JP6725893B2 - 重合性化合物、並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子 - Google Patents

重合性化合物、並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子 Download PDF

Info

Publication number
JP6725893B2
JP6725893B2 JP2019538445A JP2019538445A JP6725893B2 JP 6725893 B2 JP6725893 B2 JP 6725893B2 JP 2019538445 A JP2019538445 A JP 2019538445A JP 2019538445 A JP2019538445 A JP 2019538445A JP 6725893 B2 JP6725893 B2 JP 6725893B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
alkyl group
carbon atoms
general formula
atom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019538445A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2019098040A1 (ja
Inventor
健太 清水
健太 清水
林 正直
正直 林
豊 門本
豊 門本
楠本 哲生
哲生 楠本
礼貴 細野
礼貴 細野
辰弥 山本
辰弥 山本
正紀 宮本
正紀 宮本
英知 甲斐
英知 甲斐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
DIC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DIC Corp filed Critical DIC Corp
Publication of JPWO2019098040A1 publication Critical patent/JPWO2019098040A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6725893B2 publication Critical patent/JP6725893B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/52Esters of acyclic unsaturated carboxylic acids having the esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
    • C07C69/533Monocarboxylic acid esters having only one carbon-to-carbon double bond
    • C07C69/54Acrylic acid esters; Methacrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D319/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D319/041,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes
    • C07D319/061,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes not condensed with other rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/01Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C255/19Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms containing cyano groups and carboxyl groups, other than cyano groups, bound to the same saturated acyclic carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/52Esters of acyclic unsaturated carboxylic acids having the esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
    • C07C69/604Polycarboxylic acid esters, the acid moiety containing more than two carboxyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • C08F20/20Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • C08F20/22Esters containing halogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • C08F20/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F20/30Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/38Polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/42Mixtures of liquid crystal compounds covered by two or more of the preceding groups C09K19/06 - C09K19/40
    • C09K19/46Mixtures of liquid crystal compounds covered by two or more of the preceding groups C09K19/06 - C09K19/40 containing esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/52Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
    • C09K19/54Additives having no specific mesophase characterised by their chemical composition
    • C09K19/56Aligning agents
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K2019/0444Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
    • C09K2019/0448Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001Cyclohexane rings
    • C09K19/3003Compounds containing at least two rings in which the different rings are directly linked (covalent bond)
    • C09K2019/3016Cy-Ph-Ph
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001Cyclohexane rings
    • C09K19/3003Compounds containing at least two rings in which the different rings are directly linked (covalent bond)
    • C09K2019/3019Cy-Cy-Ph-Ph
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001Cyclohexane rings
    • C09K19/3003Compounds containing at least two rings in which the different rings are directly linked (covalent bond)
    • C09K2019/3025Cy-Ph-Ph-Ph
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001Cyclohexane rings
    • C09K19/3028Cyclohexane rings in which at least two rings are linked by a carbon chain containing carbon to carbon single bonds
    • C09K2019/304Cy-C2H4-Ph-Ph

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)

Description

本発明は、重合性化合物、並びにそれを使用した液晶組成物、及び液晶表示素子に関する。
従来、VA方式の液晶ディスプレイでは、電圧無印加時に液晶分子の垂直配向を誘起し、電圧印加時に液晶分子の水平配向を実現するために、電極上にポリイミド配向膜(PI)層が設けられている。しかし、PI層の製膜には多大なコストを要するため、近年では、PI層を省きつつも、液晶分子の配向を実現するための方法が検討されている。
例えば特許文献1には、負の誘電異方性を有する極性化合物の混合物を基礎とし、少なくとも1種類の自発配向性添加剤を含有することを特徴とする液晶媒体が開示され、この液晶媒体が配向層を一切含有しないディスプレイにおける使用に高度に適している旨が記載されている。そして、特許文献1では、自発配向性添加剤として、水酸基を有する特定の化合物が用いられている。
特表2014−524951号公報
しかしながら、本発明者らの検討によれば、特許文献1に記載されている自己配向性添加剤を用いた場合、液晶分子を垂直に配向させる配向規制力及び配向ムラ等の電気光学特性において未だ十分ではなく、また、該自発配向性添加剤を含有した液晶組成物の保存性の点で改善の余地があることが判明した。
そこで、本発明の目的は、液晶組成物に添加した際に保存性を確保でき、PI層を設けなくとも液晶分子の配向を可能にすることができる極性基を有する重合性化合物を提供することにある。また、本発明の他の目的は、保存性に優れ、PI層を設けなくとも液晶分子の垂直配向が可能な液晶組成物、及び該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供することにある。
本発明は、一般式(i)で表される化合物を提供する。
Figure 0006725893
(式中、
i1はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜40の直鎖又は分岐のアルキル基又はハロゲン化アルキル基を表し、これらの基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置換されてもよく、
i1、Ai2及びAi3はそれぞれ独立して2価の芳香族基、2価の環式脂肪族基、又は2価の複素環式化合物基を表し、Ai1中の水素原子はLi1で置換されてもよく、Ai2及びAi3中の水素原子はLi1、Pi1−Spi1−又はKi1で置換されてもよく、Li1はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜40の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−NH−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、
i1及びZi2はそれぞれ独立して単結合、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−CFO−、−OCF−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH=C(CH)COO−、−OCOC(CH)=CH−、−CH−CH(CH)COO−、−OCOCH(CH)―CH−、−OCHCHO−又は炭素原子数2〜20のアルキレン基を表し、このアルキレン基中の1個又は隣接しない2個以上の−CH−は−O−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、
i1は炭素原子数3〜40の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも2個以上の第二級炭素原子は−C(=Xi1)−及び/又は−CH(−CN)−で置換されており、また、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−C(=CH)−、−C(=CHRi3)−、−C(=CRi3 )−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−NH−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、また、これらのアルキル基中の水素原子はPi1−Spi1−で置換されてもよく、Xi1は、酸素原子、硫黄原子、NH又はNRi3を表し、Ri3は炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置換されてもよく、
i1は重合性基を表し、
Spi1はスペーサー基又は単結合を表し、ここで、一般式(i)中に、Ai2又はAi3の置換基として、或いは、Ki1の置換基として、少なくとも1つ以上のPi1−Spi1−を有し、
i1は、0〜3の整数を表し、一般式(i)中にRi1、Ai2、Zi2、Li1、Ki1、Xi1、Pi1及びSpi1が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。
また、本発明は、一般式(i)で表される化合物を1種又は2種以上含有する液晶組成物、及び該液晶組成物を含有する液晶表示素子を提供する。
本発明によれば、保存性に優れ、且つ、PI層を設けなくとも液晶分子の均一な垂直配向を可能な重合性化合物、液晶組成物、及び該液晶組成物を用いた液晶表示素子の提供が可能となる。
本実施形態の重合性化合物は、一般式(i)で表される化合物である。
Figure 0006725893
一般式(i)で表される化合物は、特にKi1で表される部分構造を有するため、液晶組成物に用いられた際に、液晶組成物(液晶層)を挟持する基板に配向し、液晶分子を垂直方向に配向させた状態で保持することができる。一般式(i)で表される化合物は、一般式(K−1)中のKi1で表される部分構造が極性を有するため、液晶組成物(液晶層)を挟持する基板に吸着し、また、該化合物はKi1で表される部分構造を化合物の末端に有するため、液晶分子を垂直方向に配向させた状態で保持すると考えられる。したがって、本実施形態の重合性化合物を用いた液晶組成物によれば、PI層を設けなくとも液晶分子を配向させる(電圧無印加時に液晶分子の垂直配向を誘起し、電圧印加時に液晶分子の水平配向を実現する)ことが可能となる。このように、一般式(i)で表される化合物は、液晶組成物における液晶分子の垂直配向を助けるために好適に使用される。
加えて、本発明者らは、本実施形態の一般式(i)で表される重合性化合物がKi1で表される部分構造を有することにより、液晶分子の配向のみならず、液晶組成物の保存性安定性を確保できることを見出した。
更に、一般式(i)で表される化合物は、Ai2又はAi3の置換基として、或いは、Ki1の置換基として、特定の位置に重合性基を有するため、より良好な配向性を維持できる。
以上の観点から、本実施形態の重合性化合物は、分子の末端、好ましくは分子の主鎖の末端に、Ki1で表される部分構造を有していればよく、Ki1で表される部分構造が結合する結合先の化学構造は、液晶組成物の機能を阻害しない範囲であれば特に制限されない。
以下、一般式(i)で表される化合物の具体例について説明する。
一般式(i)中のKi1は好ましくは、直鎖又は分岐の炭素原子数3〜40のアルキル基、炭素原子数3〜40の直鎖又は分岐のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜40の直鎖又は分岐のシアノ化アルキル基であり、ここで、Ki1中の少なくとも2個以上の第二級炭素原子は−C(=Xi1)−及び/又は−(CH−CN)−で置換されており、Ki1中の少なくとも2個以上の第二級炭素原子は−C(=Xi1)−で置換されていることが好ましく、少なくとも3個以上の第二級炭素原子は−C(=Xi1)−で置換されていることが好ましく、少なくとも4個以上の第二級炭素原子は−C(=Xi1)−で置換されていることが好ましい。Xi1は電圧保持率(VHR)向上の観点から酸素原子が好ましい。Ki1は、好ましくは、炭素原子数3〜30の直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のハロゲン化アルキル基、直鎖又は分岐のシアノ化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−C(=CH)−、−C(=CHRi3)−、−C(=CRi3 )−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−で置換されてもよく、より好ましくは、炭素原子数3〜20の直鎖又は分岐のアルキル基又は直鎖又は分岐のシアノ化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−C(=CH)−、−C(=CHRi3)−、−C(=CRi3 )−、−O−で置換されてもよく、より好ましくは、炭素原子数3〜20の分岐のアルキル基又は分岐のシアノ化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−C(=CH)−、−O−で置換されてもよい。Ri3は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜7のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜3のアルキル基が好ましく、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置換されてもよい。
また、Ki1中の水素原子は重合性基、すなわちPi1−Spi1−で置換されていることが好ましい。Ki1中に極性基と重合性基が存在していることで、より良好な配向性が得られる。
i1は、一般式(K−1)を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、Yi1は、炭素原子数3〜20の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも2個以上の第二級炭素原子は−C(=Xi1)−及び/又は−CH(−CN)−で置換されており、また、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−NH−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、また、これらのアルキル基中の水素原子はPi1−Spi1−で置換されてもよく、Xi1は、酸素原子、硫黄原子、NH又はNRi3を表し、
i1及びSi3はそれぞれ独立して炭素原子数1〜6のアルキレン基又は単結合を表し、該アルキレン基中の−CH−は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−C≡C−、−C(=CH)−、−C(=CHRi3)−、−C(=CRi3 )−、−O−、−NH−、−C(=O)−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、
i2は炭素原子、窒素原子又はケイ素原子を表し、
i2は水素原子、炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらの基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−、−C≡C−、−C(=Xi1)−又は−CH(−CN)−で置換されてもよく、
i1は重合性基を表し、
Spi1はスペーサー基又は単結合を表し、
i1は1〜3の整数を表し、ni2及びni3はそれぞれ独立して0〜2の整数を表すが、Si2が炭素原子又はケイ素原子を表す場合、ni1+ni2+ni3は3であり、Si2が窒素原子を表す場合、ni1+ni2+ni3は2である。Ri3は一般式(i)中のRi3と同じ意味を表し、一般式(K−1)中にRi2、Xi1、Yi1、Si1、Si3、Pi1及びSpi1が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。)
一般式(K−1)中のSi1及びSi3は好ましくは、炭素原子数1〜6の直鎖又は分岐のアルキレン基又は単結合であり、該アルキレン基中の−CH−は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−(C=CH)−、−O−、−(C=O)−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、より好ましくは、単結合、炭素原子数1〜6の直鎖状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の−CH−は酸素原子が直接隣接しないように−O−で置換された基であることが好ましい。Si1及びSi3は、具体的には−(CH)n−、−O−(CH)n−、−(CH)n−O−、−(CH)n−O−(CH)m−、−COO−(CH)n−、−OCO−(CH)n−を表すことが好ましい(n及びmは、1〜6の整数を表す。)
i2は炭素原子であることが好ましい。Ri2は好ましくは、水素原子又は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の−CH−は−O−、−C(=Xi1)−又は−CH(−CN)−で置換されてもよく(ただし−O−は連続にはならない)、好ましくは、水素原子又は炭素原子数1〜7の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の−CH−は−O−、−C(=Xi1)−又は−CH(−CN)−で置換(ただし−O−は連続にはならない)されてもよく、より好ましくは、水素原子、炭素原子数1〜3の直鎖アルキル基が好ましい。
i1は炭素原子数3〜20のアルキル基、炭素原子数3〜20の直鎖又は分岐のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜20の直鎖又は分岐のシアノ化アルキル基であり、ここで、Yi1中の少なくとも2個以上の第二級炭素原子は−C(=Xi1)−及び/又は−CH(−CN)−で置換されており、Yi1中の少なくとも2個以上の第二級炭素原子は−C(=Xi1)−で置換されていることが好ましい。Xi1は電圧保持率(VHR)向上の観点から酸素原子が好ましい。Yi1は、好ましくは、炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノ化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−C(=CH)−、−C(=CHRi3)−、−C(=CRi3 )−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−で置換されてもよく、より好ましくは、炭素原子数3〜7の直鎖又は分岐のアルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−C(=CH)−、−C(=CHRi3)−、−C(=CRi3 )−、−O−で置換されてもよく、より好ましくは、炭素原子数3〜7の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−で置換されてもよい。また、アルキル基中の水素原子はPi1−Spi1−で置換されてもよい。
i1は、一般式(Y−1)から選ばれる基を表すことが、液晶の配向性を向上させる観点から好ましい。
Figure 0006725893
(式中、WiY1は単結合又は酸素原子を表し、破線は単結合又は二重結合を表し、RiY1は、破線が単結合を表す場合、水素原子、炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基又はPi1−Spi1−を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−、C≡C−又は−CO−で置換されてもよく、破線が二重結合を表す場合、=CH、=CHRiY4、又は=CRiY4 を表し、RiY4は水素原子、炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置換されてもよく、RiY3は、破線が単結合を表す場合のRiY1と同じ意味を表し、RiY2は水素原子、炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−NH−、−COO−、−OCO−、−C(=O)−又は−CH(−CN)−で置換されてもよく、また、RiY2はPi1−Spi1−を表し、niY1は破線が二重結合を表す場合0であり、破線が単結合を表す場合1であり、niY2は0〜5の整数を表し、Pi1は重合性基を表し、Spi1はスペーサー基又は単結合を表し、RiY1、RiY3、RiY4、Pi1及びSpi1が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、*でSi3と結合する。)
iY1は、破線が単結合を表す場合、水素原子又は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素原子数1〜7のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基が好ましく、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置換されてもよい。具体的には、水素原子を表すことが好ましく、また、耐熱性向上の観点から、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜3のアルコキシ基、−CO−CH、−CH−O−CHを表すことが好ましい。また、RiY1は耐熱性向上の観点からPi1−Spi1−表すことも好ましい。RiY1がPi1−Spi1−を表す場合、一般式(i)で表される化合物が熱により分解してしまうことにより生じる分解物が重合されることから、不純物の増加を防ぐことができ、液晶組成物への悪影響が少なくなると考えられる。Pi1は重合性基を表し、アクリロイル基、メタクリロイル基、又は後述する一般式(P−1)〜(P−15)で表される群より選ばれる置換基を表すことが好ましい。Spi1は好ましくは炭素原子数1〜18の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、より好ましくは炭素原子数2〜15の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、更に好ましくは炭素原子数2〜8の直鎖状アルキレン基又は単結合を表す。
また、破線が二重結合を表す場合、=CH、=CHRiY4、又は=CRiY4 を表し、=CHを表すことが好ましい。RiY4は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜7のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜3のアルキル基が好ましく、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置換されてもよい。
iY3の好ましい基は、破線が単結合を表す場合のRiY1の好ましい基と同じである。niY1は0が好ましい。
iY1及びRiY3の好ましい組み合わせとして、共に水素原子、共に炭素原子数1〜3のアルキル基、共に炭素原子数1〜3のアルコキシ基、共に−CH−O−CH等があげられる。RiY1及びRiY3のいずれか一方がPi1−Spi1−又は−CO−CHを表す場合、他方は水素原子を表すことが好ましい。
iY2は0〜3の整数が好ましく、0、1又は2が好ましく、0又は1がより好ましい。
iY2は、水素原子又は炭素原子数1〜10のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基が好ましく、炭素原子数1〜7のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基が好ましく、炭素原子数1〜3のアルキル基が好ましい。また、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−C(=Xi2)−又は−CH(−CN)−で置換されていることが好ましい。Xi2はVHR向上の観点から酸素原子が好ましい。また、RiY2は、Pi1−Spi1−を表すことが好ましい。RiY2がPi1−Spi1−を表す場合、一般式(i)で表される化合物が熱により分解してしまうことにより生じる分解物が重合されることから、不純物の増加を防ぐことができ、液晶組成物への悪影響が少なくなると考えられる。
一般式(Y−1)は、より具体的には、式(Y−1−1)、(Y−1−2)、(Y−1−3a)、(Y−1−3b)、(Y−1−4)が好ましい。
Figure 0006725893
(式中、niY11は0又は1を表し、RiY21は炭素原子数1〜10のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−NH−、−COO−、−OCO−、−C(=O)−又は−CH(−CN)−で置換されてもよく、また、RiY21はPi1−Spi1−を表し、RiY31及びRiY32はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−、−C≡C−又は−CO−で置換されてもよく、また、RiY31及びRiY32はPi1−Spi1−を表す。)
iY21は、炭素原子数1〜7のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基が好ましく、炭素原子数1〜3のアルキル基が好ましい。また、RiY21は、Pi1−Spi1−を表すことが好ましい。RiY31及びRiY32は水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基が好ましく、水素原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜3のアルコキシ基、−CO−CH、−CH−O−CHを表すことが好ましい。また、RiY31及びRiY32の少なくともいずれか一方は、Pi1−Spi1−を表すことが好ましい。
液晶化合物との相溶性を向上させる観点からは、式(Y−1−1)の構造を有することが好ましい。式(Y−1−1)としては、式(Y−1−1a)〜式(Y−1−1h)が好ましい。
Figure 0006725893
(式中、niY11は0又は1を表す。)
液晶化合物との相溶性、耐熱性を向上させる観点からは、式(Y−1−2)の構造を有することが好ましい。式(Y−1−2)としては、式(Y−1−2a)〜式(Y−1−2f)が好ましい。
Figure 0006725893
(式中、niY11は0又は1を表す。) 耐熱性を向上させる観点からは、式(Y−1−3a)及び式(Y−1−3b)の構造を有することが好ましい。式(Y−1−3a)としては、式(Y−1−3aa)、式(Y−1−3b)としては、式(Y−1−3ba)が好ましい。
Figure 0006725893
(式中、niY11は0又は1を表す。)
液晶組成物の配向性、電圧保持率を向上させる観点からは、式(Y−1−4)の構造を有することが好ましい。式(Y−1−4)としては、式(Y−1−4a)〜式(Y−1−4f)が好ましい。特に、(Y−1−4a)〜(Y−1−4c)の構造は、液晶化合物との相溶性と液晶組成物の配向性のバランスがとれていて好ましい。
Figure 0006725893
(式中、niY11は0又は1を表す。)
また、Yi1は、一般式(Y−2)から選ばれる基を表すことが、好ましい。
Figure 0006725893
(式中、WiY1、RiY3及びRiY2は一般式(Y−1)中のWiY1、RiY3及びRiY2と同じ意味を表す。)
一般式(Y−2)は、一般式(Y−2−1)を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、niY11、RiY21及びRi31は一般式(Y−1−1)中のniY11、RiY21及びRi31と同じ意味を表す。)
また、Yi1は、一般式(Y−3)から選ばれる基を表すことが、耐熱性向上の観点から好ましい。
Figure 0006725893
(式中、RiY1、RiY2、RiY3、niY1及びniY1は一般式(Y−1)中のRiY1、RiY2、RiY3、niY1及びniY1とそれぞれ同じ意味を表す。)
一般式(Y−3)は、一般式(Y−3−1)〜一般式(Y−3−4)を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、RiY21、RiY31、RiY32及びniY11は一般式(Y−1−1)中のRiY21、RiY31、RiY32及びniY11とそれぞれ同じ意味を表す。)
より具体的には、一般式(Y−3−1)は一般式(Y−3−11)が好ましい。
Figure 0006725893
(式中、RiY21は一般式(Y−3−1)中のRiY21と同じ意味を表す。)
また、Yi1は、一般式(Y−4)から選ばれる基を表すことが、耐熱性向上の観点から好ましい。
Figure 0006725893
(式中、RiY1、RiY2、RiY3、niY1及びniY1は一般式(Y−1)中のRiY1、RiY2、RiY3、niY1及びniY1とそれぞれ同じ意味を表す。)
一般式(Y−4)は、一般式(Y−4−1)〜一般式(Y−4−3b)を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、RiY21、RiY31、RiY32及びniY11は一般式(Y−1−1)中のRiY21、RiY31、RiY32及びniY11とそれぞれ同じ意味を表す。)
より具体的には、一般式(Y−4−1)は一般式(Y−4−11)が好ましい。
Figure 0006725893
(式中、RiY21は一般式(Y−4−1)中のRiY21と同じ意味を表す。)
i1は以下の式(P−1)〜一般式(P−15)で表される群より選ばれる置換基を表すことが好ましい。取り扱いの簡便性、反応性の点から、式(P−1)〜(P−3)、(P−14)、(P−15)のいずれかの置換基が好ましく、式(P−1)、(P−2)が、さらに好ましい。
Figure 0006725893
(式中、右端の黒点は結合手を表す。)
Spi1は、好ましくは炭素原子数1〜18の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、より好ましくは炭素原子数2〜15の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、更に好ましくは炭素原子数2〜8の直鎖状アルキレン基又は単結合を表す。
i1は、液晶の配向性と液晶化合物への溶解性を向上させる観点から、1又は2を表すことが好ましい。ni2は0又は1を表すことが好ましく、配向性を向上させる観点から1を表すことがより好ましい。ni3は、0又は1を表すことが好ましい。
一般式(K−1)は、一般式(K−1A)又は(K−1B)から選ばれる基を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、Si1、Si2、Si3、Yi1、Pi1及びSpi1は、一般式(K−1)中のSi1、Si2、Si3、Yi1、Pi1及びSpi1とそれぞれ同じ意味を表し、niA1は1〜3の整数を表し、niA3は0〜2の整数を表し、niB1は1〜2の整数を表し、niB3は0又は1を表すが、Si2が炭素原子又はケイ素原子を表す場合、niA1+niA3は3であり、niB1+niB3は2であり、Si2が窒素原子を表す場合、niA1+niA3は2であり、niB1 は1、niB3は0を表す。)
式(i)中のKi1は液晶組成物を垂直配向させるために重要な構造であり、極性基と重合基が隣接していることで、より良好な配向性が得られ、また液晶組成物への良好な溶解性を示す。従って、液晶の配向性を重要視する場合は、一般式(K−1B)が好ましい。一方、液晶化合物への溶解性を重要視する場合は、一般式(K−1A)が好ましい。
一般式(K−1A)〜(K−1B)の好ましい例としては以下の式(K−1A−1)〜(K−1A−4)及び式(K−1B−1)〜(K−1B−6)が挙げられるが、液晶組成物への溶解性の点から、式(K−1A−1)〜(K−1A−3)が好ましく、配向性の点からは、式(K−1B−2)〜(K−1B−4)が好ましく、特に好ましくは式(K−1A−1)、(K−1B−2)及び(K−1B−4)が挙げられる。
Figure 0006725893
(式中、Si1、Yi1及びPi1はそれぞれ独立して一般式(K−1)中のSi1、Yi1及びPi1と同じ意味を表す。)
また、一般式(K−1)は、一般式(K−1−1)、(K−1−2)、(K−1−3a)、(K−1−3b)、(K−1−4a)、(K−1−4b)(K−1−Y2)、(K−1−Y3)及び(K−1−Y4)から選ばれる基を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
(式中、niY11、RiY21、RiY31及びRiY32はそれぞれ独立して一般式(Y−1−1)〜(Y−4)中のniY11、RiY21、RiY31及びRiY32とそれぞれ同じ意味を表し、Spi1及びPi1は一般式(i)中のSpi1及びPi1とそれぞれ同じ意味を表し、RiK1は炭素原子数1〜6のアルキレン基又は単結合を表し、該アルキレン基中の−CH−は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−C≡C−又は−O−で置換されてもよく、niK1は及びniK2はそれぞれ独立して0又は1を表す。)
iK1は炭素原子数1〜6の直鎖のアルキレン基が好ましく、炭素原子数1〜3の直鎖のアルキレン基が好ましい。なお、RiY21、RiY31、RiY32、Spi1及びPi1の好ましい基は一般式(Y−1−1)〜(Y−1−4)、(Y−2)〜(Y−4)、一般式(i)中のRiY21、RiY31、RiY32、Spi1、Pi1と同様である。
また、Ki1は、一般式(K−2)〜(K−5)を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、Si1、Pi1及びSpi1は一般式(K−1)中のSi1、Pi1及びSpi1とそれぞれ同じ意味を表し、RK21は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも1個以上の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−C≡C−、−O−、又は−NH−で置換されてもよく、ni4、niK21はそれぞれ独立して0又は1を表す。)
K21は炭素原子数1〜5の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表すことが好ましく、炭素原子数1〜3の直鎖アルキル基又はシアノ化アルキル基を表すことがより好ましい。また、これらのアルキル基中の少なくとも1個以上の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−で置換されていることが好ましい。RK21は具体的には、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜3のアルコキシ基、炭素原子数1〜3のシアノ化アルキル基が好ましい。
一般式(K−2)は、以下の一般式(K−2−1)〜(K−2−3)を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、Si1、Pi1、Spi1、ni4及びniK21は一般式(K−2)中のSi1、Pi1、Spi1、ni4及びniK21とそれぞれ同じ意味を表し、RK211は炭素原子数1〜3の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表す。)
一般式(K−3)は、以下の一般式(K−3−1)及び(K−3−2)を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、Si1は一般式(K−3)中のSi1と同じ意味を表し、RK211は炭素原子数1〜3の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表す。)
一般式(K−4)は、以下の一般式(K−4−1)を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、Si1、Pi1、Spi1及びni4は一般式(K−4)中のSi1、Pi1、Spi1及びniK21とそれぞれ同じ意味を表し、RK211は炭素原子数1〜3の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表す。)
一般式(K−5)は、以下の一般式(K−5−1)を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、Si1、Pi1、Spi1及びni4は一般式(K−4)中のSi1、Pi1、Spi1及びniK21とそれぞれ同じ意味を表し、RK211は炭素原子数1〜3の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表す。)
なお、Si1、Pi1及びSpi1の好ましい基は、一般式(K−1)中のSi1、Pi1及びSpi1と同様である。
式(i)中、Zi1及びZi2は、好ましくは、単結合、−CH=CH−、−C≡C−、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−OOCO−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH=C(CH)COO−、−OCOC(CH)=CH−、−CH−CH(CH)COO−、−OCOCH(CH)―CH−、−OCHCHO−、炭素原子数1〜40の直鎖状又は分岐状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の1個又は隣接しない2個以上の−CH−が−O−で置換された基を表し、より好ましくは、単結合、−COO−、−OCO−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH=C(CH)COO−、−OCOC(CH)=CH−、−CH−CH(CH)COO−、−OCOCH(CH)―CH−、−OCHCHO−、炭素原子数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の1個又は隣接しない2個以上の−CH−が−O−で置換された基を表し、より好ましくは、単結合、炭素原子数2〜15の直鎖状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の1個又は隣接しない2個以上の−CH−が−O−で置換された基を表し、更に好ましくは、単結合、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−OOCO−、−OCHCHO−、又は炭素原子数2のアルキレン基(エチレン基(−CHCH−))若しくはエチレン基中の−CH−の1個が−O−で置換された基(−CHO−、−OCH−)、若しくはエチレン基中の−CH−の1個が−COO−、−OCO−で置換された基(−CH−CHCOO−、−OCOCH−CH−)である。
i1は、好ましくは炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基、又はハロゲン化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は、酸素原子が直接隣接しないように−O−、置換されることが良く、より好ましくは、炭素原子数3〜18の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は、酸素原子が直接隣接しないように−O−で置換されても良い。液晶化合物の配向性を向上させる観点から、Ri1の炭素原子数は3以上が好ましく、4以上が好ましく、5以上が好ましい。
i1は、2価の6員環芳香族基、2価の6員環複素芳香族基、2価の6員環脂肪族基、又は2価の6員環複素脂肪族基、2価の5員環芳香族基、2価の5員環複素芳香族基、2価の5員環脂肪族基、又は2価の5員環複素脂肪族基が好ましく、具体的には、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、アントラセン−2,6−ジイル基、フェナントレン−2,7−ジイル基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピリミジン−2,5−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、インダン−2,5−ジイル基、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基及び1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基から選択される環構造を表すことが好ましく、該環構造は無置換であるか又はLi1で置換されていることが好ましい。Li1は炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12のハロゲン化アルキル基、炭素原子数1〜12のアルコキシ基、炭素原子数1〜12のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基を表すことが好ましい。Ai1は好ましくは、2価の6員環芳香族基又は2価の6員環脂肪族基を表すが、2価の無置換の6員環芳香族基、2価の無置換の6員環脂肪族基、又はこれらの環構造中の水素原子が炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換された基であることが好ましく、2価の無置換の6員環芳香族基若しくはこの環構造中の水素原子がフッ素原子で置換された基、又は2価の無置換の6員環脂肪族基が好ましく、置換基上の水素原子がハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基によって置換されていても良い1,4−フェニレン基、2,6−ナフタレン基又は1,4−シクロヘキシル基がより好ましい。
i2及びAi3はそれぞれ独立して、2価の6員環芳香族基、2価の6員環複素芳香族基、2価の6員環脂肪族基、又は2価の6員環複素脂肪族基、2価の5員環芳香族基、2価の5員環複素芳香族基、2価の5員環脂肪族基、又は2価の5員環複素脂肪族基が好ましく、具体的には、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、アントラセン−2,6−ジイル基、フェナントレン−2,7−ジイル基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピリミジン−2,5−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、インダン−2,5−ジイル基、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基及び1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基から選択される環構造を表すことが好ましく、該環構造は無置換であるか、又はLi1、Pi1−Spi1−若しくはKi1で置換されていることが好ましい。また、Ai3は1,3−フェニレン基、1,3−シクロヘキシレン基、ナフタレン2,5−ジイル基から選択される環構造を表すことも好ましい。
i1の好ましい基は、Ai1中のLi1と同様である。Ai2及びAi3は好ましくは、2価の6員環芳香族基又は2価の6員環脂肪族基を表すが、2価の無置換の6員環芳香族基、2価の無置換の6員環脂肪族基、又はこれらの環構造中の水素原子が炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子又はP−Sp−で置換された基であることが好ましく、2価の無置換の6員環芳香族基若しくはこの環構造中の水素原子がフッ素原子で置換された基、又は2価の無置換の6員環脂肪族基が好ましく、置換基上の水素原子がハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基、P−Sp−によって置換されていても良い1,4−フェニレン基、2,6−ナフタレン基又は1,4−シクロヘキシル基がより好ましい。また、Ai3はKi1で置換されていることも好ましい。
ここで、一般式(i)は、Ai2又はAi3の置換基として、或いは、Ki1の置換基として、少なくとも1つ以上のPi1−Spi1−を有するが、信頼性をより向上させる観点から、一般式(i)中の重合性基の数は2以上が好ましく、3以上が好ましい。信頼性を重視する場合は、Ai2又はAi3部に重合基を導入することで容易に多官能化が図れ、強固なポリマーを構築することができる。Ai2又はAi3中のPi1−Spi1−の置換される位置は、Ki1の近傍が好ましく、Ai3がPi1−Spi1−で置換されていることがより好ましい。
i1は、好ましくは0〜3の整数を表し、更に好ましくは0〜1の整数を表す。
一般式(i)で表される化合物は、以下の一般式(i―1)で表される化合物であることが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、Ri1、Ai1、Ai2、Zi1、Zi2、mi1、Pi1及びSpi1はそれぞれ独立して一般式(i)中のRi1、Ai1、Ai2、Zi1、Zi2、mi1、Pi1及びSpi1と同じ意味を表し、Li11は炭素原子数1〜3のアルキル基を表し、Yi1はそれぞれ独立して一般式(K−1)中のYi1と同じ意味を表し、RiK1、niK1、niK2はそれぞれ独立して一般式(K−1−1)中のRiK1、niK1、niK2と同じ意味を表し、mi3は0〜3の整数を表し、mi4は0〜3の整数を表すが、mi3+mi4は0〜4を表す。)
一般式(i−1)で表される化合物は、以下の一般式(i―1−1)、(i−1−2)、(i−1−3a)、(i−1−3b)、(i−1−4)、(i−1−Y2)、(i−1−Y3)及び(i−1−Y4)であることが好ましい。
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
(式中、Ri1、Ai1、Ai2、Zi1、Zi2、mi1、Pi1及びSpi1はそれぞれ独立して一般式(i)中のRi1、Ai1、Ai2、Zi1、Zi2、mi1、Pi1及びSpi1と同じ意味を表し、RiK1、RiY21、Ri3Y1、Ri3Y2、niK1、niK2、niY11はそれぞれ独立して一般式(K−1−1)〜(K−1−3)中のRiK1、RiY21、Ri31、Ri32、niK1、niK2、niY11と同じ意味を表し、Li11は炭素原子数1〜3のアルキル基を表し、mi3は0〜3の整数を表し、mi4は0〜3の整数を表すが、mi3+mi4は0〜4を表す。)
なお、一般式(i―1)及び一般式(i―1−1)、(i−1−2)、(i−1−3)中の各符号の好ましい基は、上記一般式(i)、一般式(K−1)及び一般式(K−1−1)〜(K−1−3)中の好ましい基と同様である。
また、一般式(i)で表される化合物は、以下の一般式(i―2)〜(i−5)で表される化合物であることが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、Ri1、Ai1、Ai2、Zi1、Zi2、mi1、Pi1及びSpi1はそれぞれ独立して一般式(i)中のRi1、Ai1、Ai2、Zi1、Zi2、mi1、Pi1及びSpi1と同じ意味を表し、ni4、niK21、RK21はそれぞれ独立して一般式(K−2)中のni4、niK21、RK21と同じ意味を表し、Ri22は炭素原子数1〜6のアルキレン基又は単結合を表し、該アルキレン基中の−CH−は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−C≡C−又は−O−で置換されてもよく、Li11は炭素原子数1〜3のアルキル基を表し、ni22は0又は1を表し、mi23は0〜3の整数を表し、mi24は0〜3の整数を表すが、mi23+mi24は0〜4を表す。)
i22は炭素原子数1〜6の直鎖のアルキレン基が好ましく、炭素原子数1〜3の直鎖のアルキレン基が好ましい。なお、RiY21、RiY31、RiY32、Spi1及びPi1の好ましい基は一般式(Y−1−1)〜(Y−1−3)、一般式(i)中のRiY21、RiY31、RiY32、Spi1、Pi1と同様である。なお、一般式(i―2)中の各符号の好ましい基は、上記一般式(i)、一般式(K−2)中の好ましい基と同様である。
一般式(i)は、以下の一般式(R−1)〜(R−6)を表すことが好ましい。
Figure 0006725893
(式中、Ri1、Ki1及びLi1は一般式(i)中のRi1、Ki1及びLi1とそれぞれ同じ意味を表す。) 一般式(i)のより具体的な例としては、下記式(R−1−1)〜(R−1−370)に表すがこれに限られたものではない。
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
(式中、Ri1、Pi1、Si1及びYi1はそれぞれ独立して一般式(i)及び一般式(K−1)中のRi1、Pi1、Si1及びYi1と同じ意味を表す。)
一般式(i)で表される化合物のより具体的な化合物の例として、下記(P−1)から(P−695)を以下に示す。
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
(一般式(i)で表される化合物の製造例)
(製法1)一般式(P−8)に表される化合物の製造
3−フルオロ−4−(4−ペンチル(シクロヘキシル))フェニルホウ酸と3−ヒドロキシプロピルフェノールとのパラジウム触媒を用いた鈴木カップリング反応を行い(S−1)を得る。次いで、5−(ブロモメチル)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−5−イル)メタノールとのエーテル化反応(S−2)を得る。(S−2)を塩化メタクリロイルと反応させた後、塩酸による脱ケタール反応によりアルコール誘導体(S−3)を得る。更にメチルマロニルクロリドとのエステル化反応により目的物(P−8)を得ることができる。
Figure 0006725893
(製法2)一般式(P−298)、(P−310)、(P−370)に表される化合物の製造
製法1にて得られたアルコール誘導体(S−3)と対応する酸クロリドとのエステル化反応により目的物(P−298)、(P−310)、(P−370)を得ることができる。
Figure 0006725893
(製法3)一般式(P−282)に表される化合物の製造
4−ブロモフェノールをヨウ素化し、(S-4)を得る。次いで、プロパルギルアルコールを園頭反応により反応させ、(S-5)を得る。次いで、水素添加反応により、(S-6)を得る。次いで、当該塩素体とのエーテル化反応により(S-7)を得、更に、塩化メタクリルとのエステル化反応により(S-8)を得ることができる。次いで、2−フルオロ−4−(4−ペンチルシクロヘキシル)フェニルホウ酸とパラジウム触媒を用いた鈴木カップリング反応を行い、化合物(P−282)を得ることができる。
Figure 0006725893
(製法4)一般式(P−346)、(P−370)に表される化合物の製造
製法1にて得られたアルコール誘導体(S−3)と対応するカルボン酸との縮合反応により目的物(P−346)、(P−370)を得ることができる。
Figure 0006725893
(液晶組成物)
本実施形態の液晶組成物は、上記一般式(i)で表される化合物を1種又は2種以上含有する。この液晶組成物は、負の誘電率異方性(Δε)を有することが好ましい。なお、液晶組成物に含有される一般式(i)で表される化合物は、式(R−1−1)〜(R−1−25)に示される化合物を含めて、上記の化合物(i)と同じであるため、ここでは説明を省略する。
一般式(i)で表される化合物の含有量は、好ましくは0.01〜50質量%であるが、その下限値は、液晶分子を更に好適に配向させられる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、0.01質量%以上、0.1質量%以上、0.5質量%以上、0.7質量%以上、又は1質量%以上である。化合物(i)の含有量の上限値は、応答特性に優れる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、50質量%以下、30質量%以下、10質量%以下であり、7質量%以下、5質量%以下、4質量%以下、又は3質量%以下である。
液晶組成物は、一般式(N−1)、(N−2)及び(N−3):
Figure 0006725893
のいずれかで表される化合物群から選ばれる化合物を更に含有してもよい。
式(N−1)、(N−2)及び(N−3)中、
N11、RN12、RN21、RN22、RN31及びRN32は、それぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は隣接していない2個以上の−CH−は、それぞれ独立して、−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−CO−、−COO−又は−OCO−によって置換されていてもよく、
N11、AN12、AN21、AN22、AN31及びAN32は、それぞれ独立して、
(a) 1,4−シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の−CH−又は隣接していない2個以上の−CH−は−O−に置換されてもよい。)、
(b) 1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置換されてもよい。)、
(c) ナフタレン−2,6−ジイル基、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基(ナフタレン−2,6−ジイル基又は1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置換されてもよい。)、及び
(d) 1,4−シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基(a)、基(b)、基(c)及び基(d)は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
N11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31及びZN32は、それぞれ独立して、単結合、−CHCH−、−(CH−、−OCH−、−CHO−、−COO−、−OCO−、−OCF−、−CFO−、−CH=N−N=CH−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−を表し、
N21は、水素原子又はフッ素原子を表し、
N31は、−CH−又は酸素原子を表し、
N11、nN12、nN21、nN22、nN31及びnN32は、それぞれ独立して0〜3の整数を表すが、nN11+nN12、nN21+nN22及びnN31+nN32は、それぞれ独立して1、2又は3であり、
N11〜AN32、ZN11〜ZN32がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれは互いに同一であっても異なっていてもよい。
一般式(N−1)、(N−2)及び(N−3)のいずれかで表される化合物は、Δεが負でその絶対値が3よりも大きな化合物であることが好ましい。
一般式(N−1)、(N−2)及び(N−3)中、RN11、RN12、RN21、RN22、RN31及びRN32はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜8のアルケニル基又は炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又は炭素原子数2〜5のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数2〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜3のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数3のアルケニル基(プロペニル基)が特に好ましい。
また、それが結合する環構造がフェニル基(芳香族)である場合には、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び炭素原子数4〜5のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が5以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。
アルケニル基としては、式(R1)から式(R5)のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい(各式中の黒点は結合手を表す。)。
Figure 0006725893
N11、AN12、AN21、AN22、AN31及びAN32はそれぞれ独立してΔnを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、トランス−1,4−シクロへキシレン基、1,4−フェニレン基、2−フルオロ−1,4−フェニレン基、3−フルオロ−1,4−フェニレン基、3,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン基、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキセニレン基、1,4−ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン−1,4−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又は1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造:
Figure 0006725893
を表すことがより好ましく、トランス−1,4−シクロへキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基又は1,4−フェニレン基を表すことがより好ましい。
N11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31及びZN32はそれぞれ独立して−CHO−、−CFO−、−CHCH−、−CFCF−又は単結合を表すことが好ましく、−CHO−、−CHCH−又は単結合が更に好ましく、−CHO−又は単結合が特に好ましい。
N21はフッ素原子が好ましい。
N31は酸素原子が好ましい。
N11+nN12、nN21+nN22及びnN31+nN32は1又は2が好ましく、nN11が1でありnN12が0である組み合わせ、nN11が2でありnN12が0である組み合わせ、nN11が1でありnN12が1である組み合わせ、nN11が2でありnN12が1である組み合わせ、nN21が1でありnN22が0である組み合わせ、nN21が2でありnN22が0である組み合わせ、nN31が1でありnN32が0である組み合わせ、nN31が2でありnN32が0である組み合わせ、が好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N−1)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、10質量%以上であり、20質量%以上であり、30質量%以上であり、40質量%以上であり、50質量%以上であり、55質量%以上であり、60質量%以上であり、65質量%以上であり、70質量%以上であり、75質量%以上であり、80質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、95質量%以下であり、85質量%以下であり、75質量%以下であり、65質量%以下であり、55質量%以下であり、45質量%以下であり、35質量%以下であり、25質量%以下であり、20質量%以下である。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N−2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、10質量%以上であり、20質量%以上であり、30質量%以上であり、40質量%以上であり、50質量%以上であり、55質量%以上であり、60質量%以上であり、65質量%以上であり、70質量%以上であり、75質量%以上であり、80質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、95質量%以下であり、85質量%以下であり、75質量%以下であり、65質量%以下であり、55質量%以下であり、45質量%以下であり、35質量%以下であり、25質量%以下であり、20質量%以下である。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N−3)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%以上であり、10質量%以上であり、20質量%以上であり、30質量%以上であり、40質量%以上であり、50質量%以上であり、55質量%以上であり、60質量%以上であり、65質量%以上であり、70質量%以上であり、75質量%以上であり、80質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、95質量%以下であり、85質量%以下であり、75質量%以下であり、65質量%以下であり、55質量%以下であり、45質量%以下であり、35質量%以下であり、25質量%以下であり、20質量%以下である。
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のTniを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高く上限値が高いことが好ましい。
一般式(N−1)で表される化合物として、下記の一般式(N−1a)〜(N−1g)で表される化合物群を挙げることができる。
Figure 0006725893
(式中、RN11及びRN12は一般式(N−1)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表し、nNa11は0又は1を表し、nNb11は0又は1を表し、nNc11は0又は1を表し、nNd11は0又は1を表し、nNe11は1又は2を表し、nNf11は1又は2を表し、nNg11は1又は2を表し、ANe11はトランス−1,4−シクロへキシレン基又は1,4−フェニレン基を表し、ANg11はトランス−1,4−シクロへキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基又は1,4−フェニレン基を表すが少なくとも1つは1,4−シクロヘキセニレン基を表し、ZNe 11は単結合又はエチレンを表すが少なくとも1つはエチレンを表す。)
より具体的には、一般式(N−1)で表される化合物は、一般式(N−1−1)〜(N−1−21)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
一般式(N−1−1)で表される化合物は下記の化合物である。
Figure 0006725893
(式中、RN111及びRN112はそれぞれ独立して、一般式(N)におけるRN11及びRN12と同じ意味を表す。)
N111は炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましく、プロピル基、ペンチル基又はビニル基が好ましい。RN112は炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数4〜5のアルケニル基又は炭素原子数1〜4のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基又はブトキシ基が好ましい。
一般式(N−1−1)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、TNIを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N−1−1)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、10質量%以上であり、13質量%以上であり、15質量%以上であり、17質量%以上であり、20質量%以上であり、23質量%以上であり、25質量%以上であり、27質量%以上であり、30質量%以上であり、33質量%以上であり、35質量%以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、50質量%以下であり、40質量%以下であり、38質量%以下であり、35質量%以下であり、33質量%以下であり、30質量%以下であり、28質量%以下であり、25質量%以下であり、23質量%以下であり、20質量%以下であり、18質量%以下であり、15質量%以下であり、13質量%以下であり、10質量%以下であり、8質量%以下であり、7質量%以下であり、6質量%以下であり、5質量%以下であり、3質量%以下である。
さらに、一般式(N−1−1)で表される化合物は、式(N−1−1.1)から式(N−1−1.23)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(N−1−1.1)〜(N−1−1.4)で表される化合物であることが好ましく、式(N−1−1.1)及び式(N−1−1.3)で表される化合物が好ましい。
Figure 0006725893
式(N−1−1.1)〜(N−1−1.22)で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、5質量%以上であり、上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、50質量%以下である。
また本発明の液晶組成物は、一般式(i)で表される化合物とは異なる他の重合性化合物を更に含有してもよい。重合性化合物は、液晶組成物に用いられる公知の重合性化合物であってよい。重合性化合物の例としては、一般式(P):
Figure 0006725893
で表される化合物が挙げられる。
式(P)中、
p1は、フッ素原子、シアノ基、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数1〜15のアルキル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数1〜15のアルコキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数1〜15のアルケニル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数1〜15のアルケニルオキシ基又は−Spp2−Rp2を表し、
p1及びRp2は、以下の式(R−I)〜式(R−VIII):
Figure 0006725893
(式中、
*でSpp1と結合し、
〜Rは、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜5個のアルキル基又は炭素原子数1〜5個のハロゲン化アルキル基を表し、
Wは、単結合、−O−又はメチレン基を表し、
Tは、単結合又は−COO−を表し、
p、t及びqは、それぞれ独立して、0、1又は2を表す。)
のいずれかを表し、
Spp1及びSpp2はスペーサー基を表し、
p1及びLp2は、それぞれ独立して、単結合、−O−、−S−、−CH−、−OCH−、−CHO−、−CO−、−C−、−COO−、−OCO−、−OCOOCH−、−CHOCOO−、−OCHCHO−、−CO−NR−、−NR−CO−、−SCH−、−CHS−、−CH=CR−COO−、−CH=CR−OCO−、−COO−CR=CH−、−OCO−CR=CH−、−COO−CR=CH−COO−、−COO−CR=CH−OCO−、−OCO−CR=CH−COO−、−OCO−CR=CH−OCO−、−(CH−C(=O)−O−、−(CH−O−(C=O)−、−O−(C=O)−(CH−、−(C=O)−O−(CH−、−CH=CH−、−CF=CF−、−CF=CH−、−CH=CF−、−CF−、−CFO−、−OCF−、−CFCH−、−CHCF−、−CFCF−又は−C≡C−(式中、Rはそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、zは1〜4の整数を表す。)を表し、
p2は、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、アントラセン−2,6−ジイル基、フェナントレン−2,7−ジイル基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピリミジン−2,5−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、インダン−2,5−ジイル基、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基又は単結合を表すが、Mp2は無置換であるか又は炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12のハロゲン化アルキル基、炭素原子数1〜12のアルコキシ基、炭素原子数1〜12のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Rp1で置換されていてもよく、
p1は、以下の式(i−11)〜(ix−11):
Figure 0006725893
(式中、*でSpp1と結合し、**でLp1、Lp2又はZp1と結合する。)
のいずれかを表し、
p1上の任意の水素原子は炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12のハロゲン化アルキル基、炭素原子数1〜12のアルコキシ基、炭素原子数1〜12のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Rp1で置換されていてもよく、
p3は、以下の式(i−13)〜(ix−13):
Figure 0006725893
(式中、*でZp1と結合し、**でLp2と結合する。)
のいずれかを表し、
p3上の任意の水素原子は炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12のハロゲン化アルキル基、炭素原子数1〜12のアルコキシ基、炭素原子数1〜12のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Rp1で置換されていてもよく、
p2〜mp4は、それぞれ独立して0、1、2又は3を表し、
p1及びmp5は、それぞれ独立して1、2又は3を表し、
p1が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Rp1が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Rp2が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Spp1が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Spp2が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Lp1が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Mp2が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよい。
本実施形態の液晶組成物が化合物(i)に加えて一般式(P)で表される重合性化合物を更に含有する場合、液晶分子のプレチルト角を好適に形成できる。一般式(P)で表される重合性化合物の具体的な例として(P−2−1)〜(P−2−20)に表す。
Figure 0006725893
Figure 0006725893
また、本発明の液晶組成物は、一般式(i)で表される化合物の他に、更に公知の液晶組成物用自発配向助剤を更に含有してもよい。
(液晶表示素子)
本実施形態の液晶組成物は、液晶表示素子に適用される。液晶表示素子は、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子であってよい。液晶表示素子1は、PSA型、PSVA型、VA型、IPS型、FFS型又はECB型の液晶表示素子であってよく、好ましくはPSA型の液晶表示素子である。
本実施形態の液晶表示素子では、一般式(i)で表される化合物を含有する液晶組成物が用いられているため、第一基板及び第二基板の液晶層側にポリイミド配向膜等の配向膜が設けられている必要がない。すなわち、本実施形態の液晶表示素子は、二つの基板のうち少なくとも一方の基板がポリイミド配向膜等の配向膜を有さない構成をとることができる。
以下、実施例に基づき本発明を更に具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に3−フルオロ−4−(4−ペンチル(シクロヘキシル))フェニルホウ酸 42g、4−ブロモ−2−ヒドロキシプロピルフェノール 30g、炭酸カリウム 27g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 1.5g、エタノール300mlを加え、70℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酸酸エチル300mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去、トルエンで再結晶を行い(1−1)で表される化合物 48gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(1−1)30g、5−(ブロモメチル)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−5−イル)メタノール 18g、炭酸カリウム 21g、N,N−ジメチルホルムアミド 150mlを加え、90℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチル200mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式(1−2)で表される化合物 40gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(1−2)16g、トリエチルアミン7.5g、ジクロロメタン80mlを仕込み、反応容器を10℃以下に冷却する。その後、塩化メタクリロイル 7.6gをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を室温に戻し、3時間反応させた。反応終了後、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。続いて、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、抽出物、THF160mlと共に加え、10%塩酸 16mlをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を化合物(1−3)で表される化合物 16gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(1−3)16g、ジクロロメタン 160ml、トリエチルアミン6.3g、を加え、メチルマロニルクロリド 8.5gをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(1)で表される目的化合物 15gを得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.88(t,3H),1.20−1.29(m,8H),1.36−1.61(m,7H),1.85−1.92(m,4H),2.00(s,6H),2.62(t,2H),2.75(quint,1H),3.20(s,4H),3.60(s,6H),3.80(s,2H),3.95(s,4H),4.00(s,2H),5.60(s,1H),5.65(s,1H),6.09(s,1H),6.11(s,1H),6.90(d,2H),6.95−7.06(m,3H),7.31−7.42(m,3H)
(実施例2)
撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に(5−(ブロモメチル)2−,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−5−イル)メタノール30g、臭化ベンジル24g、炭酸カリウム26g、N,N−ジメチルホルムアミド150mlを加え、50℃で6時間反応させた。反応終了後、冷却し、酸酸エチル300mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。続いて、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、抽出物、THF300mlと共に加え、10%塩酸 30mlをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を化合物(2−1)で表される化合物 32gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(2−1)32g、メチルコハク酸32g、4−ジメチルアミノピリジン1.3g、ジクロロメタン320mlを入れ、DCC50gをゆっくり滴下し、8時間反応させた。反応終了後、冷却し、ジクロロメタン100mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し溶媒を留去した。その後、シリカゲルカラムによる精製を行い式(2−2)で表される化合物49gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(2−2)49g、5−ブロモ−2−ヒドロキシベンゼンプロパノール22g、炭酸カリウム26g、N,N−ジメチルホルムアミド250mlを仕込み、90℃で8時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチル300mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、シリカゲルカラムによる精製を行い式(2−3)で表される化合物43gを得た。
Figure 0006725893
次いで、耐圧反応容器に上記の化合物(2−4)43g、THF200ml、パラジウム炭素4.3g、を加え、水素雰囲気下(0.5MPa)で、10時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(2−4)で表される化合物 35gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(2−4)35g、トリエチルアミン14g、ジクロロメタン350mlを加え、反応容器を10℃以下に冷却する。その後、塩化メタクリロイル14gをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を室温に戻し、6時間反応させた。反応終了後、水をゆっくり加え、ジクロロメタン100ml、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を化合物(2−5)で表される化合物30gを得た。
Figure 0006725893
撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(2−5)30g、4−(4−ペンチル(シクロヘキシル))フェニルホウ酸 12.6g、炭酸カリウム8.7g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.5g、THF420ml、水84mlを加え、50℃で9時間反応させた。反応終了後、冷却し、酸酸エチル500mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去し、シリカゲルカラム及び、ヘキサン再結晶を行い(2)で表される目的化合物 19gを得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.89(t,3H),1.23−1.61(m,11H),1.80−1.95(m,4H),2.08(s,6H),2.61(t,2H),2.70−2.75(m,9H),3.50(s,6H),3.80(s,2H),3.90(s,2H),3.94(s,2H),4.20(t,2H),5.67(t,1H),5.70(t,1H),5.84(d,2H),5.90(d,2H),6.06(d,2H),6.88(d,1H),7.05−7.24(m,3H),7.34(d,2H)
(実施例3)
実施例2と同様の合成方法で目的化合物(3)を得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.89(t,3H),1.26−1.48(m,10H),1.75−1.95(m,4H),2.05(s,6H),2.65(t,2H),3.50(s,4H),3.81(s,2H),4.05(s,4H),4.14−4.21(m,4H),5.58(t,1H),5.65(t,1H),6.13(m,2H),6.95(d,1H),7.01(t,1H),7.18−7.26(m,2H),7.31−7.42(m,4H)
(実施例4)
実施例2と同様の合成方法で目的化合物(4)を得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.87(t,3H),1.26−1.35(m,12H),1.60(s,2H),1.89−2.02(m,8H),2.21(s,6H),2.60−2.65(m,4H),3.38(s,4H),3.88(s,2H),3.95(s,4H),4.05(s,2H),4.25(t,2H),5.60(t,1H),5.65(t,1H),6.21(m,2H),7.05−7.12(m,2 H),7.15(d,1H),7.18―7.31(m,3H)
(実施例5)
実施例2と同様の合成方法で目的化合物(5)を得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.20−1.65(m,13H),1.75−1.95(m,4H),2.06(s,6H),2.70−2.73(m,1H),2.64(t,2H),3.56(s,4H),3.63(s,6H),3.80(s,2H)3.88(s,4H),4.05(s,2H),4.18(t,2H),5.60(t,1H),5.65(t,1H),5.81(d,2H),5.98(d,2H),6.06(d,2H),6.13(m,2H),6.89(d,1H),7.11−7.28(m,4H),7.36(d,2H)
(実施例6)
撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に3−フルオロ−4−(1−オクチルオキシオキシ)フェニルホウ酸10g、5−ブロモサリチルアルデヒド 7.5g、炭酸カリウム 8.5g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 100mg、エタノール100mlを仕込み、90℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酸エチル200mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去、トルエンで再結晶を行い(6−1)で表される化合物11gを得た。
Figure 0006725893
次いで、化合物(6−1)11g、5−(ブロモメチル)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−5−イル)メタノール 8g、炭酸カリウム 9g、N,N−ジメチルホルムアミド 150mlを仕込み、90℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチル250mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い、式(6−2)で表される化合物 15gを得た。
Figure 0006725893
次いで、化合物(6−2)15g、水素化ホウ素ナトリウム1.2g、メタノール150mlを仕込み、30℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、10%塩酸を加えた後、酢酸エチル150mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し溶媒を留去し、式(6−3)で表される化合物 15gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(6−3)15g、トリエチルアミン9.0g、ジクロロメタン150mlを仕込み、反応容器を10℃以下に冷却する。その後、塩化メタクリロイル7gをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を室温に戻し、3時間反応させた。反応終了後、水をゆっくり加え、ジクロロメタン100ml、水、飽和食塩水で洗浄する。溶媒を留去した後、アルミナカラムによる精製により(6−4)で表される化合物17gを得た。
Figure 0006725893
その後、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(6−4)、THF85mlを加え、10%塩酸 20mlをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式(6−5)で表される目的化合物 15gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(18)15g、トリエチルアミン13g、ジクロロメタン150mlを仕込み、反応容器を10℃以下に冷却する。その後、メチルマロニルクロリド10gをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を室温に戻し、12時間反応させた。反応終了後、水をゆっくり加え、ジクロロメタン100ml、水、飽和食塩水で洗浄する。溶媒を留去した後、シリカゲルカラムによる精製により(6)で表される目的化合物16.7gを得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.89(t,3H),1.26−1.81(m,12H),1.96−2.38(m,6H),3.22(s,4H),3.68(s,6H),3.81(s,2H),3.93(s,4H),4.16(t,2H), 4.00(s,2H), 5.13(s,2H), 6.14(d,2H),6.95(m,2H),7.20−7.27(m,4H), 7.82(m,2H)
(比較例1)
実施例1と同様の合成方法で目的化合物(C−1)を得た。
Figure 0006725893
(物性値)
固体
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.21−1.61(m,15H),1.75−1.95(m,4H),2.04(s,3H),2.09(s,3H),2.13(quint,2H),2.64(t,2H),2.70−2.73(m,1H),4.12(t,2H),4.18(t,2H),4.23(t,2H),6.01(t,1H),6.28(s,1H),6.91(d,1H),7.02−7.26(m,4H),7.32(d,2H)
(比較例2)
実施例1と同様の合成方法で目的化合物(C−2)を得た。
Figure 0006725893
(物性値)
固体
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.19−1.60(m,15H),1.80−1.85(m,2H),2.71−2.73(m,1H),3.20(s,4H),3.23−3.26(m,1H),3.46(s,6H),3.78(d,4H),3.81(d,2H),6.91(d,2H),7.31(d,2H),7.45−7.57(m,4H)
実施例及び比較例の各液晶組成物について、以下の評価試験を行った。各実施例および比較例における、各液晶組成物における各評価試験の結果をそれぞれ表1、表2に示す。
(低温安定性の評価試験)
液晶組成物をメンブレンフィルター(Agilent Technologies社製、PTFE 13mm−0.2μm)にてろ過を行い、真空減圧条件にて15分間静置し溶存空気の除去を行った。これをアセトンにて洗浄し十分に乾燥させたバイアル瓶に0.5g秤量し、−25℃の低温環境下に静置した。その後、目視にて析出の有無を観察し、以下の4段階で判定した。
A:14日静置後、析出が確認できない。
B:7日静置後、析出が確認される。
C:3日静置後、析出が確認できる。
D:1日静置後、析出が確認できる。
(垂直配向性の評価試験)
透明な共通電極からなる透明電極層及びカラーフィルタ層を具備した配向膜を有さない第一の基板(共通電極基板)と、アクティブ素子により駆動される透明画素電極を有する画素電極層を有する配向膜を有さない第二の基板(画素電極基板)とを作製した。第一の基板上に液晶組成物を滴下し、第二の基板上で挟持し、シール材を常圧で110℃2時間の条件で硬化させ、セルギャップ3.2μmの液晶セルを得た。このときの垂直配向性および滴下痕などの配向ムラを、偏光顕微鏡を用いて観察し、以下の4段階で評価した。
A:端部なども含め、全面に渡り均一に垂直配向
B:ごく僅かに配向欠陥が有るも許容できるレベル
C:端部なども含め、配向欠陥が多く許容できないレベル
D:配向不良がかなり劣悪
(プレチルト角形成の評価試験)
上記(垂直配向性の評価試験)で使用した液晶セルに、10V、100Hzの矩形交流波を印加しながら、高圧水銀ランプを用いて、365nmにおける照度が100m/cmであるUV光を200秒間照射した。その後、白表示の安定性を、10V、100Hzの矩形交流波を印加しながらセルに物理的な外力を加え、数分静置した後にクロスニコルの状態で観察を行い、以下の4段階で評価した。
A:端部なども含め、全面に渡り均一に垂直配向
B:ごく僅かに配向欠陥が有るも許容できるレベル
C:端部なども含め、配向欠陥が多く許容できないレベル
D:配向不良がかなり劣悪
(残存モノマー量の評価試験)
上記(プレチルト角形成の評価試験)にて使用したセルに、さらに、東芝ライテック社製のUV蛍光ランプを60分間照射した(313nmにおける照度1.7mW/cm)後の、重合性化合物(R1−1−1)の残存量をHPLCにて定量し、残存モノマー量を決定した。モノマーの残存量に応じて、以下の4段階で評価した。
A:300ppm未満
B:300ppm以上500ppm未満。
C:500ppm以上1500ppm未満
D:1500ppm以上
(応答特性の評価試験)
上記(プレチルト角形成の評価試験)にて使用したセルギャップ3.2μmのセルに、さらに、東芝ライテック社製のUV蛍光ランプを60分間照射した(313nmにおける照度1.7mW/cm)。これにより得られたセルに対して、応答速度を測定した。応答速度は、6VにおけるVoffを、25℃の温度条件で、AUTRONIC−MELCHERS社のDMS703を用いて測定した。応答特性を以下の4段階で評価した。
A:5ms未満
B:5ms以上15ms未満
C:15ms以上25ms未満
D:25ms以上
(実施例7)
下記に示す化合物と混合比率で構成される組成物:
Figure 0006725893
を100質量部としたときに、下記の重合性化合物(P−2−8)を0.3質量部添加した組成物をLC−1とした。
Figure 0006725893
LC−1の物性値は、以下の通りである。
n−i(ネマチック相−等方性液体相転移温度):75℃
Δε(25℃における誘電率異方性):−3
Δn(25℃における屈折率異方性):0.112
γ (25℃における回転粘性係数):122
さらに、実施例1で作製した、化合物(i)に相当する化合物(1)をLC−1:100質量部に対して1.0質量部添加し、加熱溶解することにより液晶組成物を調製した。
(実施例8〜12)
化合物(1)に代えて、実施例2〜6で作製した化合物(2)〜(6)を1.0質量部の添加量でLC−1に添加した以外は、実施例7と同様にして液晶組成物を調製した。
評価試験は表1のとおりである。
Figure 0006725893
(比較例3−5)
式(1)で表される化合物に代えて、下記化合物を1.0%質量部の添加量でLC−1に添加した以外は、実施例7と同様にして液晶組成物を調製した。
Figure 0006725893
評価試験は表2のとおりである。
Figure 0006725893
以上のように本発明の化合物は、配向性と保存安定性を兼ね備えており、優れた液晶組成物を提供することができる。
(実施例13)
実施例1と同様の合成方法で目的化合物(7)を得た。
Figure 0006725893
(物性値)
固体
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.03−1.50(m,13H),1.87−2.01(m,12H),2.49(m,1H),2.74(m,2H),3.90(s,6H),4.15(s,2H),4.19(t,2H),4.42(s,2H),4.56(s,4H),5.54(s,1H),5.63(s,1H),6.08(s,1H),6.11(s,1H),6.91(d,1H),6.98(d,1H),7.03(d,1 H),7.28(d,1H),7.31(d,1H),7.36(d,1H)
(実施例14)
実施例1と同様の合成方法で目的化合物(8)を得た。
Figure 0006725893
(物性値)
固体
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.03−1.50(m,19H),1.87−2.01(m,12H),2.49(m,1H),2.74(m,2H),3.90(s,6H),4.15(s,2H),4.19(t,2H),4.42(s,2H),4.56(s,4H),5.54(s,1H),5.63(s,1H),6.08(s,1H),6.11(s,1H),6.91(d,1H),6.98(d,1H),7.03(d,1 H),7.28(d,1H),7.31(d,1H),7.36(d,1H)
(実施例15)
実施例1と同様の合成方法で目的化合物(9)を得た。
Figure 0006725893
(物性値)
固体
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.03−1.50(m,19H),1.87−2.01(m,12H),2.49(m,1H),2.74(m,2H),3.34(s,6H),3.63(t,4H),3.90(m,4H),4.15(s,2H),4.19(t,2H),4.42(s,2H),4.56(s,4H),5.54(s,1H),5.63(s,1H),6.08(s,1H),6.11(s,1H),6.91(d,1H),6.98(d,1H),7.03(d,1 H),7.28(d,1H),7.31(d,1H),7.36(d,1H)
(実施例16)
撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に実施例1で合成した化合物(1−3)5.0g、ジクロロメタン 37ml、ピルビン酸 2.0g、ジメチルアミノピリジン 195mgを加え、ジイソプロピルカルボキシイミド 2.9gをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(10)で表される目的化合物 4.8gを得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.03−1.50(m,13H),1.87−2.01(m,12H),2.17(s,6H),2.49(m,1H),2.74(m,2H),4.15(s,2H),4.19(t,2H),4.42(s,2H),4.56(s,4H),5.54(s,1H),5.63(s,1H),6.08(s,1H),6.11(s,1H),6.91(d,1H),6.98(d,1H),7.03(d,1 H),7.28(d,1H),7.31(d,1H),7.36(d,1H)
(実施例17)
実施例16と同様の合成方法で目的化合物(11)を得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.03−1.50(m,13H),1.87−2.01(m,12H),2.37(t,4H),2.49(m,1H),2.74(m,2H),3.23(s,6H),3.67(t,4H),4.15(s,2H),4.19(t,2H),4.42(s,2H),4.56(s,4H),5.54(s,1H),5.63(s,1H),6.08(s,1H),6.11(s,1H),6.91(d,1H),6.98(d,1H),7.03(d,1 H),7.28(d,1H),7.31(d,1H),7.36(d,1H)
(実施例18)
撹拌装置、ジムロート及び温度計を備えた反応容器に3−エチルフェノール 15g、ジメチルホルムアミド 60ml、1−ヨウ化プロパン 23g、炭酸セシウム 60gを加え、80℃下加熱撹拌した。反応終了後、冷却し、ヘキサンにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(12−1)で表される無色油状化合物 19gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に式(12−1)で表される化合物 15g、アセトニトリル 75ml、硝酸アンモニウム 730mgを加え、アセトニトリル 160mlに溶解させたN−ブロモスクシイミド 16gをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、ヘキサンにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(12−2)で表される無色油状化合物 22gを得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 1.03(t,3H),1.20(t,3H),1.75−1.84(m,2H),2.71(q,2H),3.88(t,2H),6.60(dd,1H),6.78(s,1H),7.37(d,1H)
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に3−フルオロ−4−(4−ペンチル(シクロヘキシル))フェニルホウ酸 26g、化合物(12−2) 20g、2M炭酸カリウム水溶液 62ml、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 720mg、テトラヒドロフラン 230mlを加え、70℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、ヘキサンを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去し、(12−3)で表される無色油状化合物 35gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に式(12−3)で表される化合物 35g、ジクロロメタン 250mlを加え、三臭化ホウ素 31gを氷冷下ゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、水 200mlを加え、ヘキサンにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(12−4)で表される無色結晶化合物 33gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に式(12−4)で表される化合物 10g、ジクロロメタン 50ml、ピリジン 4gを加え、無水トリフルオロメタンスルホン酸 8gを氷冷下ゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、水 100mlを加え、ヘキサンにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(12−5)で表される無色油状化合物 11gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた反応容器に式(12−5)で表される化合物 11g、ジメチルホルムアミド 55ml、酢酸カリウム 6.4g、ビスピナコレートジボラン 5.8g、1,1′−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン−パラジウム(II)ジクロリド 530mgを加え、80℃下撹拌した。反応終了後、冷却し、水 100mlを加え、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(12−6)で表される無色結晶化合物 9.1gを得た。
Figure 0006725893
撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(12−6)9g、4−ブロモ−2−ヒドロキシプロピルフェノール 4.6g、2.0Mの炭酸カリウム水溶液 14ml、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 206mg、テトラヒドロフラン 90mlを加え、70℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酸酸エチル200mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去、トルエンで再結晶を行い(12−7)で表される化合物 13gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(12−7)13g、5−(ブロモメチル)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−5−イル)メタノール 16g、炭酸カリウム 21g、ジメチルスルフィド 130mlを加え、90℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチル200mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式(12−8)で表される化合物 16gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(12−8)16g、トリエチルアミン 7.5g、ジクロロメタン 80mlを仕込み、反応容器を10℃以下に冷却する。その後、塩化メタクリロイル 7.6gをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を室温に戻し、3時間反応させた。反応終了後、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。続いて、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、抽出物、THF 160mlと共に加え、10%塩酸 16mlをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を化合物(12−9)で表される化合物 16gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(12−9)16g、ジクロロメタン 160ml、トリエチルアミン 7.3g、を加え、メチルマロニルクロリド 7.4gをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(12)で表される目的化合物 15gを得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.06−1.49(m,16H),1.89−2.02(m,12H),2.52−2.60(m,3H),2.78(t,2H),3.43(s,4H),3.71(s,6H),4.07(s,2H),4.21(t,2H),4.35(s,2H),4.41(s,4H),5.55(s,1H),5.61(s,1H),6.10(s,2H),6.92(d,1H),6.98(d,1H),7.04(d,1 H),7.17(t,1H),7.23(d,1H),7.38−7.47(m,4H)
(実施例19)
撹拌装置、ジムロート及び温度計を備えた反応容器に4−ブロモアニソール 20g、テトラヒドロフラン 80ml、マグネシウム 2.9gを加え撹拌した。テトラヒドロフラン 50mlに溶解させた4‘−ペンチル−[1,1'−ビ(シクロヘキサン)]−4−オン 22gを滴下した。反応終了後、冷却し、ヘキサンにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。式(13−1)で表される無色結晶化合物 32gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に化合物(13−1) 28g、ピリジン 16ml、テトラヒドロフラン 90mlを加え撹拌した。テトラヒドロフラン 30mlに溶解させたトリホスゲン 8.5gを氷冷下滴下した。反応終了後、冷却し、ヘキサンにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。式(13−2)で表される無色結晶化合物 20gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置を備えたオートクレーブに化合物(13−2) 20g、5%パラジウム炭素 1g、テトラヒドロフラン 120mlを加え、水素圧 0.5MPa下撹拌した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(13−3)で表される無色結晶化合物 20gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に化合物(13−3) 20g、ジクロロメタン 140mlを加え、三臭化ホウ素 22gを氷冷下滴下した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。その後、再結晶精製を行い式(13−4)で表される無色結晶化合物 9.1gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に化合物(13−4) 9.1g、ピリジン 4.5ml、ジクロロメタン 100mlを加え、無水トリフルオロメタンスルホン酸 9.4gを氷冷下滴下した。反応終了後、冷却し、ジクロロメタンにより目的物を抽出した。その後、アルミナによる精製を行い式(13−5)で表される無色結晶化合物 13gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた反応容器に式(13−5)で表される化合物 13g、ジメチルホルムアミド 64ml、酢酸カリウム 8.2g、ビスピナコレートジボラン 7.4g、1,1′−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン−パラジウム(II)ジクロリド 680mgを加え、80℃下撹拌した。反応終了後、冷却し、水 200mlを加え、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去し、式(13−6)で表される無色結晶化合物 9.3gを得た。
Figure 0006725893
撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(13−6)5.7g、4−ブロモ−5−エチル−2−ヒドロキシプロピルフェノール 3.9g、2.0Mの炭酸カリウム水溶液 13ml、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 206mg、テトラヒドロフラン 60mlを加え、60℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酸酸エチル 60mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去、トルエンで再結晶を行い(13−7)で表される化合物 7.7gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(13−7)7.7g、5−(ブロモメチル)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−5−イル)メタノール 11g、リン酸三カリウム 10g、ジメチルスルフィド 80mlを加え、100℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチル200mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式(13−8)で表される化合物 5.9gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(13−8)5.9g、トリエチルアミン 4.5g、ジクロロメタン 45mlを仕込み、反応容器を10℃以下に冷却する。その後、塩化メタクリロイル 3.6gをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を室温に戻し、3時間反応させた。反応終了後、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。続いて、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、抽出物、THF 43mlと共に加え、10%塩酸 8.6mlをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を化合物(13−9)で表される化合物 4.2gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(13−9)4.2g、ジクロロメタン 36ml、トリエチルアミン 1.6ml、を加え、メチルマロニルクロリド 1.7gをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、ジクロロメタンにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(13)で表される目的化合物 3.5gを得た。
Figure 0006725893
(物性値)
油状
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.88(t,3H),1.11−1.98(m,38H),2.50−2.53(m,1H),2.58(q,2H),2.68(t,2H),3.43(s,4H),3.71(s,6H),4.07(s,2H),4.17(t,2H),4.34(s,2H),4.40(s,4H),5.53(s,1H),5.62(s,1H),6.07(s,1H),6.11(s,1H),6.76(s,1H),6.98(s,1H),7.16(d,2H),7.21(d,2H)
(実施例20)
実施例18と同様の合成方法で目的化合物(14)を得た。
Figure 0006725893
(物性値)
固体
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.06−1.49(m,16H),1.89−2.02(m,12H),2.52−2.60(m,3H),2.78(t,2H),3.71(s,6H),4.07(s,2H),4.21(t,2H),4.35(s,2H),4.41(s,4H),5.55(s,1H),5.61(s,1H),6.10(s,2H),6.92(d,1H),6.98(d,1H),7.04(d,1H),7.17(t,1H),7.23(d,1H),7.38−7.47(m,4H)
(実施例21)
撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に、4−(4−ペンチル(シクロヘキシル))フェニルホウ酸 26g、4−ブロモー2−フルオロフェノール 17g、2M炭酸カリウム水溶液 65ml、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 763mg、テトラヒドロフラン 230mlを加え、70℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、ヘキサンを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去し、(15−1)で表される無色固体化合物 27gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に式(15−1)で表される化合物 27g、ジクロロメタン 135ml、ピリジン 11gを加え、無水トリフルオロメタンスルホン酸 20gを氷冷下ゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、水 300mlを加え、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(15−2)で表される褐色固体化合物 38gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却管及び温度計を備えた反応容器に式(15−2)で表される化合物 32g、ジメチルホルムアミド 160ml、酢酸カリウム 18g、ビスピナコレートジボラン 17g、1,1′−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン−パラジウム(II)ジクロリド 1.5gを加え、80℃下撹拌した。反応終了後、冷却し、水 300mlを加え、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(15−3)で表される無色結晶化合物 32gを得た。
Figure 0006725893
撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(15−3)32g、4−ブロモ−5−エチルー2−ヒドロキシプロピルフェノール 17.4g、2.0Mの炭酸カリウム水溶液 56ml、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 803mg、テトラヒドロフラン 360mlを加え、70℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酸酸エチル600mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去、トルエンで再結晶を行い(15−4)で表される化合物 31.8gを得た。
Figure 0006725893
撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に化合物(15−4)10g、ジイソプロピルアミン 402mg、ジクロロメタン 100mlを加え、氷冷下撹拌し、アセトニトリル 50mlに溶解させたN−ヨードスクシイミド 4.7gをゆっくり滴下した。1時間後、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液200mlを加えて分液し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去し、(15−5)で表される化合物 11.6gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(15−5)11.6g、(2,2,5−トリメチル−1,3−ジオキサ−5−イル)メチルメタンスルホネート 16.5g、リン酸三カリウム 15g、ジメチルスルフィド 120mlを加え、100℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチル300mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式(15−6)で表される化合物 12.0gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(15−6)12.0g、プロパルギルアルコール 1.7g、エタノールアミン 12ml、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 878mg、ヨウ化銅(I) 289mg、テトラヒドロフラン 60mlを加え、65℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酸酸エチル200mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去し、(15−7)で表される化合物 9.4gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置を備えたオートクレーブに化合物(15−7)9.4g、プロパルギルアルコール 1.7g、5%パラジウムカーボン 470mg、テトラヒドロフラン 60mlを加え、水素圧0.5MPa下、45℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酸酸エチル100mlを加え、アルミナカラムによる精製を行い、溶媒を留去し、(15−8)で表される化合物 9.5gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(15−8)9.5g、トリエチルアミン 9.0g、ジクロロメタン 90mlを仕込み、反応容器を10℃以下に冷却する。その後、塩化メタクリロイル 7.2gをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を室温に戻し、3時間反応させた。反応終了後、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。続いて、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、抽出物、THF 90mlと共に加え、10%塩酸 14mlをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を化合物(15−8)で表される化合物 8.6gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に上記の化合物(15−9)8.6g、ジクロロメタン 80ml、トリエチルアミン 3.5ml、を加え、メチルオキサリルクロリド 3.0gをゆっくり滴下した。反応終了後、冷却し、ジクロロメタンにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、シリカカラムによる精製を行い式(15)で表される目的化合物 3.1gを得た。
Figure 0006725893
(物性値)
固体
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,6H),1.06−2.02(m,28H),2.52−2.78(m,7H),3.61(s,6H),3.71(s,2H),4.07(s,4H),4.21(t,6H),6.40(s,2H),6.48(s,2H),7.01(d,1H),7.38(d,2H),7.50(d,2H),7.51−7.60(m,3H)
(実施例22)
撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(15−4)10.6g、2−(5−(ブロモメチル)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−5−イル)エタン−1−オール 15.5g、リン酸三カリウム 14g、ジメチルスルフィド 100mlを加え、100℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチル300mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式(16−1)で表される化合物 11.0gを得た。
Figure 0006725893
続けて、化合物(15−8)から化合物(15)を製造する方法を適用し、下記式(16)を製造した。
Figure 0006725893
(物性値)
固体
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.90(t,3H),1.06−1.49(m,16H),1.89−2.02(m,12H),2.52−2.78(m,5H),3.71(s,6H),4.07(s,2H),4.21(t,2H),4.35(s,2H),4.41(s,4H),5.52(s,1H),5.62(s,1H),6.08(s,1H),6.12(s,1H),6.81(s,1H),7.00(s,1H),7.22−7.41(m,5H),7.56(d,2H)
(実施例23)
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(15−5)10g、5−(ブロモメチル)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−5−イル)メタノール 16.5g、リン酸三カリウム 16g、ジメチルスルフィド 100mlを加え、100℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチル300mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式(17−1)で表される化合物 10.5gを得た。
Figure 0006725893
次いで、撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に化合物(17−1)10.5g、1−ヘプチン 2.3g、エタノールアミン 11ml、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 829mg、ヨウ化銅(I) 205mg、テトラヒドロフラン 50mlを加え、65℃で5時間反応させた。反応終了後、冷却し、酸酸エチル200mlを加え有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去し、(17−2)で表される化合物 8.7gを得た。
Figure 0006725893
続けて、化合物(15−7)から化合物(15)を製造する方法を適用し、下記式(17)を製造した。
Figure 0006725893
(物性値)
固体
H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ: 0.89(t,6H),1.06−1.49(m,26H),1.89−2.02(m,12H),2.52−2.78(m,7H),3.71(s,6H),4.07(s,2H),4.21(t,2H),4.35(s,2H),4.41(s,4H),5.52(s,1H),5.62(s,1H),6.08(s,1H),6.12(s,1H),7.00(s,1H),7.22−7.41(m,5H),7.56(d,2H)
同様の方法及び公知の方法を用いて、下記式(18)〜(47)で表される化合物を製造した。
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
Figure 0006725893
(実施例24)
実施例1で作製した、化合物(i)に相当する化合物(1)をLC−1:100質量部に対して0.5質量部添加し、加熱溶解することにより液晶組成物を調製した。
(実施例25〜32)
化合物(1)に代えて、実施例13〜20で作製した化合物(7)〜(14)を0.5質量部の添加量でLC−1に添加した以外は、実施例24と同様にして液晶組成物を調製した。
(比較例6〜8)
化合物(1)に代えて、比較例3〜5で用いた化合物(C−1)〜(C−3)を0.5質量部の添加量でLC−1に添加した以外は、実施例24と同様にして液晶組成物を調製した。 上記、実施例24〜32で得られた液晶組成物について、実施例7〜12にて測定した特性以外に、追加測定した特性は以下の通りである。
VHR:周波数60Hz,印加電圧1Vの条件下で333Kにおける電圧保持率(%)を3段階評価した。
A:98〜100%
B:95〜98%
C:95%以下
加熱VHR:各々測定セルを120℃下1時間加熱した後、周波数0.6Hz,印加電圧1Vの条件下で333Kにおける電圧保持率(%)を3段階評価した。
A:80〜100%
B:70〜80%
C:70%以下
耐光VHR:液晶組成物に対して、厚さ0.5mmのガラスを介して超高圧水銀ランプを用いて紫外線を180J/m照射する。紫外線照射後の液晶の電圧保持率を上述のVHR測定と同様の方法で測定する。但し、照射強度は366nmで0.1W/mとした。評価は以下の3段階で行った。
A:90〜100%
B:75〜90%
C:75%以下
評価試験は表3のとおりである。
Figure 0006725893
以上のように本発明の化合物は、配向性と保存安定性を兼ね備えており、かつ添加する化合物の極性基次第では、高い電圧保持率を有する優れた液晶組成物を提供することができる。

Claims (6)

  1. 一般式(i)で表される化合物。
    Figure 0006725893
    (式中、
    i1はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜40の直鎖又は分岐のアルキル基又はハロゲン化アルキル基を表し、これらの基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置換されてもよく、
    i1、Ai2及びAi3はそれぞれ独立して2価の芳香族基、2価の環式脂肪族基、又は2価の複素環式化合物基を表し、Ai1中の水素原子はLi1で置換されてもよく、Ai2及びAi3中の水素原子はLi1、Pi1−Spi1−又はKi1で置換されてもよく、Li1はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜40の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−NH−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、
    i1及びZi2はそれぞれ独立して単結合、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−CFO−、−OCF−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH=C(CH)COO−、−OCOC(CH)=CH−、−CH−CH(CH)COO−、−OCOCH(CH)―CH−、−OCHCHO−又は炭素原子数2〜20のアルキレン基を表し、このアルキレン基中の1個又は隣接しない2個以上の−CH−は−O−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、
    i1は一般式(K−1)〜(K−5)
    Figure 0006725893
    (式中、Yi1は、炭素原子数3〜20の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも2個以上の第二級炭素原子は−C(=Xi1)−及び/又は−CH(−CN)−で置換されており、また、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−C≡C−、−O−、−NH−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、Xi1は、酸素原子、硫黄原子、NH又はNRilを表し、
    i1及びSi3はそれぞれ独立して炭素原子数1〜6のアルキレン基又は単結合を表し、該アルキレン基中の−CH−は酸素原子が直接隣接しないように−CH=CH−、−C≡C−、−C(=CH)−、−C(=CHRi3)−、−C(=CRi3 )−、−O−、−NH−、−C(=O)−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、
    i2は炭素原子を表し、
    i2は水素原子、炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらの基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−、−C≡C−、−C(=Xi1)−又は−CH(−CN)−で置換されてもよく、
    i1、以下の一般式(P−1)〜一般式(P−16)
    Figure 0006725893
    (式中、右端の黒点は結合手を表す。)で表される群より選ばれる置換基を表し、
    Spi1はスペーサー基又は単結合を表し、
    i1は1〜3の整数を表し、ni2及びni3はそれぞれ独立して0〜2の整数を表すが、ni1+ni2+ni3は3である。Ri3は炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置換されてもよく、一般式(K−1)中にRi2、Xi1、Yi1、Si1、Si3、Pi1及びSpi1が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。)
    Figure 0006725893
    (式中、Si1、Pi1及びSpi1は一般式(K−1)中のSi1、Pi1及びSpi1とそれぞれ同じ意味を表し、RK21は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも1個以上の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−C≡C−、−O−、又は−NH−で置換されてもよく、ni4、niK21はそれぞれ独立して0又は1を表す。)で表される基を表し
    ここで、一般式(i)において、Ai2、Ai3及びKi1中に存在するPi1−Spi1−の数の合計は1以上であり、
    i1は、0〜3の整数を表し、
    一般式(i)中にAi2、Zi2、Li1、Ki1、Xi1、Pi1及びSpi1が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。)
  2. 一般式(i)中のAi1、Ai2及びAi3が、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基、アントラセン−2,6−ジイル基、フェナントレン−2,7−ジイル基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピリミジン−2,5−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、インダン−2,5−ジイル基、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基及び1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基から選択される環構造を表し、Ai1中の水素原子は無置換であるか、又はLi1で置換されてもよく、Ai2及びAi3中の水素原子は無置換であるか、又はLi1、Pi1−Spi1−又はKi1で置換されてもよい請求項1に記載の化合物。
  3. 一般式(i)中のPi1、それぞれ独立して一般式(P−1)又は一般式(P−2)を表す、請求項1〜2のいずれか一項に記載の化合物。
  4. 一般式(i)中のKi1が(K−1A)又は(K−1B)である請求項1〜3のいずれか一項に記載の化合物。
    Figure 0006725893
    (式中、Si1、Si2、Si3、Xi1、Yi1、Pi2及びSpi2は、一般式(K−1)中のSi1、Si2、Si3、Xi1、Yi1、Pi2及びSpi2とそれぞれ同じ意味を表し、niA1は1〜3の整数を表し、niA3は0〜2の整数を表し、niB1は1〜2の整数を表し、niB3は0又は1を表すが、niA1+niA3は3であり、niB1+niB3は2を表す。)
  5. 一般式(i)中のRi1が炭素原子数が3以上のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の−CH−は酸素原子が直接隣接しないように−O−で置換されていてもよい、請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物。
  6. 一般式(K−1)中のYi1が、一般式(Y−1)
    Figure 0006725893
    (式中、WiY1は単結合又は酸素原子を表し、破線は単結合又は二重結合を表し、RiY1は、破線が単結合を表す場合、水素原子又は炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置換されてもよく、破線が二重結合を表す場合、=CH、=CHRiY4、又は=CRiY4 を表し、RiY4は水素原子、炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置換されてもよく、RiY3は、破線が単結合を表す場合のRiY1と同じ意味を表し、RiY2は水素原子又は炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−O−又は−C≡C−で置換されてもよく、niY1は破線が二重結合を表す場合0であり、破線が単結合を表す場合1であり、niY2は0〜5の整数を表し、RiY1、RiY3及びRiY4が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、*でSi3と結合する。)から選ばれる基を表す請求項1〜5のいずれか一項に記載の化合物。
JP2019538445A 2017-11-17 2018-11-01 重合性化合物、並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子 Active JP6725893B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017221803 2017-11-17
JP2017221803 2017-11-17
JP2018085174 2018-04-26
JP2018085174 2018-04-26
PCT/JP2018/040671 WO2019098040A1 (ja) 2017-11-17 2018-11-01 重合性化合物、並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2019098040A1 JPWO2019098040A1 (ja) 2019-11-21
JP6725893B2 true JP6725893B2 (ja) 2020-07-22

Family

ID=66540213

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019538445A Active JP6725893B2 (ja) 2017-11-17 2018-11-01 重合性化合物、並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11760934B2 (ja)
JP (1) JP6725893B2 (ja)
KR (1) KR20200084327A (ja)
CN (1) CN111194305B (ja)
WO (1) WO2019098040A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6699799B2 (ja) * 2017-11-17 2020-05-27 Dic株式会社 重合性化合物、並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子
KR20200084327A (ko) 2017-11-17 2020-07-10 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물과, 그것을 사용한 액정 조성물 및 액정 표시 소자
WO2019124092A1 (ja) * 2017-12-21 2019-06-27 Dic株式会社 重合性化合物並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子
DE102019000286A1 (de) * 2018-02-05 2019-08-08 Merck Patent Gmbh Verbindungen zur homöotropen Ausrichtung von flüssigkristallinen Medien
CN111770909B (zh) * 2018-03-01 2024-01-30 Dic株式会社 聚合性化合物以及使用其的液晶组合物和液晶显示元件
TWI809128B (zh) * 2018-07-03 2023-07-21 日商Dic股份有限公司 配向助劑、液晶組成物及液晶顯示元件

Family Cites Families (75)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3210327A (en) 1962-05-23 1965-10-05 Gulf Oil Corp Symmetrical diol alkyl esters of acrylic acids and polymers thereof
US3280078A (en) 1963-09-26 1966-10-18 Union Carbide Corp Polyethylenically unsaturated polycarbonate polymers
FR1434145A (fr) 1963-09-26 1966-04-08 Union Carbide Corp Polymères de composés cycliques
US3532715A (en) 1969-02-24 1970-10-06 Union Carbide Corp Six-membered cyclic carbonates having two olefinically unsaturated substitutents
US3774305A (en) 1970-12-28 1973-11-27 D Stoffey Thermosetting acrylic resins and their use as binders in dental filling compositions
US3755420A (en) 1972-07-14 1973-08-28 Lee Pharmaceuticals Triglycidyl ether of trihydroxy bisphenyl ester of acrylic acid
JPH02173031A (ja) 1988-12-26 1990-07-04 Kureha Chem Ind Co Ltd プラスチックレンズ材料
US4962163A (en) 1989-01-17 1990-10-09 The Dow Chemical Company Vinyl ester resins containing mesogenic/rigid rodlike moieties
JP2683087B2 (ja) 1989-03-06 1997-11-26 呉羽化学工業株式会社 プラスチックレンズ材料
JPH03244615A (ja) 1990-02-23 1991-10-31 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物
JP2525067B2 (ja) 1990-04-23 1996-08-14 呉羽化学工業株式会社 プラスチックレンズ材料およびその製造方法
JPH04316890A (ja) 1991-04-17 1992-11-09 Oji Paper Co Ltd 染料熱転写画像受容シート
US5334489A (en) * 1992-10-23 1994-08-02 Polaroid Corporation Process for generation of squaric acid and for imaging, and imaging medium for use therein
US5998499A (en) 1994-03-25 1999-12-07 Dentsply G.M.B.H. Liquid crystalline (meth)acrylate compounds, composition and method
JP3455296B2 (ja) 1993-07-30 2003-10-14 新日本製鐵株式会社 タッチパネル用スペーサー材料及びこれを用いたタッチパネル
JPH07206974A (ja) 1994-01-11 1995-08-08 Daiso Co Ltd 重合性組成物およびそれより得られる高屈折率プラスチックレンズ
JPH09157340A (ja) 1995-12-08 1997-06-17 Kyoeisha Chem Co Ltd 新規耐熱性樹脂
US5919599A (en) 1997-09-30 1999-07-06 Brewer Science, Inc. Thermosetting anti-reflective coatings at deep ultraviolet
CN1088526C (zh) 1999-04-16 2002-07-31 南亚塑胶工业股份有限公司 光敏性油墨阻剂组合物
US6458908B1 (en) 1999-06-01 2002-10-01 Mitsui Chemicals, Inc. Sulfur-containing unsaturated carboxylate compound and its cured products
WO2002018313A1 (fr) 2000-08-30 2002-03-07 Kanagawa University Composes modifies a l'oxetane et composes de photopolymerisation issus de ces composes, leur methodes de preparation, et compositions de polymerisation contenant les composes de photopolymerisation
JP2002123921A (ja) 2000-10-12 2002-04-26 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体
JP3605028B2 (ja) 2000-11-07 2004-12-22 早川ゴム株式会社 微粒子、導電性微粒子、液晶表示パネル用面内スペーサ及び液晶表示パネル
WO2002064662A1 (fr) 2001-02-15 2002-08-22 Kanagawa University Compose de polyester insature, resine durcissable aux radiations actiniques, procedes de production de ces derniers et composition durcissable
JP2003138223A (ja) 2001-08-21 2003-05-14 Mitsubishi Chemicals Corp 硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示装置
JP4617838B2 (ja) 2003-12-25 2011-01-26 チッソ株式会社 液晶性(メタ)アクリレート誘導体およびそれらを含む組成物
WO2009091224A2 (en) 2008-01-18 2009-07-23 Lg Chem, Ltd. Optical film, preparation method of the same, and liquid crystal display comprising the same
CN101918513B (zh) 2008-01-18 2013-05-08 Lg化学株式会社 液晶取向层组合物、使用该组合物制备液晶取向层的方法、以及包含该液晶取向层的光学膜
JP5245118B2 (ja) 2008-03-07 2013-07-24 和歌山県 新規な重合性化合物およびその製造方法
US20090326186A1 (en) * 2008-06-27 2009-12-31 Transitions Optical, Inc. Mesogen containing compounds
JP5708972B2 (ja) 2010-03-31 2015-04-30 Dic株式会社 重合性液晶組成物、及び、それを用いたコレステリック反射フィルム、反射型偏光板
JP2012008223A (ja) 2010-06-22 2012-01-12 Fujifilm Corp ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、液晶表示装置、及び、有機el表示装置
DE102010043409A1 (de) 2010-11-04 2012-05-10 Bayer Materialscience Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung von Polycarbonatpolyolen durch immortale Polymerisation von cyclischen Carbonaten
JP5762130B2 (ja) 2011-05-23 2015-08-12 株式会社トクヤマ フォトクロミックレンズ、及びその製造方法
US9234136B2 (en) 2011-07-07 2016-01-12 Merck Patent Gmbh Liquid-crystalline medium
CN103906624B (zh) 2011-09-26 2016-02-10 富士胶片株式会社 屏障积层体与其制造方法与其用途、屏障装置的制造方法、可聚合化合物与可聚合组合物
RS58514B1 (sr) 2012-06-13 2019-04-30 Incyte Holdings Corp Supstituisana triciklična jedinjenja kao inhibitori fgfr
JP5879218B2 (ja) 2012-07-03 2016-03-08 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、感活性光線性又は感放射線性膜
WO2014042491A1 (ko) 2012-09-17 2014-03-20 한국생산기술연구원 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물, 경화물 및 이의 용도
JP5816232B2 (ja) * 2012-09-25 2015-11-18 富士フイルム株式会社 液晶組成物およびその製造方法ならびにフィルム
JP6510419B2 (ja) * 2012-12-17 2019-05-08 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung 液晶ディスプレイ、およびホメオトロピック配列を有する液晶媒体
KR101609634B1 (ko) 2012-12-26 2016-04-06 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
AR089616A1 (es) 2012-12-28 2014-09-03 Consejo Nac Invest Cient Tec Monomeros de bis-glicidilmetacrilatos para la formulacion de resinas compuestas para uso dental, metodo para la preparacion de dichos monomeros bis-glicidilmetacrilatos, formulacion de resinas de restauracion dental directa que los comprenden y usos de dichos monomeros
WO2014148471A1 (ja) 2013-03-21 2014-09-25 Dic株式会社 重合性化合物及びそれを用いた液晶組成物
JP6241654B2 (ja) * 2013-10-17 2017-12-06 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
CN105518035B (zh) * 2013-11-29 2017-05-03 Dic株式会社 化合物、聚合物、液晶取向膜、液晶显示元件以及光学各向异性体
JP6737566B2 (ja) 2014-01-14 2020-08-12 積水化学工業株式会社 基材粒子、導電性粒子、導電材料及び接続構造体
EP2918658B1 (de) 2014-03-10 2020-05-13 Merck Patent GmbH Flüssigkristalline Medien mit homöotroper Ausrichtung
GB2541310B (en) 2014-06-23 2017-09-06 Dainippon Ink & Chemicals Polymerizable liquid crystal composition and optically anisotropic body, retardation film, and patterned retardation film using the same
CN107108453B (zh) * 2015-01-14 2023-09-19 捷恩智株式会社 具有聚合性基的化合物、液晶组合物及液晶显示元件
KR102100753B1 (ko) 2015-03-25 2020-05-15 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하는 컬러 필터
EP3121247B1 (en) 2015-06-09 2019-10-02 Merck Patent GmbH Polymerisable compounds and the use thereof in liquid-crystal displays
CN105061213B (zh) 2015-08-24 2017-05-17 江苏和成新材料有限公司 具有四原子桥键的可聚合化合物及其制备方法及应用
KR20180051582A (ko) 2015-09-09 2018-05-16 메르크 파텐트 게엠베하 액정 매질
US10190050B2 (en) 2016-01-21 2019-01-29 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal composition, liquid crystal display device including the same, and method of manufacturing liquid crystal display device
CN105647547B (zh) 2016-01-29 2018-06-05 深圳市华星光电技术有限公司 热敏型交联材料、液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板
JP6669255B2 (ja) * 2016-06-03 2020-03-18 Jnc株式会社 重合性極性化合物、液晶組成物、および液晶表示素子
US20180002604A1 (en) 2016-06-30 2018-01-04 Merck Patent Gmbh Liquid-crystalline medium
JP6933004B2 (ja) * 2016-08-03 2021-09-08 Dic株式会社 光学異方体
CN106397752B (zh) 2016-10-14 2019-03-29 常州强力电子新材料股份有限公司 含芴的感光性树脂、其制备方法及具有其的光固化组合物和光刻胶
TWI737834B (zh) 2016-10-26 2021-09-01 日商迪愛生股份有限公司 液晶組成物用自發配向助劑
JPWO2018079528A1 (ja) 2016-10-27 2019-09-19 Dic株式会社 液晶表示素子
DE102017010159A1 (de) 2016-11-21 2018-05-24 Merck Patent Gmbh Verbindungen zur homöotropen Ausrichtung von flüssigkristallinen Medien
CN109964170A (zh) 2016-12-05 2019-07-02 Dic株式会社 液晶显示元件
CN110088650B (zh) 2016-12-28 2021-09-07 Dic株式会社 分散体和使用其的喷墨用油墨组合物、光转换层、和液晶显示元件
CN106833677A (zh) 2016-12-29 2017-06-13 深圳市华星光电技术有限公司 一种垂直取向剂材料
WO2018159637A1 (ja) * 2017-02-28 2018-09-07 日産化学株式会社 化合物、液晶組成物及び液晶表示素子
CN110651022A (zh) * 2017-06-01 2020-01-03 Dic株式会社 聚合性单体、使用其的液晶组合物及液晶显示元件
US11174217B2 (en) 2017-06-12 2021-11-16 Dic Corporation Polymerizable compound and liquid crystal composition
CN110621761A (zh) * 2017-06-29 2019-12-27 Dic株式会社 液晶组合物及液晶显示元件
KR20200041880A (ko) 2017-09-08 2020-04-22 디아이씨 가부시끼가이샤 배향 조제, 액정 조성물 및 액정 표시 소자
KR20200084327A (ko) 2017-11-17 2020-07-10 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물과, 그것을 사용한 액정 조성물 및 액정 표시 소자
WO2019124092A1 (ja) * 2017-12-21 2019-06-27 Dic株式会社 重合性化合物並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子
CN111770909B (zh) * 2018-03-01 2024-01-30 Dic株式会社 聚合性化合物以及使用其的液晶组合物和液晶显示元件
CN111886540A (zh) 2018-05-09 2020-11-03 Dic株式会社 液晶显示元件

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200084327A (ko) 2020-07-10
CN111194305A (zh) 2020-05-22
US20200308488A1 (en) 2020-10-01
WO2019098040A1 (ja) 2019-05-23
CN111194305B (zh) 2023-01-03
US11760934B2 (en) 2023-09-19
JPWO2019098040A1 (ja) 2019-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6725893B2 (ja) 重合性化合物、並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子
JP7196884B2 (ja) 重合性化合物及び液晶組成物
JP6721873B2 (ja) 液晶組成物用自発配向助剤
TWI692475B (zh) 氟化二苯并呋喃及二苯并噻吩衍生物
KR102468420B1 (ko) 4,6-다이플루오로다이벤조티오펜 유도체
JP7215461B2 (ja) 重合性化合物並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子
JP6729815B2 (ja) 重合性化合物並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子
TW201906830A (zh) 二苯并噻吩及二苯并呋喃的硫醚衍生物
JP2019123875A (ja) 重合性モノマー、それを用いた液晶組成物及び液晶表示素子
JP6681035B2 (ja) 液晶化合物及びその組成物
JP7229342B2 (ja) 液晶組成物、液晶表示素子及び化合物
JP6701611B2 (ja) 液晶組成物及び液晶表示素子
JP6115303B2 (ja) 隣接基としてカルボニル基を有するフェノール化合物およびその用途
TW202206579A (zh) 化合物、液晶組成物及液晶顯示元件
CN113677657A (zh) 聚合性液晶组合物及液晶显示元件、以及化合物
JP7363414B2 (ja) 安定剤化合物、液晶組成物および表示素子
JP2020002065A (ja) 重合性化合物並びにそれを使用した液晶組成物及び液晶表示素子
JP2020100600A (ja) 重合性安定剤及びそれを用いた液晶組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190716

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190716

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20190716

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20191004

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20191010

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20191204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200110

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200318

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200421

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200527

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200609

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6725893

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R154 Certificate of patent or utility model (reissue)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R154

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250