JP6838247B2 - マイクロ発光ダイオードディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents
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Description
2 LED半導体層
2’ LED半導体薄膜
3 第1絶縁層
4 第1貫通孔
5 第2貫通孔
6 接続電極
6’ 第1金属薄膜
7’ 導電性薄膜
8 転写基板
9 第2絶縁層
10 第1フォトレジスト層
11 第1電極接続孔
12 第2電極接続孔
13 樹脂接着層
14 絶縁保護層
15 画素凹溝
16 反射金属層
20 第2フォトレジスト層
30 第3フォトレジスト層
40 第4フォトレジスト層
41 ベース基板
42 TFT層
43 第1電極接点
44 第2電極接点
45 画素定義層
50 第5フォトレジスト層
71 第1電極
72 第2電極
100 半製品
200 マイクロ発光ダイオード
300 転写ヘッド
400 受取基板
421 活性層
422 ゲート絶縁層
423 ゲート
424 層間絶縁層
425 ソース
426 ドレイン
Claims (15)
- マイクロ発光ダイオードディスプレイパネルであって、ベース基板、前記ベース基板上に設けられる画素定義層、前記画素定義層中に形成される画素凹溝、前記画素凹溝内に設けられる樹脂接着層、前記画素凹溝内に設けられ且つ前記樹脂接着層中に嵌入されるマイクロ発光ダイオード、及びそれぞれ画素凹溝の両側の画素定義層上に位置する第1電極接点と第2電極接点とを含み、
前記マイクロ発光ダイオードは、接続電極、前記接続電極の上方に設けられ且つ前記接続電極に接触するLED半導体層、前記LED半導体層の上方に設けられ且つ前記LED半導体層に接触する第1電極、前記LED半導体層の上方に設けられ且つ前記接続電極に接触する第2電極、及び前記LED半導体層を囲む絶縁保護層を含み、
前記接続電極の前記第2電極に接触する部分及び前記LED半導体層の上面がともに前記樹脂接着層外に露出し、前記第1電極及び第2電極がそれぞれ前記第1電極接点及び第2電極接点に接触する、マイクロ発光ダイオードディスプレイパネル。 - 前記ベース基板と画素定義層との間に設けられるTFT層をさらに含み、
前記TFT層は、前記ベース基板上に設けられる活性層、前記活性層及び前記ベース基板を被覆するゲート絶縁層、前記活性層の上方のゲート絶縁層上に設けられるゲート、前記ゲート及びゲート絶縁層を被覆する層間絶縁層、及び前記層間絶縁層上に設けられ前記活性層の両端に接触するソースとドレインとを含み、前記第1電極接点がさらに前記ソースに接触する、請求項1に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネル。 - 前記樹脂接着層の材料はPMMAである、請求項1に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネル。
- マイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法であって、
原基板を提供し、前記原基板上にLED半導体層、前記LED半導体層及び原基板を被覆する第1絶縁層、及び前記第1絶縁層上に設けられ且つ前記LED半導体層と原基板とに接触する接続電極を順に形成するステップ1と、
転写基板を提供し、前記転写基板の表面を接続電極と接着し、前記原基板を剥離し、LED半導体層、第1絶縁層及び接続電極をすべて転写基板上に転写し、前記LED半導体層、第1絶縁層、及び接続電極の原基板に接触する部分を露出するステップ2と、
前記露出されたLED半導体層、第1絶縁層、及び接続電極の上に第2絶縁層を形成し、前記第2絶縁層上に第1電極接続孔及び第2電極接続孔が形成され、前記第1電極接続孔及び第2電極接続孔がそれぞれ前記LED半導体層の一部及び接続電極の一部を露出し、マイクロ発光ダイオードの半製品を得るステップ3と、
転写ヘッド及び受取基板を提供し、前記受取基板は、ベース基板、前記ベース基板上に設けられる画素定義層、前記画素定義層中に形成される画素凹溝、前記画素凹溝内に設けられる樹脂接着層、及びそれぞれ画素凹溝の両側の画素定義層上に位置する第1電極接点と第2電極接点とを含む、ステップ4と、
前記転写ヘッドによって転写基板上のマイクロ発光ダイオードの半製品を受取基板上の画素凹溝内に転写し、前記マイクロ発光ダイオードの半製品を前記樹脂接着層中に圧入し且つ固定し、前記接続電極の第2電極接続孔によって露出された部分及び前記LED半導体層の上面はともに前記樹脂接着層外に露出する、ステップ5と、
前記マイクロ発光ダイオードの半製品上に第1電極及び第2電極を形成し、前記第1電極が前記LED半導体層及び第1電極接点に接触し、前記第2電極が前記接続電極及び第2電極接点に接触する、ステップ6と、を含むマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。 - 前記ステップ1は、具体的には、
原基板を提供し、前記原基板上にLED半導体薄膜を形成し、前記LED半導体薄膜上にパターン化された第1フォトレジスト層を形成するステップ11と、
前記第1フォトレジスト層をマスクとして前記LED半導体薄膜をエッチングし、LED半導体層を形成するステップ12と、
前記LED半導体層及び原基板の上に第1絶縁層を被覆し、前記第1絶縁層上にパターン化された第2フォトレジスト層を形成するステップ13と、
第2フォトレジスト層をマスクとして前記第1絶縁層をエッチングし、前記第1絶縁層を貫通する第1貫通孔及び第2貫通孔を形成し、前記第1貫通孔及び第2貫通孔はそれぞれ前記LED半導体層の一部及び原基板の一部を露出する、ステップ14と、
前記第1絶縁層、LED半導体層、及び原基板の上に第1金属薄膜を形成し、前記第1金属薄膜上にパターン化された第3フォトレジスト層を形成するステップ15と、
第3フォトレジスト層をマスクとして前記第1金属薄膜をエッチングし、接続電極を形成し、前記接続電極はそれぞれ第1貫通孔及び第2貫通孔によってLED半導体層及び原基板に接触する、ステップ16と、を含む、請求項4に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。 - 前記ステップ2における転写基板は表面に接着層が設けられた硬質基板であり、前記ステップ2においてレーザーリフトオフプロセスによって原基板を剥離する、請求項4に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。
- 前記ステップ3は、具体的には、
前記LED半導体層、第1絶縁層、及び接続電極の上に第2絶縁層を形成し、前記第2絶縁層上にパターン化された第4フォトレジスト層を形成するステップ31と、
前記第4フォトレジスト層をマスクとして前記第2絶縁層をエッチングし、前記第2絶縁層を貫通する第1電極接続孔及び第2電極接続孔を形成し、前記第1電極接続孔及び第2電極接続孔はそれぞれ前記LED半導体層の一部及び接続電極の一部を露出する、ステップ32と、を含む、請求項4に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。 - 前記ステップ4で提供される受取基板は、前記ベース基板と画素定義層との間に位置するTFT層をさらに含み、
前記TFT層は、前記ベース基板上に設けられる活性層、前記活性層及び前記ベース基板を被覆するゲート絶縁層、前記活性層の上方のゲート絶縁層上に設けられるゲート、前記ゲート及びゲート絶縁層を被覆する層間絶縁層、及び前記層間絶縁層上に設けられ前記活性層の両端に接触するソースとドレインとを含み、前記第1電極接点がさらに前記ソースに接触する、請求項4に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。 - 前記ステップ6は、具体的には、
前記マイクロ発光ダイオードの半製品、画素定義層、第1電極接点、第2電極接点、及び樹脂接着層の上に導電性薄膜を形成するステップ61と、
前記導電性薄膜上にパターン化された第5フォトレジスト層を形成するステップ62と、
前記第5フォトレジスト層をマスクとして前記導電性薄膜をエッチングし、第1電極及び第2電極を形成するステップ63と、を含む、請求項4に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。 - 前記樹脂接着層の材料はPMMAである、請求項4に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。
- マイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法であって、
原基板を提供し、前記原基板上にLED半導体層、前記LED半導体層及び原基板を被覆する第1絶縁層、及び前記第1絶縁層上に設けられ且つ前記LED半導体層と原基板に接触する接続電極を順に形成するステップ1と、
転写基板を提供し、前記転写基板の表面を接続電極と接着し、前記原基板を剥離し、LED半導体層、第1絶縁層及び接続電極をすべて転写基板上に転写し、前記LED半導体層、第1絶縁層、及び接続電極の原基板に接触する部分を露出するステップ2と、
前記露出されたLED半導体層、第1絶縁層、及び接続電極の上に第2絶縁層を形成し、前記第2絶縁層上に第1電極接続孔及び第2電極接続孔が形成され、前記第1電極接続孔及び第2電極接続孔がそれぞれ前記LED半導体層の一部及び接続電極の一部を露出し、マイクロ発光ダイオードの半製品を得るステップ3と、
転写ヘッド及び受取基板を提供し、前記受取基板は、ベース基板、前記ベース基板上に設けられる画素定義層、前記画素定義層中に形成される画素凹溝、前記画素凹溝内に設けられる樹脂接着層、及びそれぞれ画素凹溝の両側の画素定義層上に位置する第1電極接点と第2電極接点とを含む、ステップ4と、
前記転写ヘッドによって転写基板上のマイクロ発光ダイオードの半製品を受取基板上の画素凹溝内に転写し、前記マイクロ発光ダイオードの半製品を前記樹脂接着層中に圧入し且つ固定し、前記接続電極の第2電極接続孔によって露出された部分及び前記LED半導体層の上面はともに前記樹脂接着層外に露出する、ステップ5と、
前記マイクロ発光ダイオードの半製品上に第1電極及び第2電極を形成し、前記第1電極が前記LED半導体層及び第1電極接点に接触し、前記第2電極が前記接続電極及び第2電極接点に接触する、ステップ6と、を含み、
そのうち、前記ステップ1は、具体的には、
原基板を提供し、前記原基板上にLED半導体薄膜を形成し、前記LED半導体薄膜上にパターン化された第1フォトレジスト層を形成するステップ11と、
前記第1フォトレジスト層をマスクとして前記LED半導体薄膜をエッチングし、LED半導体層を形成するステップ12と、
前記LED半導体層及び原基板の上に第1絶縁層を被覆し、前記第1絶縁層上にパターン化された第2フォトレジスト層を形成するステップ13と、
第2フォトレジスト層をマスクとして前記第1絶縁層をエッチングし、前記第1絶縁層を貫通する第1貫通孔及び第2貫通孔を形成し、前記第1貫通孔及び第2貫通孔はそれぞれ前記LED半導体層の一部及び原基板の一部を露出する、ステップ14と、
前記第1絶縁層、LED半導体層、及び原基板の上に第1金属薄膜を形成し、前記第1金属薄膜上にパターン化された第3フォトレジスト層を形成するステップ15と、
第3フォトレジスト層をマスクとして前記第1金属薄膜をエッチングし、接続電極を形成し、前記接続電極はそれぞれ第1貫通孔及び第2貫通孔によってLED半導体層及び原基板に接触する、ステップ16と、を含み、
そのうち、前記ステップ2における転写基板は表面に接着層が設けられた硬質基板であり、前記ステップ2においてレーザーリフトオフプロセスによって原基板を剥離するマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。 - 前記ステップ3は、具体的には、
前記LED半導体層、第1絶縁層、及び接続電極の上に第2絶縁層を形成し、前記第2絶縁層上にパターン化された第4フォトレジスト層を形成するステップ31と、
前記第4フォトレジスト層をマスクとして前記第2絶縁層をエッチングし、前記第2絶縁層を貫通する第1電極接続孔及び第2電極接続孔を形成し、前記第1電極接続孔及び第2電極接続孔はそれぞれ前記LED半導体層の一部及び接続電極の一部を露出する、ステップ32と、を含む、請求項11に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。 - 前記ステップ4で提供される受取基板は、前記ベース基板と画素定義層との間に位置するTFT層をさらに含み、
前記TFT層は、前記ベース基板上に設けられる活性層、前記活性層及び前記ベース基板を被覆するゲート絶縁層、前記活性層の上方のゲート絶縁層上に設けられるゲート、前記ゲート及びゲート絶縁層を被覆する層間絶縁層、及び前記層間絶縁層上に設けられ前記活性層の両端に接触するソースとドレインとを含み、前記第1電極接点がさらに前記ソースに接触する、請求項11に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。 - 前記ステップ6は、具体的には、
前記マイクロ発光ダイオードの半製品、画素定義層、第1電極接点、第2電極接点、及び樹脂接着層の上に導電性薄膜を形成するステップ61と、
前記導電性薄膜上にパターン化された第5フォトレジスト層を形成するステップ62と、
前記第5フォトレジスト層をマスクとして前記導電性薄膜をエッチングし、第1電極及び第2電極を形成するステップ63と、を含む、請求項11に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。 - 前記樹脂接着層の材料はPMMAである、請求項11に記載のマイクロ発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。
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