JP6710561B2 - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
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Description
9 基板
10 制御部
21 スピンモータ
22 スピンチャック
24 内側カップ部
25 外側カップ部
26 ガード昇降機構
31 第1ノズル
32 第2ノズル
35 固定ノズル
42 純水供給部
43 有機溶剤供給部
44 充填材溶液供給部
45 接続部
91 (基板の)上面
S11〜S19,S21,S22 ステップ
Claims (6)
- 一の主面にパターンが形成された基板の周囲を囲む外側カップ部と、前記外側カップ部の内側に配置される内側カップ部とを備える基板処理装置における基板処理方法であって、
a)前記内側カップ部の上端を前記外側カップ部の上端よりも下方に配置した第1の状態において、基板回転機構により回転する前記基板の上方を向く前記主面に純水を供給するとともに、前記主面から飛散する前記純水を前記外側カップ部の内側面により受ける工程と、
b)前記第1の状態において、所定の有機溶剤と純水とを混合した混合液を、回転する前記基板の前記主面に供給するとともに、前記主面から飛散する前記混合液を前記外側カップ部の前記内側面により受ける工程と、
c)前記第1の状態において、回転する前記基板の前記主面に前記有機溶剤を供給するとともに、前記主面から飛散する前記有機溶剤を前記外側カップ部の前記内側面により受ける工程と、
d)前記主面を覆う前記有機溶剤の液膜を前記主面上にて保持しつつ、前記内側カップ部を前記基板に対して相対的に上昇させることにより前記内側カップ部の内側面が前記基板の周囲に配置された第2の状態を形成する工程と、
e)前記第2の状態において、前記有機溶剤よりも比重が大きく、純水と混ざることによりゲル化する充填材溶液を前記主面に供給することにより、前記主面上に前記充填材溶液を充填する工程と、
を備えることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1に記載の基板処理方法であって、
前記基板処理装置が、前記主面に対向するノズルをさらに備え、
前記a)工程における前記純水、前記b)工程における前記混合液、および、前記c)工程における前記有機溶剤が、前記ノズルから吐出されることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項2に記載の基板処理方法であって、
前記b)工程において前記混合液における前記有機溶剤の濃度が徐々に高められることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1に記載の基板処理方法であって、
前記主面よりも上方の所定位置に固定された固定ノズルから少なくとも前記混合液が吐出され、
前記固定ノズルからの吐出動作に並行して、前記a)工程における前記純水の供給、または、前記a)工程よりも前における処理液の供給に利用された第1ノズルが前記主面に対向する位置から、前記主面の上方から外れた待機位置へと移動され、さらに、前記主面の上方から外れた他の待機位置に配置された第2ノズルが前記主面に対向する位置へと移動され、
前記c)工程において、前記第2ノズルから前記有機溶剤が吐出されることを特徴とする基板処理方法。 - 一の主面にパターンが形成された基板の周囲を囲む外側カップ部と、前記外側カップ部の内側に配置される内側カップ部とを備える基板処理装置における基板処理方法であって、
a)前記内側カップ部の上端を前記外側カップ部の上端よりも下方に配置した第1の状態において、基板回転機構により回転する前記基板の上方を向く前記主面に、前記主面よりも上方の所定位置に固定された固定ノズルから純水を連続的に供給するとともに、前記主面から飛散する前記純水を前記外側カップ部の内側面により受ける工程と、
b)前記a)工程に並行して、前記a)工程よりも前における処理液の供給に利用された第1ノズルを前記主面に対向する位置から、前記主面の上方から外れた待機位置へと移動するとともに、前記主面の上方から外れた他の待機位置に配置された第2ノズルを前記主面に対向する位置へと移動する工程と、
c)前記第1の状態において、回転する前記基板の前記主面に前記第2ノズルから所定の有機溶剤を供給するとともに、前記主面から飛散する前記有機溶剤を前記外側カップ部の前記内側面により受ける工程と、
d)前記主面を覆う前記有機溶剤の液膜を前記主面上にて保持しつつ、前記内側カップ部を前記基板に対して相対的に上昇させることにより前記内側カップ部の内側面が前記基板の周囲に配置された第2の状態を形成する工程と、
e)前記第2の状態において、前記有機溶剤よりも比重が大きく、純水と混ざることによりゲル化する充填材溶液を前記主面に供給することにより、前記主面上に前記充填材溶液を充填する工程と、
を備えることを特徴とする基板処理方法。 - 基板処理装置であって、
パターンが形成された基板の主面を上方に向けた状態で前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部を前記基板と共に回転する基板回転機構と、
前記基板の周囲を囲む外側カップ部と、
前記外側カップ部の内側に配置される内側カップ部と、
前記内側カップ部を前記基板に対して相対的に昇降する昇降機構と、
純水を前記主面に供給する純水供給部と、
所定の有機溶剤と純水とを混合した混合液を前記主面に供給する混合液供給部と、
前記有機溶剤を前記主面に供給する有機溶剤供給部と、
前記有機溶剤よりも比重が大きく、純水と混ざることによりゲル化する充填材溶液を前記主面に供給する充填材溶液供給部と、
前記内側カップ部の上端を前記外側カップ部の上端よりも下方に配置した第1の状態において、前記基板回転機構により回転する前記基板の前記主面に、前記純水供給部、前記混合液供給部および前記有機溶剤供給部により前記純水、前記混合液および前記有機溶剤を順に供給させつつ、前記主面から飛散する液が前記外側カップ部の内側面により受けられ、その後、前記主面を覆う前記有機溶剤の液膜を前記主面上にて保持しつつ、前記昇降機構により前記内側カップ部を前記基板に対して相対的に上昇させることにより前記内側カップ部の内側面が前記基板の周囲に配置された第2の状態を形成し、前記第2の状態において、前記充填材溶液供給部により前記主面に前記充填材溶液を供給させることにより、前記主面上に前記充填材溶液を充填する制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
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