JP6797268B2 - A novel hydroxyphenylboronic acid ester and its production method, and a method for producing a hydroxybiphenyl compound - Google Patents
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Description
本発明は新規なヒドロキシフェニルボロン酸エステル、および当該ボロン酸エステル化合物を用いたヒドロキシビフェニル化合物の製造法に関する。 The present invention relates to a novel hydroxyphenylboronic acid ester and a method for producing a hydroxybiphenyl compound using the boronic acid ester compound.
さらに詳しくは、新規なヒドロキシフェニルボロン酸エステルとその製造法、および当該ボロン酸エステル化合物をハロゲン化ベンゼンまたは擬ハロゲン化ベンゼンと鈴木カップリング反応させて得られるヒドロキシビフェニル化合物の製造法に関する。 More specifically, the present invention relates to a novel hydroxyphenylboronic acid ester and a method for producing the same, and a method for producing a hydroxybiphenyl compound obtained by reacting the boronic acid ester compound with benzene halide or pseudo-halogenated benzene by Suzuki coupling reaction.
ヒドロキシフェニルボロン酸エステルは、工業用途において有用な化合物であり、架橋剤（特許文献１）や、有機合成反応において、遷移金属錯体を触媒とするクロスカップリング反応に利用されている（特許文献２）。フェニルボロン酸エステルを用いたカップリング反応のうち、特に触媒としてパラジウム化合物を使用した反応は鈴木カップリング反応として知られている（非特許文献１）。
この鈴木カップリング反応において、ヒドロキシフェニルボロン酸エステル化合物をハロゲン化ベンゼンまたは擬ハロゲン化ベンゼンと反応させるとヒドロキシビフェニル化合物が得られる。ヒドロキシビフェニル化合物は医農薬および電子材料分野で利用される化合物の中間体として有用である。
ヒドロキシフェニルボロン酸エステルの製造法としては、ブロモフェノールとジボロン化合物とをパラジウム触媒存在下で反応させることにより合成できる（特許文献３）。しかし、ジボロン化合物は高価であり、パラジウムは通常生成物から触媒を取り除くことが困難であるという問題がある。また、p-ブロモフェノールのヒドロキシル基をtert-ブチルジメチルシリル基で保護した後、グリニヤール試薬を調製し、４−（４, ４, ５, ５−テトラメチル−１, ３, ２−ジオキサボロラン−２−イル）フェノールを合成できることが知られている。しかし、脱保護の際の収率が３１．８％と低く、保護に用いるtert-ブチルジメチルシリルクロライドは高価であり、工業的には価格的に採用しづらいという問題点がある（非特許文献２）。
The hydroxyphenylboronic acid ester is a compound useful in industrial applications, and is used as a cross-linking agent (Patent Document 1) and in a cross-coupling reaction catalyzed by a transition metal complex in an organic synthesis reaction (Patent Document 2). ). Among the coupling reactions using a phenylboronic acid ester, a reaction using a palladium compound as a catalyst is known as a Suzuki coupling reaction (Non-Patent Document 1).
In this Suzuki coupling reaction, a hydroxybiphenyl compound is obtained by reacting a hydroxyphenylboronic acid ester compound with benzene halide or pseudohalogenated benzene. Hydroxybiphenyl compounds are useful as intermediates for compounds used in the fields of agrochemicals and electronic materials.
As a method for producing a hydroxyphenylboronic acid ester, it can be synthesized by reacting bromophenol with a diboron compound in the presence of a palladium catalyst (Patent Document 3). However, diboron compounds are expensive and palladium usually has the problem that it is difficult to remove the catalyst from the product. In addition, after protecting the hydroxyl group of p-bromophenol with a tert-butyldimethylsilyl group, a Grignard reagent was prepared to prepare 4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2). -Il) It is known that phenol can be synthesized. However, the yield at the time of deprotection is as low as 31.8%, and tert-butyldimethylsilyl chloride used for protection is expensive, and there is a problem that it is difficult to adopt it industrially in terms of price (non-patent documents). 2).
本発明の課題は、このような事情の中、遷移金属錯体を触媒とするクロスカップリング反応に利用される試薬化合物として有用なヒドロキシフェニルボロン酸エステルを提供すること、および当該化合物を工業的に容易な操作で安価に高収率で得る製造法を提供することにある。
また、当該化合物を利用することにより、医農薬および電子材料分野で利用される化合
物の中間体として有用なヒドロキシビフェニル化合物およびその化合物を効率よく得られる製造法を提供することも課題とする。
Under such circumstances, an object of the present invention is to provide a hydroxyphenylboronic acid ester useful as a reagent compound used in a cross-coupling reaction catalyzed by a transition metal complex, and to industrially obtain the compound. An object of the present invention is to provide a manufacturing method capable of obtaining a high yield at a low cost by an easy operation.
Another object of the present invention is to provide a hydroxybiphenyl compound useful as an intermediate of a compound used in the fields of medicines and agricultural chemicals and electronic materials, and a production method for efficiently obtaining the compound by using the compound.
本発明者は、上記課題を解決するべく、鋭意検討した。その結果、三級アルコキシフェニルボロン酸エステルを脱保護することでヒドロキシフェニルボロン酸エステルを安価に工業的に容易な操作で高収率で得ることのできる有効な製造法を見出し、また、製造法を検討する中で新規なヒドロキシフェニルボロン酸エステルを見出した。更には、当該化合物を利用し、ヒドロキシビフェニル化合物を効率よく製造できることを見出して、本発明を完成するに至った。 The present inventor has diligently studied to solve the above problems. As a result, we have found an effective production method that can obtain a hydroxyphenylboronic acid ester at low cost and in a high yield by an industrially easy operation by deprotecting the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester. A novel hydroxyphenylboronic acid ester was found in the study. Furthermore, they have found that a hydroxybiphenyl compound can be efficiently produced by using the compound, and have completed the present invention.
すなわち本出願に係る発明の第１の態様は、下記式（１） That is, the first aspect of the invention according to the present application is the following formula (1).
本出願に係る発明の第２の態様は、下記式（２） The second aspect of the invention according to the present application is the following formula (2).
本出願に係る発明の第３の態様は、下記式（２） A third aspect of the invention according to the present application is the following formula (2).
本出願に係る発明の第４の態様は、下記式（３） A fourth aspect of the invention according to the present application is the following formula (3).
本出願に係る発明の第５の態様は、前記式（１）で表されるヒドロキシフェニルボロン酸エステルと下記式（５）
本発明により、工業用途として有用である新しいヒドロキシフェニルボロン酸エステルおよびその製造法を提供することができる。
また、そのヒドロキシフェニルボロン酸エステルとハロゲン化ベンゼンまたは擬ハロゲン化ベンゼンを鈴木カップリング反応させることにより、医農薬および電子材料分野の中間体として有用なヒドロキシビフェニル化合物の製造法を提供することができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a novel hydroxyphenylboronic acid ester which is useful for industrial use and a method for producing the same.
Further, by reacting the hydroxyphenylboronic acid ester with benzene halide or pseudohalogenated benzene by Suzuki coupling, it is possible to provide a method for producing a hydroxybiphenyl compound useful as an intermediate in the fields of medical agrochemicals and electronic materials. ..
本発明においてＣ１〜Ｃ１０アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、１−エチルペンチル基、２−エチルペンチル基、１−プロピルブチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基等が挙げられる。 In the present invention, the C1 to C10 alkyl groups are methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and n-pentyl group. , Neopentyl group, 2-Pentyl group, 3-Pentyl group, tert-Pentyl group, n-Hexyl group, i-Hexyl group, 2-Hexyl group, 3-Hexyl group, n-Heptyl group, 1-Methylhexyl group, Examples thereof include 1-ethylpentyl group, 2-ethylpentyl group, 1-propylbutyl group, octyl group, nonyl group and decanyl group.
本発明においてハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、反応活性化基としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、スルホネート基が挙げられる。 In the present invention, the halogen atom includes a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and examples of the reaction activating group include a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and a sulfonate group.
＜ヒドロキシフェニルボロン酸エステル＞
本発明のヒドロキシフェニルボロン酸エステルは、式（１）
<Hydroxyphenylboronic acid ester>
The hydroxyphenylboronic acid ester of the present invention has the formula (1).
式（１）で表されるヒドロキシフェニルボロン酸エステルにおいて、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は水素原子またはＣ１〜Ｃ１０アルキル基（好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル基）を示すが、Ｒ５〜Ｒ８のうちいずれか一つ以上がＣ１〜Ｃ１０アルキル基であり、好ましくはＲ５〜Ｒ８のうちいずれか一つ以上がＣ１〜Ｃ１０アルキル基であり、かつ、いずれか一つ以上が水素原子である。より好ましくはＲ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８のうち３つがメチル基であり、その他が水素原子である。 In the hydroxyphenylboronic acid ester represented by the formula (1), R5, R6, R7 and R8 represent a hydrogen atom or a C1 to C10 alkyl group (preferably a C1 to C6 alkyl group), and any of R5 to R8. One or more are C1 to C10 alkyl groups, preferably any one or more of R5 to R8 are C1 to C10 alkyl groups, and one or more are hydrogen atoms. More preferably, three of R5, R6, R7 and R8 are methyl groups, and the others are hydrogen atoms.
式（１）で表されるヒドロキシフェニルボロン酸エステルにおいて、Ａはメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、または単結合が挙げられる。好ましくはメチレン基が挙げられる。ただし、Ａが単結合のとき、Ｒ５〜Ｒ８のすべてがメチル基である化合物は含まれない。
式（１）で表されるヒドロキシフェニルボロン酸エステルとして特に好ましくは４−（４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン−２−イル）フェノールが挙げられる。
In the hydroxyphenylboronic acid ester represented by the formula (1), A may be a methylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, or a single bond. A methylene group is preferable. However, when A is a single bond, compounds in which all of R5 to R8 are methyl groups are not included.
The hydroxyphenylboronic acid ester represented by the formula (1) is particularly preferably 4- (4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxaboronan-2-yl) phenol.
＜三級アルコキシフェニルボロン酸エステル＞
本発明の三級アルコキシフェニルボロン酸エステルは、式（２）
<Tertiary alkoxyphenylboronic acid ester>
The tertiary alkoxyphenylboronic acid ester of the present invention has the formula (2).
式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステルにおいてＲ１、Ｒ２およびＲ３はＣ１〜Ｃ１０アルキル基（好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル基）を示し、保護基の役割を果たす。保護基としては、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が、いずれもメチル基であるか、またはＲ１およびＲ２がメチル基でありＲ３がエチル基であるターシャリーブチル基またはターシャリーアミル基等が挙げられる。 In the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the formula (2), R1, R2 and R3 represent C1 to C10 alkyl groups (preferably C1 to C6 alkyl groups) and serve as protecting groups. Examples of the protecting group include a tertiary butyl group or a tertiary amyl group in which R1, R2 and R3 are all methyl groups, or R1 and R2 are methyl groups and R3 is an ethyl group.
式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステルにおいてＲ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は水素原子またはＣ１〜Ｃ１０アルキル基（好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル基）を示すが、好ましくはＲ５〜Ｒ８のうちいずれか一つ以上がＣ１〜Ｃ１０アルキル基であり、より好ましくはＲ５〜Ｒ８のうちいずれか一つ以上がＣ１〜Ｃ１０アルキル基であり、かつ、いずれか一つ以上が水素原子である。さらに好ましくはＲ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８のうち３つがメチル基であり、その他が水素原子である。 In the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the formula (2), R5, R6, R7 and R8 represent a hydrogen atom or a C1 to C10 alkyl group (preferably a C1 to C6 alkyl group), preferably R5 to R8. Any one or more of them are C1 to C10 alkyl groups, more preferably any one or more of R5 to R8 are C1 to C10 alkyl groups, and any one or more are hydrogen atoms. .. More preferably, three of R5, R6, R7 and R8 are methyl groups, and the others are hydrogen atoms.
式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステルにおいて、Ａはメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、または単結合が挙げられる。好ましくはメチレン基が挙げられる。ただし、Ａが単結合、かつＲ１〜Ｒ３がメチル基のとき、Ｒ５〜Ｒ８のすべてがメチル基、もしくは水素原子である化合物は含まれない。 In the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the formula (2), A may be a methylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, or a single bond. A methylene group is preferable. However, when A is a single bond and R1 to R3 are methyl groups, compounds in which all of R5 to R8 are methyl groups or hydrogen atoms are not included.
式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステルにおいて、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７がメチル基、Ｒ８が水素原子を示し、Ａがメチレン基を示す２−（三級アルコキシフェニル）−４, ４, ６−トリメチルジオキサボリナン化合物は原料として安価な２−メチルペンタン−２, ４−ジオールを使用でき、工業的に特に好ましい。２−メチルペンタン−２, ４−ジオールは化粧品、芳香剤等の粘土調整添加剤や界面活性剤、溶剤として一般的に広く利用されている化合物である。 In the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the formula (2), R5, R6 and R7 represent a methyl group, R8 represents a hydrogen atom, and A represents a methylene group 2- (tertiary alkoxyphenyl) -4, As the 4,6-trimethyldioxaborinane compound, inexpensive 2-methylpentane-2,4-diol can be used as a raw material, which is particularly preferable industrially. 2-Methylpentane-2,4-diol is a compound generally widely used as a clay adjusting additive such as cosmetics and air fresheners, a surfactant, and a solvent.
このような式（２）で表される化合物として特に好ましくは、２−（４−tert−ブトキシフェニル）−４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナンまたは２−（４−tert−アミロキシフェニル）−４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナンが挙げられる。 Particularly preferably, the compound represented by the formula (2) is 2- (4-tert-butoxyphenyl) -4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxabolinane or 2- (4-tert). −Amyroxyphenyl) -4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxabolinane.
次に前記式（１）で表される本発明のヒドロキシフェニルボロン酸エステルに包含される化合物の代表的な例を表１に示す。しかしながら、本発明に包含される化合物は、これらに限定されるものではない。 Next, Table 1 shows typical examples of the compounds included in the hydroxyphenylboronic acid ester of the present invention represented by the above formula (1). However, the compounds included in the present invention are not limited thereto.
なお、表中の次の記載は下記のとおり、それぞれ該当する基を表す（表２でも同じ）。Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、ｎ−Ｐｒ：ノルマルプロピル基、ｉ−Ｐｒ：イソプロピル基、ｎ−Ｂｕ：ノルマルブチル基、ｓ−Ｂｕ：セカンダリーブチル基、ｔ−Ｂｕ：タ
ーシャリーブチル基、ｎ−Ｐｅｎ：ノルマルペンチル基、ｎ−Ｈｅｘ：ノルマルヘキシル基、ｎ−Ｄｅｃ：ノルマルデカニル基、Ｈ：水素原子、−：単結合
The following descriptions in the table represent the corresponding groups as shown below (the same applies to Table 2). Me: methyl group, Et: ethyl group, n-Pr: normal propyl group, i-Pr: isopropyl group, n-Bu: normal butyl group, s-Bu: secondary butyl group, t-Bu: tertiary butyl group, n-Pen: normal pentyl group, n-Hex: normal hexyl group, n-Dec: normal decanyl group, H: hydrogen atom,-: single bond
次に前記式（２）で表される本発明の三級アルコキシフェニルボロン酸エステルに包含される化合物の代表的な例を表２に示す。しかしながら、本発明に包含される化合物は、これらに限定されるものではない。 Next, Table 2 shows typical examples of the compounds included in the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester of the present invention represented by the above formula (2). However, the compounds included in the present invention are not limited thereto.
＜ヒドロキシフェニルボロン酸エステルの製造法＞
本発明の式（１）で表されるヒドロキシフェニルボロン酸エステルは、式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステルを酸で処理することにより製造できる。
The hydroxyphenylboronic acid ester represented by the formula (1) of the present invention can be produced by treating the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the formula (2) with an acid.
式（１）で表されるヒドロキシフェニルボロン酸エステルの製造において使用できる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、過ヨウ素酸、フッ酸、ギ酸、酢酸を挙げることができる。好ましくは塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸が挙げられる。
酸の使用量は、前記式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステルに対して０．１〜１０．０倍モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜５．０倍モルの範囲である。
Examples of the acid that can be used in the production of the hydroxyphenylboronic acid ester represented by the formula (1) include hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, and periodic acid. Examples include hydrofluoric acid, formic acid and acetic acid. Hydrochloric acid, sulfuric acid and trifluoroacetic acid are preferable.
The amount of the acid used may be appropriately selected from the range of 0.1 to 10.0 times the molar amount of the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the formula (2), preferably 0.1 to 5 times. It is in the range of 0.0 times the mole.
式（１）で表されるヒドロキシフェニルボロン酸エステルの製造において使用する溶媒としては、反応を阻害しなければ特に制限はないが、例えば、水、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、メタノール、エタノール等を挙げることができる。本発明における溶媒の使用量は、前記式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステル１モルに対して０．１〜１００リットルであり、好ましくは０．３〜１０リットルの範囲である。 The solvent used in the production of the hydroxyphenylboronic acid ester represented by the formula (1) is not particularly limited as long as the reaction is not inhibited, and for example, water, sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, tetrahydrofuran, acetonitrile, etc. Examples thereof include N, N-dimethylformamide, benzene, toluene, 1,4-dioxane, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, methanol, ethanol and the like. The amount of the solvent used in the present invention is 0.1 to 100 liters with respect to 1 mol of the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the above formula (2), preferably in the range of 0.3 to 10 liters. is there.
式（１）で表されるヒドロキシフェニルボロン酸エステルの製造の際の反応温度は、−３０℃から溶媒の沸点の範囲で適宜選択すればよく、好ましくは０℃〜１５０℃の範囲である。
式（１）で表されるヒドロキシフェニルボロン酸エステルの製造の際の反応時間は、反応温度、反応基質、反応スケール等により一定しないが、通常１〜４８時間の範囲である。
The reaction temperature during the production of the hydroxyphenylboronic acid ester represented by the formula (1) may be appropriately selected from −30 ° C. to the boiling point of the solvent, and is preferably in the range of 0 ° C. to 150 ° C.
The reaction time during the production of the hydroxyphenylboronic acid ester represented by the formula (1) is not constant depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction scale, etc., but is usually in the range of 1 to 48 hours.
＜三級アルコキシフェニルボロン酸エステルの製造法＞
前記式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステルは、式（４）で表される三級アルコキシフェニルマグネシウムハライドと式（３）で表されるボロン酸エステルを反応させることにより製造できる。
<Manufacturing method of tertiary alkoxyphenylboronic acid ester>
The tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the formula (2) is produced by reacting the tertiary alkoxyphenylmagnesium halide represented by the formula (4) with the boronic acid ester represented by the formula (3). it can.
式（４）で表される三級アルコキシフェニルマグネシウムハライドにおける、ハロゲン原子としては塩素、臭素、またはヨウ素の各元素が挙げられ、より好ましくは塩素が挙げ
られる。
Examples of the halogen atom in the tertiary alkoxyphenylmagnesium halide represented by the formula (4) include chlorine, bromine, and iodine, and more preferably chlorine.
式（４）で表される三級アルコキシフェニルマグネシウムハライドにおいて、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はＣ１〜Ｃ１０アルキル基を示し、前記式（２）と同義である。
なお、式（４）で表される三級アルコキシフェニルマグネシウムハライド、公知の方法もしくは市販品を使用することができる。
In the tertiary alkoxyphenylmagnesium halide represented by the formula (4), R1, R2 and R3 represent C1 to C10 alkyl groups and have the same meaning as the above formula (2).
A tertiary alkoxyphenylmagnesium halide represented by the formula (4), a known method, or a commercially available product can be used.
式（３）で表されるボロン酸エステルにおいて、Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基を示す。Ｒ５〜Ｒ８および、Ａはヒドロキシフェニルボロン酸エステルの製造法における前記式（２）と同義である。前記式（３）で表されるボロン酸エステルはトリメチルボレートと対応するジオールを反応させることにより、容易に合成できる。 In the boronic acid ester represented by the formula (3), R4 represents a C1-C10 alkyl group. R5 to R8 and A are synonymous with the above formula (2) in the method for producing a hydroxyphenylboronic acid ester. The boronic acid ester represented by the formula (3) can be easily synthesized by reacting trimethylborate with the corresponding diol.
式（３）で表されるボロン酸エステルにおいてＲ５、Ｒ６およびＲ７がメチル基、Ｒ８が水素原子を示し、Ａがメチレン基を示す２−アルコキシ−４, ４, ６−トリメチルジオキサボリナン化合物は原料として安価な２−メチルペンタン−２, ４−ジオールを使用でき、工業的に特に好ましい。 In the boronic acid ester represented by the formula (3), a 2-alkoxy-4,4,6-trimethyldioxabolinane compound in which R5, R6 and R7 represent a methyl group, R8 represents a hydrogen atom and A represents a methylene group. Can use inexpensive 2-methylpentane-2,4-diol as a raw material, which is particularly preferable industrially.
式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステルの製造において使用する溶媒としては、テトラヒドロフランや２−メチルテトラヒドロフラン等の環状エーテル類の単独、あるいはこれとベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類との混合溶媒、またジエチルエーテル、ジブチルエーテルなどが挙げられる。溶媒の使用量は、前記式（４）で表される三級アルコキシフェニルマグネシウムハライド１モルに対して０．１〜１００リットルであり、好ましくは０．３〜１０リットルの範囲である。 As the solvent used in the production of the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the formula (2), cyclic ethers such as tetrahydrofuran and 2-methyl tetrahydrofuran are used alone, or benzene, toluene, chlorobenzene, xylene and the like. Examples thereof include a mixed solvent with aromatic hydrocarbons, diethyl ether, dibutyl ether and the like. The amount of the solvent used is 0.1 to 100 liters, preferably 0.3 to 10 liters, with respect to 1 mol of the tertiary alkoxyphenylmagnesium halide represented by the above formula (4).
式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステルの製造の際の反応温度は、−７８℃から溶媒の沸点の範囲で適宜選択すればよく、好ましくは−７８℃〜６０℃の範囲である。
式（２）で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステルの製造の際の反応時間は、反応温度、反応基質、反応スケール等により一定しないが、通常１〜２４時間の範囲である。
The reaction temperature during the production of the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the formula (2) may be appropriately selected in the range of −78 ° C. to the boiling point of the solvent, preferably in the range of −78 ° C. to 60 ° C. Is.
The reaction time during the production of the tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by the formula (2) is not constant depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction scale, etc., but is usually in the range of 1 to 24 hours.
<ヒドロキシビフェニル化合物の製造法>
（式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は同一または異なって、水素原子またはＣ１〜Ｃ１０アルキル基を示す。Ａはメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、または単結合を示す。Ｘ1は反応活性化基を示す。Ａｒは置換されていてもよいフェニル基を示す。）
<Manufacturing method of hydroxybiphenyl compound>
(In the formula, R5, R6, R7 and R8 are the same or different and represent a hydrogen atom or a C1-C10 alkyl group. A represents a methylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group or a single bond. X 1 represents a reaction. Indicates an activating group. Ar indicates a phenyl group which may be substituted.)
式（５）で表されるハロゲン化ベンゼンまたは擬ハロゲン化ベンゼンにおける反応活性
化基Ｘ1としては塩素、臭素、またはヨウ素の各ハロゲンおよびスルホネート基が挙げられ、より好ましくは塩素が挙げられる。
Examples of the reaction activating group X 1 in the halogenated benzene or pseudo-halogenated benzene represented by the formula (5) include each halogen and sulfonate group of chlorine, bromine, or iodine, and more preferably chlorine.
式（６）で表されるヒドロキシビフェニル化合物において、Ａｒは置換されていてもよいフェニル基を示し、フェニル基に置換されてもよい置換基としては、水素原子；フッ素原子、水酸基またはアミノ基で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル基；フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１〜５のアルコキシ基； 炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されていてもよいカルボニル基；カルボキシル基；ホルミル基；ハロゲン原子；シアノ基；水酸基；炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、または炭素数１〜４のアルキル基で置換されていてもよいカルボニル基のいずれか１つないし２つの置換基で置換されていてもよいアミノ基；カルバモイル基；フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルチオ基；チオール基；スルファモイル基；フルオロスルホニル基；が挙げられ、好ましくはメチル基、トリフルオロメチル基、tert−ブトキシ基が挙げられる。 In the hydroxybiphenyl compound represented by the formula (6), Ar indicates a phenyl group which may be substituted, and the substituent which may be substituted by the phenyl group is a hydrogen atom; a fluorine atom, a hydroxyl group or an amino group. An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted; an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms which may be substituted by a fluorine atom; an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Carbonyl group optionally substituted with; carboxyl group; formyl group; halogen atom; cyano group; hydroxyl group; alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, phenyl group optionally substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , Or an amino group that may be substituted with any one or two substituents of the carbonyl group that may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; a carbamoyl group; even if it is substituted with a fluorine atom. Examples thereof include a good alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms; a thiol group; a sulfamoyl group; a fluorosulfonyl group; preferably a methyl group, a trifluoromethyl group and a tert-butoxy group.
式（６）で表されるヒドロキシビフェニル化合物として特に好ましくはＡｒが４−tert−ブトキシフェニル基である、式（７）で表される４−（４−tert−ブトキシフェニル）フェノールである。
式（６）で表されるヒドロキシビフェニル化合物は鈴木カップリングで合成できる。本鈴木カップリングで使用する溶媒としては、メタノール、エタノールなどのアルコール溶媒、テトラヒドロフランや２−メチルテトラヒドロフラン等の環状エーテル類、あるいはベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またジエチルエーテル、ジブチルエーテル、１, ４−ジオキサン、１, ２−ジメトキシエタン、水などの単独あるいは混合溶媒が挙げられる。好ましくは、１, ４−ジオキサン、１, ２−ジメトキシエタン、水が挙げられる。溶媒の使用量は、前記式（１）で表されるヒドロキシフェニルボロン酸エステル１モルに対して０．１〜１００リットルであり、好ましくは０．３〜１０リットルの範囲である。 The hydroxybiphenyl compound represented by the formula (6) can be synthesized by Suzuki coupling. Solvents used in this Suzuki coupling include alcohol solvents such as methanol and ethanol, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and 2-methyltetrahydrofuran, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, chlorobenzene and xylene, and diethyl ether. , Dibutyl ether, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, water and other single or mixed solvents. Preferred are 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane and water. The amount of the solvent used is 0.1 to 100 liters with respect to 1 mol of the hydroxyphenylboronic acid ester represented by the above formula (1), preferably in the range of 0.3 to 10 liters.
本製造法で使用する塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化物、例えば、炭酸ナトリウム（Ｎａ2ＣＯ3）、炭酸セシウム（Ｃｓ2ＣＯ3）などの炭酸塩、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどの酢酸塩、例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カリウムなどのリン酸塩、例えば、トリエチルアミン類、ピリジン、モルホリン、キノリン、ピペリジン、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン）、アニリン類、テトラｎ−ブチルアンモニウムアセテートなどが挙げられる。好ましくは炭酸ナトリウムが挙げられる。 The base used in this production method includes hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, for example, carbonates such as sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) and cesium carbonate (Cs 2 CO 3 ), for example, acetate. Acetates such as sodium and potassium acetate, such as phosphates such as sodium phosphate and potassium phosphate, such as triethylamines, pyridine, morpholine, quinoline, piperidine, DBU (diazabicycloundecene), aniline, tetra. Examples thereof include n-butylammonium acetate. Sodium carbonate is preferable.
本製造法で使用するパラジウム化合物としては、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、ビス[４−（Ｎ, Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル]ジ−tert-ブチルホスフィンパラジウムジクロリド、ビス（ジ−tert−ブチルプレニルホスフィン）パラジウムジクロリド、ビス（ジ−tert−クロチルホスフィン）パラジウムジクロリドなどが挙げられる。 Examples of the palladium compound used in this production method include tetrakistriphenylphosphine palladium, bis [4- (N, N-dimethylamino) phenyl] di-tert-butylphosphine palladium dichloride, and bis (di-tert-butylprenylphosphine). Examples thereof include palladium dichloride, bis (di-tert-crotylphosphine) palladium dichloride and the like.
式（６）で表されるヒドロキシビフェニル化合物の製造の際の反応温度は、０℃から溶
媒の沸点の範囲で適宜選択すればよく、好ましくは０℃〜１５０℃の範囲である。
The reaction temperature at the time of producing the hydroxybiphenyl compound represented by the formula (6) may be appropriately selected in the range of 0 ° C. to the boiling point of the solvent, and is preferably in the range of 0 ° C. to 150 ° C.
式（６）で表されるヒドロキシビフェニル化合物の製造の際の反応時間は、反応温度、反応基質、反応スケール等により一定しないが、通常１〜４８時間の範囲である。 The reaction time during the production of the hydroxybiphenyl compound represented by the formula (6) is not constant depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction scale, etc., but is usually in the range of 1 to 48 hours.
全ての化学薬品は、試薬等級を使用し、特段の記載がない限り、精製をせずに使用した。プロトン（1ＨＮＭＲ）核磁気共鳴スペクトルは、ＪＮＭ−ＥＣＳ４００において、それぞれ４００ＭＨｚで記録された。化学シフトは、デルタスケール（δ）で百万当たりの部（ｐｐｍ）で示され、かつ1ＨＮＭＲではテトラメチルシラン（δ＝０ｐｐｍ）が参照される。 All chemicals used reagent grades and were used unpurified unless otherwise stated. Proton ( 1 HNMR) nuclear magnetic resonance spectra were recorded at JNM-ECS 400, respectively, at 400 MHz. Chemical shifts are shown in parts per million (ppm) on the delta scale (δ), and tetramethylsilane (δ = 0 ppm) is referenced in 1 1 HNMR.
次に実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。 Next, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.
製造例１ ２−メトキシ−４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナンの製造
１ｌ容量の４つ口フラスコに２−メチルペンタン−２, ４−ジオール（１１８．２ｇ、１．０ｍｏｌ）を加え、還流下トリメチルボレート（１３５．５ｇ、１．３ｍｏｌ）を１．５時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度で１．５時間撹拌した。反応終了後、ディーンスターク装置を用いてメタノールを留出させた。反応液を減圧濃縮し、無色油状の標記化合物（収量１５３．１ｇ、収率９６．１％）得た。
1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） σ：４．２６−４．２２（１Ｈ、ｍ）、３．４８（３Ｈ、ｓ）、１．７５−１．７０（１Ｈ、ｍ）、１．４７−１．４１（１Ｈ、ｍ）、１．２８−１．２２（９Ｈ、ｍ）．
Production Example 1 Production of 2-methoxy-4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxabolinane 2-methylpentane-2,4-diol (118.2 g, 1.0 mol) in a 1-liter volume 4-necked flask ) Was added, and trimethylborate (135.5 g, 1.3 mol) was added dropwise over 1.5 hours under reflux. After completion of the dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 1.5 hours. After completion of the reaction, methanol was distilled off using a Dean-Stark apparatus. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure to give the title compound as a colorless oil (yield 153.1 g, yield 96.1%).
1 1 HNMR spectrum (CDCl 3 ) σ: 4.26-4.22 (1H, m), 3.48 (3H, s), 1.75-1.70 (1H, m), 1.47-1. 41 (1H, m), 1.28-1.22 (9H, m).
実施例１ ２−（４−tert−ブトキシフェニル）−４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン（化合物番号２−５）の製造
窒素置換した５００ｍｌ容量の４つ口フラスコに削り状の金属マグネシウム２４ｇ（１ｍｏｌ）と無水テトラヒドロフラン３０ｍｌを加え、さらに臭化エチル約２ｍｌを加えて撹拌し、発泡による反応を確認した。次いでp-tert-ブトキシクロロベンゼン７３．８ｇ（０．４ｍｏｌ）を、１７０ｍｌの無水テトラヒドロフランおよびトルエン８０ｍｌに溶解し、これを還流温度７９℃で５．５時間を要して滴下した。さらに２時間同温度で撹拌を続けて、p-tert-ブトキシフェニルマグシウムクロライドの溶液（０．４ｍｏｌ）を調製した。
Example 1 Production of 2- (4-tert-butoxyphenyl) -4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxabolinane (Compound No. 2-5) Shaving into a nitrogen-substituted 500 ml volume 4-necked flask 24 g (1 mol) of metallic magnesium and 30 ml of anhydrous tetrahydrofuran were added, and about 2 ml of ethyl bromide was further added and stirred, and the reaction by foaming was confirmed. Then, 73.8 g (0.4 mol) of p-tert-butoxychlorobenzene was dissolved in 170 ml of anhydrous tetrahydrofuran and 80 ml of toluene, and this was added dropwise at a reflux temperature of 79 ° C. over 5.5 hours. Stirring was continued for another 2 hours at the same temperature to prepare a solution of p-tert-butoxyphenylmagsium chloride (0.4 mol).
窒素置換した５００ｍｌ容量の４つ口フラスコに２−メトキシ−４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン５６．８８ｇ（０．３６ｍｏｌ）と無水テトラヒドロフラン１５ｍｌとトルエン３０ｍｌを加え、５℃に冷却した。滴下漏斗より上記で調製したp-tert-ブトキシフェニルマグネシウムクロライドの溶液０．３ｍｏｌを１時間を要して滴下した。滴下終了の後、室温まで昇温し、２時間撹拌した。反応終了後、５℃まで冷却し、１０％硫酸を加えて酸性とした後、トルエン５０ｍｌを加えて抽出した。その後、水５０ｍｌを用いて４回洗浄したのち、有機層を減圧濃縮した。得られた反応混合物にヘプタンを加えて冷却し、結晶化させた。結晶をヘプタンで洗浄し、結晶を分取した。ろ液を減圧濃縮し、これにヘプタンを加えて冷却し、結晶化させ、ヘプタンで洗浄を行い、結晶を分取した。この操作をもう一度行い、白色結晶の標記化合物（収量６３．７ｇ、収率７７％）を得た。
融点：７０−７２℃
1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） δ：７．７３−７．６９（２Ｈ、ｍ）、６．９７−６．９３（２Ｈ、ｍ）、４．３４−４．２９（１Ｈ、ｍ）、１．８６−１．８１（１Ｈ、
ｍ）、１．５９−１．５２（１Ｈ、ｍ）、１．３５−１．３１（１８Ｈ、ｍ）．
56.88 g (0.36 mol) of 2-methoxy-4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxabolinane, 15 ml of anhydrous tetrahydrofuran and 30 ml of toluene were added to a nitrogen-substituted 500 ml four-necked flask at 5 ° C. Cooled to. From a dropping funnel, 0.3 mol of the solution of p-tert-butoxyphenylmagnesium chloride prepared above was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropping, the temperature was raised to room temperature, and the mixture was stirred for 2 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to 5 ° C., 10% sulfuric acid was added to make it acidic, and then 50 ml of toluene was added for extraction. Then, after washing 4 times with 50 ml of water, the organic layer was concentrated under reduced pressure. Heptane was added to the obtained reaction mixture, and the mixture was cooled and crystallized. The crystals were washed with heptane and the crystals were separated. The filtrate was concentrated under reduced pressure, heptane was added thereto, the mixture was cooled, crystallized, washed with heptane, and the crystals were separated. This operation was repeated to obtain the title compound (yield 63.7 g, yield 77%) of white crystals.
Melting point: 70-72 ° C
1 1 HNMR spectrum (CDCl 3 ) δ: 7.73-7.69 (2H, m), 6.97-6.93 (2H, m), 4.34-4.29 (1H, m), 1. 86-1.81 (1H,
m), 1.59-1.52 (1H, m), 1.35-1.31 (18H, m).
実施例２ ４−（４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン−２−イル）フェノール（化合物番号１−４）の製造
３００ｍｌ容量の４つ口フラスコに２−（４−tert−ブトキシフェニル）−４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン（６３．７ｇ、０．２３ｍｏｌ）と無水テトラヒドロフラン６５ｍｌを加え、５℃に冷却し、濃塩酸４８ｇを滴下した。滴下終了後、室温で２４時間撹拌した。水５０ｍｌ、トルエン５０ｍｌを加えて一回抽出した。有機層を水５０ｍｌで４回洗浄したのち、減圧濃縮した。析出した結晶をヘプタンを用いて洗浄し、結晶を分取し、白色結晶の標記化合物（収量４１．５ｇ、収率８２％）を得た。
融点：１０４−１０７℃
1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） σ：７．７１−７．６８（２Ｈ、ｍ）、６．７９−６．７６（２Ｈ、ｍ）、４．７８（１Ｈ、ｓ）、４．３３−４．２８（１Ｈ、ｍ）、１．８６−１．８１（１Ｈ、ｍ）、１．５９−１．５２（１Ｈ、ｍ）、１．３５−１．３０（９Ｈ、ｍ）．
Example 2 Production of 4- (4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxaborinan-2-yl) phenol (Compound No. 1-4) 2- (4-tert) in a 300 ml volume four-necked flask -Butoxyphenyl) -4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxabolinane (63.7 g, 0.23 mol) and 65 ml of anhydrous tetrahydrofuran were added, cooled to 5 ° C., and 48 g of concentrated hydrochloric acid was added dropwise. After completion of the dropping, the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. 50 ml of water and 50 ml of toluene were added and the mixture was extracted once. The organic layer was washed 4 times with 50 ml of water and then concentrated under reduced pressure. The precipitated crystals were washed with heptane, and the crystals were separated to obtain the title compound of white crystals (yield 41.5 g, yield 82%).
Melting point: 104-107 ° C
1 1 HNMR spectrum (CDCl 3 ) σ: 7.71-7.68 (2H, m), 6.79-6.76 (2H, m), 4.78 (1H, s), 4.33-4. 28 (1H, m), 1.86-1.81 (1H, m), 1.59-1.52 (1H, m), 1.35-1.30 (9H, m).
実施例３ ２−（４−tert−アミロキシフェニル）−４, ４, ６−トリメチル−１, ３,２−ジオキサボリナン（化合物番号２−１１）の製造
窒素置換した５００ｍｌ容量の４つ口フラスコに削り状の金属マグネシウム２４ｇ（１ｍｏｌ）と無水テトラヒドロフラン３０ｍｌを加え、さらに臭化エチル約２ｍｌを加えて撹拌し、発泡による反応を確認した。次いでp-tert-アミロキシクロロベンゼン７９．４ｇ（０．４ｍｏｌ）を、１７０ｍｌの無水テトラヒドロフランおよびトルエン８０ｍｌに溶解し、これを還流温度７９℃で６．５時間を要して滴下した。さらに１時間同温度で撹拌を続けて、p-tert-アミロキシフェニルマグシウムクロライドの溶液（０．４ｍｏｌ）を調製した。
Example 3 Production of 2- (4-tert-amyloxyphenyl) -4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxabolinane (Compound No. 2-11) In a nitrogen-substituted 500 ml volume four-necked flask 24 g (1 mol) of shavings of metallic magnesium and 30 ml of anhydrous tetrahydrofuran were added, and about 2 ml of ethyl bromide was further added and stirred, and the reaction by foaming was confirmed. Then, 79.4 g (0.4 mol) of p-tert-amyloxychlorobenzene was dissolved in 170 ml of anhydrous tetrahydrofuran and 80 ml of toluene, and this was added dropwise at a reflux temperature of 79 ° C. over 6.5 hours. Stirring was continued for another hour at the same temperature to prepare a solution of p-tert-amyloxyphenylmagsium chloride (0.4 mol).
窒素置換した５００ｍｌ容量の４つ口フラスコに２−メトキシ−４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン３７．９２ｇ（０．２４ｍｏｌ）と無水テトラヒドロフラン１５ｍｌとトルエン３０ｍｌを加え、５℃に冷却した。滴下漏斗より上記で調製したp-tert-アミロキシフェニルマグネシウムクロライドの溶液（０．２ｍｏｌ）を１時間を要して滴下した。滴下終了の後、室温まで昇温し、３時間撹拌した。反応終了後、５℃まで冷却し、１０％硫酸を加えて酸性とした後、トルエン５０ｍｌを加えて抽出した。その後、水４０ｍｌを用いて４回洗浄したのち、有機層を減圧濃縮し、黄色油状の混合物を得た。ＧＣ分析の結果、目的とする標記化合物を収率９３．５％で得た。
1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） σ：７．７２−７．６９（２Ｈ、ｍ）、６．９５−６．９２（２Ｈ、ｍ）、４．３６−４．２６（１Ｈ、ｍ）、１．８６−１．８１（１Ｈ、ｍ）、１．７０−１．６４（２Ｈ、ｍ）、１．５９−１．５６（１Ｈ、ｍ）、１．３５−１．３１（９Ｈ、ｍ）、１．２５（６Ｈ、ｓ）、１．０１−０．９７（３Ｈ、ｍ）．
37.92 g (0.24 mol) of 2-methoxy-4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxabolinane, 15 ml of anhydrous tetrahydrofuran and 30 ml of toluene were added to a nitrogen-substituted 500 ml four-necked flask at 5 ° C. Cooled to. The solution of p-tert-amyloxyphenylmagnesium chloride (0.2 mol) prepared above was added dropwise from the dropping funnel over 1 hour. After completion of the dropping, the temperature was raised to room temperature, and the mixture was stirred for 3 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to 5 ° C., 10% sulfuric acid was added to make it acidic, and then 50 ml of toluene was added for extraction. Then, after washing four times with 40 ml of water, the organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain a yellow oily mixture. As a result of GC analysis, the title compound of interest was obtained in a yield of 93.5%.
1 1 HNMR spectrum (CDCl 3 ) σ: 7.72-7.69 (2H, m), 6.95-6.92 (2H, m), 4.36-4.26 (1H, m), 1. 86-1.81 (1H, m), 1.70-1.64 (2H, m), 1.59-1.56 (1H, m), 1.35-1.31 (9H, m), 1.25 (6H, s), 1.01-0.97 (3H, m).
実施例４ ４−（４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン−２−イル）フェノール（化合物番号１−４）の製造
２００ｍｌ容量の４つ口フラスコに２−（４−tert−アミロキシフェニル）−４, ４,６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン（５．８ｇ、０．０２ｍｏｌ）と無水テトラヒドロフラン５ｍｌを加え、５℃に冷却し、濃塩酸４、１７ｇを滴下した。滴下終了後、室温で３．５時間撹拌した。水５０ｍｌ、トルエン５０ｍｌを加えて一回抽出した。有機層を水４０ｍｌで４回洗浄したのち、減圧濃縮した。析出した結晶をヘキサン、トルエンを用いて洗浄し、結晶を分取し、白色結晶の標記化合物（収量２．４６ｇ、収率５５．９％）を得た。
Example 4 Production of 4- (4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxaborinan-2-yl) phenol (Compound No. 1-4) 2- (4-tert) in a 200 ml volume four-necked flask −Amyroxyphenyl) -4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxabolinane (5.8 g, 0.02 mol) and 5 ml of anhydrous tetrahydrofuran were added, cooled to 5 ° C., and 4,17 g of concentrated hydrochloric acid was added dropwise. did. After completion of the dropping, the mixture was stirred at room temperature for 3.5 hours. 50 ml of water and 50 ml of toluene were added and the mixture was extracted once. The organic layer was washed 4 times with 40 ml of water and then concentrated under reduced pressure. The precipitated crystals were washed with hexane and toluene, and the crystals were separated to obtain the title compound of white crystals (yield 2.46 g, yield 55.9%).
実施例５ ４−（４−ニトロフェニル）フェノールの合成
不活性ガス雰囲気下、４−（４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン−２−イル）フェノール（１．１ｇ、 ５ｍｍｏｌ）、４−ブロモニトロベンゼン（１．０１ｇ、５ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０．２９ｇ、０．２５ｍｍｏｌ）、２規定の炭酸ナトリウム水溶液４ｍｌ、トルエン４ｍｌおよびＴＨＦ２ｍｌを８０℃にて５時間撹拌した。反応終了後、水、トルエンを用いてセライトろ過し、ろ液を水４０ｍｌにて３回洗浄した。有機層を減圧濃縮した。析出した結晶をヘキサン、トルエンにて洗浄し、黄褐色結晶を０．７１ｇ得た。ＧＣ分析の結果、標記化合物の純度は９５．４％であった。(収率６２．７％)
1ＨＮＭＲスペクトル（アセトンd6） σ：８．２６−８．２３（２Ｈ、ｍ）、７．８６−７．８４（２Ｈ、ｍ）、７．６４−７．６２（２Ｈ、ｍ）、６．９７−６．９５（２Ｈ、ｍ）．
Example 5 Synthesis of 4- (4-nitrophenyl) phenol Under an inert gas atmosphere, 4- (4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxaborinan-2-yl) phenol (1.1 g, 5 mmol) ), 4-Bromonitrobenzene (1.01 g, 5 mmol), tetrakistriphenylphosphine palladium (0.29 g, 0.25 mmol), 4 ml of 2N aqueous sodium carbonate solution, 4 ml of toluene and 2 ml of THF were stirred at 80 ° C. for 5 hours. .. After completion of the reaction, the mixture was filtered through Celite using water and toluene, and the filtrate was washed 3 times with 40 ml of water. The organic layer was concentrated under reduced pressure. The precipitated crystals were washed with hexane and toluene to obtain 0.71 g of yellowish brown crystals. As a result of GC analysis, the purity of the title compound was 95.4%. (Yield 62.7%)
1 1 HNMR spectrum (acetone d 6 ) σ: 8.26-8.23 (2H, m), 7.86-7.84 (2H, m), 7.64-7.62 (2H, m), 6 .97-6.95 (2H, m).
比較例１ ４−（４−ニトロフェニル）フェノールの合成
４−（４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン−２−イル）フェノールの代わりに、４−（４, ４, ５, ５−テトラメチル−１, ３, ２−ジオキサボロラン−２−イル）フェノール（ＣＡＳＮｏ．２６９４０９−７０−３）を用いる以外は実施例５と同条件にて反応を行った結果、結晶を０．６ｇ得た。ＧＣ分析の結果、標記化合物の純度は８８．０％であった。(収率４８．８％)
Comparative Example 1 Synthesis of 4- (4-nitrophenyl) phenol 4- (4, 4, 5) instead of 4- (4, 4, 6-trimethyl-1, 3, 2-dioxaborinan-2-yl) phenol The reaction was carried out under the same conditions as in Example 5 except that 5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) phenol (CASNo. 269409-70-3) was used. I got 6g. As a result of GC analysis, the purity of the title compound was 88.0%. (Yield 48.8%)
比較例２ ４−（４−ニトロフェニル）フェノールの合成
４−（４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン−２−イル）フェノールの代わりに、４−（１, ３, ２−ジオキサボリナン−２−イル）フェノール（ＣＡＳＮｏ．１６４００３５−７３−９）を用いる以外は実施例５と同条件にて反応を行った結果、結晶を０．９３ｇ得た。ＧＣ分析の結果、標記化合物の純度は９．６％であった。(収率８．３％)
このように、実施例５における本発明化合物を利用した製造方法は比較例１および２に比べ、高収率かつ高純度でヒドロキシビフェニル化合物を得ることができる。
Comparative Example 2 Synthesis of 4- (4-nitrophenyl) phenol 4- (1, 3, 2) instead of 4- (4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxaborinan-2-yl) phenol As a result of carrying out the reaction under the same conditions as in Example 5 except that −dioxabolinan-2-yl) phenol (CASNo. 1640035-73-9) was used, 0.93 g of crystals were obtained. As a result of GC analysis, the purity of the title compound was 9.6%. (Yield 8.3%)
As described above, the production method using the compound of the present invention in Example 5 can obtain a hydroxybiphenyl compound in a higher yield and higher purity than in Comparative Examples 1 and 2.
実施例６ ４−[２−（トリフルオロメチル）フェニル]フェノールの合成
不活性ガス雰囲気下、４−（４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン−２−イル）フェノール（１．６５ｇ、 ７．５ｍｍｏｌ）、２−クロロベンゾトリフルオリド（０．９ｇ、５ｍｍｏｌ）、ビス[４−（Ｎ, Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル]ジ−tert-ブチルホスフィンパラジウムジクロリド（３．５ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（１．０６ｇ、１０ｍｍｏｌ）、１, ２−ジメトキシエタン６ｍｌおよび水２ｍｌを１００℃にて４時間撹拌した。得られた反応混合物のＬＣ分析の結果、目的とする４−[２−（トリフルオロメチル）フェニル]フェノールを収率９６．７％で得た。
1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） σ：７．７３−７．７１（１Ｈ、ｍ）、７．５３−７．５０（１Ｈ、ｍ）、７．４５−７．４０（１Ｈ、ｍ）、７．３２−７．２９（１Ｈ、ｍ）、７．２１−７．１８（２Ｈ、ｍ）、６．８７−６．８３（２Ｈ、ｍ）、４．８５（１Ｈ、ｓ）．
Example 6 Synthesis of 4- [2- (trifluoromethyl) phenyl] phenol Under an inert gas atmosphere, 4- (4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxaborinan-2-yl) phenol (1) .65 g, 7.5 mmol), 2-chlorobenzotrifluoride (0.9 g, 5 mmol), bis [4- (N, N-dimethylamino) phenyl] di-tert-butylphosphine palladium dichloride (3.5 mg, 0) .005 mmol), sodium carbonate (1.06 g, 10 mmol), 6 ml of 1,2-dimethoxyethane and 2 ml of water were stirred at 100 ° C. for 4 hours. As a result of LC analysis of the obtained reaction mixture, the desired 4- [2- (trifluoromethyl) phenyl] phenol was obtained in a yield of 96.7%.
1 1 HNMR spectrum (CDCl 3 ) σ: 7.73-7.71 (1H, m), 7.53-7.50 (1H, m), 7.45-7.40 (1H, m), 7. 32-7.29 (1H, m), 7.21-7.18 (2H, m), 6.87-6.83 (2H, m), 4.85 (1H, s).
実施例７ ４−（２, ６−ジメチルフェニル）フェノールの合成
不活性ガス雰囲気下、４−（４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン−２−イル）フェノール（１．６５ｇ、 ７．５ｍｍｏｌ）、２−クロロ−ｍ−キシレン（０．７ｇ、５ｍｍｏｌ）、ビス[４−（Ｎ, Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル]ジ−tert-ブチルホスフィンパラジウムジクロリド（３．５ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（１．０６ｇ、１０ｍｍｏｌ）、１, ２−ジメトキシエタン６ｍｌおよび水２ｍｌを１００℃にて５時間撹拌した。得られた反応混合物のＧＣ分析の結果、目的とする４−（２, ６−ジメチルフェニル）フェノールを収率９５．０％で得た。
このように、実施例６および７における本発明化合物を利用した製造方法は高い収率で
ヒドロキシビフェニル化合物を合成することができる。
Example 7 Synthesis of 4- (2,6-dimethylphenyl) phenol Under an inert gas atmosphere, 4- (4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxaborinan-2-yl) phenol (1.65 g) , 7.5 mmol), 2-chloro-m-xylene (0.7 g, 5 mmol), bis [4- (N, N-dimethylamino) phenyl] di-tert-butylphosphine palladium dichloride (3.5 mg, 0. 005 mmol), sodium carbonate (1.06 g, 10 mmol), 6 ml of 1,2-dimethoxyethane and 2 ml of water were stirred at 100 ° C. for 5 hours. As a result of GC analysis of the obtained reaction mixture, the desired 4- (2,6-dimethylphenyl) phenol was obtained in a yield of 95.0%.
As described above, the production method using the compound of the present invention in Examples 6 and 7 can synthesize a hydroxybiphenyl compound in a high yield.
実施例８ ４−（４−tert−ブトキシフェニル）フェノールの合成
不活性ガス雰囲気下、４−（４, ４, ６−トリメチル−１, ３, ２−ジオキサボリナン−２−イル）フェノール（１．６５ｇ、 ７．５ｍｍｏｌ）、p-tert-ブトキシクロロベンゼン（０．９２ｇ、５ｍｍｏｌ）、ビス[４−（Ｎ, Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル]ジ−tert-ブチルホスフィンパラジウムジクロリド（１８ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（１．０６ｇ、１０ｍｍｏｌ）、１, ２−ジメトキシエタン６ｍｌおよび水２ｍｌを１００℃にて５時間撹拌した。ＬＣ分析の結果、目的とする白色結晶である４−（４−tert−ブトキシフェニル）フェノールを収率９７．５％で得た。
融点：１１５−１１８℃
1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） σ：７．４５−７．４０（４Ｈ、ｍ）、７．０３−６．９０（２Ｈ、ｍ）、６．８９−６．８３（２Ｈ、ｍ）、４．７６（１Ｈ、ｓ）、１．３６（９Ｈ、ｓ）．
このように、実施例８における本発明化合物を利用した製造方法は高い収率で非対称な４−ヒドロキシ−４’−アルコキシビフェニル化合物を合成することができる。
Example 8 Synthesis of 4- (4-tert-butoxyphenyl) phenol Under an inert gas atmosphere, 4- (4,4,6-trimethyl-1,3,2-dioxaborinan-2-yl) phenol (1.65 g) , 7.5 mmol), p-tert-butoxychlorobenzene (0.92 g, 5 mmol), bis [4- (N, N-dimethylamino) phenyl] di-tert-butylphosphine palladium dichloride (18 mg, 0.025 mmol), Sodium carbonate (1.06 g, 10 mmol), 6 ml of 1,2-dimethoxyethane and 2 ml of water were stirred at 100 ° C. for 5 hours. As a result of LC analysis, 4- (4-tert-butoxyphenyl) phenol, which is a target white crystal, was obtained in a yield of 97.5%.
Melting point: 115-118 ° C
1 1 HNMR spectrum (CDCl 3 ) σ: 7.45-7.40 (4H, m), 7.03-6.90 (2H, m), 6.89-6.83 (2H, m), 4. 76 (1H, s), 1.36 (9H, s).
As described above, the production method using the compound of the present invention in Example 8 can synthesize an asymmetric 4-hydroxy-4'-alkoxybiphenyl compound in a high yield.
Claims (4)
で表される三級アルコキシフェニルボロン酸エステル。 Equation (2)
Tertiary alkoxyphenylboronic acid ester represented by.
式（４）
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015109743 | 2015-05-29 | ||
| JP2015109743 | 2015-05-29 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016106521A Division JP6616244B2 (en) | 2015-05-29 | 2016-05-27 | Novel hydroxyphenylboronic acid ester and method for producing the same, and method for producing hydroxybiphenyl compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020037572A JP2020037572A (en) | 2020-03-12 |
| JP6797268B2 true JP6797268B2 (en) | 2020-12-09 |
Family
ID=57747479
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016106521A Active JP6616244B2 (en) | 2015-05-29 | 2016-05-27 | Novel hydroxyphenylboronic acid ester and method for producing the same, and method for producing hydroxybiphenyl compound |
| JP2019202118A Active JP6797268B2 (en) | 2015-05-29 | 2019-11-07 | A novel hydroxyphenylboronic acid ester and its production method, and a method for producing a hydroxybiphenyl compound |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016106521A Active JP6616244B2 (en) | 2015-05-29 | 2016-05-27 | Novel hydroxyphenylboronic acid ester and method for producing the same, and method for producing hydroxybiphenyl compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP6616244B2 (en) |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5931135A (en) * | 1982-08-16 | 1984-02-20 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | Mold |
| JP4203192B2 (en) * | 1998-10-26 | 2008-12-24 | 北興化学工業株式会社 | Process for producing nitrophenylphenol compounds |
| JP4350281B2 (en) * | 2000-07-27 | 2009-10-21 | 北興化学工業株式会社 | Process for producing phenylboronic acids and triphenylboroxines |
| JP2003055285A (en) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Hokko Chem Ind Co Ltd | 4-tert-BUTOXY-4'-HALOGENOBIPHENYL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING 4-HALOGENO-4'- HYDROXYBIPHENYL |
| JP4165858B2 (en) * | 2001-10-15 | 2008-10-15 | 北興化学工業株式会社 | tert-Amyloxyhalogenobenzene compound and method for producing the same, tert-amyloxycyanobiphenyl compound and method for producing the same, and method for producing cyanohydroxybiphenyl compound |
| AR044503A1 (en) * | 2003-03-18 | 2005-09-14 | Merck & Co Inc | TRIAZOLS REPLACED WITH BIARILO AS BLOCKERS OF THE SODIUM CHANNEL |
| WO2004113258A1 (en) * | 2003-06-20 | 2004-12-29 | Shionogi & Co., Ltd. | Carbon-carbon bond forming reaction |
| WO2005085227A1 (en) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Smithkline Beecham Corporation | Inhibitors of akt activity |
| US20060178388A1 (en) * | 2005-02-04 | 2006-08-10 | Wrobleski Stephen T | Phenyl-substituted pyrimidine compounds useful as kinase inhibitors |
| GB0602178D0 (en) * | 2006-02-03 | 2006-03-15 | Merck Sharp & Dohme | Therapeutic treatment |
| JP4917332B2 (en) * | 2006-03-03 | 2012-04-18 | エヌ・イーケムキャット株式会社 | Method for generating carbon-carbon bond |
| JP2009527546A (en) * | 2006-03-07 | 2009-07-30 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | Composition for oxidative dyeing of keratin fibers and use of said composition |
| PL2050749T3 (en) * | 2006-08-08 | 2018-03-30 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Pyrimidine derivative as pi3k inhibitor and use thereof |
| TW200831084A (en) * | 2006-11-21 | 2008-08-01 | Genelabs Tech Inc | Anti-viral compounds |
| JP2010083783A (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Sony Corp | Liquid crystal molecule, liquid crystal display device, and liquid crystal spatial light modulation device |
| JP5131772B2 (en) * | 2008-10-31 | 2013-01-30 | 国立大学法人九州大学 | Method for producing vinyl compound |
| NZ601408A (en) * | 2009-12-25 | 2013-12-20 | Mochida Pharm Co Ltd | Novel 3-hydroxy-5-arylisothiazole derivative |
| JP5643121B2 (en) * | 2010-02-18 | 2014-12-17 | 東ソー株式会社 | Method for producing aryl (diolato) boranes |
| JP5699037B2 (en) * | 2011-05-17 | 2015-04-08 | 東ソー株式会社 | Process for producing phenylboronic acid esters |
| US10611964B2 (en) * | 2013-04-25 | 2020-04-07 | Jnc Corporation | Polymerizable compound, polymerizable composition and liquid crystal display device |
| JP6071765B2 (en) * | 2013-06-10 | 2017-02-01 | 富士フイルム株式会社 | Crosslinkers, compositions and compounds |
| JP2016013983A (en) * | 2014-07-01 | 2016-01-28 | 味の素株式会社 | Pharmaceutical composition for treating diabetes |
| CN105254656B (en) * | 2015-11-30 | 2017-03-22 | 陕西师范大学 | Amphipathy BODIPY derivative and preparing method thereof |
-
2016
- 2016-05-27 JP JP2016106521A patent/JP6616244B2/en active Active
-
2019
- 2019-11-07 JP JP2019202118A patent/JP6797268B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6616244B2 (en) | 2019-12-04 |
| JP2016222661A (en) | 2016-12-28 |
| JP2020037572A (en) | 2020-03-12 |
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