JP6849913B2 - 流動性の改良された微粒子状ポリオレフィン系樹脂用結晶核剤 - Google Patents
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
レーザー回折式粒度分布測定より求めた該結晶核剤の粒径の平均値が0.5〜4.0μm、均一度が3〜10であり、且つ、
ゆるめかさ密度が0.24g/cm3以上、かためかさ密度が0.34g/cm3以上であることを特徴とする微粒子状の結晶核剤。
(i)気流式微粉砕機を用いて、結晶核剤の粒径の平均値が0.5〜4.0μm、均一度が3〜10になる様に微粉砕する工程、
(ii)工程(i)で得られた微粉砕物を、結晶核剤のゆるめかさ密度が0.24g/cm3以上、かためかさ密度が0.34g/cm3以上になる様に減容化する工程
を具備する製造方法。
該結晶核剤の粒径の平均値を0.5〜4.0μmに、均一度を3〜10に調整し、更に、
そのゆるめかさ密度を0.24g/cm3以上に、かためかさ密度を0.34g/cm3以上に調整することを特徴とする改良方法。
気流式微粉砕機を用いて微粉砕し、更に、得られた微粉砕物を、減容化することを特徴とする改良方法。
本発明の結晶核剤は、流動性の改善されたかさ密度の高い微粒子状のポリオレフィン系樹脂用結晶核剤であり、例えば、反応工程、後処理工程よりなる通常の製造方法により得られた汎用の結晶核剤の粉末を汎用の気流式微粉砕機を用いて、本発明に係る粒径になる様に微粉砕し、更に得られた微粉末状の結晶核剤を汎用の装置を用いて、圧縮や脱気等により本発明に係るかさ密度になる様に減容化させることにより得られる。
本発明のポリオレフィン系樹脂用結晶核剤の種類は、本発明の効果を奏する限り、特に限定されるものではないが、例えば、ジアセタール系化合物、カルボン酸塩系化合物、リン酸エステル塩系化合物、アミド系化合物、ロジン系化合物などが例示される。なかでも、上記ジアセタール系化合物において、本発明の効果が最も顕著である。
’−ジエチルベンジリデン)−1−エチルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,6’−ジエチルベンジリデン)−1−エチルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,4’−ジエチルベンジリデン)−1−エチルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,5’−ジエチルベンジリデン)−1−エチルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’−メチル−4’−メトキシベンジリデン)−1−エチルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,4’−ジクロロベンジリデン)−1−エチルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−メトキシカルボニルベンジリデン)−1−エチルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’−メチル−4’−フルオロベンジリデン)−1−エチルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’−ブロモ−4’−エチルベンジリデン)−1−エチルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−ベンジリデン−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−メチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−エチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−n−プロピルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,3’−ジメチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,4’−ジメチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,5’−ジメチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,6’−ジメチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,4’−ジメチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,5’−ジメチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,3’−ジエチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,4’−ジエチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,5’−ジエチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,6’−ジエチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,4’−ジエチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,5’−ジエチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’−メチル−4’−メトキシベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,4’−ジクロロベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−メトキシカルボニルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−エトキシカルボニルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−プロポキシカルボニルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3−O−(p−n−プロピルベンジリデン)−2,4−O−(p−プロポキシベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3−O−(p−プロポキシベンジリデン)−2,4−O−(p−n−プロピルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’−メチル−4’−フルオロベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’−ブロモ−4’−エチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−n−プロピルベンジリデン)−1−プロペニルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−エトキシカルボニルベンジリデン)−1−プロペニルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−プロポキシカルボニルベンジリデン)−1−プロペニルソルビトール、1,3−O−(p−n−プロピルベンジリデン)−2,4−O−(p−プロポキシベンジリデン)−1−プロペニルソルビトール、1,3−O−(p−プロポキシベンジリデン)−2,4−O−(p−n−プロピルベンジリデン)−1−プロペニルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−ベンジリデン−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−メチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−エチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−n−プロピルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,3’−ジメチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,4’−ジメチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,5’−ジメチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,6’−ジメチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,4’−ジメチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,5’−ジメチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,3’−ジエチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,4’−ジエチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,5’−ジエチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(2’,6’−ジエチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,4’−ジエチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−エトキシカルボニルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−プロポキシカルボニルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3−O−(p−n−プロピルベンジリデン)−2,4−O−(p−プロポキシベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3−O−(p−プロポキシベンジリデン)−2,4−O−(p−n−プロピルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,5’−ジエチルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’−メチル−4’−メトキシベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’,4’−ジクロロベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(p−メトキシカルボニルベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’−メチル−4’−フルオロベンジリデン)−1−アリルソルビトール、1,3:2,4−ビス−O−(3’−ブロモ−4’−エチルベンジリデン)−1−アリルソルビトール等が例示される。
本発明の結晶核剤の製造方法に関して、以下に更に具体的な例を示して、詳しく記載する。但し、本発明は、目的の性能が得られる限り、必ずしも以下の方法に限定されるものではない。
(i)気流式微粉砕機を用いた微粉砕等により、結晶核剤の粒径の平均値が0.5〜4.0μm、好ましくは0.5〜3.0μm、より好ましくは1.0〜2.5μm、均一度が3〜10、好ましくは4〜7であり、さらに該結晶核剤のアスペクト比が、粒子画像解析法により求めた50%値が0.4〜0.7、好ましくは0.45〜0.65、Lower値が、0.2〜0.4である、微粒子状の結晶核剤を調製する。
(ii)工程(i)で得られた微粒子状の結晶核剤を、該結晶核剤のゆるめかさ密度が0.24g/cm3以上、かためかさ密度が0.34g/cm3以上になる様に減容化し、本発明の減容化された微粒子状の結晶核剤を得る。
ポリオレフィン系樹脂用結晶核剤の流動性改良方法については、上記の「本発明の結晶核剤の製造方法」に記載の説明と同じ説明となる。具体的には、(i)気流式微粉砕機を用いた微粉砕等により、結晶核剤の粒径の平均値が0.5〜4.0μm、好ましくは0.5〜3.0μm、より好ましくは1.0〜2.5μm、均一度が3〜10、好ましくは4〜7であり、さらに該結晶核剤のアスペクト比が、粒子画像解析法により求めた50%値が0.4〜0.7、好ましくは0.45〜0.65、Lower値が、0.2〜0.4である微粒子状の結晶核剤を調製し、続いて、(ii)工程(i)で得られた微粒子状の結晶核剤を、該結晶核剤のゆるめかさ密度が0.24g/cm3以上、かためかさ密度が0.34g/cm3以上になる様に減容化し、本発明の減容化された微粒子状の結晶核剤とすることにより、ポリオレフィン系樹脂用結晶核剤の流動性を改善することができる。但し、流動性の改良方法に関しても、目的の性能が得られる限り、必ずしも上記方法に限定されるものではない。
本発明のポリオレフィン系樹脂組成物は、本発明の結晶核剤とポリオレフィン系樹脂とを、必要に応じてその他のポリオレフィン系樹脂用添加剤を加えて、室温にてドライブレンド後、所定の条件にて溶融混合することにより、容易に得ることができる。
上記ポリオレフィン系樹脂としては、本発明の効果を奏する限り特に限定されることなく、従来公知のポリオレフィン系樹脂が使用可能であり、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリブテン系樹脂、ポリメチルペンテン系樹脂、ポリブタジエン系樹脂などが例示される。より具体的には、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、直鎖状ポリエチレン、エチレン含量50重量%以上、好ましくは70重量%以上のエチレンコポリマー、プロピレンホモポリマー、プロピレン50重量%以上、好ましくは70重量%以上のプロピレンコポリマー、ブテンホモポリマー、ブテン含量50重量%以上、好ましくは70重量%以上のブテンコポリマー、メチルペンテンホモポリマー、メチルペンテン含量50重量%以上、好ましくは70重量%以上のメチルペンテンコポリマー、ポリブタジエン等が例示される。また、上記コポリマーはランダムコポリマーであってもよく、ブロックコポリマーであってもよい。更に、これらの樹脂の立体規則性がある場合は、アイソタクチックでもシンジオタクチックでもよい。上記コポリマーを構成し得るコモノマーとして、具体的にはエチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセン、ウンデセン、ドデセン等の炭素数2〜12のα−オレフィン、1,4−エンドメチレンシクロヘキセン等のビシクロ型モノマー、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル等の(メタ)アクリル酸エステル、酢酸ビニル等が例示される。
また、上述の通り、本発明のポリオレフィン系樹脂組成物には、その使用目的やその用途に応じて、本発明の効果を損なわない範囲でその他のポリオレフィン系樹脂用添加剤が含まれていてもよい。
本発明のポリオレフィン系樹脂成形体は、上記本発明のポリオレフィン系樹脂組成物を用いて、慣用されている成形方法に従って成形することにより得られる。前記成形方法としては、本発明の効果を奏する限り、特に制約はなく、射出成形、押出成形、ブロー成形、圧空成形、回転成形、フィルム成形等の従来公知の成形方法のいずれも採用できる。
(1)粒度分布の測定
レーザー回折式粒度分布計(マルバーンインスツルメンツ社製、「マスターサイザー3000」)を用いて、以下の方法により測定した。まず、湿式測定セルを用い、十分に撹拌混合することで、分散剤としてノニオン系界面活性剤を加えた水溶液中に、試料を分散させ、続いて、得られた混合物を装置内で更に撹拌、循環させながら、超音波を当てて装置内にて十分に均一に分散させた。その後、超音波を当てながら試料の粒度分布を測定した。得られた粒度分布より、体積基準累積50%粒径(d50)を求め、粒径の平均値とした。同様に、粒度分布より、体積基準累積60%粒径(d60)と体積基準累積10%粒径(d10)を求め、その比(d60/d10)を計算し、粒径の均一度とした。d60/d10の値が1に近いほど、粒径が均一、即ち単分散に近い粒度分布を有すると言える。
フロー式粒子像分析装置(マルバーンインスツルメンツ社製、「FPIA−3000」)を用いて、以下の方法により測定した。測定容器中でイオン交換水30mlに分散剤として界面活性剤を加えた後に、測定試料を20mg加え、5分間分散処理を行い、試料を均一に分散させて、測定試料を調製した。得られた測定試料を用いて、測定を行い、上記装置付属の解析ソフトにより、アスペクト比の分布を求め、さらにその分布より、累積50%値と累積10%値を求め、各々アスペクト比の中心を意味する50%値、アスペクト比の大きな粒子の割合の目安となるLower値とした。上述の通り、Lower値は、その値が大きいほどアスペクト比の大きな粒子の割合が少ないと言える。
漏斗をメスシリンダーの開口部上2cmとなるように、かつそれと軸が一致するように垂直に保持し、漏斗を通して100cm3のメスシリンダーに結晶核剤を100cm3ゆっくりと入れた。秤を用いてメスシリンダー内の結晶核剤の重量を0.1gの桁まで測定した。得られた重量より下記式(1)を用いてゆるめかさ密度を求めた。続いて、メスシリンダーをゴムシートの上5cmの高さから垂直に落下させる操作(タッピング)を50回繰り返した。メスシリンダー内の結晶核剤の容量を0.1cm3の桁まで読み取り、下記式(2)を用いてかためかさ密度を求めた。
式(1);
ゆるめかさ密度(g/cm3)=メスシリンダー内の結晶核剤の重量(g)/100cm3
式(2)
かためかさ密度(g/cm3)=メスシリンダー内の結晶核剤の重量(g)/タッピング後の結晶核剤の容量(cm3)
(4)安息角の測定
25℃、湿度60%の条件下で、結晶核剤30gを、漏斗上縁までの距離が1cmの高さから、開口部の直径9cm、穴の直径1cmの漏斗上へ注ぎ込み、振動させずに漏斗下口から10cmの位置にある直径9cmの円形台上に落下させる。落下した円錐状の堆積物の高さを測定し、水平面と母線のなす角を計算から求め、安息角(単位:度)とした。この安息角が小さいほど粉体流動性が良いことを示す。
結晶核剤を、漏斗の上縁までの距離が5cmの高さから、開口部の直径15cm、穴の直径1.5cmの漏斗上へ注ぎ込み、振動させずに漏斗下口より落下させる。結晶核剤の漏斗から排出状態より、以下の基準に従って、結晶核剤の流動性を5段階評価にて判定した。
(評価基準)
5:結晶核剤が非常に速やかに漏斗から排出され、漏斗内壁の付着物もほとんど確認されない
4:結晶核剤が全て漏斗から排出され、漏斗内壁の付着物もほとんど確認されない
3:結晶核剤がわずかに漏斗から排出されずに残るが、わずかな衝撃により残った結晶核剤も全て排出される
2:結晶核剤が漏斗から排出されずに残り、わずかな衝撃だけでは漏斗上に残った結晶核剤を完全に排出することは困難である
1:結晶核剤が漏斗から排出されずに多量に残り、衝撃を与えても漏斗上に残った結晶核剤を排出することは困難である
(6)ヘイズ値の測定
東洋精機製作所製のヘイズメータを用いて、JIS K7136(2000)に準じた方法でヘイズ値を測定した。評価試料には、1mm厚み射出成形品のポリプロピレン系樹脂成形体を使用した。得られたヘイズ値の数値が小さい程、透明性に優れていることを示す。
射出成形した50mm×50mm×1mm形状のポリオレフィン系樹脂成形体を評価試料として使用し、目視観察で成形体中の白点の数をカウントした。得られた結果は、試料5枚の平均値をとり、その試料の白点数とし、得られた評価結果より、以下の3段階で分類評価した。
◎:白点数が3個未満である。成形体の性能上、全く問題のないレベルである。
○:白点数が3〜15個の範囲である。核剤としての性能上、問題はないが、他の物性面で未分散物の影響が出る可能性がある。
×:白点数が15個を超えて存在が確認される。明らかに、核剤の性能面でも十分に効果が発現されておらず、更に未分散物が様々な物性面で問題を生ずる可能性が高い。
MDBS:1,3:2,4−ビス−O−(p−メチルベンジリデン)−D−ソルビトール
EDBS:1,3:2,4−ビス−O−(p−エチルベンジリデン)−D−ソルビトール
DMDBS:1,3:2,4−ビス−O−(3’,4’−ジメチルベンジリデン)−D−ソルビトール
PDBN:1,3:2,4−ビス−O−(p−n−プロピルベンジリデン)−1−n−プロピルソルビトール
CDBS:1,3:2,4−ビス−O−(p−クロロベンジリデン)−D−ソルビトール
汎用の粒径のDMDBS(新日本理化(株)社製、ゲルオールDXR)を、(株)セイシン企業社製のジェット粉砕機「シングルトラック・ジェットミルSTJ−400」を用いて、室温下、圧力0.7MPa、処理量30kg/時の条件下で、本発明の範囲内の粒度分布になるように微粉砕して、微粒子状の結晶核剤を調製した。続いて、前記微粒子状の結晶核剤を簡易型の圧縮減容化容器に入れて、室温下、0.25MPaの圧力をかけて、表1に記載のゆるみかさ密度になるように減容化処理して、本発明に係る減容化された微粒子状の結晶核剤を得た。得られた本発明に係る減容化された微粒子状の結晶核剤の粒度分布を測定し、その粒度分布より求められる平均値及び均一度を表1に示した。また、得られた微粒子状の結晶核剤のアスペクト比を測定し、その分布より求められる50%値及びLower値を表1に示した。続いて、得られた上記結晶核剤を用いて、かさ密度(ゆるみかさ密度/かためかさ密度)及び安息角を測定し、更に粉体流動性試験(漏斗試験)にて、粉体流動性の評価を行い、結果を合わせて表1に示した。
微粉砕時の、圧力を0.10MPaに変えた以外は、実施例1と同様に実施して、本発明の結晶核剤を得た。得られた結晶核剤を用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を表1に示した。続いて、得られた結晶核剤を用いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
減容化処理時の、最終到達のゆるみかさ密度を表1に記載のゆるみかさ密度に変えた以外は、実施例2と同様に実施して、本発明の結晶核剤を得た。得られた結晶核剤を用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を表1に示した。続いて、得られた結晶核剤を用いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
DMDBSの代わりにMDBSを用いた以外は、実施例1と同様に実施して、本発明の結晶核剤を得た。得られた結晶核剤を用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度、安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を表1に示した。続いて、得られた結晶核剤を用いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
DMDBSの代わりにEDBSを用いた以外は、実施例1と同様に実施して、本発明の結晶核剤を得た。得られた結晶核剤を用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を表1に示した。続いて、得られた結晶核剤を用いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
DMDBSの代わりにPDBNを用いた以外は、実施例1と同様に実施して、本発明の結晶核剤を得た。得られた結晶核剤を用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を表1に示した。続いて、得られた結晶核剤を用いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
実施例1の微粉砕後、減容化処理前のDMDBSを用いて、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を粒度分布の数字を合わせて表1に示した。続いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
実施例1の微粉砕前のDMDBSをそのまま用いて、実施例1と同様に減容化処理して、本発明の範囲外の結晶核剤を得た。得られた結晶核剤のアスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を粒度分布の数字を合わせて表1に示した。続いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
実施例1の微粉砕前のDMDBSを、減容化処理も行わず、そのまま用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を粒度分布の数字を合わせて表1に示した。続いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
実施例4の微粉砕前のMDBSを、減容化処理も行わず、そのまま用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を粒度分布の数字を合わせて表1に示した。続いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
実施例5の微粉砕前のEDBSを、減容化処理も行わず、そのまま用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を粒度分布の数字を合わせて表1に示した。続いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
実施例6の微粉砕前のPDBNを、減容化処理も行わず、そのまま用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を粒度分布の数字を合わせて表1に示した。続いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表1に示した。
実施例1で得られた微粒子状の結晶核剤(DMDBS)を再度実施例1と同条件にて微粉砕して、より微細な微粒子状の結晶核剤を調製し、微粉砕前のDMDBSと表2に記載の比率で混合後、実施例1と同様に減容化処理を行い、本発明の結晶核剤を得た。得られた結晶核剤を用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を表2に示した。続いて、得られた結晶核剤を用いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表2に示した。
実施例7で得られたより微細な微粒子状の結晶核剤(DMDBS)と実施例5の微粉砕前のEDBSを、表2に記載の比率で混合後、実施例1と同様に減容化処理を行い、本発明の結晶核剤を得た。得られた結晶核剤を用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を表2に示した。続いて、得られた結晶核剤を用いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表2に示した。
実施例7で得られたより微細な微粒子状の結晶核剤(DMDBS)と未粉砕のCDBS(粒径の平均値7.5、均一度4.1)を、表2に記載の比率で混合後、実施例1と同様に減容化処理を行い、本発明の結晶核剤を得た。得られた結晶核剤を用いて、粒度分布、アスペクト比、かさ密度及び安息角の測定、粉体流動性の評価を行い、その結果を表2に示した。続いて、得られた結晶核剤を用いて、実施例1と同様に実施して、ポリプロピレン系樹脂成形体を得た。得られた成形体を用いて、ヘイズ値の測定、白点評価を行い、得られた結果を合わせて表2に示した。
Claims (12)
- 流動性の改良されたポリオレフィン系樹脂用結晶核剤であって、
ポリオレフィン系樹脂用結晶核剤が下記一般式(1)で示されるジアセタール化合物からなる結晶核剤、
又は、
レーザー回折式粒度分布測定より求めた粒径の平均値が0.5〜2.0μmである下記一般式(1)で示されるジアセタール化合物(A)及びレーザー回折式粒度分布測定より求めた粒径の平均値が4.0〜15.0μmである下記一般式(1)で示されるジアセタール化合物(B)との混合物からなる結晶核剤であり、
且つ、
レーザー回折式粒度分布測定より求めた該結晶核剤の粒径の平均値が0.5〜4.0μm、均一度が3〜10であり、ゆるめかさ密度が0.24g/cm3以上、かためかさ密度が0.34g/cm3以上であることを特徴とする微粒子状の結晶核剤。
- 前記結晶核剤のアスペクト比が、粒子画像解析法により求めた50%値が0.4〜0.7であり、且つLower値が、0.2〜0.4である、請求項1に記載の結晶核剤。
- 前記一般式(1)において、R1及びR2が、同一又は異なって、メチル基又はエチル基であり、かつ、R3が水素原子であり、m及びnが1又は2の整数であり、pが1である、請求項1に記載の結晶核剤。
- 前記一般式(1)において、R1及びR2が、同一又は異なって、プロピル基又はプロポキシ基であり、かつ、R3がプロピル基又はプロペニル基であり、m及びnが1であり、pが1である、請求項1に記載の結晶核剤。
- 前記結晶核剤が気流式粉砕機による微粉砕物の減容化物である、請求項1に記載の結晶核剤の製造方法。
- ポリオレフィン系樹脂と請求項1〜4の何れかに記載の結晶核剤を含んでなるポリオレフィン系樹脂組成物。
- 請求項6に記載のポリオレフィン系樹脂組成物を原料とするポリオレフィン系樹脂成形体。
- 流動性の改良されたポリオレフィン系樹脂用結晶核剤の製造方法であって、
ポリオレフィン系樹脂用結晶核剤が下記一般式(1)で示されるジアセタール化合物からなる結晶核剤であり、
(i)気流式微粉砕機を用いて、結晶核剤の粒径の平均値が0.5〜4.0μm、均一度が3〜10になる様に微粉砕する工程、
(ii)工程(i)で得られた微粉砕物を、結晶核剤のゆるめかさ密度が0.24g/cm3以上、かためかさ密度が0.34以上g/cm3になる様に減容化処理する工程
を具備する製造方法。
- 前記工程(i)において、得られた結晶核剤のアスペクト比が、粒子画像解析法により求めた50%値が0.4〜0.7、Lower値が、0.2〜0.4である、請求項8に記載の製造方法。
- ポリオレフィン系樹脂用結晶核剤の流動性の改良方法であって、
ポリオレフィン系樹脂用結晶核剤が下記一般式(1)で示されるジアセタール化合物からなる結晶核剤であり、
該結晶核剤の粒径の平均値を0.5〜4.0μmに、均一度を3〜10に調整し、更に、そのゆるめかさ密度を0.24g/cm3以上に、かためかさ密度を0.34g/cm3以上に調整することを特徴とする改良方法。
- 前項記載の結晶核剤のアスペクト比が、粒子画像解析法により求めた50%値が0.4〜0.7であり、且つLower値が、0.2〜0.4である、請求項10に記載の改良方法。
- ポリオレフィン系樹脂用結晶核剤の流動性の改良方法であって、
ポリオレフィン系樹脂用結晶核剤が下記一般式(1)で示されるジアセタール化合物からなる結晶核剤であり、
該結晶核剤を、気流式微粉砕機を用いて粒径の平均値が0.5〜4.0μm、均一度が3〜10に微粉砕し、更に、得られた微粉砕物を、ゆるめかさ密度が0.24g/cm 3 以上、かためかさ密度が0.34g/cm 3 以上に減容化処理することを特徴とする改良方法。
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