JP6689154B2 - デバイスウエーハの加工方法 - Google Patents
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Description
実施形態1に係るデバイスウエーハの加工方法を図面を参照して説明する。図1は、実施形態1に係るデバイスウエーハの加工方法の加工対象のデバイスウエーハを示す斜視図である。図2は、図1中のII−II線に沿う断面図である。図3は、図2に示されたデバイスウエーハに導電体膜を形成する状態を示す断面図である。
実施形態2に係るデバイスウエーハの加工方法を図面を参照して説明する。図17は、実施形態2に係るデバイスウエーハの加工方法の紫外線照射ステップで用いられる紫外線照射ユニットの構成を示す斜視図である。図18は、図17に示された紫外線照射ユニットが紫外線を照射する状態を示す断面図である。図17及び図18は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
実施形態3に係るデバイスウエーハの加工方法を図面を参照して説明する。図19は、実施形態3に係るデバイスウエーハの加工方法の紫外線照射ステップで用いられる紫外線照射ユニットの構成を示す斜視図である。図19は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
実施形態4に係るデバイスウエーハの加工方法を図面を参照して説明する。図20は、実施形態4に係るデバイスウエーハの加工方法の分割予定ライン露出ステップで用いられレーザ加工ユニットのレーザ光線照射ユニットの構成を示す斜視図である。図20は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
表面の交差する複数の分割予定ラインによって区画された各領域にそれぞれデバイスが形成され裏面全面に膜が形成されたデバイスウエーハを加工するデバイスウエーハの加工方法であって、
紫外線が照射されることにより接着力が低下する接着剤を介して紫外線を透過する支持部材に貼着されたデバイスウエーハの裏面側を該支持部材を介して保持し、該デバイスウエーハの表面から該分割予定ラインに沿ってプラズマエッチングして該膜に伸びる溝を形成する溝形成ステップと、
該溝形成ステップを実施した後、デバイスに対応する領域の接着剤のみに該デバイスウエーハの裏面側から該支持部材を介して紫外線を照射し、該複数のデバイスに対応する領域の接着力を低下させる紫外線照射ステップと、
該紫外線照射ステップを実施した後、該支持部材からデバイスのみをピックアップするピックアップステップと、
を備える、デバイスウエーハの加工方法。
表面の交差する複数の分割予定ラインによって区画された各領域にそれぞれデバイスが形成され裏面全面に膜が形成されたデバイスウエーハを加工するデバイスウエーハの加工方法であって、
紫外線が照射されることにより接着力が低下する接着剤を介して紫外線を透過する支持部材に裏面が貼着され、かつ表面にプラズマエッチングにより分割予定ラインに沿った溝が形成されたデバイスウエーハのデバイスに対応する領域の接着剤のみに該デバイスウエーハの裏面側から該支持部材を介して紫外線を照射し、該複数のデバイスに対応する領域の接着力を低下させる紫外線照射ステップと、
該紫外線照射ステップを実施した後、該支持部材からデバイスのみをピックアップするピックアップステップと、
を備える、デバイスウエーハの加工方法。
各実施形態に係るデバイスウエーハの加工方法の変形例を図面を参照して説明する。図22は、各実施形態の第1の変形例に係るデバイスウエーハの加工方法の加工対象のデバイスウエーハの要部の断面図である。図23は、各実施形態の第2の変形例に係るデバイスウエーハの加工方法の加工対象のデバイスウエーハの要部の断面図である。図24は、図23に示すデバイスウエーハのデバイスを保護膜で保護した状態の断面図である。図25は、各実施形態の第3の変形例に係るデバイスウエーハの加工方法の加工対象のデバイスウエーハの要部の断面図である。図22から図25は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
12 支持部材
W,W−1,W−2,W−3 デバイスウエーハ
WS 表面
WR 裏面
L 分割予定ライン
D デバイス
F,F−3 膜
R 溝
UV 紫外線
ST1 デバイスウエーハ貼着ステップ
ST3 溝形成ステップ
ST4 紫外線照射ステップ
ST5 ピックアップステップ
Claims (3)
- 表面の交差する複数の分割予定ラインによって区画された各領域にそれぞれデバイスが形成され裏面全面に膜が形成されたデバイスウエーハを加工するデバイスウエーハの加工方法であって、
デバイスウエーハの裏面側を紫外線が照射されることにより接着力が低下する接着剤を介して紫外線を透過する支持部材に貼着するデバイスウエーハ貼着ステップと、
該デバイスウエーハの裏面側を該支持部材を介して保持し、該デバイスウエーハの表面から該分割予定ラインに沿ってプラズマエッチングして該膜に伸びる溝を形成する溝形成ステップと、
該溝形成ステップを実施した後、デバイスに対応する領域の接着剤のみに該デバイスウエーハの裏面側から該支持部材を介して紫外線を照射し、該複数のデバイスに対応する領域の接着力を低下させる紫外線照射ステップと、
該紫外線照射ステップを実施した後、該支持部材からデバイスのみをピックアップするピックアップステップと、
を備える、デバイスウエーハの加工方法。 - 該ピックアップステップでは、該接着剤のうち該紫外線照射ステップにおいて第一のデバイスに対応した領域に紫外線が照射されてから該第一のデバイスをピックアップした後、該接着剤のうち該紫外線照射ステップにおいて次にピックアップする第二のデバイスに対応した領域に紫外線が照射されてから該第二のデバイスをピックアップする、請求項1に記載のデバイスウエーハの加工方法。
- 該膜は、導電体膜である請求項1または2に記載のデバイスウエーハの加工方法。
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