JP6737527B2 - Surface treatment equipment - Google Patents

Surface treatment equipment Download PDF

Info

Publication number
JP6737527B2
JP6737527B2 JP2019549223A JP2019549223A JP6737527B2 JP 6737527 B2 JP6737527 B2 JP 6737527B2 JP 2019549223 A JP2019549223 A JP 2019549223A JP 2019549223 A JP2019549223 A JP 2019549223A JP 6737527 B2 JP6737527 B2 JP 6737527B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
works
anode
processing
surface treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019549223A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2019078063A1 (en
Inventor
勝己 石井
勝己 石井
重幸 渡邉
重幸 渡邉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Almex Pe Inc
Original Assignee
Almex Pe Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Almex Pe Inc filed Critical Almex Pe Inc
Publication of JPWO2019078063A1 publication Critical patent/JPWO2019078063A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6737527B2 publication Critical patent/JP6737527B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/02Tanks; Installations therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/10Agitating of electrolytes; Moving of racks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/08Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating

Description

本発明は、ワークを間欠搬送する表面処理装置等に関する。 The present invention relates to a surface treatment device or the like that intermittently conveys a work.

メッキ液が収容されたメッキ槽内にてワークを間欠搬送し、各停止位置にて陽極とワーク(陰極)間に電流を供給してワークをメッキするメッキ装置が特許文献1に開示されている。この装置では、メッキ槽と、そのメッキ槽の上流及び/または下流に配置された他の前処理槽及び/又は後処理槽とに、ワークを間欠搬送させる循環式間欠搬送装置(スプロケット及びチェーン)を用いて、ワークを間欠搬送している。 Patent Document 1 discloses a plating apparatus that intermittently conveys a work in a plating tank containing a plating solution and supplies a current between an anode and a work (cathode) at each stop position to plate the work. .. In this device, a cyclic intermittent transfer device (sprocket and chain) for intermittently transferring a work to a plating tank and another pretreatment tank and/or posttreatment tank arranged upstream and/or downstream of the plating tank. Is used to intermittently convey the work.

特にこのメッキ装置では、メッキ槽内の各停止処位置にてワークに供給された電流量を積算し、制御装置により該積算値がワークの所要電流量に到達すると、昇降装置を駆動して、ワークを支持搬送するハンガーをメッキ槽の上方に移動させ、ワークへの通電を解除している。それにより、例えば多品種少量のワークへの電流量を個別に調整して、メッキ膜厚をワーク毎に個別に調整できる。 In particular, in this plating apparatus, the current amount supplied to the work is integrated at each stop position in the plating tank, and when the integrated value reaches the required current amount of the work by the control device, the lifting device is driven, The hanger that supports and conveys the work is moved above the plating tank to de-energize the work. Thereby, for example, the amount of current to a large number of small-lot works can be individually adjusted, and the plating film thickness can be individually adjusted for each work.

特許第2727250号公報Japanese Patent No. 2727250

電解メッキ装置として、メッキ液をワークに向けて吐出するノズル管をメッキ槽内に固定して配置するものが知られている。特許文献1のメッキ装置ではノズル管は使用されてなく、間欠搬送されるメッキ槽内にノズル管を配置した時の課題については認識がない。 2. Description of the Related Art As an electrolytic plating apparatus, there is known one in which a nozzle tube for discharging a plating solution toward a work is fixedly arranged in a plating tank. No nozzle pipe is used in the plating apparatus of Patent Document 1, and there is no recognition of the problem when the nozzle pipe is arranged in the plating tank that is intermittently transported.

さらに特許文献1のメッキ装置は、メッキ槽及び他の処理槽にワークを間欠搬送させる循環式間欠搬送装置(スプロケット及びチェーン)と、個々のワークの治具(ハンガー)を個別に昇降させる昇降機構とを用いているため、装置が大掛かりとなる。また、間欠搬送でも連続搬送でも、スループットはメッキ槽の全長の影響を受けるため、メッキ槽の全長が異なる各種メッキ装置のラインアップを用意する必要がある。その際、循環式間欠搬送装置を含め装置全体を再設計しなければならない。 Further, the plating apparatus of Patent Document 1 includes a circulating type intermittent transfer device (sprocket and chain) for intermittently transferring a work to a plating tank and another processing tank , and an elevating mechanism for individually raising and lowering a jig (hanger) for each work. Since and are used, the device becomes large-scale. In addition, since the throughput is affected by the total length of the plating tank, whether it is intermittent transfer or continuous transfer, it is necessary to prepare a lineup of various plating apparatuses with different total lengths of plating tanks. At that time, the entire device including the circulating intermittent transfer device must be redesigned.

本発明の少なくとも一つの態様は、処理槽内にて間欠停止されて処理されるワークに向けて処理液を吐出するノズル管を併用しても、処理されるワークの面内均一性を確保できる間欠搬送式の表面処理装置を提供することを目的とする。 At least one aspect of the present invention can ensure in-plane uniformity of a workpiece to be processed even if a nozzle tube that discharges the processing liquid toward the workpiece to be processed is intermittently stopped in the processing tank. An object is to provide an intermittent transfer type surface treatment device.

本発明の他の少なくとも一つの態様は、共通の構造を有する処理槽ユニットを連結させて、処理槽の全長に亘ってワークへの電流制御及び間欠搬送を可能とした間欠搬送式の表面処理装置を提供することを目的とする。 Another at least one aspect of the present invention is an intermittent transfer type surface treatment apparatus capable of controlling current to a work and intermittent transfer over the entire length of the processing tank by connecting processing tank units having a common structure. The purpose is to provide.

(1)本発明の一態様は、
処理液が収容される処理槽と、
前記処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
少なくとも1本の陰極レールと、
前記処理液に浸漬される複数のワークをそれぞれ垂下させて保持し、かつ、前記少なくとも1本の陰極レールと接触して前記複数のワークを陰極に設定する複数の治具を、前記処理槽内の複数の停止位置を始点及び/または終点として、間欠的に搬送させる間欠搬送装置と、
前記処理槽内に、平面視で、前記複数の停止位置の各々に停止されるワークと前記少なくとも一つの陽極との間に少なくとも一つ配置され、前記ワークに前記処理液を噴出する複数のノズル管と、
前記複数のノズル管の各々を、間欠停止された対応するワークに対して走査移動させる移動機構と、
を有する表面処理装置に関する。
(1) One aspect of the present invention is
A treatment tank containing a treatment liquid,
At least one anode disposed in the processing bath,
At least one cathode rail,
A plurality of jigs for suspending and holding a plurality of works immersed in the processing liquid, and contacting the at least one cathode rail to set the plurality of works as cathodes are provided in the processing tank. An intermittent transport device for intermittently transporting the plurality of stop positions as start points and/or end points,
In the plan view, at least one is disposed between the work stopped at each of the plurality of stop positions and the at least one anode in plan view, and a plurality of nozzles for ejecting the treatment liquid onto the work. With a tube,
A moving mechanism that moves each of the plurality of nozzle tubes in a scanning manner with respect to the corresponding workpiece that is intermittently stopped,
The present invention relates to a surface treatment device having.

本発明の一態様によれば、間欠停止されるワークに対して、ワークの停止位置と対応して少なくとも一つ設けられたノズル管を走査移動させることができる。それにより、平面視でワークと陽極との間に位置するノズル管の影となって陽極−陰極間の電界が妨げられる領域が、ノズル管の走査移動に伴って移動する。このため、ノズル管によって電界が妨げられる領域が固定されず、処理されるワークの面内均一性が向上する。 According to one aspect of the present invention, at least one nozzle tube corresponding to the stop position of the work can be scanned and moved with respect to the work that is intermittently stopped. As a result, a region which becomes a shadow of the nozzle tube located between the work and the anode in a plan view and interferes with the electric field between the anode and the cathode moves with the scanning movement of the nozzle tube. Therefore, the region where the electric field is blocked by the nozzle tube is not fixed, and the in-plane uniformity of the workpiece to be processed is improved.

(2)本発明の一態様(1)では、前記移動機構は、前記複数の停止位置で停止された前記複数のワークの各々の少なくとも水平幅と対応する長さ範囲を少なくとも一回循環して走査するように、前記複数のノズル管を移動させることができる。こうすると、処理されるワークの面内均一性が向上する。特に、ノズル管の初期位置から少なくとも一回循環走査させて初期位置に復帰させることが好ましい。ノズル管の影がワーク面内でほぼ均一化されるからである。 (2) In one aspect (1) of the present invention, the moving mechanism circulates at least once in a length range corresponding to at least a horizontal width of each of the plurality of works stopped at the plurality of stop positions. The plurality of nozzle tubes can be moved to scan. This improves the in-plane uniformity of the workpiece to be processed. In particular, it is preferable to circulate and scan the nozzle tube at least once from the initial position to return to the initial position. This is because the shadow of the nozzle tube is made almost uniform within the work surface.

(3)本発明の一態様(1)または(2)では、前記複数のノズル管は、前記複数の停止位置で停止された前記複数のワークの各々と対向する各位置に配置された少なくとも2本のノズル管を含み、前記少なくとも2本のノズル管は、垂直方向でそれぞれ異なる位置に前記処理液の複数の噴出口を含むことができる。この少なくとも2本のノズル管をワークに対して走査移動させることで、処理液が直接噴射されないむらが少なくなり、処理されるワークの面内均一性が向上する。 (3) In one aspect (1) or (2) of the present invention, the plurality of nozzle tubes are at least 2 arranged at respective positions facing each of the plurality of works stopped at the plurality of stop positions. A plurality of nozzle pipes may be included, and the at least two nozzle pipes may include a plurality of ejection ports of the processing liquid at different positions in the vertical direction. By scanning and moving the at least two nozzle tubes with respect to the work, unevenness in which the processing liquid is not directly jetted is reduced, and the in-plane uniformity of the processed work is improved.

(4)本発明の一態様(1)〜(3)では、前記処理槽は、互いに連結される複数の分割処理槽を含み、隣り合う2つの分割処理槽は、前記複数のワークが通過する開口を介して連通され、前記一つの陽極、前記少なくとも1本の陰極レール、前記少なくとも一つのノズル管、前記間欠搬送装置及び前記移動機構は、前記複数の分割処理槽毎にそれぞれ配置され、前記複数の分割処理槽の各々に設けられた前記少なくとも一つの陽極と前記少なくとも1本の陰極レールとは、少なくとも一つの整流器に接続することができる。こうして、装置全体の再設計を要せずに、分割処理槽の数を調整してユーザの要望に適した長さの処理槽を有する間欠搬送式の表面処理装置を容易に構築することができる。 (4) In one aspect (1) to (3) of the present invention, the processing tank includes a plurality of divided processing tanks connected to each other, and the two adjacent divided processing tanks pass the plurality of works. The one anode, the at least one cathode rail, the at least one nozzle tube, the intermittent transfer device, and the moving mechanism, which are communicated through an opening, are arranged for each of the plurality of divided processing tanks, and The at least one anode and the at least one cathode rail provided in each of the plurality of divided treatment tanks can be connected to at least one rectifier. In this way, it is possible to easily construct an intermittent transfer type surface treatment apparatus having a treatment tank of a length suitable for the user's request by adjusting the number of divided treatment tanks without redesigning the entire apparatus. ..

(5)本発明の他の態様は、
複数の処理ユニットが連結される表面処理装置であって、
前記複数の処理ユニットの各々は、
処理液が収容される分割処理槽と、
前記分割処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
少なくとも1本の陰極レールと、
前記処理液に浸漬される複数のワークをそれぞれ保持し、かつ、前記少なくとも1本の陰極レールと接触して前記複数のワークを陰極に設定する複数の治具を、前記分割処理槽内の複数の停止位置を始点及び/または終点として、間欠的に搬送させる間欠搬送装置と、
前記少なくとも一つの陽極と前記少なくとも1本の陰極レールとに接続された少なくとも一つの整流器と、
を有し、
隣り合う2つの分割処理槽は、前記複数のワークが通過する開口を介して連通している表面処理装置に関する。
(5) Another aspect of the present invention is
A surface treatment apparatus in which a plurality of treatment units are connected,
Each of the plurality of processing units is
A divided processing tank in which the processing liquid is stored,
At least one anode arranged in the divided treatment tank,
At least one cathode rail,
A plurality of jigs for respectively holding a plurality of works immersed in the treatment liquid and contacting the at least one cathode rail to set the plurality of works as cathodes are provided in the divided treatment tanks. An intermittent transfer device for intermittently transferring the start position and/or the end position of
At least one rectifier connected to the at least one anode and the at least one cathode rail;
Have
Two adjacent divided treatment tanks relate to a surface treatment apparatus which communicates with each other through an opening through which the plurality of works pass.

本発明の他の態様によれば、複数の処理ユニットの各々がそれぞれ独立して、分割処理槽、一つの陽極、少なくとも1本の陰極レール、間欠搬送装置及び少なくとも一つの整流器を有している。このため、装置全体の再設計を要せずに、処理ユニットの数を調整してユーザの要望に適した長さの処理槽を有する間欠搬送式の表面処理装置を容易に構築することができる。 According to another aspect of the present invention, each of the plurality of processing units independently has a split processing tank, one anode, at least one cathode rail, an intermittent transfer device, and at least one rectifier. .. For this reason, it is possible to easily construct an intermittent transfer type surface treatment apparatus having a treatment tank of a length suitable for a user's request by adjusting the number of treatment units without redesigning the entire apparatus. ..

(6)本発明の他の態様(5)では、前記間欠搬送装置は、複数の押動片を備えて進退駆動されるプッシャーを含み、前記プッシャーは、前進時に前記複数の押動片が前記複数の治具の複数の被押動片を押動して前記複数のワークを前進させ、後退時に前記複数の押動片と前記複数の被押動片との係合が解除されて初期位置に復帰されても良い。こうして、プッシャーにより複数の治具は分割処理槽内または隣り合う分割処理槽間で同時に一ステップ移動されて間欠搬送される。 (6) In another aspect (5) of the present invention, the intermittent transfer device includes a pusher that is provided with a plurality of pushing pieces and is driven forward and backward, and the pusher has the plurality of pushing pieces when the forward movement is performed. The plurality of jigs are pushed to move the plurality of work pieces forward, and when the work pieces are retracted, the plurality of push pieces are disengaged from each other and the plurality of push pieces are released from their initial positions. May be returned to. In this way, the plurality of jigs are simultaneously moved by one step in the divided processing tanks or between the adjacent divided processing tanks by the pusher and intermittently conveyed.

(7)本発明の他の態様(5)では、前記間欠搬送装置は、複数の押動片を備えて進退駆動及び昇降駆動されるプッシャーを含み、前記複数の押動片は、前記プッシャーの昇降動作の一方により前記複数の治具に設けられた複数の被押動片が配置される凹部を含み、前記プッシャーの昇降動作の他方により前記複数の被押動片が前記凹部から離脱され、前記プッシャーは、前進時に前記複数の押動片が前記複数の被押動片を押動して前記複数のワークを前進させ、かつ、前進停止時に前記複数のワークを停止させ、前記複数の被押動片が前記凹部から離脱されている後退時に初期位置に復帰されても良い。こうして、プッシャーにより複数の治具は分割処理槽内または隣り合う分割処理槽間で同時に一ステップ移動されて間欠搬送される。特に、凹部と被押動片との係合により、複数の治具を所定の位置に停止させることができ、より高速な間欠送りが可能となる。 (7) In another aspect (5) of the present invention, the intermittent transfer device includes a pusher that is provided with a plurality of pushing pieces and is driven to move back and forth and is driven up and down, and the plurality of pushing pieces are of the pusher. Including a recess in which a plurality of pushed pieces provided in the plurality of jigs are arranged by one of the raising and lowering operations, and the plurality of pushed pieces are separated from the recess by the other of the raising and lowering operations of the pusher, In the pusher, the plurality of pushing pieces push the plurality of pushed pieces to move the plurality of works forward during forward movement, and stop the plurality of works when forward movement stops, The pushing piece may be returned to the initial position when retracted while being separated from the recess. In this way, the plurality of jigs are simultaneously moved by one step in the divided processing tanks or between the adjacent divided processing tanks by the pusher and intermittently conveyed. In particular, the plurality of jigs can be stopped at predetermined positions by the engagement of the recessed portion and the pushed piece, and higher-speed intermittent feeding becomes possible.

(8)本発明の一態様(4)及び他の態様(5)〜(7)では、前記少なくとも一つの整流器は、前記複数の停止位置の数と一致する複数の整流器を含み、前記少なくとも1本の陰極レールは、前記複数の停止位置にそれぞれ停止された前記複数の治具にそれぞれ接触され、かつ、電気的に絶縁された複数の導電部を含み、前記複数の導電部がそれぞれ前記複数の整流器に接続されても良い。こうすると、複数のワークの陰極側が絶縁されてそれぞれ複数の整流器に接続されるので、複数のワークに流れる電流を個別に制御することができる。 (8) In one aspect (4) and other aspects (5) to (7) of the present invention, the at least one rectifier includes a plurality of rectifiers that match the number of the plurality of stop positions, and the at least one rectifier is provided. The cathode rail of the book includes a plurality of electrically conductive portions that are respectively in contact with the plurality of jigs that are stopped at the plurality of stop positions and that are electrically insulated, and the plurality of conductive portions are respectively the plurality of conductive portions. It may be connected to the rectifier. In this case, the cathode sides of the plurality of works are insulated and connected to the plurality of rectifiers, respectively, so that the currents flowing through the plurality of works can be individually controlled.

(9)本発明の他の態様(8)では、前記少なくとも一つの陽極は、前記複数の停止位置の数と一致する複数の陽極を含み、前記複数の陽極がそれぞれ前記複数の整流器に接続される。このように、複数のワークの各々について陰極及び陽極が絶縁されるので、ワーク毎に完全個別給電が可能となる。 (9) In another aspect (8) of the present invention, the at least one anode includes a plurality of anodes corresponding in number to the plurality of stop positions, and the plurality of anodes are respectively connected to the plurality of rectifiers. It In this way, the cathode and the anode are insulated for each of the plurality of works, so that complete individual power supply can be performed for each work.

本発明の実施形態に係る間欠搬送方式のメッキ装置におけるメッキ処理部の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the plating process part in the plating apparatus of the intermittent conveyance system which concerns on embodiment of this invention. 図1に示すメッキ装置の一つの処理ユニットの概略平面図である。It is a schematic plan view of one processing unit of the plating apparatus shown in FIG. 一つの処理ユニット内に停止されるワークと陽極との位置関係を示す図である。It is a figure which shows the positional relationship between the workpiece stopped in one processing unit, and an anode. ワークを搬送する搬送治具の斜視図である。It is a perspective view of a conveyance jig which conveys a work. 陽極、陰極レール上の導電部及び整流器の接続を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the connection of the conductive part on an anode, a cathode rail, and a rectifier. 図6(A)(B)は陰極レールの正面図及び断面図である。6A and 6B are a front view and a sectional view of the cathode rail. 搬送治具の被給電部がセル間で陰極レールの導電部を乗り継ぐ状態を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the state which the electric power receiving part of a conveyance jig transfers the electroconductive part of the cathode rail between cells. セル内で往復水平走査移動されるノズル管を示す平面図である。 FIG . 6 is a plan view showing a nozzle tube which is horizontally reciprocally moved in a cell. ノズル管の噴出口の配列ピッチを示す図である。It is a figure which shows the arrangement pitch of the ejection port of a nozzle tube. 処理ユニット毎に配置される間欠搬送装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the intermittent conveyance apparatus arrange|positioned for every processing unit. 図11(A)(B)は処理ユニット毎に配置される間欠搬送装置の他の一例を示す図である。11A and 11B are views showing another example of the intermittent transfer device arranged for each processing unit. 間欠搬送方式に適した搬送治具の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the conveyance jig suitable for an intermittent conveyance system. 陰極レールの清掃機能を付加した搬送治具の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the conveyance jig which added the cleaning function of the cathode rail.

以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、以下に説明する本実施形態は請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. Note that the present embodiment described below does not unreasonably limit the content of the present invention described in the claims, and all the configurations described in the present embodiment are indispensable as means for solving the present invention. Not necessarily.

1.複数の処理ユニット
図1は本実施形態に係る間欠搬送式のメッキ装置(広義には表面処理装置)の断面図である。図1において、このメッキ装置1は、回路基板等のワーク2をメッキするメッキ処理部が複数の処理ユニット3−1〜3−n(nは2以上の整数)を連結して構成される。複数の処理ユニット3−1〜3−nは実質的に同一の構造を有することができる。複数の処理ユニット3−1〜3−nの各々では、少なくとも一つ、図1では例えば4つのワーク2が間欠停止可能である。図1は最大サイズのワーク2を示し、メッキ装置1はその最大サイズ以下のワーク2を処理することができる汎用性を有する。
1. Multiple Processing Units FIG. 1 is a cross-sectional view of an intermittent transfer type plating apparatus (a surface processing apparatus in a broad sense) according to this embodiment. In FIG. 1, the plating apparatus 1 is configured by connecting a plurality of processing units 3-1 to 3-n (n is an integer of 2 or more) with a plating processing unit for plating a work 2 such as a circuit board. The plurality of processing units 3-1 to 3-n may have substantially the same structure. In each of the plurality of processing units 3-1 to 3-n, at least one, for example, four works 2 in FIG. 1 can be intermittently stopped. FIG. 1 shows a work 2 of the maximum size, and the plating apparatus 1 has general versatility capable of processing the work 2 of the maximum size or less.

ワーク2は、後述される間欠搬送装置により、現在の停止位置から次の停止位置に向けて、A方向に順次間欠搬送される。本実施形態では、一つのワーク2は各処理ユニット内にて例えば4か所に停止される。最上流の処理ユニット3−1の上流側には、B方向への下降移動によりワーク2が搬入される搬入ユニット4が連結されても良い。処理ユニット3−1内のワーク2が間欠搬送される時に、搬入ユニット4内のワーク2も間欠搬送されて処理ユニット3−1に移動される。最下流の処理ユニット3−nの下流側には、処理ユニット3−nから水平移動されるワーク2をC方向に上昇させて搬出する搬出ユニット5が連結されても良い。処理ユニット3−n内のワーク2が間欠搬送される前に、搬出ユニット5内のワーク2は上方に搬出される。ただし、搬入ユニット4及び/又は搬出ユニット5は省略しても良い。この場合、処理ユニット3−1の最上流停止位置にワーク2が下降され、処理ユニット3−nの最下流停止位置のワーク2が上昇して搬出される。 The work 2 is intermittently conveyed in the direction A from the current stop position to the next stop position by the intermittent transfer device described later. In the present embodiment, one work 2 is stopped in each processing unit, for example, at four locations. The carry-in unit 4 into which the work 2 is carried in by the downward movement in the B direction may be connected to the upstream side of the most upstream processing unit 3-1. When the work 2 in the processing unit 3-1 is intermittently transported, the work 2 in the carry-in unit 4 is also intermittently transported and moved to the processing unit 3-1. A unloading unit 5 that raises the workpiece 2 horizontally moved from the processing unit 3-n in the C direction and unloads the workpiece 2 may be connected to the downstream side of the most downstream processing unit 3-n. Before the work 2 in the processing unit 3-n is intermittently transferred, the work 2 in the carry-out unit 5 is carried out upward. However, the carry-in unit 4 and/or the carry-out unit 5 may be omitted. In this case, the work 2 is lowered to the most upstream stop position of the processing unit 3-1 and the work 2 at the most downstream stop position of the processing unit 3-n is raised and carried out.

図2は、処理ユニット3−2〜3−nと共通の構成を有する処理ユニット3−1の平面図である。処理ユニット3−1は、メッキ液(広義には処理液)が収容される分割処理槽6を有する。ワーク2は分割処理槽6内のメッキ液に浸漬される。分割処理槽6は上方が開口された略箱体であり、上流側及び下流側の隔壁にはそれぞれ開口6A,6Bが設けられ、隣り合うユニット(処理ユニット、搬入ユニットまたは搬出ユニット)との間でワーク2の水平移動が許容される。 FIG. 2 is a plan view of the processing unit 3-1 having the same configuration as the processing units 3-2 to 3-n. The processing unit 3-1 has a divided processing tank 6 in which a plating solution (processing solution in a broad sense) is stored. The work 2 is immersed in the plating solution in the divided treatment tank 6. The division processing tank 6 is a substantially box-shaped body having an open upper side, and openings 6A and 6B are provided in the upstream and downstream partitions, respectively, and between adjacent units (processing unit, carry-in unit or carry-out unit). The work 2 is allowed to move horizontally.

本実施形態では、処理ユニット3−1内の複数例えば4つの停止位置にあるワーク2の表面及び裏面の少なくとも一方側に、少なくとも一つの陽極20が設けられる。本実施形態では、各停止位置にある各一つのワーク2の表面と対向する陽極20Aと、ワーク2の裏面と対向する陽極20Bが設けられる。陽極20(20A,20B)の各々は、互いに導通された複数の分割陽極を含むことができる。本実施形態では上流側の分割陽極20A1(20B1)と下流側の分割陽極20A2(20B2)に分割されている。陽極20は、3以上に分割された分割陽極を含んでいても良いが、互いに導通されることから一つの陽極とみなすことができる。 In the present embodiment, at least one anode 20 is provided on at least one side of the front surface and the back surface of the workpiece 2 at a plurality of, for example, four stop positions in the processing unit 3-1. In the present embodiment, an anode 20A facing the front surface of each one work 2 at each stop position and an anode 20B facing the back surface of the work 2 are provided. Each of the anodes 20 (20A, 20B) may include a plurality of split anodes that are electrically connected to each other. In this embodiment, the split anode 20A1 (20B1) on the upstream side and the split anode 20A2 (20B2) on the downstream side are split. The anode 20 may include three or more divided anodes, but since they are electrically connected to each other, they can be regarded as one anode.

図3は、処理ユニット3−1に配置される陽極20A1,20A2(20B1,20B2)とワーク2との位置関係を示す正面図である。図3に示すように、ワーク2は搬送治具30に保持される。図2及び図3に示すように、陽極20(20A,20B)の各々は、4つの停止位置にあるワーク2と正対する位置に配置される。要は、図2に示すように、陰極に設定されるワーク2と陽極20との間で均一な電界を形成できればよい。陽極20の形状は問わず、図2及び図3に示す陽極は輪郭が矩形であるが、平面視での輪郭を円形としても良い。陽極は、不溶性陽極であって可溶性陽極であっても良い。 FIG. 3 is a front view showing the positional relationship between the anodes 20A1 and 20A2 (20B1 and 20B2) arranged in the processing unit 3-1 and the work 2. As shown in FIG. 3, the work 2 is held by the transfer jig 30. As shown in FIGS. 2 and 3, each of the anodes 20 (20A, 20B) is arranged at a position facing the work 2 at the four stop positions. In short, as shown in FIG. 2, it suffices if a uniform electric field can be formed between the work 2 set as the cathode and the anode 20. The anode 20 shown in FIGS. 2 and 3 has a rectangular outline regardless of the shape of the anode 20, but the outline in plan view may be circular. The anode may be an insoluble anode or a soluble anode.

本実施形態では、一つの処理ユニット3−1を4つのセル11−1〜11−4に区画する遮蔽板23を有することができる。各セル11−1〜11−4内に、平面視でワーク2の両側に陽極20(20A1,20A2,20B1,20B2)が配置される。遮蔽板23は、隣り合うセル間での電界(図2に矢印で示す陽極−陰極間の電界)の影響を遮断するために設けられる。遮蔽板23には、ワーク2が通過する開口23Aが形成される。 In the present embodiment, it is possible to have the shielding plate 23 that partitions one processing unit 3-1 into four cells 11-1 to 11-4. In each of the cells 11-1 to 11-4, the anodes 20 (20A1, 20A2, 20B1, 20B2) are arranged on both sides of the work 2 in a plan view. The shield plate 23 is provided to shield the influence of the electric field (the electric field between the anode and the cathode shown by the arrow in FIG. 2) between the adjacent cells. An opening 23A through which the work 2 passes is formed in the shielding plate 23.

2.搬送治具
図4は、搬送治具30の一例を示している。この搬送治具30は、水平アーム部300と、垂直アーム部310と、ワーク保持部320と、被案内部330と、被給電部340と、被押動片350とを有する。水平アーム部300は、間欠搬送方向Aと直交する方向Bに沿って延びる。垂直アーム部310は水平アーム部300に垂下して保持される。ワーク保持部320は垂直アーム部310に固定される。ワーク保持部320は、上部フレーム321と、上部フレーム321に例えば昇降可能に支持される下部フレーム322とを含む。上部フレーム321には、ワーク2の上部をクランプする複数のクランパー323が設けられる。下部フレーム322には、ワーク2の下部をクランプする複数のクランパー324が設けられる。ワーク2には下部のクランパー324により下向きのテンションが付与される。ただし、ワーク2が厚い場合や、ワーク2の下部から給電しない場合には、下部フレーム322及びクランパー324を省略しても良い。
2. Transport Jig FIG. 4 shows an example of the transport jig 30. The transfer jig 30 includes a horizontal arm section 300, a vertical arm section 310, a work holding section 320, a guided section 330, a power-supplied section 340, and a pushed piece 350. The horizontal arm unit 300 extends along a direction B orthogonal to the intermittent transport direction A. The vertical arm unit 310 is suspended from and held by the horizontal arm unit 300. The work holding unit 320 is fixed to the vertical arm unit 310. The work holding unit 320 includes an upper frame 321 and a lower frame 322 supported by the upper frame 321 so as to be vertically movable. The upper frame 321 is provided with a plurality of clampers 323 that clamp the upper part of the work 2. The lower frame 322 is provided with a plurality of clampers 324 that clamp the lower part of the work 2. A downward tension is applied to the work 2 by a lower clamper 324. However, the lower frame 322 and the clamper 324 may be omitted when the work 2 is thick or when power is not supplied from the bottom of the work 2.

被案内部330は、処理ユニット3−2〜3−nに沿って配置され、例えば処理ユニット3−2〜3−n毎に分割された案内レール(図示せず)に案内されて、搬送治具30を直線案内するものである。被案内部330は、案内レールの天面と転接するローラー331と、案内レールの両側面と転接するローラー332(図4では一方の側面に転接するローラーのみ図示)とを含むことができる。 The guided portion 330 is arranged along the processing units 3-2 to 3-n, and is guided by, for example, a guide rail (not shown) divided for each of the processing units 3-2 to 3-n to carry and cure. The tool 30 is linearly guided. The guided portion 330 may include a roller 331 that is in rolling contact with the top surface of the guide rail, and a roller 332 that is in rolling contact with both side surfaces of the guide rail (only the roller that is in rolling contact with one side surface is shown in FIG. 4).

被給電部340は、図5及び図6にて説明する陰極レールと接触して、搬送治具30の水平アーム部300、垂直アーム部310、ワーク保持部320を介してワーク2を陰極に設定する。被給電部340は、間欠搬送方向Aに沿って延びる支持アーム341の上流側と下流側とに支持される2つの接触子342,343を含む。接触子342,343は、支持アーム341に平行リンク機構を介して支持され、陰極レールに圧接されるようにバネで付勢される。2つの接触子342,343は、クランパー323,324の少なくとも一方と電気的に接続されることで、ワーク2が陰極に設定される。 The power-supplied part 340 contacts the cathode rail described in FIGS. 5 and 6, and sets the work 2 as a cathode via the horizontal arm part 300, the vertical arm part 310, and the work holding part 320 of the transfer jig 30. To do. The power-supplied part 340 includes two contacts 342 and 343 supported on the upstream side and the downstream side of the support arm 341 extending along the intermittent transport direction A. The contacts 342 and 343 are supported by the support arm 341 via a parallel link mechanism, and are biased by springs so as to be pressed against the cathode rail. The two contacts 342 and 343 are electrically connected to at least one of the clampers 323 and 324 to set the work 2 as a cathode.

被押動片350は、例えば垂直アーム部310に固定され、ワーク保持部320の真上の位置にて被押動片350を垂直にして配置される。被押動片350は、後述する間欠搬送装置により図示C方向から押動されて、搬送治具30に間欠搬送力を伝達させるものである。なお、図4に示す搬送治具30には、連続搬送時に使用される被係合部360が設けられており、搬送治具30は間欠搬送にも連続搬送にも兼用できる。 The pushed piece 350 is fixed to, for example, the vertical arm portion 310, and is arranged vertically above the work holding portion 320 with the pushed piece 350 vertical. The pushed piece 350 is pushed from the direction C in the figure by an intermittent transfer device described later to transmit the intermittent transfer force to the transfer jig 30. The transfer jig 30 shown in FIG. 4 is provided with an engaged portion 360 used during continuous transfer, and the transfer jig 30 can be used for both intermittent transfer and continuous transfer.

3.陰極レール及び整流器
図5に示すように各処理ユニット3−1〜3−n(図5は2つの処理ユニットのみ図示)は、少なくとも1本の陰極レール40を有する。陰極レール40は、搬送方向Aと平行に複数並列に配置しても良い。この場合、複数の陰極レール40は同じ整流器に接続されても良いし、異なる整流器に接続されて給電部位毎に電流値を独立して制御するようにしても良い。本実施形態では1本の陰極レール40が設けられる。1本の陰極レール40は、好ましくは処理ユニット3−1〜3−n毎に分割された複数の分割陰極レール40−1〜40−n(図5は2つの分割陰極レール40−1,40−2のみを示す)を有し、搬送方向Aで連続するように連結される。分割陰極レール40−1〜40−nの各々は、図5及び図6(A)に示すように、絶縁レール41上にて間隔(非導電部)42をあけて、ワーク2が停止される各セル毎に一つずつ計4つの導電部43を有する。4つの導電部43の各々は、各処理ユニット3−1〜3−nの4箇所の停止位置にてワーク2を保持して停止された図4に示す搬送治具30の被給電部340(2つの接触子342,343)と電気的に導通される。なお、図5では各処理ユニット3−1〜3−nに収容されるメッキ液の液面Lが示され、ワーク2はメッキ液中に浸漬される。なお、図6(B)に示すように、陰極レール40の幅方向の両端には隔壁44,44が設けられ、導電部43上に非油性の導電性流体(例えば水)45を保持することができる。こうすると、被給電部340(2つの接触子342,343)と導電部43との電気的接触を、導電性流体45を介してより確実に担保することができる。ただし、水の導電性は金属である導電部43の導電性よりもはるかに低いので、隣り合う導電部43,43間の絶縁性は維持される。また、図6(B)に示すように、導電部43を絶縁レール41上に固定するボルト46は、被給電部340の走行路を挟んだ両側に配置することができる。これにより、導電部34にボルトの座ぐり穴を設ける必要がなくなり、抵抗となる要因を排除できる。
3. Cathode Rail and Rectifier As shown in FIG. 5, each processing unit 3-1 to 3-n (FIG. 5 shows only two processing units) has at least one cathode rail 40. A plurality of cathode rails 40 may be arranged in parallel in parallel with the transport direction A. In this case, the plurality of cathode rails 40 may be connected to the same rectifier, or may be connected to different rectifiers and the current value may be independently controlled for each power feeding site. In this embodiment, one cathode rail 40 is provided. One cathode rail 40 is preferably divided into a plurality of divided cathode rails 40-1 to 40-n (FIG. 5 is divided into two divided cathode rails 40-1 and 40-40). -2 is shown), and are continuously connected in the transport direction A. Each of the divided cathode rails 40-1 to 40-n has a space (non-conductive portion) 42 on the insulating rail 41, and the work 2 is stopped, as shown in FIGS. 5 and 6A. It has a total of four conductive parts 43, one for each cell. Each of the four conductive parts 43 holds the work 2 at the four stop positions of the processing units 3-1 to 3-n and stops the power-supplied part 340 ( The two contacts 342, 343) are electrically connected. Note that FIG. 5 shows the liquid level L of the plating liquid contained in each processing unit 3-1 to 3-n, and the work 2 is immersed in the plating liquid. As shown in FIG. 6B, partition walls 44, 44 are provided at both ends in the width direction of the cathode rail 40, and a non-oil conductive fluid (for example, water) 45 is held on the conductive portion 43. You can With this configuration, the electrical contact between the power-supplied part 340 (the two contacts 342 and 343) and the conductive part 43 can be more reliably ensured via the conductive fluid 45. However, the conductivity of water is much lower than the conductivity of the conductive part 43 made of metal, so that the insulating property between the adjacent conductive parts 43 and 43 is maintained. Further, as shown in FIG. 6B, the bolts 46 for fixing the conductive portion 43 on the insulating rail 41 can be arranged on both sides of the traveling path of the power-supplied portion 340. As a result, it is not necessary to provide a counterbored hole for the bolt in the conductive portion 34, and the factor that causes resistance can be eliminated.

各処理ユニット3−1〜3−nは、ワーク2が停止される各セル毎に一つずつ計4つの整流器50(図5では一つの整流器50のみを示す)を有する。4つの整流器50の各一つの正端子51は各セルに配置された陽極20(20A1,20A2,20B1,20B2)と接続される。4つの整流器50の各一つの負端子52は分割陰極レール40−1〜40−nの各一つのセルに対応する導電部43と接続される。 Each of the processing units 3-1 to 3-n has a total of four rectifiers 50 (one rectifier 50 is shown in FIG. 5), one for each cell in which the work 2 is stopped. Each one positive terminal 51 of the four rectifiers 50 is connected to the anode 20 (20A1, 20A2, 20B1, 20B2) arranged in each cell. Each one negative terminal 52 of the four rectifiers 50 is connected to the conductive portion 43 corresponding to each cell of the split cathode rails 40-1 to 40-n.

4.ワークの停止時の電流制御
各処理ユニット3−1〜3−nの4箇所の停止位置(セル)にて、4つのワーク2に流れる電流は、各セル毎に一つずつ設けられた整流器50の各々により独立して制御される。しかも、セル間では陰極同士が絶縁され、陽極同士も絶縁されるので、各一つのワーク2毎に絶縁分離させて、各整流器50によりワーク2を個別的に給電制御することができる。加えて、セル間では遮蔽板23により電界を分離することで、セル間での影響を排除して、ワーク2毎の個別給電が担保される。それにより、ワーク2のメッキ品質を向上させることができる。
4. Current control when the work is stopped At four stop positions (cells) of each processing unit 3-1 to 3-n, the current flowing through the four works 2 is one rectifier 50 provided for each cell. Are independently controlled by each of the. In addition, since the cathodes are insulated from each other and the anodes are insulated from each other between the cells, it is possible to separately insulate each one work 2 and individually control the power supply to the works 2 by each rectifier 50. In addition, by separating the electric field between the cells by the shield plate 23, the influence between the cells is eliminated and individual power supply for each work 2 is secured. Thereby, the plating quality of the work 2 can be improved.

本実施形態の間欠搬送方式を従来の連続搬送方式と対比すると、連続搬送されるワーク(陰極)は固定された陽極との位置関係が常時変化するのに対して、本実施形態の停止されたワーク(陰極)2は陽極20と正対させることができる。このように、ワーク2の停止中は陰極と陽極との位置関係が一定となり、各ワークは同一メッキ条件となるので、メッキ品質が向上すると期待される。特にワーク2が停止していれば接触抵抗の変動はなくなるので、緻密な電流制御が可能となる。また、連続搬送に用いられる長い陰極レール途中には固定ボルト用の座ぐり穴等があり、陰極レールの抵抗値が場所毎に異なり均一抵抗とはならない。そのため、ワークの連続搬送中の位置によってワークに流れる電流が異なるが、間欠搬送ではそのような不具合を解消できる。さらに、本実施形態は、連続搬送のようにワークの連続搬送速度よりメッキ品質が悪影響を受けることもない。 When the intermittent transfer method of the present embodiment is compared with the conventional continuous transfer method, the positional relationship between the workpiece (cathode) that is continuously transferred and the fixed anode constantly changes, whereas the intermittent transfer method of the present embodiment is stopped. The work (cathode) 2 can be directly opposed to the anode 20. As described above, the positional relationship between the cathode and the anode is constant while the work 2 is stopped, and each work is subjected to the same plating condition. Therefore, it is expected that the plating quality is improved. In particular, when the work 2 is stopped, the contact resistance does not fluctuate, so that precise current control becomes possible. Further, there is a counterbore hole for a fixing bolt in the middle of a long cathode rail used for continuous transportation, and the resistance value of the cathode rail varies from place to place and does not result in uniform resistance. Therefore, the current flowing through the work differs depending on the position during the continuous transfer of the work, but such a problem can be solved in the intermittent transfer. Further, in the present embodiment, the plating quality is not adversely affected by the continuous transfer speed of the work as in the continuous transfer.

ただし、上述のような完全個別給電を必ずしも実施せずにワーク2を間欠搬送しても良い。つまり、各処理ユニット3−1〜3−nの4つのセル11−1〜11−4にて、陰極及び陽極の一方または双方を共通(共通陰極及び/または共通陽極)にしても良い。 However, the work 2 may be intermittently conveyed without necessarily performing the complete individual power supply as described above. That is, one or both of the cathode and the anode may be common (common cathode and/or common anode) in the four cells 11-1 to 11-4 of each processing unit 3-1 to 3-n.

5.ワークの間欠搬送中の電流制御
ワーク2がセル間で間欠搬送される間も、整流器50によりワーク2に電流が供給される。ここで、間欠搬送中に、図4に示す搬送治具30の2つの接触子342,343の少なくとも一方は陰極レール上の導電部43と接触している。つまり、搬送上流側の接触子342が間隔42の位置にて絶縁レール41と接触しても、搬送下流側の接触子343は導電部43と接触している。同様に、搬送下流側の接触子343が間隔42の位置にて絶縁レール41と接触しても、搬送上流側の接触子342は隣のセルの導電部43と接触している。それらの過程で、搬送下流側の接触子343が例えばセル11−1の導電部43と接触し、搬送上流側の接触子342はセル11−2の導電部43と接触する。この場合、ワーク2はセル11−1及びセル11−2に対応する2つの整流器50から電流が供給される。このセル間を移動する過程の状態(乗り継ぎ状態)を、図7に模式的に示す。図7において、図4に示す搬送治具30の被給電部340が模式的に示され、被給電部340は上流側セルの導電部43と下流側セルの導電部43とに接触している。ここで、ワーク2が停止している時の整流器50の出力を維持してワーク2を間欠搬送すると、2つの整流器50と接続される乗り継ぎ中のワーク2には過渡的に2倍の電流が流れる虞がある。特に、間欠搬送速度が遅いほど、過渡電流の影響は大きい。
5. Current control during intermittent transfer of work While the work 2 is intermittently transferred between cells, the rectifier 50 supplies current to the work 2. At this time, at least one of the two contacts 342 and 343 of the transfer jig 30 shown in FIG. 4 is in contact with the conductive portion 43 on the cathode rail during the intermittent transfer. That is, even if the contact 342 on the transport upstream side contacts the insulating rail 41 at the position of the interval 42, the contact 343 on the transport downstream side contacts the conductive portion 43. Similarly, even if the contact 343 on the transport downstream side contacts the insulating rail 41 at the position of the gap 42, the contact 342 on the transport upstream side contacts the conductive portion 43 of the adjacent cell. In these processes, the contact 343 on the downstream side of the transport contacts the conductive portion 43 of the cell 11-1, for example, and the contact 342 on the upstream side of the transport contacts the conductive portion 43 of the cell 11-2. In this case, the work 2 is supplied with current from the two rectifiers 50 corresponding to the cells 11-1 and 11-2. The state of the process of moving between cells (transit state) is schematically shown in FIG. 7, the power-supplied part 340 of the transport jig 30 shown in FIG. 4 is schematically shown, and the power-supplied part 340 is in contact with the conductive part 43 of the upstream cell and the conductive part 43 of the downstream cell. .. Here, if the work 2 is intermittently conveyed while maintaining the output of the rectifier 50 when the work 2 is stopped, a transient double current is supplied to the work 2 in transit which is connected to the two rectifiers 50. There is a risk of flowing. In particular, the slower the intermittent transport speed, the greater the effect of the transient current.

本実施形態では、ワーク2の間欠搬送中には以下の2つの電流制御のいずれかを採用している。間欠搬送速度が比較的遅い場合には、上述した過渡電流を低減または防止するために、ワーク2の停止時での整流器50の出力(例えば100%)を漸減(例えば50%まで漸減)させた後に漸増(100%まで戻す)させる。間欠搬送速度が比較的速い場合には、過渡電流は流れる期間が極めて短いため無視することができる。よって、その場合にはワーク2の停止時とワーク2の間欠搬送時とで整流器50の出力を異ならせるように制御しなくても良い。例えば、ワーク200の搬送方向の幅を800mm、間欠搬送速度を12m/min、図7に模式的に示す被給電部430の搬送方向の幅を60mmと仮定すると、間欠搬送時間は5secとなり、被給電部430がセル間で導電部43を乗り継ぎするのに要する時間(過渡電流が流れ得る時間)はわずか0.3secである。 In the present embodiment, any one of the following two current controls is adopted during the intermittent transfer of the work 2. When the intermittent transfer speed is relatively slow, the output (for example, 100%) of the rectifier 50 when the work 2 is stopped is gradually reduced (for example, gradually reduced to 50%) in order to reduce or prevent the above-described transient current. It is gradually increased (returned to 100%) later. When the intermittent conveyance speed is relatively high, the transient current flows for a very short period and can be ignored. Therefore, in that case, it is not necessary to control the output of the rectifier 50 to be different between when the work 2 is stopped and when the work 2 is intermittently conveyed. For example, assuming that the width of the workpiece 200 in the transport direction is 800 mm, the intermittent transport speed is 12 m/min, and the width of the power-supplied part 430 schematically shown in FIG. 7 in the transport direction is 60 mm, the intermittent transport time is 5 sec. The time required for the power feeding section 430 to transfer the conductive section 43 between cells (time during which transient current can flow) is only 0.3 sec.

6.ノズル管の移動走査
各処理ユニット3−1〜3−nの4つのセル11−1〜11−4にて、図8に示すように、平面視で、停止位置にあるワーク2の各面(表面及び裏面)と陽極20との間に少なくとも1本のノズル管60をさらに設けることができる。ノズル管60は、ワーク(陰極)2と陽極20との間に形成される電界を遮るので、複数のノズル管60を設ける場合でもその本数は少ないことが好ましい。ノズル管60は、図9に示すようにメッキ液を噴出する複数の噴出口60Aを有する。図9に示すノズル管60の噴出口60Aは垂直方向ピッチPは従来の連続搬送式に用いられるピッチ(例えば7.5mm)よりも小さく、噴出口60Aの外径以上でかつ5mm以下とすることができる。単位時間当たりのメッキ液供給量を多くするためである。加えて、小さいサイズのチップや密なパターンに均等にメッキ液を供給するためにも、ピッチPは小さい方が良い。なお、図9ではワーク2の表裏面側のノズル管60はワーク2を挟んで対向配置されているが、非対向位置に設けても良い。対向配置させればワーク2が液圧で変形することを解消でき、非対向配置させるとワーク2の貫通孔にメッキ液を供給し易くなる。なお、連続搬送方式でもノズル管が設けられるが、その本数は一処理ユニットに十数本と多い。
6. Moving Scanning of Nozzle Tube In each of the four cells 11-1 to 11-4 of each processing unit 3-1 to 3-n, as shown in FIG. At least one nozzle tube 60 may be further provided between the front surface and the back surface) and the anode 20. Since the nozzle tubes 60 block the electric field formed between the work (cathode) 2 and the anode 20, the number of nozzle tubes 60 is preferably small even when a plurality of nozzle tubes 60 are provided. The nozzle tube 60 has a plurality of ejection ports 60A for ejecting the plating solution, as shown in FIG. The vertical pitch P of the ejection port 60A of the nozzle tube 60 shown in FIG. 9 is smaller than the pitch (for example, 7.5 mm) used in the conventional continuous transfer system, and should be not less than the outer diameter of the ejection port 60A and not more than 5 mm. You can This is to increase the amount of plating liquid supplied per unit time. In addition, it is preferable that the pitch P is small in order to evenly supply the plating liquid to small-sized chips and dense patterns. In FIG. 9, the nozzle tubes 60 on the front and back sides of the work 2 are opposed to each other with the work 2 interposed therebetween, but they may be provided at non-opposing positions. If they are opposed to each other, it is possible to prevent the work 2 from being deformed by hydraulic pressure, and if they are not opposed to each other, it is easy to supply the plating liquid to the through holes of the work 2. Note that the nozzle tubes are also provided in the continuous transfer method, but the number of nozzle tubes is as large as a dozen or more per processing unit.

ワークの連続搬送方式では多数のノズル管が固定されていたが、間欠搬送方式を採用する本実施形態では、各処理ユニット3−1〜3−nの4つのセル11−1〜11−4にて、少なくとも1本のノズル管60を、例えば図8の矢印A1方向及びA2方向(共に間欠搬送方向Aと平行である)に水平走査移動させている。それにより、図9に示すように、ワーク2の全面に対して均一にメッキ液を噴出させることができる。また、ノズル管60の移動速度は、連続搬送方式でのワーク2の移動速度(例えば0.8m/min)よりも速くすることができる。こうすると、単位時間当たりのメッキ液供給量を多くすることができる。なお、連続搬送式でワーク速度を速くすると処理槽の全長が長くなって装置が大型化するが、本実施形態のような間欠搬送では装置は大型化しない。 Although a large number of nozzle tubes are fixed in the continuous transfer system for workpieces, in the present embodiment employing the intermittent transfer system, the four cells 11-1 to 11-4 of each processing unit 3-1 to 3-n are provided. Thus, at least one nozzle tube 60 is horizontally scanned and moved, for example, in the directions of arrows A1 and A2 in FIG. 8 (both parallel to the intermittent transport direction A). Thereby, as shown in FIG. 9, the plating liquid can be uniformly ejected onto the entire surface of the work 2. Further, the moving speed of the nozzle tube 60 can be made higher than the moving speed of the work 2 in the continuous transfer system (for example, 0.8 m/min). This makes it possible to increase the amount of plating liquid supplied per unit time. It should be noted that when the work speed is increased in the continuous transfer system, the overall length of the processing tank becomes long and the device becomes large, but the device does not become large in the intermittent transfer as in the present embodiment.

ノズル管60の往復移動機構は図示を省略するが、公知の往復直線運動させる機構(例えば可逆モータで駆動されるピニオン−ラック機構、ピストン−クランク機構等)を採用することができる。この往復移動機構は、各セルで停止されているワーク2の少なくとも水平幅と対応する長さ範囲を少なくとも一回循環して走査するように、2本のノズル管60を移動させることができる。こうすると、処理されるワーク2の面内均一性が向上する。特に、ノズル管60の初期位置から少なくとも一回循環走査させて初期位置に復帰させることが好ましい。ノズル管60の影がワーク面内でほぼ均一化されるからである。なお、ノズル管60は装置の稼動中に亘って往復走査移動を連続させても良いし、ワーク2の間欠搬送中は往復走査移動を停止しても良い。 Although a reciprocating mechanism of the nozzle tube 60 is not shown, a known mechanism for reciprocating linear movement (for example, a pinion-rack mechanism driven by a reversible motor, a piston-crank mechanism, etc.) can be adopted. The reciprocating mechanism can move the two nozzle tubes 60 so as to circulate and scan at least once the length range corresponding to at least the horizontal width of the work 2 stopped in each cell. This improves the in-plane uniformity of the workpiece 2 to be processed. In particular, it is preferable that the nozzle tube 60 be circulated and scanned at least once from the initial position to return to the initial position. This is because the shadow of the nozzle tube 60 is substantially uniformized within the work surface. It should be noted that the nozzle tube 60 may continue the reciprocal scanning movement during the operation of the apparatus, or may stop the reciprocating scanning movement during the intermittent transfer of the work 2.

本実施形態によれば、間欠停止されるワーク2に対して、ワーク2の停止位置と対応して少なくとも一つ例えば2本のノズル管60をワーク2に対して走査移動させることができる。それにより、平面視でワーク2と陽極20との間に位置するノズル管60の影となって陽極−陰極間の電界が妨げられる領域が、ノズル管60の移動に伴って移動する。このため、ノズル管60によって電界が妨げられる領域が固定されず、処理されるワーク2の面内均一性が向上する。なお、ノズル管60の走査移動方向は水平方向に限らない。例えばノズル管60を水平に配置して垂直方向に走査移動してもよく、走査移動方向は水平、垂直等のいずれの方向であっても良い。 According to this embodiment, at least one nozzle tube 60, for example, two nozzle tubes 60 can be scanned and moved with respect to the work 2 that is intermittently stopped, corresponding to the stop position of the work 2. As a result, a region that is a shadow of the nozzle tube 60 positioned between the work 2 and the anode 20 in plan view and that interferes with the electric field between the anode and the cathode moves as the nozzle tube 60 moves. Therefore, the area where the electric field is blocked by the nozzle tube 60 is not fixed, and the in-plane uniformity of the workpiece 2 to be processed is improved. The scanning movement direction of the nozzle tube 60 is not limited to the horizontal direction. For example, the nozzle tube 60 may be arranged horizontally and moved by scanning in the vertical direction, and the scanning movement direction may be any direction such as horizontal or vertical.

ノズル管60は公知の構造により分割処理槽内の噴出口60A付近のメッキ液を巻き込んで噴出させることができる。よって、陽極20付近の金属イオンが豊富なメッキ液をワーク2に向けて噴出でき、スループットが向上する。 The nozzle tube 60 has a well-known structure and can entrain and eject the plating liquid in the vicinity of the ejection port 60A in the split processing tank. Therefore, the plating liquid rich in metal ions near the anode 20 can be ejected toward the work 2, and the throughput is improved.

なお、ノズル管60の走査移動は、間欠搬送方式の表面処理装置に広く適用することができ、必ずしも上述した実施形態のような構造、つまり複数の処理ユニットの連結構造、陰極分割構造、陽極分割構造や、後述するプッシャーによる間欠搬送機構を備えた構造等に限定されるものではない。 The scanning movement of the nozzle tube 60 can be widely applied to the intermittent transfer type surface treatment apparatus, and the structure like the above-described embodiment, that is, the connection structure of a plurality of processing units, the cathode division structure, and the anode division is not necessarily required. It is not limited to the structure, the structure including an intermittent transfer mechanism using a pusher described later, or the like.

7.処理ユニット毎の間欠搬送装置
本実施形態では、各処理ユニット3−1〜3−n毎に間欠搬送装置を設けることが好ましい。処理ユニットの数nを変更しても間欠搬送装置を再設計する必要がないからである。その便宜を求めなければ、特許文献1のように循環式間欠搬送装置を用いても良いし、各処理ユニット3−1〜3−nに共用される一つの間欠搬送装置を用いても良い。なお、以下に説明する間欠搬送装置は、必ずしも複数の処理ユニットを連結してメッキ槽を形成するものに限定されない。
7. Intermittent Transport Device for Each Processing Unit In the present embodiment, it is preferable to provide an intermittent transport device for each of the processing units 3-1 to 3-n. This is because it is not necessary to redesign the intermittent transfer device even if the number n of processing units is changed. If the convenience is not sought, the cyclic intermittent transfer device as in Patent Document 1 may be used, or one intermittent transfer device shared by the processing units 3-1 to 3-n may be used. The intermittent transfer device described below is not necessarily limited to one that connects a plurality of processing units to form a plating tank.

各処理ユニット3−1〜3−n毎に設けられる間欠搬送装置として、図10または図11に示すものを採用することができる。図10に示す間欠搬送装置は、間欠搬送方向Aと平行な正逆方向A1,A2に向けて、例えばエアシリンダー等で進退駆動されるプッシャー70で構成される。プッシャー70は、4箇所に押動片71を有する。4つの押動片71は、4つの搬送治具30の被押動片350(図4参照)を押動可能である。4つの押動片71は、図10において時計周り方向Dに回転付勢されている。 As the intermittent transfer device provided for each of the processing units 3-1 to 3-n, the one shown in FIG. 10 or FIG. 11 can be adopted. The intermittent transfer device shown in FIG. 10 is composed of a pusher 70 which is driven forwards and backwards in forward and backward directions A1 and A2 parallel to the intermittent transfer direction A by, for example, an air cylinder. The pusher 70 has pushing pieces 71 at four locations. The four pushing pieces 71 can push the pushed pieces 350 (see FIG. 4) of the four transport jigs 30. The four pushing pieces 71 are rotationally biased in the clockwise direction D in FIG.

プッシャー70は、方向A1に向けた前進時に4つの押動片71が4つの搬送治具30の被押動片350を押動して4つのワーク2を間欠搬送させる。プッシャー70は、方向A2に向けた後退時に、押動片71が被押動片350と接触すると、押動片71が矢印D方向への付勢力に抗して矢印Dとは逆方向に回転することで、被押動片350に邪魔されることなく初期位置に復帰される。こうして、各処理ユニット3−1〜3−n内にあった4つのワーク2は、プッシャー70により同時に一ステップ移動されて間欠搬送される。それにより、処理ユニット内の最下流位置以外の3つのワーク2は同一処理ユニット内で一ステップ移動され、同一または前段の処理ユニット内の最下流位置にあったワーク2はその後段の処理ユニット内の最上流位置に移動される。こうして、4つの搬送治具30に保持された4つのワーク2は、処理ユニット内の4つの停止位置を始点及び/または終点として、間欠的に搬送される。 In the pusher 70, the four push pieces 71 push the pushed pieces 350 of the four transport jigs 30 during forward movement in the direction A1 to intermittently transport the four workpieces 2. When the pusher piece 71 comes into contact with the pushed piece 350 when the pusher 70 retreats in the direction A2, the pusher piece 71 rotates in the direction opposite to the arrow D against the biasing force in the arrow D direction. By doing so, the pushed piece 350 is returned to the initial position without being disturbed. In this way, the four works 2 in each processing unit 3-1 to 3-n are simultaneously moved one step by the pusher 70 and intermittently conveyed. Thereby, three work 2 other than the most downstream position of the processing unit is moved one step in the same process unit, the same or workpiece 2 that was in the most downstream position in the preceding processing unit in the processing unit of a subsequent stage Moved to the most upstream position. In this way, the four workpieces 2 held by the four transport jigs 30 are intermittently transported with the four stop positions in the processing unit as start points and/or end points.

図10に示す間欠搬送装置は、搬送治具30を押動するだけであるから、搬送治具30の停止位置を制御することはできない。この間欠搬送装置は、間欠搬送速度が比較的遅く、プッシャー70での押動停止後も搬送治具30が前進し続ける慣性力を生じない場合に使用することができる。あるいは、この間欠搬送装置は、搬送治具30の案内ローラー331,332の少なくとも一つに、本願出願人による国際特許出願PCT/JP2018/020119に記載されたブレーキ機構を設けた場合にも採用することができる。 Since the intermittent transfer device shown in FIG. 10 only pushes the transfer jig 30, the stop position of the transfer jig 30 cannot be controlled. This intermittent transfer device can be used when the intermittent transfer speed is relatively low and the inertial force of the transfer jig 30 that keeps moving forward even after the pushing operation of the pusher 70 is stopped does not occur. Alternatively, the intermittent transfer device is also adopted when at least one of the guide rollers 331 and 332 of the transfer jig 30 is provided with the brake mechanism described in the international patent application PCT/JP2018/020119 by the applicant of the present application. be able to.

図11(A)(B)に示す間欠搬送装置は、4つの押動片73を備えて進退駆動(A1,A2方向の駆動)及び昇降駆動(矢印E方向の駆動)されるプッシャー72を含む。4つの押動片73は、搬送治具30の被押動片350が嵌まり込む例えば上向き開口の凹部73Aを含む。図11(A)に示すように、プッシャー72が上昇されると、4つの凹部73Aに搬送治具30の被押動片350が嵌まり込む。その後、図11(B)に示すように、プッシャー72をA1方向に前進させると、4つの搬送治具30は同時に一ステップ分だけ間欠搬送される。また、プッシャー72の前進が終了すると、凹部73Aにより被押動片350の停止位置が一義的に定まる。その後、プッシャー72は下降され、さらに後退されて、初期位置に復帰される。特に、凹部73Aと被押動片350との係合により、複数の搬送治具30を所定の位置に停止させることができ、より高速な間欠送りが可能となる。 The intermittent transfer device shown in FIGS. 11A and 11B includes a pusher 72 which is provided with four pushing pieces 73 and is driven to move back and forth (driving in the directions A1 and A2) and driven up and down (driving in the direction of arrow E). .. The four pushing pieces 73 include, for example, a concave portion 73A having an upward opening into which the pushed piece 350 of the transport jig 30 is fitted. As shown in FIG. 11A, when the pusher 72 is raised, the pushed pieces 350 of the carrying jig 30 are fitted into the four recesses 73A. Then, as shown in FIG. 11B, when the pusher 72 is advanced in the A1 direction, the four transfer jigs 30 are simultaneously intermittently transferred by one step. Further, when the forward movement of the pusher 72 is completed, the stop position of the pushed piece 350 is uniquely determined by the recess 73A. Then, the pusher 72 is lowered, further retracted, and returned to the initial position. In particular, by engaging the recessed portion 73A and the pushed piece 350, it is possible to stop the plurality of transport jigs 30 at predetermined positions, and it is possible to perform higher-speed intermittent feeding.

なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また本実施形態及び変形例の全ての組み合わせも、本発明の範囲に含まれる。 Although the present embodiment has been described in detail as described above, it will be easily understood by those skilled in the art that many modifications can be made without departing from the novel matters and effects of the present invention. Therefore, all such modifications are included in the scope of the present invention. For example, a term described in the specification or the drawings at least once together with a different term having a broader meaning or the same meaning can be replaced with the different term in any place in the specification or the drawing. Further, all combinations of the present embodiment and modifications are also included in the scope of the present invention.

図12は、図4に示す搬送治具30のうちのワーク保持部320をワーク保持部320Aに変更した変形例を示す、図12では、ワーク2を囲むハッチングで示す四角枠領域にダミー被処理部80を設けている。ダミー被処理部80はワーク2と共に表面処理(メッキ)される領域である。ダミー被処理部80は、図12に示す給電部81と接続される。この給電部81は図4に示す被給電部340と電気的に接続されることで、ダミー被処理部80はワーク2と同様にして陰極に設定される。 FIG. 12 shows a modified example in which the work holding part 320 of the transfer jig 30 shown in FIG. 4 is changed to a work holding part 320A. In FIG. 12, a dummy processed object is placed in a square frame area surrounded by hatching surrounding the work 2. A section 80 is provided. The dummy processed portion 80 is a region to be surface-treated (plated) together with the work 2. The dummy processed portion 80 is connected to the power feeding portion 81 shown in FIG. By electrically connecting the power feeding portion 81 to the power fed portion 340 shown in FIG. 4, the dummy treated portion 80 is set as a cathode similarly to the work 2.

ワーク2の周縁はダミー被処理部80の内側に位置することから、ワーク2の周縁はエッジにならない。よって、ワーク2の周縁に電界が集中しないので、いわゆるドックボーンと称される厚膜部は生じない。ダミー被処理部80の電気抵抗をワーク2面内の電気抵抗と実質的に同じになるようにすれば、ワーク2の面内均一性が向上する。なお、メッキ装置1はメッキ処理部の後工程に剥離槽を有し、メッキ後に搬送治具30は剥離槽に投入されてメッキが剥離される。その際にダミー被処理部80に形成されたメッキも剥離されるので、搬送治具30を繰り返し再使用可能となる。 Since the peripheral edge of the work 2 is located inside the dummy processed portion 80, the peripheral edge of the work 2 does not become an edge. Therefore, since the electric field is not concentrated on the periphery of the work 2, a thick film portion called a so-called dock bone does not occur. The in-plane uniformity of the work 2 is improved by setting the electric resistance of the dummy processed portion 80 to be substantially the same as the electric resistance in the surface of the work 2. The plating apparatus 1 has a stripping tank in the subsequent step of the plating processing section, and the transport jig 30 is put into the stripping tank after plating to strip the plating. At that time, the plating formed on the dummy processed portion 80 is also peeled off, so that the transport jig 30 can be reused repeatedly.

図13は、図4に示す搬送治具30のうちの被給電部340に陰極レール40の清掃機能を付加した変形例である搬送治具30Aを示す。図13では、支持アーム341が、接触子342,343に加えて、陰極レール40と接触して陰極レール40を清掃する少なくとも一つのレール清掃部344を支持している。図13に示すレール清掃部344は、陰極レール40の導電部43を磨いて堆積層(例えば導電部上の酸化皮膜等)を削り取る研磨材例えばスクレーパー344Aと、研磨粉やごみを払い出すブラシ344Bの少なくとも一方または双方とを含んでいる。ブラシ344Bはスクレーパー344Aの下流側に設けることができる。清掃部344(344A,344B)は、接触子342,344と同様な構造により陰極レール40に圧接される。 Figure 13 shows a conveying jig 30A to the power-supplied portion 340 which is a modified example of adding a cleaning function of the cathode rails 40 of the conveying jig 30 shown in FIG. 13, in addition to the contacts 342 and 343, the support arm 341 supports at least one rail cleaning unit 344 that contacts the cathode rail 40 and cleans the cathode rail 40. The rail cleaning unit 344 shown in FIG. 13 includes an abrasive material such as a scraper 344A for polishing the conductive portion 43 of the cathode rail 40 to scrape off a deposited layer (for example, an oxide film on the conductive portion), and a brush 344B for discharging polishing powder and dust. At least one or both of these are included. The brush 344B can be provided on the downstream side of the scraper 344A. The cleaning parts 344 (344A, 344B) are pressed against the cathode rail 40 by the same structure as the contacts 342, 344.

図13に示す清掃部344を有する搬送治具30Aを、メッキ装置1にて循環使用される多数の搬送治具の少なくとも一つとして用いることで、メッキ装置1を稼働させながら陰極レール40を清掃し、通電不良を防止することができる。それにより、陰極レール40の導電部43の電気抵抗値が高くなるなどの不具合を抑制し、従来週一回の頻度で実施されていたメンテナンス頻度を少なくすることができる。 By using the transfer jig 30A having the cleaning unit 344 shown in FIG. 13 as at least one of many transfer jigs that are circulated in the plating apparatus 1, the cathode rail 40 is cleaned while the plating apparatus 1 is operating. In addition, it is possible to prevent power failure. As a result, it is possible to suppress problems such as an increase in the electric resistance value of the conductive portion 43 of the cathode rail 40, and to reduce the maintenance frequency that was conventionally performed once a week.

なお、図13に示す搬送治具30Aは、上述した間欠搬送式の表面処理装置に限らず、導電部34が連続して設けられる陰極レールを有する連続搬送式の表面処理装置でも使用することができる。 The transfer jig 30A shown in FIG. 13 is not limited to the intermittent transfer type surface treatment apparatus described above, but may be used in a continuous transfer type surface treatment apparatus having a cathode rail on which the conductive portion 34 is continuously provided. it can.

1 表面処理装置、2 ワーク、3−1〜3−n 処理槽(分割処理槽)、20(20A1,20A2,20B1,20B2) 陽極、30,30A 搬送治具、40,40−1,40−2 陰極レール(分割陰極レール)、41 絶縁レール、42 間隔(非導電部)、43 導電部、50 整流器、51 正端子、52 負端子、60 ノズル管、60A 噴出口、70,72 プッシャー(間欠搬送装置)、71,73 押動片、73A 凹部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Surface treatment device, 2 workpieces, 3-1 to 3-n Treatment tank (divided treatment tank), 20 (20A1, 20A2, 20B1, 20B2) Anode, 30, 30A Transfer jig, 40, 40-1, 40- 2 cathode rail (split cathode rail), 41 insulating rail, 42 spacing (non-conductive portion), 43 conductive portion, 50 rectifier, 51 positive terminal, 52 negative terminal, 60 nozzle tube, 60A jet outlet, 70, 72 pusher (intermittent Transport device), 71, 73 pusher piece, 73A recess

Claims (9)

処理液が収容される処理槽と、
前記処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
少なくとも1本の陰極レールと、
前記処理液に浸漬される複数のワークをそれぞれ垂下させて保持し、かつ、前記少なくとも1本の陰極レールと接触して前記複数のワークを陰極に設定する複数の治具を、前記処理槽内の複数の停止位置を始点及び/または終点として、間欠的に搬送させる間欠搬送装置と、
前記処理槽内に、平面視で、前記複数の停止位置の各々に停止されるワークと前記少なくとも一つの陽極との間に少なくとも一つ配置され、前記複数のワークに前記処理液を噴出する複数のノズル管と、
前記複数のノズル管の各々を、間欠停止された対応するワークに対して走査移動させる移動機構と、
を有すること特徴とする表面処理装置。
A treatment tank containing a treatment liquid,
At least one anode disposed in the processing bath,
At least one cathode rail,
A plurality of jigs for suspending and holding a plurality of works immersed in the processing liquid, and contacting the at least one cathode rail to set the plurality of works as cathodes are provided in the processing tank. An intermittent transport device for intermittently transporting the plurality of stop positions as start points and/or end points,
In the processing tank, at least one is disposed between the work stopped at each of the plurality of stop positions and the at least one anode in a plan view, and a plurality of jetting the treatment liquid to the plurality of works. Nozzle tube,
A moving mechanism that moves each of the plurality of nozzle tubes in a scanning manner with respect to the corresponding workpiece that is intermittently stopped,
A surface treatment apparatus comprising:
請求項1において、
前記移動機構は、前記複数の停止位置で停止された前記複数のワークの各々の少なくとも水平幅と対応する長さ範囲を少なくとも一回循環して走査するように、前記複数のノズル管を移動させることを特徴とする表面処理装置。
In claim 1,
The movement mechanism moves the plurality of nozzle tubes so as to circulate and scan at least once a length range corresponding to at least the horizontal width of each of the plurality of works stopped at the plurality of stop positions. A surface treatment device characterized by the above.
請求項1または2において、
前記複数のノズル管は、前記複数の停止位置で停止された前記複数のワークの各々と対向する各位置に配置された少なくとも2本のノズル管を含み、
前記少なくとも2本のノズル管は、垂直方向でそれぞれ異なる位置に前記処理液の複数の噴出口を含むことを特徴とする表面処理装置。
In claim 1 or 2,
The plurality of nozzle tubes includes at least two nozzle tubes arranged at respective positions facing the plurality of works stopped at the plurality of stop positions,
The surface treatment apparatus, wherein the at least two nozzle tubes include a plurality of ejection ports of the treatment liquid at different positions in the vertical direction.
請求項1乃至3のいずれか一項において、
前記処理槽は、互いに連結される複数の分割処理槽を含み、隣り合う2つの分割処理槽は、前記複数のワークが通過する開口を介して連通され、
前記一つの陽極、前記少なくとも1本の陰極レール、前記少なくとも一つのノズル管、前記間欠搬送装置及び前記移動機構は、前記複数の分割処理槽毎にそれぞれ配置され、
前記複数の分割処理槽の各々に設けられた前記少なくとも一つの陽極と前記少なくとも1本の陰極レールとは、少なくとも一つの整流器に接続されることを特徴とする表面処理装置
In any one of Claim 1 thru|or 3,
The processing tank includes a plurality of divided processing tanks connected to each other, and two adjacent divided processing tanks are communicated with each other through an opening through which the plurality of works pass,
The one anode, the at least one cathode rail, the at least one nozzle tube, the intermittent transfer device, and the moving mechanism are arranged for each of the plurality of divided processing tanks,
The surface treatment apparatus, wherein the at least one anode and the at least one cathode rail provided in each of the plurality of divided treatment tanks are connected to at least one rectifier .
複数の処理ユニットが連結される表面処理装置であって、
前記複数の処理ユニットの各々は、
処理液が収容される分割処理槽と、
前記分割処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
少なくとも1本の陰極レールと、
前記処理液に浸漬される複数のワークをそれぞれ保持し、かつ、前記少なくとも1本の陰極レールと接触して前記複数のワークを陰極に設定する複数の治具を、前記分割処理槽内の複数の停止位置を始点及び/または終点として、昇降動作を伴うことなく間欠的に水平搬送させる間欠搬送装置と、
前記少なくとも一つの陽極と前記少なくとも1本の陰極レールとに接続された少なくとも一つの整流器と、
を有し、
隣り合う2つの分割処理槽は、前記複数のワークが通過する開口を介して連通していること特徴とする表面処理装置。
A surface treatment apparatus in which a plurality of treatment units are connected,
Each of the plurality of processing units is
A divided processing tank in which the processing liquid is stored,
At least one anode arranged in the divided treatment tank,
At least one cathode rail,
A plurality of jigs for holding the plurality of works immersed in the processing liquid and contacting the at least one cathode rail to set the plurality of works as cathodes are provided in the divided processing tanks. An intermittent transfer device for intermittently transferring horizontally with the stop position as the start point and/or the end point without being accompanied by a lifting operation ,
At least one rectifier connected to the at least one anode and the at least one cathode rail;
Have
A surface treatment apparatus, wherein two adjacent divided treatment tanks communicate with each other through an opening through which the plurality of works pass.
請求項5において、
前記間欠搬送装置は、複数の押動片を備えて進退駆動されるプッシャーを含み、
前記プッシャーは、前進時に前記複数の押動片が前記複数の治具の複数の被押動片を押動して前記複数のワークを前進させ、後退時に前記複数の押動片と前記複数の被押動片との係合が解除されて初期位置に復帰されること特徴とする表面処理装置。
In claim 5,
The intermittent transfer device includes a pusher having a plurality of pushing pieces and driven to move back and forth,
In the pusher, the plurality of pushing pieces push the plurality of pushed pieces of the plurality of jigs to move the plurality of works forward when moving forward, and the plurality of pushing pieces and the plurality of pushing pieces move backward when moving backward. A surface treatment apparatus, which is released from engagement with a pushed piece and returned to an initial position.
請求項5において、
前記間欠搬送装置は、複数の押動片を備えて進退駆動及び昇降駆動されるプッシャーを含み、
前記複数の押動片は、前記プッシャーの昇降動作の一方により前記複数の治具に設けられた複数の被押動片が配置される凹部を含み、前記プッシャーの昇降動作の他方により前記複数の被押動片が前記凹部から離脱され、
前記プッシャーは、前進時に前記複数の押動片が前記複数の被押動片を押動して前記複数のワークを前進させ、かつ、前進停止時に前記複数のワークを停止させ、前記複数の被押動片が前記凹部から離脱されている後退時に初期位置に復帰されること特徴とする表面処理装置。
In claim 5,
The intermittent transfer device includes a pusher that is provided with a plurality of pushing pieces and is driven to move forward and backward and is driven up and down.
The plurality of pushing pieces include a recess in which a plurality of pushed pieces provided in the plurality of jigs are arranged by one of the raising and lowering operations of the pusher, and the plurality of pushing pieces are provided by the other of the raising and lowering operations of the pusher. The pushed piece is separated from the recess,
In the pusher, the plurality of pushing pieces push the plurality of pushed pieces to move the plurality of works forward during forward movement, and stop the plurality of works when forward movement stops, The surface treatment apparatus, wherein the pushing piece is returned to the initial position when retracted while being separated from the recess.
請求項4乃至7のいずれか一項において、
前記少なくとも一つの整流器は、前記複数の停止位置の数と一致する複数の整流器を含み、
前記少なくとも1本の陰極レールは、前記複数の停止位置にそれぞれ停止された前記複数の治具にそれぞれ接触され、かつ、電気的に絶縁された複数の導電部を含み、前記複数の導電部がそれぞれ前記複数の整流器に接続されること特徴とする表面処理装置。
In any one of Claims 4 thru|or 7,
The at least one rectifier includes a plurality of rectifiers corresponding in number to the plurality of stop positions,
The at least one cathode rail includes a plurality of electrically conductive portions that are respectively in contact with the plurality of jigs stopped at the plurality of stop positions and that are electrically insulated, and the plurality of conductive portions are A surface treatment apparatus, each of which is connected to the plurality of rectifiers.
請求項8において、
前記少なくとも一つの陽極は、前記複数の停止位置の数と一致する複数の陽極を含み、前記複数の陽極がそれぞれ前記複数の整流器に接続されること特徴とする表面処理装置。
In claim 8,
The at least one anode includes a plurality of anodes corresponding in number to the plurality of stop positions, and the plurality of anodes are respectively connected to the plurality of rectifiers.
JP2019549223A 2017-10-20 2018-10-10 Surface treatment equipment Active JP6737527B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017203866 2017-10-20
JP2017203866 2017-10-20
PCT/JP2018/037756 WO2019078063A1 (en) 2017-10-20 2018-10-10 Surface treatment device

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020120145A Division JP2020169393A (en) 2017-10-20 2020-07-13 Surface treatment apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2019078063A1 JPWO2019078063A1 (en) 2020-07-27
JP6737527B2 true JP6737527B2 (en) 2020-08-12

Family

ID=66173283

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019549223A Active JP6737527B2 (en) 2017-10-20 2018-10-10 Surface treatment equipment
JP2020120145A Pending JP2020169393A (en) 2017-10-20 2020-07-13 Surface treatment apparatus

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020120145A Pending JP2020169393A (en) 2017-10-20 2020-07-13 Surface treatment apparatus

Country Status (6)

Country Link
JP (2) JP6737527B2 (en)
KR (1) KR20200073239A (en)
CN (1) CN111247272A (en)
PH (1) PH12020550794A1 (en)
TW (1) TWI682076B (en)
WO (1) WO2019078063A1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110424032A (en) * 2019-09-10 2019-11-08 江苏师范大学 A kind of jet stream electric deposition device and its method for principal axis of pressing machine reparation
JP7380338B2 (en) 2020-03-06 2023-11-15 住友金属鉱山株式会社 Plating equipment and plating method

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2727250B2 (en) * 1990-03-14 1998-03-11 株式会社中央製作所 Power supply control device in plating equipment
JP2004190081A (en) * 2002-12-10 2004-07-08 Komatsu Lite Seisakusho:Kk Treatment unit used for continuous plating device
JP4805141B2 (en) * 2003-03-11 2011-11-02 株式会社荏原製作所 Electroplating equipment
JP2005200727A (en) * 2004-01-16 2005-07-28 Toyota Motor Corp Method of manufacturing semiconductor device
KR101500966B1 (en) * 2011-06-30 2015-03-10 아루멕쿠스 피이 가부시키가이샤 Surface treatment apparatus and jig for holding work
JP5795514B2 (en) * 2011-09-29 2015-10-14 アルメックスPe株式会社 Continuous plating equipment
CN202954124U (en) * 2012-12-10 2013-05-29 中物院成都科学技术发展中心 Electrochemical deposition equipment for horizontal workpiece
JP6041927B2 (en) * 2015-05-07 2016-12-14 アルメックスPe株式会社 Surface treatment equipment
CN205917341U (en) * 2016-07-28 2017-02-01 江苏博敏电子有限公司 Electroplate even plating bath

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020169393A (en) 2020-10-15
TW201923158A (en) 2019-06-16
WO2019078063A1 (en) 2019-04-25
JPWO2019078063A1 (en) 2020-07-27
KR20200073239A (en) 2020-06-23
CN111247272A (en) 2020-06-05
TWI682076B (en) 2020-01-11
PH12020550794A1 (en) 2021-04-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6820626B2 (en) Work holding jig
US6153064A (en) Apparatus for in line plating
JP6737527B2 (en) Surface treatment equipment
US9745665B2 (en) Method and apparatus for electrolytically depositing a deposition metal on a workpiece
JP2013011009A (en) Surface treatment system and workpiece holding tool
KR20210114956A (en) Work holding jig and electroplating device
KR20210114957A (en) Work holding jig and electroplating device
JP2004346391A (en) Plating apparatus
JP3173836U (en) Horizontal electrolytic plating apparatus provided with means for removing oxygen gas bubbles adhering to a plate-like workpiece
TWI677599B (en) Electroplating device
JP6117891B2 (en) Surface treatment equipment
KR101980747B1 (en) Horizontal plating line and the plating method using the same
TWM575811U (en) An electroplating machine
JP2013091821A (en) Plating apparatus
CN214544956U (en) Cabin system with continuous processing
JP2018044249A (en) Surface treatment apparatus and work holding tool
CN214481512U (en) Chemical deposition metal processing line and unit carrying and transporting structure
CN116971019A (en) Automatic deplating device for electroplated cathode contact and continuous electroplating operation method
CN114916143A (en) Cabin system with continuous processing
JPH0138395B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200414

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200414

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20200414

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20200528

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200616

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200713

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6737527

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250