JP6609792B2 - レーザ加工装置 - Google Patents
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Description
(実施の形態1)
まず、図1〜図4を用いて、本実施の形態にかかるレーザ加工装置1について説明する。図1は、本実施の形態のレーザ加工装置1の概略構成を示す図である。
(実施の形態2)
次に、図5〜図8を用いて、本実施の形態にかかるレーザ加工装置2について説明する。なお、実施の形態1と共通する構成については同一の符号を付し、その説明を省略する。図5は、本実施の形態のレーザ加工装置2の概略構成を示す図である。
10 レーザ発振器
20 全反射ミラー
30、130 曲率可変ミラー
31、131 ミラー
32、132 位置制御装置
33、133 位置調整部材
40 全反射ミラー
50 加工ヘッド
60 加工テーブル
70 加工ヘッド移動装置
71 X軸モータ
72 Y軸モータ
80 制御装置
LB レーザビーム
P1、P2 反射点
R、R1、R2 曲率
RF1、RF2 反射面
W 被加工物
900 レーザ加工機
910 レーザ発振器
911 レーザビーム
912 コリメート光
920 レーザビームコリメーション装置
921 平面鏡
922 コリメーションミラー
923 ミラーホルダー
924 支持部
925 アクチュエータ
926 信号線
930 平面反射鏡
940 加工ヘッド
941 集光レンズ
950 コリメーション制御装置
951 制御信号
960 装置
970 被加工物
Claims (5)
- レーザビームを出射するレーザ発振器と、
前記レーザビームを反射する反射面の曲率が変化する第1の曲率可変ミラーと、
前記レーザビームを集光し、被加工物に照射する加工ヘッドと、
前記被加工物が搭載される加工テーブルと、
前記レーザ発振器のレーザ出力と、前記第1の曲率可変ミラーの曲率と、前記加工ヘッドと前記被加工物との相対位置と、を制御する制御装置と、を備え、
前記第1の曲率可変ミラーは、第1のミラーと前記第1のミラーの位置を変更する第1のミラー移動装置とを有し、
前記第1のミラーは曲率の変化に伴って中心位置が移動し、
前記第1のミラー移動装置は、前記中心位置の移動した方向と逆方向に、前記中心位置が移動した距離だけ前記第1のミラーを移動させるレーザ加工装置。 - 前記レーザビームを反射する反射面の曲率が変化する第2の曲率可変ミラーをさらに備え、
前記第2の曲率可変ミラーは、前記第1の曲率可変ミラーと前記加工ヘッドとの間に設けられた請求項1に記載のレーザ加工装置。 - 前記第2の曲率可変ミラーは、第2のミラーと前記第2のミラーの位置を変更する第2のミラー移動装置とを有し、
前記第2のミラーは曲率の変化に伴って中心位置が移動し、
前記第2のミラー移動装置は、前記中心位置の移動した方向と逆方向に、前記中心位置が移動した距離だけ前記第2のミラーを移動させる請求項2に記載のレーザ加工装置。 - 前記制御装置は、前記加工ヘッドの位置を移動させて前記加工ヘッドと前記被加工物との相対位置を制御する請求項1から3のいずれかに記載のレーザ加工装置。
- 前記制御装置は、前記加工テーブルを駆動して前記加工ヘッドと前記被加工物との相対位置を制御する請求項1から3のいずれかに記載のレーザ加工装置。
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