JP6781064B2 - Coating device - Google Patents

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Description

本発明は、塗布液を吐出する塗布ユニットと基板とを相対的に移動させて、基板上に塗布膜を形成する塗布装置に関するものである。 The present invention relates to a coating device for forming a coating film on a substrate by relatively moving a coating unit for discharging a coating liquid and a substrate.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等の基板上にレジスト液等の塗布液が塗布されたもの(塗布基板という)が使用されている。この塗布基板は、塗布膜が均一に形成されている必要があり、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。このような塗布装置は、基板を載置するステージと、塗布液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの塗布器から塗布液を吐出させながら、基板と塗布ユニットとを相対的に移動させることにより、基板上に塗布膜が形成されるようになっている。 For flat panel displays such as liquid crystal displays and plasma displays, a substrate such as glass coated with a coating liquid such as a resist liquid (referred to as a coating substrate) is used. The coating substrate needs to be uniformly formed with a coating film, and is formed by a coating device that uniformly applies the coating liquid. Such a coating device has a stage on which the substrate is placed and a coating unit that discharges the coating liquid, and the substrate and the coating unit are relatively relative to each other while discharging the coating liquid from the coating device of the coating unit. A coating film is formed on the substrate by moving the coating film to.

ここで、図6は、従来の塗布器100とビーム部101を示す図である。塗布ユニットの塗布器は、一方向に延びる長尺物であるため、少なからず撓みが生じる虞がある。仮に撓みが生じている場合には、端部と中央部分とでは基板との高さ寸法に差が生じていることにより、塗布膜の均一性が損なわれ塗布品質を下げてしまう結果となる。そのため、図6(a)に示すように、塗布器100は、一方向に延びるビーム部101(ノズル支持部)にボルト102等により強固に連結固定されることにより、塗布器100の撓みの影響を軽減させ、塗布器100と基板10との高さ寸法が長手方向に亘って一定(=t)に保たれている。これにより、塗布器100から塗布液を吐出することにより、塗布液と基板10との吐出状態が塗布器100の長手方向に亘って均一になり、均一厚さの塗布膜が形成されるようになっている。 Here, FIG. 6 is a diagram showing a conventional coating device 100 and a beam portion 101. Since the applicator of the coating unit is a long object extending in one direction, there is a risk of bending to some extent. If bending occurs, there is a difference in the height dimension between the end portion and the central portion with respect to the substrate, which results in impairing the uniformity of the coating film and lowering the coating quality. Therefore, as shown in FIG. 6A, the coater 100 is firmly connected and fixed to the beam portion 101 (nozzle support portion) extending in one direction by a bolt 102 or the like, so that the influence of the deflection of the coater 100 The height dimension of the coating device 100 and the substrate 10 is kept constant (= t) in the longitudinal direction. As a result, by discharging the coating liquid from the coating device 100, the discharge state of the coating liquid and the substrate 10 becomes uniform over the longitudinal direction of the coating device 100, and a coating film having a uniform thickness is formed. It has become.

特開2005−144376号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-144376

しかし、上記塗布装置では、塗布膜が均一厚さに形成されない虞があるという問題があった。すなわち、塗布装置を稼働させて塗布基板を生産すると、外気温の影響や塗布装置自身が発する熱などにより、時間が経つにつれて塗布装置を取り巻く周囲の温度が変化する。それにともなって、塗布器100やビーム部101も周囲の温度の影響を受け、塗布器100とビーム部101は、それぞれ熱膨張することにより、特に長手方向に大きく変形する。ところが、塗布器100は、内部に塗布液を貯留できる部分を有しているがほぼ中実に近い構造である一方で、ビーム部101は、中空に形成されていることから、塗布器100とビーム部101とは、熱による変形の割合がそれぞれ異なっている。すなわち、塗布器100は、ビーム部101に比べて熱容量が大きいため、熱の影響による変形量が小さい。しかしながら、塗布器100とビーム部101とは、塗布品質を維持するためにボルト102で強固に固定されている。その結果、それぞれが熱の影響を受けて変形すると、塗布器100の変形量は、ビーム部101の変形量に比べて小さいため、塗布器100がビーム部101によりその長手方向に引張られることにより、塗布器100が撓み変形を生じる(図6(b))。したがって、塗布装置を稼働させる時間の経過とともに塗布装置を取り巻く温度の変化が生じると塗布器100とビーム部101とが熱の影響で変形することにより、塗布器100と基板10との高さ方向寸法が、長手方向中央部(t2)と端部(t1)とで差が生じ、塗布膜を均一に形成することが困難であるという問題があった。 However, the above-mentioned coating apparatus has a problem that the coating film may not be formed to have a uniform thickness. That is, when the coating apparatus is operated to produce the coating substrate, the ambient temperature surrounding the coating apparatus changes over time due to the influence of the outside air temperature and the heat generated by the coating apparatus itself. Along with this, the coater 100 and the beam section 101 are also affected by the ambient temperature, and the coater 100 and the beam section 101 are respectively thermally expanded, so that the coater 100 and the beam section 101 are greatly deformed particularly in the longitudinal direction. However, although the coating device 100 has a portion capable of storing the coating liquid inside, the structure is almost solid, while the beam portion 101 is formed to be hollow, so that the coating device 100 and the beam are formed. The rate of deformation due to heat is different from that of the part 101. That is, since the coater 100 has a larger heat capacity than the beam portion 101, the amount of deformation due to the influence of heat is small. However, the applicator 100 and the beam portion 101 are firmly fixed by bolts 102 in order to maintain the coating quality. As a result, when each of them is deformed under the influence of heat, the amount of deformation of the coater 100 is smaller than the amount of deformation of the beam portion 101, so that the coater 100 is pulled by the beam portion 101 in the longitudinal direction. , The applicator 100 bends and deforms (FIG. 6 (b)). Therefore, when the temperature surrounding the coating device changes with the passage of time for operating the coating device, the coating device 100 and the beam portion 101 are deformed by the influence of heat, so that the coating device 100 and the substrate 10 are in the height direction. There is a problem that the dimensions are different between the central portion (t2) and the end portion (t1) in the longitudinal direction, and it is difficult to uniformly form the coating film.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、塗布装置を取り巻く温度変化の影響により、塗布器とビーム部とがそれぞれ異なる変形量で変形した場合であっても、塗布膜を均一に形成することができる塗布装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above problems, and even when the coating device and the beam portion are deformed by different amounts of deformation due to the influence of temperature changes surrounding the coating device, the coating film is provided. It is an object of the present invention to provide a coating apparatus capable of uniformly forming.

上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し塗布液を吐出する塗布ユニットと、を備え、前記基板と前記塗布ユニットとを相対的に移動させつつ、前記塗布ユニットから塗布液を吐出させることにより基板上に塗布膜を形成する塗布装置であって、前記塗布ユニットは、一方向に延びる形状を有し塗布液が吐出される塗布器と、一方向に延びる形状を有し前記塗布器を支持するビーム部とを有しており、前記塗布器と前記ビーム部とは、それぞれ互いに対向する状態でほぼ平行に配置されており、かつ、これらが長手方向に相対的に変位するのを許容する連結部によって連結されており、前記塗布器と前記ビーム部とが互いに固定される基準固定部を有しており、前記基準固定部は、前記塗布器及び前記ビーム部の長手方向中央位置に設けられていることを特徴としている。 In order to solve the above problems, the coating apparatus of the present invention includes a stage on which a substrate is placed and a coating unit that discharges a coating liquid onto the substrate mounted on the stage, and includes the substrate and the coating unit. A coating device that forms a coating film on a substrate by discharging a coating liquid from the coating unit while relatively moving the coating unit. The coating unit has a shape extending in one direction and the coating liquid is formed. The coating device to be discharged and a beam portion having a shape extending in one direction and supporting the coating device are provided, and the coating device and the beam portion are arranged substantially in parallel with each other in a state of facing each other. It is connected by a connecting portion that allows these to be relatively displaced in the longitudinal direction, and has a reference fixing portion in which the applicator and the beam portion are fixed to each other. The reference fixing portion is characterized in that it is provided at a central position in the longitudinal direction of the coating device and the beam portion .

上記塗布装置によれば、上記塗布器と上記ビーム部とがそれぞれ長手方向に相対的に変位するのを許容する上記連結部により連結されているため、塗布装置を取り巻く温度の変化が生じることにより上記塗布器と上記ビーム部とが温度変化による変形を生じた場合であっても、塗布膜を均一に形成することができる。具体的には、塗布装置を取り巻く温度が上昇すると、上記塗布器と上記ビーム部とはそれぞれ熱膨張する。すなわち、上記塗布器は、上記ビーム部に比べて熱容量が大きいため、上記ビーム部の方が上記塗布器に比べて長手方向に大きく変形する。しかし、上記塗布器と上記ビーム部とが上記連結部で連結されているため、上記ビーム部が上記塗布器に比べて大きく変形するのが許容され、ビーム部は、塗布器の変形に関わらず自由に長手方向に変形することができる。すなわち、ビーム部が塗布器より変形量に差が生じても、連結部によりビーム部と塗布器との長手方向への変位が許容されるため、ビーム部材の変形が塗布器に歪みとして影響するのを抑えることができる。これにより、ビーム部と塗布器との変形量の差が生じた場合であっても、従来のように、ビーム部と塗布器とが固定されることにより連結される構造に比べて、変形量の差から生じる塗布器の撓み変形を抑えることができる。したがって、塗布器が撓み変形することにより塗布器と基板との距離が不均一になるのを長手方向に亘って抑えることができるため、塗布膜を均一に形成することができる。また、連結部材で連結される塗布器とビーム部とが基準固定部で固定されるため、熱膨張の影響により塗布器とビーム部とに変位量に差が生じても、長手方向にずれることがなく、長手方向における基準位置を維持することができる。また、基準固定部が長手方向中央位置に設けられていることにより、熱膨張の影響による基板と塗布器との相対位置関係のずれを最小限に抑えることができる。 According to the coating device, since the coating device and the beam portion are connected by the connecting portion that allows relative displacement in the longitudinal direction, the temperature surrounding the coating device changes. Even when the coating device and the beam portion are deformed due to a temperature change, the coating film can be uniformly formed. Specifically, when the temperature surrounding the coating device rises, the coating device and the beam portion each thermally expand. That is, since the coater has a larger heat capacity than the beam portion, the beam portion is greatly deformed in the longitudinal direction as compared with the coater. However, since the coater and the beam portion are connected by the connecting portion, the beam portion is allowed to be significantly deformed as compared with the coater, and the beam portion is not related to the deformation of the coater. It can be freely deformed in the longitudinal direction. That is, even if the amount of deformation of the beam portion is different from that of the applicator, the connecting portion allows the beam portion and the applicator to be displaced in the longitudinal direction, so that the deformation of the beam member affects the applicator as distortion. Can be suppressed. As a result, even if there is a difference in the amount of deformation between the beam portion and the applicator, the amount of deformation is compared with the conventional structure in which the beam portion and the applicator are connected by being fixed. It is possible to suppress the bending deformation of the applicator caused by the difference between the two. Therefore, it is possible to prevent the distance between the coating device and the substrate from becoming non-uniform due to bending and deformation of the coating device over the longitudinal direction, so that the coating film can be formed uniformly. Also, since the applicator and the beam portion which is connected by the connecting member is fixed at the reference fixing part, it is a difference in the amount of displacement in the applicator and the beam portion due to the influence of thermal expansion occurs and displaced in the longitudinal direction The reference position in the longitudinal direction can be maintained without any problem. Further, since the reference fixing portion is provided at the center position in the longitudinal direction, it is possible to minimize the deviation of the relative positional relationship between the substrate and the applicator due to the influence of thermal expansion.

また、前記連結部は、前記塗布器と前記ビーム部とは別体に形成されたガイド部材であり、このガイド部材が塗布器及びビーム部それぞれの長手方向に変位する構成としてもよい。 Further, the connecting portion is a guide member formed separately from the applicator and the beam portion, and the guide member may be configured to be displaced in the longitudinal direction of each of the applicator and the beam portion.

この構成によれば、連結部材としてLMガイドを使用し、容易に構成することができる。 According to this configuration, an LM guide can be used as a connecting member and can be easily configured.

また、上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し塗布液を吐出する塗布ユニットと、を備え、前記基板と前記塗布ユニットとを相対的に移動させつつ、前記塗布ユニットから塗布液を吐出させることにより基板上に塗布膜を形成する塗布装置であって、前記塗布ユニットは、一方向に延びる形状を有し塗布液が吐出される塗布器と、一方向に延びる形状を有し前記塗布器を支持するビーム部とを有しており、前記塗布器と前記ビーム部とは、それぞれ互いに対向する状態でほぼ平行に配置されており、かつ、これらが長手方向に相対的に変位するのを許容する連結部によって連結されており、前記塗布ユニットは、前記塗布器の長手方向に沿って延びるステー部を有しており、前記ステー部は、前記塗布器が塗布動作の際に移動する塗布方向に並べて配置され、前記ステー部と前記塗布器は、前記塗布器が長手方向に相対的に変位することが許容され、前記塗布器が塗布方向に相対的に変位することが制限される振動抑制保持部で連結されていることを特徴としている。
Further, in order to solve the above problems, the coating apparatus of the present invention includes a stage on which a substrate is placed and a coating unit that discharges a coating liquid onto the substrate mounted on the stage, and includes the substrate and the coating device. A coating device that forms a coating film on a substrate by discharging a coating liquid from the coating unit while relatively moving the coating unit. The coating unit has a shape extending in one direction and is coated. It has an applicator that discharges liquid and a beam portion that has a shape extending in one direction and supports the applicator, and the applicator and the beam portion are substantially parallel to each other in a state of facing each other. The coating unit has a stay portion extending along the longitudinal direction of the applicator, which is arranged in and is connected by a connecting portion that allows them to be displaced relative to the longitudinal direction. The stay portions are arranged side by side in the coating direction in which the coating device moves during the coating operation, and the stay portion and the coating device allow the coating device to be relatively displaced in the longitudinal direction. The coating device is connected by a vibration suppression holding portion that is restricted from being displaced relative to the coating direction .

この構成によれば、塗布方向から塗布器に沿って配置されるステー部と、塗布器とが振動抑制保持部で連結されるため、塗布動作の際、塗布方向への移動に伴って塗布器に発生する振動を抑えることができる。すなわち、塗布器とビーム部とが上述の連結部により連結されると、塗布器とビーム部とが完全に固定される場合に比べて拘束力が低下する。そのため、塗布動作の際の塗布方向への移動に伴って塗布器に振動が発生しやすくなるが、ステー部と、塗布器とが前記塗布器が長手方向に相対的に変位することが許容され、前記塗布器が塗布方向に相対的に変位することが制限される振動抑制保持部で連結されることにより塗布器に発生する振動を効果的に抑えることができる。なお、塗布器とステー部とは、長手方向に相対的変位が許容される状態で連結されるため、連結部による長手方向の変位を妨げることなく、振動を抑えることができる。 According to this configuration, the stay portion arranged along the coating device from the coating direction and the coating device are connected by the vibration suppression holding portion, so that the coating device moves with the movement in the coating direction during the coating operation. It is possible to suppress the vibration generated in. That is, when the applicator and the beam portion are connected by the above-mentioned connecting portion, the binding force is reduced as compared with the case where the applicator and the beam portion are completely fixed. Therefore, vibration is likely to occur in the applicator as it moves in the coating direction during the coating operation, but the stay portion and the applicator are allowed to be relatively displaced in the longitudinal direction. By connecting the applicator with a vibration suppression holding portion that is restricted from being displaced relative to the coating direction, vibration generated in the applicator can be effectively suppressed. Since the applicator and the stay portion are connected in a state where relative displacement in the longitudinal direction is allowed, vibration can be suppressed without hindering the displacement in the longitudinal direction by the connecting portion.

本発明の塗布装置によれば、塗布装置を取り巻く温度変化の影響により、塗布器とビーム部とがそれぞれ異なる変形量で変形した場合であっても、塗布膜を均一に形成することができる。 According to the coating device of the present invention, the coating film can be uniformly formed even when the coating device and the beam portion are deformed by different amounts of deformation due to the influence of the temperature change surrounding the coating device.

本発明の塗布装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the coating apparatus of this invention. 塗布ユニットの脚部付近を示す図である。It is a figure which shows the vicinity of the leg part of a coating unit. 塗布ユニットの要部を側面側から見た概略図である。It is the schematic which looked at the main part of the coating unit from the side surface side. 塗布器とビーム部を塗布方向側から見た概略図であり、(a)は熱の影響を受ける前の状態を示す図であり、(b)は熱の影響を受けた後の状態を示す図である。It is a schematic view of the coater and the beam part viewed from the coating direction side, (a) is a diagram showing a state before being affected by heat, and (b) is a state after being affected by heat. It is a figure. 塗布器とステー部を上側から見た概略図であり、(a)は熱の影響を受ける前の状態を示す図であり、(b)は熱の影響を受けた後の状態を示す図である。It is a schematic view of the coater and the stay part viewed from above, (a) is a diagram showing a state before being affected by heat, and (b) is a diagram showing a state after being affected by heat. is there. 従来の塗布器とビーム部を塗布方向側から見た概略図であり、(a)は熱の影響を受ける前状態を示す図であり、(b)は熱の影響を受けた後の状態を示す図である。It is a schematic view of a conventional coating device and a beam part viewed from the coating direction side, (a) is a diagram showing a state before being affected by heat, and (b) is a state after being affected by heat. It is a figure which shows.

次に、本発明の塗布装置について詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態における塗布装置を概略的に示す斜視図であり、図2は、塗布ユニットの脚部付近を示す図であり、図3は、塗布ユニットの要部を側面側から見た概略図である。 Next, the coating apparatus of the present invention will be described in detail. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a coating device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view showing the vicinity of a leg portion of the coating unit, and FIG. 3 is a side view of a main part of the coating unit. It is a schematic view seen from the side.

図1〜図3に示すように、塗布装置は、基板10上に薬液やレジスト液等の液状物(以下、塗布液と称す)の塗布膜を形成するものであり、基台2と、基板10を載置するためのステージ21と、このステージ21に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット30とを備えている。 As shown in FIGS. 1 to 3, the coating apparatus forms a coating film of a liquid substance (hereinafter referred to as a coating liquid) such as a chemical solution or a resist solution on the substrate 10, and forms a base 2 and a substrate. A stage 21 on which the 10 is placed and a coating unit 30 configured to be movable in a specific direction with respect to the stage 21 are provided.

なお、以下の説明では、塗布ユニット30が移動する方向(塗布方向)をX軸方向、これと水平面上で直交する方向をY軸方向、X軸およびY軸方向の双方に直交する方向をZ軸方向として説明を進めることとする。 In the following description, the direction in which the coating unit 30 moves (coating direction) is the X-axis direction, the direction orthogonal to this in the horizontal plane is the Y-axis direction, and the direction orthogonal to both the X-axis and the Y-axis direction is Z. The explanation will proceed as the axial direction.

前記基台2には、その中央部分にステージ21が配置されている。このステージ21は、搬入された基板10を載置するものである。このステージ21には、基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板10が保持されるようになっている。具体的には、ステージ21の表面には、複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板10をステージ21の表面に吸着させて保持できるようになっている。 A stage 21 is arranged in the central portion of the base 2. The stage 21 is for mounting the carried-in substrate 10. The stage 21 is provided with a substrate holding means, and the substrate 10 is held by the substrate holding means. Specifically, a plurality of suction holes are formed on the surface of the stage 21, and by generating a suction force in the suction holes, the substrate 10 can be attracted to and held on the surface of the stage 21. There is.

また、ステージ21には、基板10を昇降動作させる基板昇降機構が設けられている。具体的には、ステージ21の表面には上記吸引孔とは別に複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはZ軸方向に昇降動作可能なリフトピン(不図示)が埋設されている。すなわち、ステージ21の表面からリフトピンを突出させた状態で基板10が搬入されるとリフトピンの先端部分に基板10を当接させて基板10を保持することができる。そして、その状態からリフトピンを下降させてピン孔に収容させることにより、基板10をステージ21の表面に載置することができるようになっている。 Further, the stage 21 is provided with a substrate elevating mechanism for elevating and lowering the substrate 10. Specifically, a plurality of pin holes are formed on the surface of the stage 21 in addition to the suction holes, and lift pins (not shown) capable of raising and lowering in the Z-axis direction are embedded in the pin holes. .. That is, when the substrate 10 is carried in with the lift pin protruding from the surface of the stage 21, the substrate 10 can be brought into contact with the tip portion of the lift pin to hold the substrate 10. Then, by lowering the lift pin from that state and accommodating it in the pin hole, the substrate 10 can be placed on the surface of the stage 21.

また、塗布ユニット30は、基板10上に塗布液を吐出するものである。具体的には、後述する塗布器34から塗布液を吐出することにより、基板10上に均一厚さの塗布膜が形成できるようになっている。すなわち、基板10に所定量の塗布液を吐出し、基板10と塗布器34のスリットノズル34aとが塗布液で連結される状態を形成し、その後、塗布器34を一定速度で走行させることにより、基板10上に一定膜厚の塗布膜を形成することができる。 Further, the coating unit 30 discharges the coating liquid onto the substrate 10. Specifically, a coating film having a uniform thickness can be formed on the substrate 10 by discharging the coating liquid from the coating device 34 described later. That is, a predetermined amount of the coating liquid is discharged to the substrate 10, a state in which the substrate 10 and the slit nozzle 34a of the coating device 34 are connected by the coating liquid is formed, and then the coating device 34 is run at a constant speed. , A coating film having a constant film thickness can be formed on the substrate 10.

この塗布ユニット30は、図2、図3に示すように、脚部31と塗布器34を支持するビーム部39を有しており、これらが門型形状を有するように基台2に取付けられている。すなわち、両脚部31にビーム部39がステージ21をY軸方向に跨ぐ状態で取付けられている。そして、脚部31は、X軸方向に移動可能に取り付けられており、脚部31が移動することにより、ビーム部39がステージ21上を走査できるようになっている。具体的には、基台2のY軸方向両端部分にはそれぞれX軸方向に延びるレール22が設置されており、脚部31がこのレール22にスライド自在に取り付けられている。そして、脚部31にはリニアモータ33が取り付けられており、このリニアモータ33を駆動制御することにより、ビーム部39は塗布器34がステージ21と対向する状態でX軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。なお、塗布装置には、リニアモータやサーボモータなどの駆動装置を統括的に制御する制御装置を有しており、これらの駆動装置が制御装置を通じて駆動制御されるようになっている。 As shown in FIGS. 2 and 3, the coating unit 30 has a leg portion 31 and a beam portion 39 for supporting the coating device 34, and these are attached to the base 2 so as to have a portal shape. ing. That is, the beam portions 39 are attached to both leg portions 31 so as to straddle the stage 21 in the Y-axis direction. The leg portion 31 is attached so as to be movable in the X-axis direction, and the beam portion 39 can scan on the stage 21 by moving the leg portion 31. Specifically, rails 22 extending in the X-axis direction are installed at both ends of the base 2 in the Y-axis direction, and the legs 31 are slidably attached to the rails 22. A linear motor 33 is attached to the leg portion 31, and by driving and controlling the linear motor 33, the beam portion 39 moves in the X-axis direction with the coater 34 facing the stage 21, which is arbitrary. It is possible to stop at the position of. The coating device has a control device that comprehensively controls a drive device such as a linear motor or a servo motor, and these drive devices are driven and controlled through the control device.

また、ビーム部39は、塗布器34が撓み変形を生じるのを抑えることにより、塗布器34のスリットと基板との距離が長手方向において一定となるように支持するものである。このビーム部39は、塗布器34に対して互いに対向する状態でほぼ平行に配置されて連結されている。具体的には、ビーム部39と塗布器34との間には、基準固定部42(図4、図5参照)と、連結部40が配置されており、後述するようにこれら基準固定部42と連結部40とによって塗布器34が水平な姿勢を維持する状態で連結されている。そして、このビーム部39は、金属製の角パイプ形状で形成されており、塗布器34を一方向に延びる姿勢を維持するのに十分な支持強度を有しつつ、軽量化が図られている。 Further, the beam portion 39 supports the coating device 34 so that the distance between the slit of the coating device 34 and the substrate becomes constant in the longitudinal direction by suppressing the bending deformation of the coating device 34. The beam portions 39 are arranged and connected substantially in parallel with respect to the applicator 34 in a state of facing each other. Specifically, a reference fixing portion 42 (see FIGS. 4 and 5) and a connecting portion 40 are arranged between the beam portion 39 and the applicator 34, and these reference fixing portions 42 are described later. And the connecting portion 40 connect the applicator 34 in a state of maintaining a horizontal posture. The beam portion 39 is formed in the shape of a metal square pipe, and is lightweight while having sufficient supporting strength to maintain a posture in which the applicator 34 extends in one direction. ..

また、ビーム部39の長手方向端部は、Y軸方向両端部に配置された両脚部31にそれぞれ取付けられており、取付けられた状態では塗布器34が長手方向に亘って同一高さとなるように配置されている。すなわち、ビーム部39に支持される塗布器34とステージ21との距離が長手方向に亘って同一になるように配置されている。 Further, the longitudinal end portions of the beam portion 39 are attached to both leg portions 31 arranged at both ends in the Y-axis direction, so that the applicator 34 has the same height in the longitudinal direction in the attached state. Is located in. That is, they are arranged so that the distance between the coater 34 supported by the beam portion 39 and the stage 21 is the same in the longitudinal direction.

また、ビーム部39は、脚部31に昇降動作可能に取付けられている。具体的には、この脚部31にはZ軸方向に延びるレール37と、このレール37に沿ってスライドするスライダ35が設けられており、これらのスライダ35とビーム部39とが連結されている。そして、スライダ35にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ35がZ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。すなわち、塗布器34が、ステージ21に保持された基板10に対して接離可能に支持されている。 Further, the beam portion 39 is attached to the leg portion 31 so as to be able to move up and down. Specifically, the leg portion 31 is provided with a rail 37 extending in the Z-axis direction and a slider 35 that slides along the rail 37, and these sliders 35 and the beam portion 39 are connected to each other. .. A ball screw mechanism driven by a servomotor is attached to the slider 35, and by driving and controlling this servomotor, the slider 35 can move in the Z-axis direction and can be stopped at an arbitrary position. It has become. That is, the applicator 34 is supported in contact with and detachable from the substrate 10 held by the stage 21.

また、塗布器34は、塗布液を吐出して基板10上に塗布膜を形成するものである。この塗布器34は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、長手方向がY軸方向に沿う状態で設けられている。この塗布器34には、長手方向に延びるスリットノズル34aが形成されており、塗布器34に供給された塗布液がスリットノズル34aから長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル34aから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット30をX軸方向に走行させることにより、スリットノズル34aの長手方向に亘って基板10上に一定厚さの塗布膜が形成されるようになっている。 Further, the coating device 34 discharges the coating liquid to form a coating film on the substrate 10. The coater 34 is a columnar member having a shape extending in one direction, and is provided in a state in which the longitudinal direction is along the Y-axis direction. A slit nozzle 34a extending in the longitudinal direction is formed in the coating device 34, and the coating liquid supplied to the coating device 34 is uniformly discharged from the slit nozzle 34a in the longitudinal direction. .. Therefore, by running the coating unit 30 in the X-axis direction in a state where the coating liquid is discharged from the slit nozzle 34a, a coating film having a constant thickness is formed on the substrate 10 over the longitudinal direction of the slit nozzle 34a. It has become so.

ここで、塗布器34とビーム部39は、塗布器34とビーム部39を互いに固定する基準固定部42と、これらを長手方向に相対的に変位するのを許容した状態で連結する連結部40によって固定されている。 Here, the applicator 34 and the beam portion 39 are connected to a reference fixing portion 42 that fixes the applicator 34 and the beam portion 39 to each other and a connecting portion 40 that connects them in a state where they are allowed to be relatively displaced in the longitudinal direction. Is fixed by.

基準固定部42は、塗布器34とビーム部39との間に配置されるスペーサ42aとビーム部39と塗布器34とを連結するボルト42bとで構成されており、ボルト42bで締結することにより塗布器34とビーム部39とが所定の間隔を維持した状態で固定されるようになっている。すなわち、この基準固定部42により、塗布器34とビーム部39とがY軸方向に対して位置決めされるようになっている。 The reference fixing portion 42 is composed of a spacer 42a arranged between the applicator 34 and the beam portion 39 and a bolt 42b connecting the beam portion 39 and the applicator 34, and is fastened with the bolt 42b. The applicator 34 and the beam portion 39 are fixed in a state of maintaining a predetermined interval. That is, the reference fixing portion 42 positions the coating device 34 and the beam portion 39 in the Y-axis direction.

また、連結部40は、塗布器34とビーム部39とが長手方向に相対的に変位するのを許容した状態で連結するものである。本実施形態の連結部40はLMガイド41であり、塗布器34とビーム部39との間に複数個のLMガイド41が介在されることによって連結されている。具体的には、図2、図3に示すように、塗布器34とビーム部39との間には、基準固定部42を基準として長手方向に沿って等間隔に配置された複数個のLMガイド41が2列配置されている。そして、これらのLMガイド41のスライド方向が塗布器34及びビーム部39の長手方向に沿った状態で配列されている。これにより、塗布器34とビーム部39とが長手方向に相対的に変位しようとすると、LMガイド41が長手方向にスライドすることにより、塗布器34とビーム部39とが相対的に長手方向に相対的に変位することが許容されるようになっている。 Further, the connecting portion 40 connects the coating device 34 and the beam portion 39 in a state where they are allowed to be relatively displaced in the longitudinal direction. The connecting portion 40 of the present embodiment is an LM guide 41, and is connected by interposing a plurality of LM guides 41 between the coating device 34 and the beam portion 39. Specifically, as shown in FIGS. 2 and 3, a plurality of LMs arranged at equal intervals along the longitudinal direction with the reference fixing portion 42 as a reference between the coating device 34 and the beam portion 39. Two rows of guides 41 are arranged. The sliding directions of these LM guides 41 are arranged along the longitudinal directions of the applicator 34 and the beam portion 39. As a result, when the applicator 34 and the beam portion 39 try to be displaced relatively in the longitudinal direction, the LM guide 41 slides in the longitudinal direction, so that the applicator 34 and the beam portion 39 are relatively displaced in the longitudinal direction. It is now allowed to be relatively displaced.

これにより、本実施形態の塗布装置では、塗布装置を取り巻く周囲の温度に変化が生じた場合であっても、塗布ムラを抑えることができる。ここで、図4は、塗布器34とビーム部49を塗布方向側(X軸方向側)から見た概略図であり、(a)は熱の影響を受ける前の状態を示す図であり、(b)は熱の影響を受けた後の状態を示す図である。 As a result, in the coating apparatus of the present embodiment, coating unevenness can be suppressed even when the ambient temperature surrounding the coating apparatus changes. Here, FIG. 4 is a schematic view of the coating device 34 and the beam portion 49 viewed from the coating direction side (X-axis direction side), and FIG. 4A is a diagram showing a state before being affected by heat. (B) is a figure which shows the state after being influenced by heat.

この塗布装置を稼働させる前の状態では、図4(a)に示すように、塗布器34とビーム部39とがほぼ平行に配置されており、塗布器34と基板10との距離は、長手方向に亘って一定(=t)に保たれている。そして、塗布装置を稼働させて基板10上に塗布膜が形成された塗布基板が形成されると、外気温の影響や塗布装置自身が発する熱などにより、塗布装置を取り巻く周囲の温度が上昇する。周囲の温度が上昇すると、塗布装置全体が熱の影響を受けることにより、塗布器34とビーム部39とが熱膨張し、塗布器34とビーム部39とは共に長手方向寸法が大きく変化する。具体的には、塗布器34とビーム部39とは、熱容量の違いから熱膨張率が異なっており、熱容量の大きい塗布器34に比べて熱容量の小さいビーム部39の方が長手方向に大きく変位する。すなわち、塗布器34とビーム部39とは、相対的に長手方向への変位量が異なるように変形する(図4(b))。ところが、塗布器34とビーム部39は、長手方向中央位置で基準固定部42で連結されているため、この基準固定部42を基準にそれぞれ変位量が異なるように変形する。すなわち、ビーム部39は、基準固定部42を基準にY軸方向に大きく伸び、塗布器34は、基準固定部42を基準にY軸方向にビーム部39の伸び量よりも小さく伸びる。ここで、塗布器34とビーム部39との間にLMガイド41(連結部40)が設けられているため、塗布器34とビーム部39の長手方向への相対的な変位が許容され、ビーム部39は、塗布器34に対して相対的に負荷なく変形することができる。すなわち、ビーム部39が塗布器34よりも長手方向に大きく変形しても、塗布器34は、ビーム部39の相対的な変形の影響を受けず、塗布器34と基板との距離は長手方向に亘って一定(=t)に保たれる。したがって、塗布装置の周囲の温度変化が生じた場合であっても、塗布器34と基板との距離が長手方向に亘って一定に維持されるため、塗布液の吐出が安定して行われ、塗布器34の撓みの影響による塗布ムラを防止することができる。 In the state before operating this coating device, as shown in FIG. 4A, the coating device 34 and the beam portion 39 are arranged substantially in parallel, and the distance between the coating device 34 and the substrate 10 is long. It is kept constant (= t) over the direction. Then, when the coating board on which the coating film is formed is formed by operating the coating device, the ambient temperature surrounding the coating device rises due to the influence of the outside air temperature and the heat generated by the coating device itself. .. When the ambient temperature rises, the entire coating apparatus is affected by heat, so that the coating device 34 and the beam portion 39 thermally expand, and the longitudinal dimensions of both the coating device 34 and the beam portion 39 change significantly. Specifically, the coefficient of thermal expansion differs between the coater 34 and the beam portion 39 due to the difference in heat capacity, and the beam portion 39 having a smaller heat capacity is displaced more in the longitudinal direction than the coater 34 having a larger heat capacity. To do. That is, the applicator 34 and the beam portion 39 are deformed so that the amount of displacement in the longitudinal direction is relatively different (FIG. 4 (b)). However, since the applicator 34 and the beam portion 39 are connected by the reference fixing portion 42 at the central position in the longitudinal direction, the coating device 34 and the beam portion 39 are deformed so as to have different displacements with respect to the reference fixing portion 42. That is, the beam portion 39 extends significantly in the Y-axis direction with reference to the reference fixing portion 42, and the applicator 34 extends smaller than the elongation amount of the beam portion 39 in the Y-axis direction with reference to the reference fixing portion 42. Here, since the LM guide 41 (connecting portion 40) is provided between the applicator 34 and the beam portion 39, the relative displacement of the applicator 34 and the beam portion 39 in the longitudinal direction is allowed, and the beam is allowed. The portion 39 can be deformed relatively without a load with respect to the applicator 34. That is, even if the beam portion 39 is deformed more in the longitudinal direction than the applicator 34, the applicator 34 is not affected by the relative deformation of the beam portion 39, and the distance between the applicator 34 and the substrate is in the longitudinal direction. It is kept constant (= t) over the period. Therefore, even when the temperature around the coating device changes, the distance between the coating device 34 and the substrate is maintained constant over the longitudinal direction, so that the coating liquid is stably discharged. It is possible to prevent coating unevenness due to the influence of bending of the coating device 34.

なお、上記実施形態では、連結部40にLMガイド41を使用する実施形態について説明したが、LMガイド41によらず、塗布器34とビーム部39とが相対的に変位するのを許容するガイド部材を使用するものであってもよい。 In the above embodiment, the embodiment in which the LM guide 41 is used for the connecting portion 40 has been described, but the guide that allows the applicator 34 and the beam portion 39 to be relatively displaced regardless of the LM guide 41. A member may be used.

また、塗布ユニット30には、振動抑制保持ユニット50が設けられている。この振動抑制保持ユニット50は、塗布器34が振動するのを抑えるためのものである。すなわち、上述の通り、塗布器34がビーム部39と長手方向中央位置で基準固定部42で固定されており、それ以外の部分でLMガイド41で連結されているため、塗布動作の際に塗布ユニット30が塗布方向(X軸方向)に走行すると、塗布器34に基準固定部42を基準として振動が発生しやすくなる。すなわち、塗布ユニット30が走行することにより、塗布器34は、基準固定部42を基準として、Y軸方向両端部分で振幅が大きくなることによりX軸方向に振動しやすくなる。振動抑制保持ユニット50は、この振動を抑えるためのものである。具体的には、振動抑制保持ユニット50は、ステー部51と、このステー部51に取り付けられる振動抑制保持部52とで形成されている。 Further, the coating unit 30 is provided with a vibration suppression holding unit 50. The vibration suppression holding unit 50 is for suppressing the applicator 34 from vibrating. That is, as described above, since the applicator 34 is fixed to the beam portion 39 at the center position in the longitudinal direction by the reference fixing portion 42 and is connected to the other portion by the LM guide 41, it is applied during the coating operation. When the unit 30 travels in the coating direction (X-axis direction), vibration is likely to occur in the coating device 34 with reference to the reference fixing portion 42. That is, as the coating unit 30 travels, the coating device 34 tends to vibrate in the X-axis direction by increasing the amplitude at both ends in the Y-axis direction with reference to the reference fixing portion 42. The vibration suppression holding unit 50 is for suppressing this vibration. Specifically, the vibration suppression holding unit 50 is formed by a stay portion 51 and a vibration suppression holding portion 52 attached to the stay portion 51.

ステー部51は、振動抑制保持部52を支持するものであり、図2、図3に示すように、剛性をもった一方向に延びる平板部材である。ステー部51は、その長手方向端部が脚部31に取り付けられており、ビーム部39と同様にステージ21をY軸方向に跨ぐ状態で取り付けられている。本実施形態では、図3に示すように、塗布器34に対して塗布方向に隣り合う位置にY軸方向に延びるように取り付けられている。すなわち、ステー部51は、塗布器34と平行に並んだ状態で脚部31の間に配置されている。したがって、脚部31が移動することにより、ステー部51も塗布器34との位置関係を維持した状態でX軸方向に移動できるようになっている。 The stay portion 51 supports the vibration suppression holding portion 52, and is a rigid flat plate member extending in one direction as shown in FIGS. 2 and 3. The stay portion 51 has its longitudinal end attached to the leg portion 31, and is attached so as to straddle the stage 21 in the Y-axis direction in the same manner as the beam portion 39. In the present embodiment, as shown in FIG. 3, the applicator 34 is attached to a position adjacent to the applicator 34 so as to extend in the Y-axis direction. That is, the stay portion 51 is arranged between the leg portions 31 in a state of being arranged in parallel with the applicator 34. Therefore, by moving the leg portion 31, the stay portion 51 can also move in the X-axis direction while maintaining the positional relationship with the applicator 34.

また、ステー部51は、昇降動作可能に取り付けられている。本実施形態では、ビーム部39が連結されるスライダ35に連結されている。したがって、サーボモータを駆動制御することにより、ビーム部39と同調して昇降動作し、塗布器34との位置関係を維持した状態で昇降動作できるようになっている。 Further, the stay portion 51 is attached so as to be able to move up and down. In this embodiment, the beam unit 39 is connected to the slider 35 to which the beam unit 39 is connected. Therefore, by driving and controlling the servomotor, the servomotor can be moved up and down in synchronization with the beam unit 39, and can be moved up and down while maintaining the positional relationship with the applicator 34.

また、ステー部51には、その長手方向両端部に振動抑制保持部52が取り付けられている。この振動抑制保持部52は、図3、図5に示すように、ステー部51に取り付けられるLMガイド52aと、このLMガイド52aに連結され塗布器34に固定されるブラケット部52bとで形成されている。 Further, the stay portion 51 is provided with vibration suppression holding portions 52 at both ends in the longitudinal direction thereof. As shown in FIGS. 3 and 5, the vibration suppression holding portion 52 is formed by an LM guide 52a attached to the stay portion 51 and a bracket portion 52b connected to the LM guide 52a and fixed to the applicator 34. ing.

LMガイド52aは、ステー部51の両端部分にそれぞれ取り付けられており、Y軸方向に延びるように取り付けられている。具体的には、一方向に延びるレール部52a1がY軸方向に延びる姿勢で取り付けられており、このレール部52a1上をスライド部52a2が移動するように取り付けられている。 The LM guides 52a are attached to both ends of the stay portion 51, respectively, and are attached so as to extend in the Y-axis direction. Specifically, the rail portion 52a1 extending in one direction is attached in a posture extending in the Y-axis direction, and the slide portion 52a2 is attached so as to move on the rail portion 52a1.

ブラケット部52bは、L字型の形状を有しており、一方端部がスライド部52a2に固定されている。具体的には、図5に示すように、ブラケット部52bは、ブラケット部52bの一方端部がY軸方向に延びる状態でスライド部52a2に固定され、他方端部がスライド部52a2に連結された部分からX軸方向に延びる姿勢で取り付けられている。すなわち、ブラケット部52bは、スライド部52a2と共にY軸方向に移動可能に取り付けられている。そして、ブラケット部52bの他方端部は、塗布器34の長手方向に直交する側面部34bに当接し、ブラケット部52bと塗布器34とがボルト53で締結されて固定されている。そのため、ブラケット部52bは、塗布器34が長手方向に変位しようとすると、ブラケット部52bがレール部52a1上を移動することにより塗布器34の長手方向変位を許容する。一方、塗布器がX軸方向(塗布方向)に変位しようとしてもLMガイド52aの移動方向と直交する方向に変位することになり塗布器34のX軸方向変位を制限する。すなわち、本実施形態では、塗布器34が基準固定部42でビーム部39に固定されているため、ブラケット部52bは、塗布器34がビーム部39に対して長手方向に相対的に変位することを許容し、前記塗布器がビーム部39に対して塗布方向に相対的に変位することを制限することができる。 The bracket portion 52b has an L-shaped shape, and one end thereof is fixed to the slide portion 52a2. Specifically, as shown in FIG. 5, the bracket portion 52b is fixed to the slide portion 52a2 with one end of the bracket portion 52b extending in the Y-axis direction, and the other end is connected to the slide portion 52a2. It is attached in a posture extending from the portion in the X-axis direction. That is, the bracket portion 52b is movably attached together with the slide portion 52a2 in the Y-axis direction. The other end of the bracket portion 52b is in contact with the side surface portion 34b orthogonal to the longitudinal direction of the applicator 34, and the bracket portion 52b and the applicator 34 are fastened and fixed by bolts 53. Therefore, when the applicator 34 tries to be displaced in the longitudinal direction, the bracket portion 52b allows the applicator 34 to be displaced in the longitudinal direction by moving the bracket portion 52b on the rail portion 52a1. On the other hand, even if the applicator tries to be displaced in the X-axis direction (coating direction), it is displaced in the direction orthogonal to the moving direction of the LM guide 52a, which limits the displacement of the applicator 34 in the X-axis direction. That is, in the present embodiment, since the applicator 34 is fixed to the beam portion 39 by the reference fixing portion 42, the bracket portion 52b is such that the applicator 34 is displaced relative to the beam portion 39 in the longitudinal direction. It is possible to limit the displacement of the applicator relative to the beam portion 39 in the coating direction.

この振動抑制保持ユニット50により、塗布器34の振動が抑制される。すなわち、塗布工程において塗布ユニット30が塗布方向に走行すると、塗布器34がビーム部39に対して基準固定部42で固定されているため、塗布器34は、その長手方向両端部が走行に伴って振動しようとする。ところが、振動抑制保持部52のブラケット部52bと塗布器34の側面部34bとがボルト53で締結されていることにより、塗布器34の振動(X軸方向の振動)が振動抑制保持ユニット50により抑えられる(図5(a)参照)。一方、上述の通り、塗布装置全体が熱の影響を受けることにより、塗布器34とビーム部39とが熱膨張することにより、ビーム部39及び塗布器34は、熱容量の違いから異なる変位量で長手方向に相対的に変位するが、塗布器34と振動抑制保持部52とがLMガイド52aで連結されているため、塗布器34とビーム部39とが長手方向に相対的に変位することが許容される(図5(b)参照)。したがって、塗布装置全体が熱の影響を受けた場合であっても、塗布器34とビーム部39との連結部40による長手方向の相対的変位を妨げることなく、振動を抑えることができる。 The vibration suppression holding unit 50 suppresses the vibration of the applicator 34. That is, when the coating unit 30 travels in the coating direction in the coating step, the coating device 34 is fixed to the beam portion 39 by the reference fixing portion 42, so that both ends of the coating device 34 in the longitudinal direction accompany the traveling. Try to vibrate. However, since the bracket portion 52b of the vibration suppression holding portion 52 and the side surface portion 34b of the coating device 34 are fastened with bolts 53, the vibration of the coating device 34 (vibration in the X-axis direction) is caused by the vibration suppression holding unit 50. It can be suppressed (see FIG. 5 (a)). On the other hand, as described above, since the entire coating device is affected by heat, the coating device 34 and the beam section 39 thermally expand, so that the beam section 39 and the coating device 34 have different displacement amounts due to the difference in heat capacity. Although it is displaced relatively in the longitudinal direction, since the applicator 34 and the vibration suppression holding portion 52 are connected by the LM guide 52a, the applicator 34 and the beam portion 39 may be relatively displaced in the longitudinal direction. It is acceptable (see FIG. 5 (b)). Therefore, even when the entire coating device is affected by heat, vibration can be suppressed without hindering the relative displacement in the longitudinal direction by the connecting portion 40 between the coating device 34 and the beam portion 39.

なお、上記実施形態では、連結部40が塗布器34とビーム部39とを連結する別部材を使用する例について説明したが、塗布器34又はビーム部39に他方を嵌合する嵌合溝を設けるものであってもよい。具体的には、塗布器34又はビーム部39の一方側に、Y軸方向に延びる溝を形成し、他方側に当該溝に嵌合する突起部を形成する。すなわち、溝と突起部とが嵌合した状態では、それぞれY軸方向にスライド可能に固定される。このような構成であっても、周囲の温度が変化することにより、塗布器34とビーム部39とが長手方向に相対的に変位してもY軸方向(長手方向)に変形するのが許容される。 In the above embodiment, an example in which the connecting portion 40 uses another member for connecting the applicator 34 and the beam portion 39 has been described, but a fitting groove for fitting the other to the applicator 34 or the beam portion 39 is provided. It may be provided. Specifically, a groove extending in the Y-axis direction is formed on one side of the applicator 34 or the beam portion 39, and a protrusion fitting the groove is formed on the other side. That is, in the state where the groove and the protrusion are fitted, they are fixed so as to be slidable in the Y-axis direction. Even with such a configuration, it is permissible for the applicator 34 and the beam portion 39 to be deformed in the Y-axis direction (longitudinal direction) even if they are relatively displaced in the longitudinal direction due to changes in the ambient temperature. Will be done.

10 基板
21 ステージ
30 塗布ユニット
34 塗布器
34a スリットノズル
39 ビーム部
42 基準固定部
50 振動抑制保持ユニット
51 ステー部
52 振動抑制保持部
90 制御装置
10 Substrate 21 Stage 30 Coating unit 34 Coating device 34a Slit nozzle 39 Beam part 42 Reference fixing part 50 Vibration suppression holding unit 51 Stay part 52 Vibration suppression holding part 90 Control device

Claims (3)

基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された基板に対し塗布液を吐出する塗布ユニットと、
を備え、前記基板と前記塗布ユニットとを相対的に移動させつつ、前記塗布ユニットから塗布液を吐出させることにより基板上に塗布膜を形成する塗布装置であって、
前記塗布ユニットは、一方向に延びる形状を有し塗布液が吐出される塗布器と、一方向に延びる形状を有し前記塗布器を支持するビーム部とを有しており、
前記塗布器と前記ビーム部とは、それぞれ互いに対向する状態でほぼ平行に配置されており、かつ、これらが長手方向に相対的に変位するのを許容する連結部によって連結されており、
前記塗布器と前記ビーム部とが互いに固定される基準固定部を有しており、前記基準固定部は、前記塗布器及び前記ビーム部の長手方向中央位置に設けられていることを特徴とする塗布装置。
The stage on which the board is placed and
A coating unit that discharges the coating liquid to the substrate placed on the stage, and
A coating device for forming a coating film on a substrate by discharging a coating liquid from the coating unit while relatively moving the substrate and the coating unit.
The coating unit has a coating device having a shape extending in one direction and discharging a coating liquid, and a beam portion having a shape extending in one direction and supporting the coating device.
The applicator and the beam portion are arranged substantially in parallel in a state of facing each other, and are connected by a connecting portion that allows them to be relatively displaced in the longitudinal direction .
The coater and the beam portion have a reference fixing portion that is fixed to each other, and the reference fixing portion is provided at a central position in the longitudinal direction of the coater and the beam portion. Coating device.
基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された基板に対し塗布液を吐出する塗布ユニットと、
を備え、前記基板と前記塗布ユニットとを相対的に移動させつつ、前記塗布ユニットから塗布液を吐出させることにより基板上に塗布膜を形成する塗布装置であって、
前記塗布ユニットは、一方向に延びる形状を有し塗布液が吐出される塗布器と、一方向に延びる形状を有し前記塗布器を支持するビーム部とを有しており、
前記塗布器と前記ビーム部とは、それぞれ互いに対向する状態でほぼ平行に配置されており、かつ、これらが長手方向に相対的に変位するのを許容する連結部によって連結されており、
前記塗布ユニットは、前記塗布器の長手方向に沿って延びるステー部を有しており、前記ステー部は、前記塗布器が塗布動作の際に移動する塗布方向に並べて配置され、前記ステー部と前記塗布器は、前記塗布器が長手方向に相対的に変位することが許容され、前記塗布器が塗布方向に相対的に変位することが制限される振動抑制保持部で連結されていることを特徴とする塗布装置。
The stage on which the board is placed and
A coating unit that discharges the coating liquid to the substrate placed on the stage, and
A coating device for forming a coating film on a substrate by discharging a coating liquid from the coating unit while relatively moving the substrate and the coating unit.
The coating unit has a coating device having a shape extending in one direction and discharging a coating liquid, and a beam portion having a shape extending in one direction and supporting the coating device.
The applicator and the beam portion are arranged substantially in parallel in a state of facing each other, and are connected by a connecting portion that allows them to be relatively displaced in the longitudinal direction .
The coating unit has a stay portion extending along the longitudinal direction of the coating device, and the stay portion is arranged side by side in the coating direction in which the coating device moves during the coating operation, and is arranged with the stay portion. The applicator is connected by a vibration suppression holding portion in which the applicator is allowed to be displaced relative to the longitudinal direction and the applicator is restricted from being displaced relative to the coating direction. A characteristic coating device.
前記連結部は、前記塗布器と前記ビーム部とは別体に形成されたガイド部材であり、このガイド部材により塗布器及びビーム部それぞれの長手方向に変位するのが許容されることを特徴とする請求項1又は2に記載の塗布装置。 The connecting portion is a guide member formed separately from the applicator and the beam portion, and the guide member allows the applicator and the beam portion to be displaced in the longitudinal direction. The coating apparatus according to claim 1 or 2 .
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001062371A (en) * 1999-06-21 2001-03-13 Toray Ind Inc Application apparatus and method and production apparatus and method for plasma display and member for display
JP4198944B2 (en) * 2002-06-04 2008-12-17 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate processing equipment
JP4091372B2 (en) * 2002-07-16 2008-05-28 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate processing equipment
JP2004063620A (en) * 2002-07-26 2004-02-26 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processor
JP2004148183A (en) * 2002-10-30 2004-05-27 Toray Eng Co Ltd Coating method and coating equipment
JP2004148184A (en) * 2002-10-30 2004-05-27 Toray Eng Co Ltd Coating method and coating apparatus
JP4867473B2 (en) * 2006-05-25 2012-02-01 大日本印刷株式会社 Application method and apparatus
CN102300644A (en) * 2009-01-29 2011-12-28 芝浦机械电子株式会社 Coating applicator
JP5586299B2 (en) * 2010-03-31 2014-09-10 東レエンジニアリング株式会社 Inkjet coating device
CN104741289B (en) * 2013-12-25 2017-11-21 昆山国显光电有限公司 Base plate transfer device and apparatus for coating

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