する。 The evaluation of the change in the supply rate of silver particles was performed according to the following evaluation criteria. Here, when the evaluation is “⊚” or “◯”, it is judged that the change in the powder supply rate can be suppressed. When the evaluation was "x", it was judged that the change in the powder supply rate could not be suppressed. The results are shown in Table 4, which will be described later.

[実施例1〜9及び比較例1〜4の評価基準]
◎:所定時間に落下する粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例1よりも小さい。さらに、所定時間に落下する粉体の重量が、比較例1よりも大きい。
○:所定時間に落下する粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例1よりも小さい。
×:所定時間に落下する粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例1と同等又は比較例1よりも大きい。
[Evaluation Criteria for Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4]
⊚: The variation in the weight of the powder falling in a predetermined time in three measurements is smaller than that in Comparative Example 1. Further, the weight of the powder that falls in a predetermined time is larger than that of Comparative Example 1.
◯: The variation in the weight of the powder falling in a predetermined time in three measurements is smaller than that in Comparative Example 1.
X: The variation in the three measurements of the weight of the powder falling in a predetermined time is equal to or larger than that of Comparative Example 1.

[実施例10〜16、比較例5〜6及び参考例1〜2の評価基準]
◎:所定時間に落下する粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例5よりも小さい。さらに、所定時間に落下する粉体の重量が、比較例5よりも大きい。
○:所定時間に落下する粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例5よりも小さい。
×:所定時間に落下する粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例5と同等又は比較例5よりも大きい。
[Evaluation Criteria for Examples 10-16, Comparative Examples 5-6 and Reference Examples 1-2]
⊚: The variation in the weight of the powder falling in a predetermined time in three measurements is smaller than that in Comparative Example 5. Further, the weight of the powder that falls in a predetermined time is larger than that of Comparative Example 5.
◯: The variation in the three measurements of the weight of the powder falling in a predetermined time is smaller than that in Comparative Example 5.
X: The variation in the three measurements of the weight of the powder falling in a predetermined time is equal to or larger than that of Comparative Example 5.

<評価2>
評価1で用いた銀粒子に代えて、粉体として、メジアン径が2.5μmのニッケル粒子を用いた。これ以外の条件は、評価1と同様の条件で、トラフから落下したニッケル粒子の重量を3分間2秒おきに計測した。また、評価1の評価基準に従い、ニッケル粒子の供給速度の変化について評価した。結果を後述する表4に記載する。
<Evaluation 2>
Instead of the silver particles used in Evaluation 1, nickel particles having a median diameter of 2.5 μm were used as the powder. Under the same conditions as in Evaluation 1, the weight of the nickel particles dropped from the trough was measured every 3 minutes and 2 seconds. In addition, changes in the supply rate of nickel particles were evaluated according to the evaluation criteria of Evaluation 1. The results are shown in Table 4, which will be described later.

<評価3>
評価1で用いた銀粒子に代えて、粉体として、メジアン径が7.2〜9.2μmのタルク粒子(JIS粉体1、4種)を用いた。これ以外の条件は、評価1と同様の条件で、トラフから落下したタルク粒子の重量を3分間2秒おきに計測した。また、評価1の評価基準に従い、タルク粒子の供給速度の変化について評価した。結果を後述する表4に記載する。
<Evaluation 3>
Instead of the silver particles used in Evaluation 1, talc particles (JIS powders 1 and 4) having a median diameter of 7.2 to 9.2 μm were used as the powder. Other than this, the weight of the talc particles dropped from the trough was measured every 2 seconds for 3 minutes under the same conditions as in Evaluation 1. In addition, changes in the supply rate of talc particles were evaluated according to the evaluation criteria of Evaluation 1. The results are shown in Table 4, which will be described later.

〈評価4〉
LF−02電磁フィーダ((株)アイシンナノテクノロジーズ製、振動フィーダ)を用意した。この振動フィーダのトラフとして、実施例1〜16、比較例1〜6及び参考例1〜2の粉体供給用部材(長さが179mm、高さが25mm、曲げ半径Rが1.5)を用意した。これらの粉体供給用部材を、水平面に対して15°傾斜させて、振動フィーダにそれぞれ固定した。振動フィーダに固定されるトラフ(粉体供給用部材)に対し、5g/分の供給速度で、メジアン径が8μmのアルミナ(Al2O3)を7日間供給し続け、アルミナでトラフ表面をそれぞれ摩擦した。7日後、エアーガンにてトラフ表面に付着した粉体を除去し、メタノールを用いてさらに清掃後、90℃で1分間乾燥することで、トラフ表面に付着したアルミナをそれぞれ除去した。この振動フィーダを用いて、評価1と同様の方法により、トラフから落下した銀粒子の重量を3分間2秒おきに計測した。また、評価1の評価基準に従い、銀粒子の供給速度の変化について評価した。結果を後述する表4に記載する。
<Evaluation 4>
An LF-02 electromagnetic feeder (vibration feeder manufactured by Aisin Nano Technologies Co., Ltd.) was prepared. As the trough of this vibration feeder, the powder supply members (length 179 mm, height 25 mm, bending radius R 1.5) of Examples 1 to 16, Comparative Examples 1 to 6 and Reference Examples 1 and 2 are used. I prepared it. These powder supply members were tilted by 15 ° with respect to the horizontal plane and fixed to the vibration feeders, respectively. Alumina (Al2O3) having a median diameter of 8 μm was continuously supplied to the trough (powder supply member) fixed to the vibration feeder at a supply rate of 5 g / min for 7 days, and the trough surfaces were rubbed with alumina. After 7 days, the powder adhering to the trough surface was removed with an air gun, further cleaned with methanol, and dried at 90 ° C. for 1 minute to remove the alumina adhering to the trough surface. Using this vibration feeder, the weight of the silver particles dropped from the trough was measured every 2 seconds for 3 minutes by the same method as in Evaluation 1. In addition, changes in the supply rate of silver particles were evaluated according to the evaluation criteria of Evaluation 1. The results are shown in Table 4, which will be described later.

<評価5>
評価4で用いた銀粒子に代えて、粉体として、メジアン径が2.5μmのニッケル粒子を用いた。これ以外の条件は、評価4と同様の条件で、振動フィーダから落下したニッケル粒子の重量を3分間2秒おきに計測した。また、評価1の評価基準に従い、ニッケル粒子の供給速度の変化について評価した。結果を後述する表4に記載する。
<Evaluation 5>
Instead of the silver particles used in Evaluation 4, nickel particles having a median diameter of 2.5 μm were used as the powder. Under the same conditions as in Evaluation 4, the weight of the nickel particles dropped from the vibration feeder was measured every 3 minutes and 2 seconds. In addition, changes in the supply rate of nickel particles were evaluated according to the evaluation criteria of Evaluation 1. The results are shown in Table 4, which will be described later.

<評価6>
評価4の銀粒子に代えて、粉体として、メジアン径が7.2〜9.2μmのタルク粒子(JIS粉体1、4種)を用いた。これ以外の条件は、評価4と同様の条件で、振動フィーダから落下したタルク粒子の重量を3分間2秒おきに計測した。また、評価1の評価基準に従い、タルク粒子の供給速度の変化について評価した。結果を後述する表4に記載する。
<Evaluation 6>
Instead of the silver particles of evaluation 4, talc particles (JIS powders 1 and 4) having a median diameter of 7.2 to 9.2 μm were used as the powder. Under the same conditions as in Evaluation 4, the weight of the talc particles dropped from the vibration feeder was measured every 3 minutes and 2 seconds. In addition, changes in the supply rate of talc particles were evaluated according to the evaluation criteria of Evaluation 1. The results are shown in Table 4, which will be described later.

<評価7>
実施例、比較例及び参考例のそれぞれの粉体供給用部材を、図2に示すスクリューフィーダ20に適用した。具体的には、実施例、比較例及び参考例でそれぞれ用いた基材の形状のみを変更し(つまり、基材の材質や表面特性は同じ)、中空のトラフ22(長さ100mm、外径25.4mm)と、トラフ22の中空内に挿入可能なスクリュー23(長さ210mm、外径17mm)を基材として用いた。この基材に対して実施例、比較例及び参考例のそれぞれの処理を施し、処理が施されたトラフ22とスクリュー23を用いて、実施例1〜16、比較例1〜6及び参考例1〜2のスクリューフィーダ20をそれぞれ製造した。
<Evaluation 7>
The powder supply members of Examples, Comparative Examples, and Reference Examples were applied to the screw feeder 20 shown in FIG. Specifically, only the shape of the base material used in Examples, Comparative Examples, and Reference Examples is changed (that is, the material and surface characteristics of the base material are the same), and the hollow trough 22 (length 100 mm, outer diameter) is changed. 25.4 mm) and a screw 23 (length 210 mm, outer diameter 17 mm) that can be inserted into the hollow of the trough 22 were used as the base material. This base material is treated with Examples, Comparative Examples and Reference Examples, respectively, and the treated troughs 22 and screws 23 are used to treat Examples 1 to 16, Comparative Examples 1 to 6 and Reference Example 1. ~ 2 screw feeders 20 were manufactured respectively.

実施例1〜16、比較例1〜6及び参考例1〜2の各スクリューフィーダ20について、スクリュー23をモーターMに取り付け、トラフ22に形成される搬入口22aにホッパーを取り付けた。ホッパー内に粉体として、メジアン径が2.5μmのニッケル粒子を投入し、モーターMを回転数20rpmで駆動した。スクリュー23の回転により、トラフ22の中空内のニッケル粒子を、搬出口22bから供給(搬出)させた。搬出口22bから供給されたニッケル粒子の重量を2秒おきに計測し、初期投入量の半分のニッケル粒子が供給された時点で、ホッパー内にニッケル粒子を追加投入した。この操作を60分継続し、搬出口22bから供給されたニッケル粒子の重量を60分間2秒おきに計測した。この計測は、それぞれのスクリューフィーダ20について3回実施した。 For each of the screw feeders 20 of Examples 1 to 16, Comparative Examples 1 to 6 and Reference Examples 1 and 2, the screw 23 was attached to the motor M, and the hopper was attached to the carry-in inlet 22a formed in the trough 22. Nickel particles having a median diameter of 2.5 μm were put into the hopper as powder, and the motor M was driven at a rotation speed of 20 rpm. By the rotation of the screw 23, the nickel particles in the hollow of the trough 22 were supplied (carried out) from the carry-out port 22b. The weight of the nickel particles supplied from the carry-out port 22b was measured every 2 seconds, and when half the initial charge amount of nickel particles was supplied, the nickel particles were additionally charged into the hopper. This operation was continued for 60 minutes, and the weight of the nickel particles supplied from the carry-out port 22b was measured every 2 seconds for 60 minutes. This measurement was performed three times for each screw feeder 20.

ニッケル粒子の供給速度の変化についての評価は、以下の評価基準に従って行った。ここで評価が「◎」又は「○」である場合、粉体の供給において変動係数が小さく、粉体の供給速度の変化を抑制できると判断した。評価が「×」である場合、粉体の供給における変動係数が大きく、粉体の供給速度の変化を抑制できないと判断した。結果を後述する表4に記載する。 The evaluation of the change in the supply rate of nickel particles was performed according to the following evaluation criteria. Here, when the evaluation is “⊚” or “◯”, it is judged that the coefficient of variation is small in the powder supply and the change in the powder supply rate can be suppressed. When the evaluation was "x", it was judged that the coefficient of variation in the powder supply was large and the change in the powder supply rate could not be suppressed. The results are shown in Table 4, which will be described later.

[実施例1〜9及び比較例1〜4の評価基準]
◎:所定時間に供給された粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例1よりも小さい。さらに、所定時間に供給された粉体の重量が、比較例1よりも大きい。
○:所定時間に供給された粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例1よりも小さい。
×:所定時間に供給された粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例1と同等又は比較例1よりも大きい。
[Evaluation Criteria for Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4]
⊚: The variation in the weight of the powder supplied at a predetermined time in three measurements is smaller than that in Comparative Example 1. Further, the weight of the powder supplied at a predetermined time is larger than that of Comparative Example 1.
◯: The variation in the weight of the powder supplied at a predetermined time in three measurements is smaller than that in Comparative Example 1.
X: The variation in the weight of the powder supplied at a predetermined time in three measurements is equal to or larger than that of Comparative Example 1.

[実施例10〜16、比較例5〜6及び参考例1〜2の評価基準]
◎:所定時間に供給された粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例5よりも小さい。さらに、所定時間に供給された粉体の重量が、比較例5よりも大きい。
○:所定時間に供給された粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例5よりも小さい。
×:所定時間に供給された粉体の重量の3回の計測におけるバラツキが、比較例5と同等又は比較例5よりも大きい。
[Evaluation Criteria for Examples 10-16, Comparative Examples 5-6 and Reference Examples 1-2]
⊚: The variation in the weight of the powder supplied at a predetermined time in three measurements is smaller than that in Comparative Example 5. Further, the weight of the powder supplied at a predetermined time is larger than that of Comparative Example 5.
◯: The variation in the weight of the powder supplied at a predetermined time in three measurements is smaller than that in Comparative Example 5.
X: The variation in the weight of the powder supplied at a predetermined time in three measurements is equal to or larger than that of Comparative Example 5.

[表4]

Figure 0006864517
[Table 4]
Figure 0006864517

表4に示すように、実施例1〜16の粉体供給用部材(トラフ)では、評価1〜6の全ての評価において、○又は◎となった。一方、比較例1〜6及び参考例1〜2の粉体供給用部材(トラフ)では、評価1〜6の少なくとも3つの評価において×となった。特に、比較例2及び参考例2の粉体供給用部材は、凹凸面がアルミナ粒子で摩擦されると、粉体の供給速度の変化を抑制できなくなった。つまり、比較例2及び参考例2の粉体供給用部材は、粉体の供給時に発生する摩擦により凹凸面が磨耗したり、凹凸面が欠けたりするなどして、摩耗前の凹凸面の形状を維持できなかったことが分かる。また、比較例1,3〜6及び参考例1の粉体供給用部材は、評価4〜6に加えて、評価1〜3においても粉体の供給速度の変化を抑制できていなかった。つまり、これらの粉体供給用部材に形成される凹凸面の形状や性質では、粉体の供給速度の変化を抑制できないことが分かる。 As shown in Table 4, in the powder supply members (troughs) of Examples 1 to 16, all the evaluations of evaluations 1 to 6 were marked with ◯ or ⊚. On the other hand, in the powder supply members (troughs) of Comparative Examples 1 to 6 and Reference Examples 1 and 2, at least three evaluations of evaluations 1 to 6 were x. In particular, in the powder supply members of Comparative Example 2 and Reference Example 2, when the uneven surface is rubbed by the alumina particles, the change in the powder supply rate cannot be suppressed. That is, in the powder supply members of Comparative Example 2 and Reference Example 2, the uneven surface is worn or the uneven surface is chipped due to the friction generated when the powder is supplied, and the shape of the uneven surface before wear is formed. It turns out that it could not be maintained. Further, the powder supply members of Comparative Examples 1, 3 to 6 and Reference Example 1 could not suppress the change in the powder supply rate in the evaluations 1 to 3 in addition to the evaluations 4 to 6. That is, it can be seen that the shape and properties of the uneven surface formed on these powder supply members cannot suppress the change in the powder supply rate.

また、表4に示すように実施例1〜16のスクリューフィーダ20は、評価7において、○又は◎となった。一方、比較例1〜6及び参考例1〜2のスクリューフィーダ20は、いずれも×となり、粉体の供給速度の変化を抑制できていなかった。 Further, as shown in Table 4, the screw feeders 20 of Examples 1 to 16 were evaluated as ◯ or ⊚ in the evaluation 7. On the other hand, the screw feeders 20 of Comparative Examples 1 to 6 and Reference Examples 1 and 2 were both x, and the change in the powder supply rate could not be suppressed.

このように、実施例1〜16の粉体供給用部材(トラフ)及びスクリューフィーダ20によれば、粉体の供給速度の変化を抑制できるとともに、粉体の供給速度の変化を持続して抑制できることが分かる。さらに、実施例1〜8の粉体供給用部材は、評価1〜6から理解できるように、比較例1の粉体供給用部材よりも、所定時間に落下する粉体の重量が多かった。このことから、実施例1〜8の粉体供給用部材は、振動時に過剰な力を発生させなくても、粉体をスムーズに移動させることができることが分かる。同様に、実施例10〜11及び13〜16の粉体供給用部材は、評価1〜6から理解できるように、比較例5の粉体供給用部材よりも、所定時間に落下する粉体の重量が多かった。このことから、実施例10〜11及び13〜16の粉体供給用部材も、振動時に過剰な力を発生させなくても、粉体をスムーズに移動させることができることが分かる。したがって、実施例1〜8、10〜11及び13〜16の粉体供給用部材は、粉体を供給するために消費されるエネルギー(電力)を節約することができることがわかる。 As described above, according to the powder supply member (trough) and the screw feeder 20 of Examples 1 to 16, the change in the powder supply rate can be suppressed, and the change in the powder supply rate is continuously suppressed. I know I can do it. Further, as can be understood from the evaluations 1 to 6, the powder supply members of Examples 1 to 8 had a heavier weight of powder falling in a predetermined time than the powder supply members of Comparative Example 1. From this, it can be seen that the powder supply members of Examples 1 to 8 can smoothly move the powder without generating an excessive force during vibration. Similarly, as can be understood from the evaluations 1 to 6, the powder supply members of Examples 10 to 11 and 13 to 16 have more powder that falls at a predetermined time than the powder supply members of Comparative Example 5. It was heavy. From this, it can be seen that the powder supply members of Examples 10 to 11 and 13 to 16 can also smoothly move the powder without generating an excessive force during vibration. Therefore, it can be seen that the powder supply members of Examples 1 to 8, 10 to 11 and 13 to 16 can save the energy (electric power) consumed for supplying the powder.

また、実施例1〜3及び8のスクリューフィーダ20は、評価7から理解できるように、比較例1のスクリューフィーダ20よりも、所定時間に供給された粉体の重量が多かった。このことから、実施例1〜3及び8のスクリューフィーダ20は、過剰な回転力を加えなくても、粉体をスムーズに移動できることが分かる。また、実施例10、14〜16のスクリューフィーダ20は、評価7から理解できるように、比較例5のスクリューフィーダ20よりも、所定時間に供給された粉体の重量が多かった。このことから、実施例10、14〜16のスクリューフィーダ20は、過剰な回転力を加えなくても、粉体をスムーズに移動できることが分かる。したがって、実施例1〜3、8、10及び14〜16のスクリューフィーダ20は、粉体を供給するために消費されるエネルギー(電力)を節約できることがわかる。 Further, as can be understood from the evaluation 7, the screw feeders 20 of Examples 1 to 8 had a heavier weight of the powder supplied at a predetermined time than the screw feeder 20 of Comparative Example 1. From this, it can be seen that the screw feeders 20 of Examples 1 to 8 can smoothly move the powder without applying an excessive rotational force. Further, as can be understood from the evaluation 7, the screw feeders 20 of Examples 10 and 14 to 16 had a heavier weight of the powder supplied at a predetermined time than the screw feeder 20 of Comparative Example 5. From this, it can be seen that the screw feeders 20 of Examples 10 and 14 to 16 can smoothly move the powder without applying an excessive rotational force. Therefore, it can be seen that the screw feeders 20 of Examples 1, 3, 8, 10 and 14 to 16 can save the energy (electric power) consumed for supplying the powder.

10:振動フィーダ
11,21:凹凸面
12,22:トラフ
15,25:粉体
16:振動発生装置
20:スクリューフィーダ
22a:搬入口
22b:搬出口
23:スクリュー
23a:スクリュー羽
23b:軸
24:回転軸
M:モーター
10: Vibration feeder 11,21: Concavo-convex surface 12, 22: Trough 15, 25: Powder 16: Vibration generator 20: Screw feeder 22a: Carry-in port 22b: Carry-out port 23: Screw 23a: Screw blade 23b: Shaft 24: Rotating axis M: Motor

Claims (5)

複数の粒子からなる粉体と接触する凹凸面を有し、
前記凹凸面の算術平均粗さRaが0.2μm以上、1.8μm以下であり、
前記凹凸面の表面自由エネルギーγsが35mJ/m以下であり、
前記凹凸面のビッカース硬度が400以上であることを特徴とする粉体供給用部材。
It has an uneven surface that comes into contact with powder composed of multiple particles, and has an uneven surface.
The arithmetic average roughness Ra of the uneven surface is 0.2 μm or more and 1.8 μm or less.
The surface free energy γs of the uneven surface is 35 mJ / m 2 or less.
A powder supply member having a Vickers hardness of 400 or more on the uneven surface.
前記凹凸面は、皮膜が形成されていない基材の表面であることを特徴とする請求項1に記載の粉体供給用部材。The powder supply member according to claim 1, wherein the uneven surface is a surface of a base material on which a film is not formed. 前記凹凸面は、合金めっきからなる皮膜の表面であることを特徴とする請求項1に記載の粉体供給用部材。The powder supply member according to claim 1, wherein the uneven surface is the surface of a film made of alloy plating. 粉体を所定の位置に供給する粉体供給装置であって、
前記粉体と接触する部材として、請求項1から3のいずれか一つに記載の粉体供給用部材を用いたことを特徴とする粉体供給装置。
A powder supply device that supplies powder to a predetermined position.
A powder supply device according to any one of claims 1 to 3, wherein the powder supply member according to any one of claims 1 to 3 is used as the member in contact with the powder.
前記粉体供給装置が、振動フィーダまたはスクリューフィーダであることを特徴とする請求項に記載の粉体供給装置。
The powder supply device according to claim 4 , wherein the powder supply device is a vibration feeder or a screw feeder.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6912989B2 (en) 2017-09-27 2021-08-04 住友重機械工業株式会社 Flexible meshing gear device
JP6969334B2 (en) * 2017-12-05 2021-11-24 株式会社サタケ Manufacturing method of rice grain transfer device and rice grain transfer device
JP7303535B2 (en) * 2019-03-06 2023-07-05 株式会社不二製作所 POWDER CONTACT MEMBER AND POWDER CONTACT MEMBER SURFACE TREATMENT METHOD
WO2020183708A1 (en) * 2019-03-14 2020-09-17 株式会社不二Wpc Powder contacting member, powder contacting member surface shape forming method and powder contacting member surface shape evaluation method
JP6940842B1 (en) * 2021-02-24 2021-09-29 株式会社オカノブラスト Roughening method of powder contact member and powder contact member

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001039530A (en) * 1999-08-04 2001-02-13 Nippon Maxis:Kk Crystal substrate inspection device
JP2007108420A (en) * 2005-10-13 2007-04-26 Canon Inc Image forming apparatus
JP2014240318A (en) * 2013-06-12 2014-12-25 Ntn株式会社 Vibratory part supply device
JP2015219367A (en) * 2014-05-16 2015-12-07 株式会社沖データ Cleaning blade and image forming apparatus

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