JP6619256B2 - 化学洗浄方法および化学洗浄装置 - Google Patents
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Description
例えば、特許文献1には、ボイラにおける火炉壁管に酸を含む洗浄液を流通させて、該火炉壁管の内側を洗浄することが開示されている。
また、特許文献2には、ボイラにおける火炉壁管にキレート剤又は還元剤を含む洗浄液を流通させて、該火炉壁管の内側を洗浄することが開示されている。
この点、特許文献2のように、キレート剤又は還元剤を含む洗浄液を用いた洗浄では、これらの洗浄成分と金属母材との反応によって水素などの可燃性物質は基本的には発生しないと考えられる。
しかしながら、本発明者らの鋭意検討の結果、キレート剤を含む洗浄液を用いてスケールが付着した機器の洗浄を行う場合であっても、実際には微量の水素(可燃性ガス)が生じることがわかった。そこで、可燃性ガスの濃度を管理値以下に抑えながら、機器の洗浄を行い得る方法の開発が求められている。
スケールが付着した部材を有する洗浄対象機器にキレート剤を含む洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、
前記部材を前記洗浄液と接触させることにより前記スケールを溶解させるスケール溶解工程と、
少なくとも前記スケール溶解工程の一部の期間において、前記金属母材が溶解することにより生成する可燃性ガスを希釈するための希釈ガスを前記洗浄対象機器に供給する希釈ガス供給工程と、
を備える。
上記(1)の方法によれば、スケールが付着した部材を有する洗浄対象機器において、金属母材が溶解するときに生成する可燃性ガスの濃度を管理値以下に抑制することができる。
上記(2)の方法によれば、不活性ガスを希釈ガスとして洗浄対象機器に供給するので、希釈ガスによる洗浄液の性能の低下が起こりにくい。このため、洗浄対象機器をより効率的に洗浄することができる。
上記(3)の方法によれば、比較的小さな気泡径を有するマイクロバブルとして希釈ガスを洗浄液に混入させるので、希釈ガスの気泡の洗浄液中における滞留時間を延ばすことができ、希釈ガスの気泡を含む洗浄液を洗浄対象機器の洗浄系統全体に行き渡らせることができる。このため、洗浄対象機器の洗浄系統に可燃性ガスが滞留する部位が複数存在する場合において、希釈ガスの供給位置から最も近い部位において、洗浄液中の希釈ガスが気相中に放散されてしまい、当該部位よりも下流側には希釈ガスを含まない洗浄液しか供給されない、といった事態を回避できる。よって、洗浄対象機器において可燃性ガスをより効果的に希釈させることができる。
上記(4)の方法によれば、希釈ガスのマイクロバブルの気泡径を100μm以下としたので、洗浄系統全体に希釈ガスをより効果的に行き渡らせることができる。
前記洗浄対象機器内における前記可燃性ガスの濃度を計測する濃度計測工程と、
前記濃度計測工程における計測結果に基づいて、前記希釈ガスの前記洗浄対象機器への供給量を調節する供給量調節工程と、
をさらに備える。
上記(5)の方法によれば、洗浄対象機器内における可燃性ガスの濃度計測結果に基づいて希釈ガスの供給量を調整するので、必要に応じて希釈ガスを供給することができる。このため、希釈ガスの使用量を抑制しながら、洗浄対象機器において可燃性ガスをより効率的に希釈させることができる。
前記洗浄液供給工程では、前記洗浄液が貯留されたタンクおよび前記洗浄液を圧送するためのポンプを含む洗浄液供給ラインを前記洗浄対象機器に接続し、前記タンク内の前記洗浄液を前記ポンプにより前記洗浄対象機器に向けて圧送する。
上記(6)の方法によれば、タンク内の洗浄液をポンプにより圧送するので、洗浄液を速やかに洗浄対象機器に供給することができる。
上記(7)の方法によれば、スケールを溶解工程における金属母材が溶解するときに生成する可燃性ガスの濃度を管理値以下に抑制することができる。
スケールが付着した部材を有する洗浄対象機器を化学洗浄するための化学洗浄装置であって、
キレート剤を含む洗浄液を貯留するための洗浄液タンクと、
前記洗浄液タンクと前記洗浄対象機器との間に設けられ、前記洗浄液を前記洗浄対象機器へ供給するための洗浄液供給ラインと、
前記部材と前記洗浄液との接触により生成する可燃性ガスを希釈するための希釈ガスを前記洗浄対象機器に供給するための希釈ガス供給部と、
を備える。
上記(9)の構成によれば、洗浄液供給ラインを流れる洗浄液に希釈ガスを混入させるので、洗浄液供給ラインを利用して効率的に希釈ガスを洗浄対象機器に供給することができる。
前記洗浄液供給ラインに設けられ、前記洗浄液タンクから前記洗浄対象機器に前記洗浄液を送るためのポンプをさらに備え、
前記希釈ガス供給部は、前記洗浄液供給ラインのうち前記ポンプの吸込み側において、前記洗浄液に前記希釈ガスを混入させるように構成される。
上記(10)の構成によれば、洗浄液供給ラインのうち、比較的圧力が低いポンプの吸い込み側において洗浄液に希釈ガスを混入させるようにしたので、洗浄液供給ラインを流れる洗浄液に希釈ガスを比較的容易に混入させることができる。
前記洗浄対象機器内の前記可燃性ガスの濃度を計測するための濃度計測部と、
前記濃度計測部による前記濃度の計測結果に基づいて、前記洗浄対象機器への前記希釈ガスの供給量を調節するための希釈ガス供給量調節部と、をさらに備える。
上記(11)の構成によれば、洗浄対象機器内における可燃性ガスの濃度計測結果に基づいて希釈ガスの供給量を調整するので、必要に応じて希釈ガスを供給することができる。このため、希釈ガスの使用量を抑制しながら、洗浄対象機器において可燃性ガスをより効率的に希釈させることができる。
上記(12)の構成によれば、比較的小さな気泡径を有するマイクロバブルとして希釈ガスを洗浄液に混入させるので、希釈ガスの気泡の洗浄液中における滞留時間を延ばすことができ、希釈ガスの気泡を含む洗浄液を洗浄対象機器の洗浄系統全体に行き渡らせることができる。このため、洗浄対象機器の洗浄系統に可燃性ガスが滞留する部位が複数存在する場合において、希釈ガスの供給位置から最も近い部位において、洗浄液中の希釈ガスが気相中に放散されてしまい、当該部位よりも下流側には希釈ガスを含まない洗浄液しか供給されない、といった事態を回避できる。よって、洗浄対象機器において可燃性ガスをより効果的に希釈させることができる。
上記(13)の構成によれば、希釈ガスのマイクロバブルの気泡径を100μm以下としたので、洗浄系統全体に希釈ガスをより効果的に行き渡らせることができる。
上記(14)の構成によれば、不活性ガスを希釈ガスとして洗浄対象機器に供給するので、希釈ガスによる洗浄液の性能の低下が起こりにくい。このため、洗浄対象機器をより効率的に洗浄することができる。
上記(15)の構成によれば、スケール溶解工程における金属母材が溶解するときに生成する可燃性ガスの濃度を管理値以下に抑制することができる。
図1は、一実施形態に係る化学洗浄装置の概略構成図である。図1に示す化学洗浄装置31は、火力発電設備1における貫流ボイラ10の加熱部伝熱管及び非加熱部を洗浄するように構成されている。
なお、図1に示すボイラ10は貫流ボイラであるが、本発明に係る化学洗浄方法又は化学洗浄装置は、貫流ボイラ以外のボイラに適用可能であり、例えば、ドラム型ボイラや排熱回収ボイラ等に適用してもよい。
また、幾つかの実施形態では、ボイラ10の伝熱管又は非加熱部の少なくとも一方を洗浄対象としてもよい。
貫流ボイラ10は、循環ライン8上に配置される節炭器30、火炉11、気水分離器12及び過熱器14を含む。
貫流ボイラ10の火炉11において、燃料の燃焼熱との熱交換により生成された蒸気は、気水分離器12、過熱器14を経由してタービン16に供給される。タービン16には、再熱器18が接続されている。タービン16で仕事を終えた蒸気は復水器20で凝縮されて水となる。復水器20で生成された水は、循環ライン8に設けられた復水処理装置22、低圧給水加熱器24、脱気器26、高圧給水加熱器28、及び、節炭器30を通って、火炉11に戻る。
なお、火力発電設備1において、循環ライン8には、蒸気又は水を圧送するためのポンプが設けられていてもよい。図1に示す例では、復水器20と復水処理装置22との間、復水処理装置22と低圧給水加熱器24との間、及び、脱気器26と高圧給水加熱器28との間に、それぞれ、ポンプ21,23,27が設けられている。
また、洗浄液供給ライン38には、図1に示すように、洗浄液タンク32からの洗浄液を加熱するための加熱器34が設けられていてもよい。
また、洗浄液供給ライン38には、図1に示すように、洗浄液タンク32から貫流ボイラ10の伝熱管に供給する洗浄液の流量を調節するためのバルブ35が設けられていてもよい。
が得られるように、キレート剤、還元剤及び腐食抑制剤の濃度が適切に調整されている。
この場合、希釈ガス供給部50は、洗浄液供給ライン38を流れる洗浄液に希釈ガスを混入させることができる。
不活性ガスとしては、例えば、アルゴン等の希ガス、又は、窒素等を用いることができる。
と仮定する。
貫流ボイラ10を酸で洗浄した場合の腐食量は、実験的に、50g/m2(Fe換算)程度以下であることがわかっている。このため、貫流ボイラ10の洗浄対象面積が約30000m2
であるとの仮定のもと、水素発生量は以下のように計算される。
50g/m2×30000m2/55.8g×22.4L=602Nm3
ここで、貫流ボイラ10をキレート剤又は還元剤を含む洗浄液で洗浄する場合の水素発生量は、酸洗浄をする場合の数百分の1程度であると考えられ、およそ1Nm3程度であると推定できる。キレート剤又は還元剤を含む洗浄液を用いた場合の洗浄時間が100時間程度であるとすれば、洗浄中の水素発生速度は、1m3/100h=10L/hとなる。
ここで、水素の濃度を燃焼限界(爆発限界)である4%未満とするためには、10L/h×25=250L/h以上の希釈ガスを連続的に供給するとよい。
なお、希釈ガスの適切な供給量が貫流ボイラ10における洗浄対象面積に依存することは、言うまでもない。
このように、洗浄液での洗浄前に貫流ボイラ10内部の水を昇温させることで、後で洗浄剤を用いて洗浄する際の洗浄速度を大きくすることができる。
ここで、洗浄液返送ライン40のバルブ41を開弁して、洗浄液及び洗浄液に混入した希釈ガスを、洗浄液供給ライン38、火炉11(火炉壁管)、洗浄液返送ライン40、及び洗浄液タンク32を循環させることができる。これにより、洗浄液と貫流ボイラ10の伝熱管(火炉壁管等)との接触が促進され、スケールの溶解が進む。
なお、ステップS110でスケールを溶解させている期間のうち少なくとも一部の期間において、ステップS106による貫流ボイラ10への希釈ガスの供給を行う。
また、洗浄液混入した希釈ガスも洗浄液に比べて比重が小さいため、貫流ボイラ10内で上方へと移動する。よって、洗浄液とともに貫流ボイラ10に供給された希釈ガスも、同様に、気水分離器12等、貫流ボイラ10における特定の場所に滞留しやすい。
よって、気水分離器12等において滞留する水素等の可燃ガスが、希釈ガスによって希釈される。これにより、スケール溶解工程における金属母材の溶解に伴い生成する可燃性ガスの濃度を管理値以下に抑制することができる。
これにより、洗浄液によるスケール溶解工程における金属母材の溶解に伴い可燃性ガスが生成する前に、希釈ガスを洗浄対象機器の洗浄系統に行き渡らせることができるため、より確実に、可燃性ガスを希釈することができる。
貫流ボイラ10から洗浄液を排出した後、貫流ボイラ10の内部に残存する洗浄液を水で洗浄する(S114)。
この場合、一実施形態では、ステップS106及びS108にて希釈ガス及び洗浄液を貫流ボイラ10に供給する際、洗浄液が貯留された洗浄液タンク32および洗浄液を圧送するためのポンプ33を含む洗浄液供給ライン38を貫流ボイラ10に接続し、洗浄液タンク32内の洗浄液をポンプ33により貫流ボイラ10に向けて圧送するようにしてもよい。
希釈ガスのマイクロバブルの気泡径を100μm以下とすることで、洗浄系統全体に希釈ガスをより効果的に行き渡らせることができる。
例えば、「同一」、「等しい」及び「均質」等の物事が等しい状態であることを表す表現は、厳密に等しい状態を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の差が存在している状態も表すものとする。
例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一の構成要素を「備える」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
8 循環ライン
10 貫流ボイラ
11 火炉
12 気水分離器
13 バルブ(空気抜き弁)
14 過熱器
16 タービン
18 再熱器
20 復水器
21 ポンプ
22 復水処理装置
23 ポンプ
24 低圧給水加熱器
26 脱気器
27 ポンプ
28 高圧給水加熱器
29 純水タンク
30 節炭器
31 化学洗浄装置
32 洗浄液タンク
33 ポンプ
34 加熱器
35 バルブ
36 バルブ
37 バルブ
38 洗浄液供給ライン
40 洗浄液返送ライン
41 バルブ
42 バルブ
50 希釈ガス供給部
52 ボンベ
54 希釈ガス供給ライン
56 バルブ
58 マイクロバブル発生装置
60 希釈ガス供給量調節部
61 濃度計測部
Claims (16)
- スケールが付着した部材を有する洗浄対象機器にキレート剤又は還元剤の少なくとも一方を含む洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、
前記部材を前記洗浄液と接触させることにより前記スケールを溶解させるスケール溶解工程と、
少なくとも前記スケール溶解工程の一部の期間において、金属母材の溶解に伴い生成する可燃性ガスを希釈するための希釈ガスを前記洗浄対象機器に供給する希釈ガス供給工程と、
を備え、
前記希釈ガス供給工程では、前記洗浄対象機器内における前記可燃性ガスの濃度が該可燃性ガスの管理値以下となるように、前記希釈ガスを前記洗浄対象機器に供給し、
前記洗浄液のpHは4以上8以下である
ことを特徴とする化学洗浄方法。 - 前記希釈ガスは不活性ガスであることを特徴とする請求項1に記載の化学洗浄方法。
- 前記洗浄液供給工程では、前記希釈ガスをマイクロバブルとして前記洗浄液に混入させることで、前記希釈ガスを前記洗浄対象機器に供給することを特徴とする請求項1又は2に記載の化学洗浄方法。
- 前記マイクロバブルの気泡径は100μm以下であることを特徴とする請求項3に記載の化学洗浄方法。
- 前記洗浄対象機器内における前記可燃性ガスの濃度を計測する濃度計測工程と、
前記濃度計測工程における計測結果に基づいて、前記希釈ガスの前記洗浄対象機器への供給量を調節する供給量調節工程と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の化学洗浄方法。 - 前記洗浄対象機器は、ボイラの伝熱管を含み、
前記濃度計測工程では、前記伝熱管よりも上方に位置する気水分離器内の前記可燃性ガスの濃度を計測する
ことを特徴とする請求項5に記載の化学洗浄方法。 - 前記洗浄液供給工程では、前記洗浄液が貯留されたタンクおよび前記洗浄液を圧送するためのポンプを含む洗浄液供給ラインを前記洗浄対象機器に接続し、前記タンク内の前記洗浄液を前記ポンプにより前記洗浄対象機器に向けて圧送することを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の化学洗浄方法。
- 前記洗浄対象機器は、ボイラの伝熱管を含むことを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載の化学洗浄方法。
- スケールが付着した部材を有する洗浄対象機器を化学洗浄するための化学洗浄装置であって、
キレート剤又は還元剤の少なくとも一方を含む洗浄液を貯留するための洗浄液タンクと、
前記洗浄液タンクと前記洗浄対象機器との間に設けられ、前記洗浄液を前記洗浄対象機器へ供給するための洗浄液供給ラインと、
前記部材と前記洗浄液との接触により生成する可燃性ガスを希釈するための希釈ガスを前記洗浄対象機器に供給するための希釈ガス供給部と、
前記洗浄対象機器内の前記可燃性ガスの濃度を計測するための濃度計測部と、
前記濃度計測部による前記濃度の計測結果に基づいて、前記洗浄対象機器への前記希釈ガスの供給量を調節するための希釈ガス供給量調節部と、
を備え、
前記希釈ガス供給量調節部は、前記洗浄対象機器内における前記可燃性ガスの濃度が該可燃性ガスの管理値以下となるように、前記洗浄対象機器への前記希釈ガスの供給量を調節するように構成され、
前記洗浄液のpHは4以上8以下である
ことを特徴とする化学洗浄装置。 - 前記希釈ガス供給部は、前記洗浄液供給ラインを流れる前記洗浄液に前記希釈ガスを混入させるように構成されたことを特徴とする請求項9に記載の化学洗浄装置。
- 前記洗浄液供給ラインに設けられ、前記洗浄液タンクから前記洗浄対象機器に前記洗浄液を送るためのポンプをさらに備え、
前記希釈ガス供給部は、前記洗浄液供給ラインのうち前記ポンプの吸込み側において、前記洗浄液に前記希釈ガスを混入させるように構成されたことを特徴とする請求項10に記載の化学洗浄装置。 - 前記希釈ガス供給部は、前記希釈ガスのマイクロバブルを発生させるためのマイクロバブル発生部を含むことを特徴とする請求項9乃至11の何れか一項に記載の化学洗浄装置。
- 前記マイクロバブル発生部は、気泡径が100μm以下の前記マイクロバブルを発生させるように構成されたことを特徴とする請求項12に記載の化学洗浄装置。
- 前記希釈ガスは不活性ガスであることを特徴とする請求項9乃至13の何れか一項に記載の化学洗浄装置。
- 前記希釈ガスは還元雰囲気ガスであることを特徴とする請求項9乃至14の何れか一項に記載の化学洗浄装置。
- 前記洗浄対象機器は、ボイラの伝熱管を含むことを特徴とする請求項9乃至15の何れか一項に記載の化学洗浄装置。
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