JP6523186B2 - 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム - Google Patents
半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6523186B2 JP6523186B2 JP2016017113A JP2016017113A JP6523186B2 JP 6523186 B2 JP6523186 B2 JP 6523186B2 JP 2016017113 A JP2016017113 A JP 2016017113A JP 2016017113 A JP2016017113 A JP 2016017113A JP 6523186 B2 JP6523186 B2 JP 6523186B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- film
- substrate
- supplying
- concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 193
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 122
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 456
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 104
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 97
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 91
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 72
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 52
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 claims description 45
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 43
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 36
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 31
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 25
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 24
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 412
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 121
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 29
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 28
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 27
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 25
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 16
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 16
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 15
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 13
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 13
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 13
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 12
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 7
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000002052 molecular layer Substances 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- DIIIISSCIXVANO-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dimethylhydrazine Chemical compound CNNC DIIIISSCIXVANO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N monomethylhydrazine Chemical compound CNN HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 2
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- WDVUXWDZTPZIIE-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-trichlorosilylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WDVUXWDZTPZIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- NIIPNAJXERMYOG-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trimethylhydrazine Chemical compound CNN(C)C NIIPNAJXERMYOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017109 AlON Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004143 HfON Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018248 LaON Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015659 MoON Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020055 NbON Inorganic materials 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003071 TaON Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010282 TiON Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006252 ZrON Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- SFAZXBAPWCPIER-UHFFFAOYSA-N chloro-[chloro(dimethyl)silyl]-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](C)(C)Cl SFAZXBAPWCPIER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCAUTWJWBFMFU-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-trimethylsilylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)Cl GJCAUTWJWBFMFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N diazene Chemical compound N=N RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000071 diazene Inorganic materials 0.000 description 1
- JTBAMRDUGCDKMS-UHFFFAOYSA-N dichloro-[dichloro(methyl)silyl]-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)[Si](C)(Cl)Cl JTBAMRDUGCDKMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 hydrazine compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000006057 reforming reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABDDAHLAEXNYRC-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilylmethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl ABDDAHLAEXNYRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02225—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
- H01L21/0226—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process
- H01L21/02263—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase
- H01L21/02271—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase deposition by decomposition or reaction of gaseous or vapour phase compounds, i.e. chemical vapour deposition
- H01L21/0228—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase deposition by decomposition or reaction of gaseous or vapour phase compounds, i.e. chemical vapour deposition deposition by cyclic CVD, e.g. ALD, ALE, pulsed CVD
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/308—Oxynitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/32—Carbides
- C23C16/325—Silicon carbide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/36—Carbonitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45527—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the ALD cycle, e.g. different flows or temperatures during half-reactions, unusual pulsing sequence, use of precursor mixtures or auxiliary reactants or activations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45527—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the ALD cycle, e.g. different flows or temperatures during half-reactions, unusual pulsing sequence, use of precursor mixtures or auxiliary reactants or activations
- C23C16/45531—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the ALD cycle, e.g. different flows or temperatures during half-reactions, unusual pulsing sequence, use of precursor mixtures or auxiliary reactants or activations specially adapted for making ternary or higher compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45544—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02109—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates
- H01L21/02112—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer
- H01L21/02123—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon
- H01L21/02126—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon the material containing Si, O, and at least one of H, N, C, F, or other non-metal elements, e.g. SiOC, SiOC:H or SiONC
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02109—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates
- H01L21/02112—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer
- H01L21/02123—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon
- H01L21/02126—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon the material containing Si, O, and at least one of H, N, C, F, or other non-metal elements, e.g. SiOC, SiOC:H or SiONC
- H01L21/0214—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon the material containing Si, O, and at least one of H, N, C, F, or other non-metal elements, e.g. SiOC, SiOC:H or SiONC the material being a silicon oxynitride, e.g. SiON or SiON:H
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02109—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates
- H01L21/02112—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer
- H01L21/02123—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon
- H01L21/02167—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon the material being a silicon carbide not containing oxygen, e.g. SiC, SiC:H or silicon carbonitrides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02109—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates
- H01L21/02205—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates the layer being characterised by the precursor material for deposition
- H01L21/02208—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates the layer being characterised by the precursor material for deposition the precursor containing a compound comprising Si
- H01L21/02211—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates the layer being characterised by the precursor material for deposition the precursor containing a compound comprising Si the compound being a silane, e.g. disilane, methylsilane or chlorosilane
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02296—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer
- H01L21/02299—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer pre-treatment
- H01L21/02312—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer pre-treatment treatment by exposure to a gas or vapour
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02296—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer
- H01L21/02318—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer post-treatment
- H01L21/02321—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer post-treatment introduction of substances into an already existing insulating layer
- H01L21/02323—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer post-treatment introduction of substances into an already existing insulating layer introduction of oxygen
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02296—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer
- H01L21/02318—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer post-treatment
- H01L21/02321—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer post-treatment introduction of substances into an already existing insulating layer
- H01L21/02329—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer post-treatment introduction of substances into an already existing insulating layer introduction of nitrogen
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02296—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer
- H01L21/02318—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer post-treatment
- H01L21/02337—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer post-treatment treatment by exposure to a gas or vapour
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Description
(a)基板に対して所定元素と炭素との化学結合を含む第1原料ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn1回(n1は1以上の整数)行う工程と、
(b)前記基板に対して前記第1原料ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn2回(n2は1以上の整数)行う工程と、
(c)前記基板に対して、前記所定元素と炭素との化学結合を前記第1原料ガスに含まれる前記所定元素と炭素との化学結合よりも多く含む第2原料ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn3回(n3は1以上の整数)行う工程と、
(d)前記基板に対して前記第2原料ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn4回(n4は1以上の整数)行う工程と、
のうち少なくともいずれかを選択して行うことで、前記基板上に所望組成の膜を形成する技術が提供される。
以下、本発明の一実施形態について図1〜図3を参照しながら説明する。
図1に示すように、処理炉202は加熱機構(温度調整部)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は円筒形状であり、保持板に支持されることにより垂直に据え付けられている。ヒータ207は、ガスを熱で活性化(励起)させる活性化機構(励起部)としても機能する。
上述の基板処理装置を用い、半導体装置の製造工程の一工程として、基板上に膜を形成するシーケンス例について説明する。以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
基板としてのウエハ200に対して第1原料ガスとしてTCDMDSガスを供給するステップ、ウエハ200に対して窒化ガスとしてNH3ガスを供給するステップ、ウエハ200に対して酸化ガスとしてO2ガスを供給するステップ、をこの順に行うサイクルをn1回(n1は1以上の整数)行う成膜ステップAと、
ウエハ200に対してTCDMDSガスを供給するステップ、ウエハ200に対してO2ガスを供給するステップ、ウエハ200に対してNH3ガスを供給するステップ、をこの順に行うサイクルをn2回(n2は1以上の整数)行う成膜ステップBと、
ウエハ200に対して、Si−C結合をTCDMDSガスに含まれるSi−C結合よりも多く含む第2原料ガスとしてDCTMDSガスを供給するステップ、ウエハ200に対してNH3ガスを供給するステップ、ウエハ200に対してO2ガスを供給するステップ、をこの順に行うサイクルをn3回(n3は1以上の整数)行う成膜ステップCと、
ウエハ200に対してDCTMDSガスを供給するステップ、ウエハ200に対してO2ガスを供給するステップ、ウエハ200に対してNH3ガスを供給するステップ、をこの順に行うサイクルをn4回(n4は1以上の整数)行う成膜ステップDと、
のうちいずれかを選択して行うことで、ウエハ200上に、所望組成の膜として、Si、O、CおよびNを含むシリコン酸炭窒化膜(SiOCN膜)、または、Si、OおよびNを含むシリコン酸窒化膜(SiON膜)を形成する。
(TCDMDS→O2→NH3)×n2 ・・・[b]
(DCTMDS→NH3→O2)×n3 ・・・[c]
(DCTMDS→O2→NH3)×n4 ・・・[d]
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、シャッタ開閉機構115sによりシャッタ219sが移動させられて、マニホールド209の下端開口が開放される(シャッタオープン)。その後、図1に示すように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内へ搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220bを介してマニホールド209の下端をシールした状態となる。
処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように、真空ポンプ246によって真空排気(減圧排気)される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ244がフィードバック制御される。真空ポンプ246は、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は常時作動させた状態を維持する。また、処理室201内のウエハ200が所望の成膜温度となるようにヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電具合がフィードバック制御される。ヒータ207による処理室201内の加熱は、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は継続して行われる。また、回転機構267によるボート217およびウエハ200の回転を開始する。回転機構267によるボート217およびウエハ200の回転は、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は継続して行われる。
続いて、成膜ステップA〜Dのうちいずれかを選択して行う。すなわち、成膜ステップAの手順を実行させるプログラムAと、成膜ステップBの手順を実行させるプログラムBと、成膜ステップCの手順を実行させるプログラムCと、成膜ステップDの手順を実行させるプログラムCと、を外部記憶装置123内に予め準備しておき、CPU121aに、プログラムA〜Dのうち少なくともいずれかを選択させて実行させる。以下、成膜ステップA〜Dの各処理内容について順に説明する。
この場合は、以下に示すステップ1A〜3Aを順次実行する。
このステップでは、処理室201内のウエハ200に対してTCDMDSガスを供給する。
ステップ1Aが終了した後、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上に形成された第1層に対してNH3ガスを供給する。
ステップ2Aが終了した後、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上に形成された第2層に対してO2ガスを供給する。
ステップ1A〜3Aをこの順に行うサイクルを所定回数(n1回)行うことにより、ウエハ200上に、所望組成の膜として、SiOCN膜を形成することができる。上述のサイクルは、複数回繰り返すのが好ましい。すなわち、1サイクルあたりに形成される第3層の厚さを所望の膜厚よりも小さくし、第3層を積層することで形成される膜の膜厚が所望の膜厚になるまで、上述のサイクルを複数回繰り返すのが好ましい。
この場合は、ステップ1B〜3Bを順次実行する。
このステップでは、処理室201内のウエハ200に対してTCDMDSガスを供給する。本ステップの処理手順、処理条件は、上述したステップ1Aの処理手順、処理条件と同様とする。これにより、ウエハ200上に、第1層(CおよびClを含むSi層、或いは、TCDMDSの吸着層)が形成されることとなる。上述したように、第1層は、Si−C結合を含む層となる。
ステップ1Bが終了した後、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上に形成された第1層に対してO2ガスを供給する。本ステップの処理手順、処理条件は、上述したステップ3Aの処理手順、処理条件と同様とする。
ステップ2Bが終了した後、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上に形成された第2層に対してNH3ガスを供給する。本ステップの処理手順、処理条件は、上述したステップ2Aの処理手順、処理条件と同様とする。
ステップ1B〜3Bをこの順に行うサイクルを所定回数(n2回)行うことにより、ウエハ200上に、所望組成の膜として、Cをごく僅かに含むSiON膜、または、C非含有のSiON膜を形成することができる。上述のサイクルを複数回繰り返すのが好ましい点は、成膜ステップAと同様である。
この場合、ステップ1C〜3Cを順次実行する。ステップ1C〜3Cの処理手順、処理条件は、原料ガス(第2原料ガス)としてDCTMDSガスを用いる点を除き、上述したステップ1A〜3Aの処理手順、処理条件と同様とする。ステップ1C〜3Cをこの順に行うサイクルを所定回数(n3回)行うことにより、ウエハ200上に、所望組成の膜として、SiOCN膜を形成することができる。
この場合、ステップ1D〜3Dを順次実行する。ステップ1D〜3Dの処理手順、処理条件は、原料ガス(第2原料ガス)としてDCTMDSガスを用いる点を除き、上述したステップ1B〜3Bの処理手順、処理条件と同様とする。ステップ1D〜3Dをこの順に行うサイクルを所定回数(n4回)行うことにより、ウエハ200上に、Cを僅かに含むSiON膜を形成することができる。
選択した成膜ステップが終了し、所望組成の膜が形成されたら、バルブ243a,243bを閉じ、処理室201内への成膜ガス(TCDMDSガス、DCTMDSガス、NH3ガス、O2ガス)の供給を停止する。また、ガス供給管232c,232dのそれぞれからN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用する。これにより、処理室201内がパージされ、処理室201内に残留するガスや反応副生成物が処理室201内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降され、マニホールド209の下端が開口されるとともに、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態でマニホールド209の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。ボートアンロードの後は、シャッタ219sが移動させられ、マニホールド209の下端開口がOリング220cを介してシャッタ219sによりシールされる(シャッタクローズ)。処理済のウエハ200は、反応管203の外部に搬出された後、ボート217より取り出されることとなる(ウエハディスチャージ)。
本実施形態によれば、以下に示す1つ又は複数の効果が得られる。
本実施形態における成膜ステップは、以下に示す変形例のように変更することができる。
例えば、成膜ステップA〜Dのうち少なくともいずれか2つを選択し、それらを交互にn5回(n5は1以上の整数)行うことで、C濃度およびN濃度のうち少なくともいずれかが異なる膜が交互に積層されてなる積層膜を形成するようにしてもよい。
([b]→[a])×n5
([c]→[a])×n5
([d]→[a])×n5
([b]→[c]→[a])×n5
([c]→[b]→[a])×n5
([b]→[d]→[a])×n5
([d]→[b]→[a])×n5
([c]→[d]→[a])×n5
([d]→[c]→[a])×n5
([c]→[b])×n5
([d]→[b])×n5
([a]→[c]→[b])×n5
([c]→[a]→[b])×n5
([a]→[d]→[b])×n5
([d]→[a]→[b])×n5
([c]→[d]→[b])×n5
([d]→[c]→[b])×n5
([a]→[c])×n5
([b]→[c])×n5
([d]→[c])×n5
([a]→[b]→[c])×n5
([b]→[a]→[c])×n5
([a]→[d]→[c])×n5
([d]→[a]→[c])×n5
([b]→[d]→[c])×n5
([d]→[b]→[c])×n5
([a]→[d])×n5
([b]→[d])×n5
([c]→[d])×n5
([a]→[b]→[d])×n5
([b]→[a]→[d])×n5
([a]→[c]→[d])×n5
([c]→[a]→[d])×n5
([b]→[c]→[d])×n5
([c]→[b]→[d])×n5
変形例1においては、成膜ステップA〜Dのサイクルの実施回数(n1〜n4)のうち少なくともいずれかの回数を調整することで、積層膜の厚さ方向に、C濃度およびN濃度のうち少なくともいずれかの勾配(グラデーション)をつけるようにしてもよい。
第1、第2原料ガスとして、BTCSMガスやBTCSEガス等のアルキレンハロシラン原料ガスを用いることもできる。アルキレンハロシラン原料ガスを供給するステップの処理手順、処理条件は、図4(a)〜図4(d)に示す成膜シーケンスにおけるステップ1A〜1Dの処理手順、処理条件と同様とする。本変形例においても、図4(a)〜図4(d)に示す成膜シーケンスと同様の効果が得られる。例えば、第1原料としてBTCSMガスを用い、第2原料ガスとして、CをBTCSMガスに含まれるCよりも多く含むBTCSEガスを用いることで、成膜ステップB,D,A,Cで形成される膜の順にC濃度を高くすることが容易となる(成膜ステップBで形成される膜のC濃度が最も低く、成膜ステップCで形成される膜のC濃度が最も高い)。
以上、本発明の実施形態を具体的に説明した。但し、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
以下、本発明の好ましい態様について付記する。
本発明の一態様によれば、
(a)基板に対して所定元素と炭素との化学結合を含む第1原料ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn1回(n1は1以上の整数)行う工程と、
(b)前記基板に対して前記第1原料ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn2回(n2は1以上の整数)行う工程と、
(c)前記基板に対して、前記所定元素と炭素との化学結合を前記第1原料ガスに含まれる前記所定元素と炭素との化学結合よりも多く含む第2原料ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn3回(n3は1以上の整数)行う工程と、
(d)前記基板に対して前記第2原料ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn4回(n4は1以上の整数)行う工程と、
のうち少なくともいずれかを選択して行うことで、前記基板上に所望組成の膜を形成する半導体装置の製造方法、または、基板処理方法が提供される。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記(a)、前記(b)、前記(c)、および前記(d)のうち少なくともいずれか2つを選択し、それらを交互にn5回(n5は1以上の整数)行うことで、炭素濃度および窒素濃度のうち少なくともいずれかが異なる膜が(ナノレベルで)交互に積層されてなる積層膜(ナノラミネート膜)を形成する。
付記2に記載の方法であって、好ましくは、
最後に前記(a)を行うことで、前記積層膜の最表面を、炭素濃度が窒素濃度以上である膜とする。最初に前記(a)を行うことで、前記積層膜の最下面を、炭素濃度が窒素濃度以上である膜とするようにしてもよい。
付記2に記載の方法であって、好ましくは、
最後に前記(b)を行うことで、前記積層膜の最表面を、炭素濃度が窒素濃度未満である膜とする。最初に前記(b)を行うことで、前記積層膜の最下面を、炭素濃度が窒素濃度未満である膜とするようにしてもよい。
付記2に記載の方法であって、好ましくは、
最後に前記(c)を行うことで、前記積層膜の最表面を、炭素濃度が窒素濃度よりも高い膜とする。最初に前記(c)を行うことで、前記積層膜の最下面を、炭素濃度が窒素濃度よりも高い膜とするようにしてもよい。
付記2に記載の方法であって、好ましくは、
最後に前記(d)を行うことで、前記積層膜の最表面を、炭素濃度が窒素濃度以下である膜とする。最初に前記(d)を行うことで、前記積層膜の最下面を、炭素濃度が窒素濃度以下である膜とするようにしてもよい。
付記2に記載の方法であって、好ましくは、
前記(a)と前記(b)とを交互に行い、炭素濃度が窒素濃度以上である膜と、炭素濃度が窒素濃度未満である膜と、の積層膜を形成する。
付記2に記載の方法であって、好ましくは、
前記(a)と前記(c)とを交互に行い、炭素濃度が窒素濃度以上である膜と、炭素濃度が窒素濃度よりも高い膜と、の積層膜を形成する。
付記2に記載の方法であって、好ましくは、
前記(a)と前記(d)とを交互に行い、炭素濃度が窒素濃度以上である膜と、炭素濃度が窒素濃度以下である膜と、の積層膜を形成する。
付記2に記載の方法であって、好ましくは、
前記(b)と前記(c)とを交互に行い、炭素濃度が窒素濃度未満である膜と、炭素濃度が窒素濃度よりも高い膜と、の積層膜を形成する。
付記2に記載の方法であって、好ましくは、
前記(b)と前記(d)とを交互に行い、炭素濃度が窒素濃度未満である膜と、炭素濃度が窒素濃度以下である膜と、の積層膜を形成する。
付記2に記載の方法であって、好ましくは、
前記(c)と前記(d)とを交互に行い、炭素濃度が窒素濃度よりも高い膜と、炭素濃度が窒素濃度以下である膜と、の積層膜を形成する。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記(a)を選択することで、炭素濃度が窒素濃度以上である膜を形成する。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記(b)を選択することで、炭素濃度が窒素濃度未満である膜を形成する。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記(c)を選択することで、炭素濃度が窒素濃度よりも高い膜を形成する。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記(d)を選択することで、炭素濃度が窒素濃度以下である膜を形成する。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記(a)の手順を実行させるプログラムと、前記(b)の手順を実行させるプログラムと、前記(c)の手順を実行させるプログラムと、前記(d)の手順を実行させるプログラムと、を準備しておき、少なくともいずれかのプログラムを選択して実行する。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記第1原料ガスおよび前記第2原料ガスのそれぞれは炭素含有リガンドを含み、前記第2原料ガスに含まれる炭素含有リガンドの数の方が、前記第1原料ガスに含まれる炭素含有リガンドの数よりも多い。
本発明の他の態様によれば、
基板を収容する処理室と、
前記処理室内の基板に対して、所定元素と炭素との化学結合を含む第1原料ガス、または、前記所定元素と炭素との化学結合を前記第1原料ガスに含まれる前記所定元素と炭素との化学結合よりも多く含む第2原料ガスを供給する原料ガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して窒化ガスを供給する窒化ガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して酸化ガスを供給する酸化ガス供給系と、
前記処理室内において、付記1の処理を行わせるように、前記原料ガス供給系、前記窒化ガス供給系、および前記酸化ガス供給系を制御するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本発明のさらに他の態様によれば、
基板に対して、所定元素と炭素との化学結合を含む第1原料ガス、または、前記所定元素と炭素との化学結合を前記第1原料ガスに含まれる前記所定元素と炭素との化学結合よりも多く含む第2原料ガスを供給する原料ガス供給系と、
基板に対して窒化ガスを供給する窒化ガス供給系と、
基板に対して酸化ガスを供給する酸化ガス供給系と、
を有し、付記1の処理を行わせるように制御されるガス供給システムが提供される。
本発明のさらに他の態様によれば、
付記1の手順をコンピュータに実行させるプログラム、または、該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
200 ウエハ(基板)
201 処理室
202 処理炉
203 反応管
207 ヒータ
231 排気管
232a〜232d ガス供給管
Claims (15)
- (a)基板に対して所定元素と炭素との化学結合を含む第1原料ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn1回(n1は1以上の整数)行う工程と、
(b)前記基板に対して前記第1原料ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn2回(n2は1以上の整数)行う工程と、
(c)前記基板に対して、前記所定元素と炭素との化学結合を前記第1原料ガスに含まれる前記所定元素と炭素との化学結合よりも多く含む第2原料ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn3回(n3は1以上の整数)行う工程と、
(d)前記基板に対して前記第2原料ガスを供給する工程、前記基板に対して酸化ガスを供給する工程、前記基板に対して窒化ガスを供給する工程、をこの順に行うサイクルをn4回(n4は1以上の整数)行う工程と、
のうち少なくともいずれか2つを選択し、それらを交互にn 5 回(n 5 は1以上の整数)行うことで、前記基板上に、炭素濃度および窒素濃度のうち少なくともいずれかが異なる膜が交互に積層されてなる積層膜を形成する工程を有する半導体装置の製造方法。 - 最後に前記(a)を行うことで、前記積層膜の最表面を、炭素濃度が窒素濃度以上である膜とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 最後に前記(b)を行うことで、前記積層膜の最表面を、炭素濃度が窒素濃度未満である膜とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 最後に前記(c)を行うことで、前記積層膜の最表面を、炭素濃度が窒素濃度よりも高い膜とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 最後に前記(d)を行うことで、前記積層膜の最表面を、炭素濃度が窒素濃度以下である膜とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記(a)と前記(b)とを交互に行うことで、前記積層膜として、炭素濃度が窒素濃度以上である膜と、炭素濃度が窒素濃度未満である膜と、の積層膜を形成する請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記(a)と前記(c)とを交互に行うことで、前記積層膜として、炭素濃度が窒素濃度以上である膜と、炭素濃度が窒素濃度よりも高い膜と、の積層膜を形成する請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記(a)と前記(d)とを交互に行うことで、前記積層膜として、炭素濃度が窒素濃度以上である膜と、炭素濃度が窒素濃度以下である膜と、の積層膜を形成する請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記(b)と前記(c)とを交互に行うことで、前記積層膜として、炭素濃度が窒素濃度未満である膜と、炭素濃度が窒素濃度よりも高い膜と、の積層膜を形成する請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記(b)と前記(d)とを交互に行うことで、前記積層膜として、炭素濃度が窒素濃度未満である膜と、炭素濃度が窒素濃度以下である膜と、の積層膜を形成する請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記(c)と前記(d)とを交互に行うことで、前記積層膜として、炭素濃度が窒素濃度よりも高い膜と、炭素濃度が窒素濃度以下である膜と、の積層膜を形成する請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記(a)の手順を実行させるプログラムと、前記(b)の手順を実行させるプログラムと、前記(c)の手順を実行させるプログラムと、前記(d)の手順を実行させるプログラムと、を準備しておき、少なくともいずれか2つのプログラムを選択し、それらを交互に実行する請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1原料ガスおよび前記第2原料ガスのそれぞれは炭素含有リガンドを含み、前記第2原料ガスに含まれる炭素含有リガンドの数の方が、前記第1原料ガスに含まれる炭素含有リガンドの数よりも多い請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 基板を収容する処理室と、
前記処理室内の基板に対して、所定元素と炭素との化学結合を含む第1原料ガス、または、前記所定元素と炭素との化学結合を前記第1原料ガスに含まれる前記所定元素と炭素との化学結合よりも多く含む第2原料ガスを供給する原料ガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して窒化ガスを供給する窒化ガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して酸化ガスを供給する酸化ガス供給系と、
前記処理室内において、
(a)基板に対して前記第1原料ガスを供給する処理、前記基板に対して窒化ガスを供給する処理、前記基板に対して酸化ガスを供給する処理、をこの順に行うサイクルをn1回(n1は1以上の整数)行う処理と、
(b)前記基板に対して前記第1原料ガスを供給する処理、前記基板に対して酸化ガスを供給する処理、前記基板に対して窒化ガスを供給する処理、をこの順に行うサイクルをn2回(n2は1以上の整数)行う処理と、
(c)前記基板に対して前記第2原料ガスを供給する処理、前記基板に対して窒化ガスを供給する処理、前記基板に対して酸化ガスを供給する処理、をこの順に行うサイクルをn3回(n3は1以上の整数)行う処理と、
(d)前記基板に対して前記第2原料ガスを供給する処理、前記基板に対して酸化ガスを供給する処理、前記基板に対して窒化ガスを供給する処理、をこの順に行うサイクルをn4回(n4は1以上の整数)行う処理と、
のうち少なくともいずれかを2つを選択し、それらを交互にn 5 回(n 5 は1以上の整数)行うことで、前記基板上に、炭素濃度および窒素濃度のうち少なくともいずれかが異なる膜が交互に積層されてなる積層膜を形成させるように、前記原料ガス供給系、前記窒化ガス供給系、および前記酸化ガス供給系を制御するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板処理装置の処理室内において、
(a)基板に対して所定元素と炭素との化学結合を含む第1原料ガスを供給する手順、前記基板に対して窒化ガスを供給する手順、前記基板に対して酸化ガスを供給する手順、をこの順に行うサイクルをn1回(n1は1以上の整数)行う手順と、
(b)前記基板に対して前記第1原料ガスを供給する手順、前記基板に対して酸化ガスを供給する手順、前記基板に対して窒化ガスを供給する手順、をこの順に行うサイクルをn2回(n2は1以上の整数)行う手順と、
(c)前記基板に対して、前記所定元素と炭素との化学結合を前記第1原料ガスに含まれる前記所定元素と炭素との化学結合よりも多く含む第2原料ガスを供給する手順、前記基板に対して窒化ガスを供給する手順、前記基板に対して酸化ガスを供給する手順、をこの順に行うサイクルをn3回(n3は1以上の整数)行う手順と、
(d)前記基板に対して前記第2原料ガスを供給する手順、前記基板に対して酸化ガスを供給する手順、前記基板に対して窒化ガスを供給する手順、をこの順に行うサイクルをn4回(n4は1以上の整数)行う手順と、
のうち少なくともいずれか2つを選択し、それらを交互にn 5 回(n 5 は1以上の整数)行うことで、前記基板上に、炭素濃度および窒素濃度のうち少なくともいずれかが異なる膜が交互に積層されてなる積層膜を形成する手順をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016017113A JP6523186B2 (ja) | 2016-02-01 | 2016-02-01 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
TW106100833A TWI613723B (zh) | 2016-02-01 | 2017-01-11 | 半導體裝置之製造方法、基板處理裝置及記錄媒體 |
US15/421,162 US20170221698A1 (en) | 2016-02-01 | 2017-01-31 | Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium |
KR1020170013866A KR102042890B1 (ko) | 2016-02-01 | 2017-01-31 | 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 프로그램 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016017113A JP6523186B2 (ja) | 2016-02-01 | 2016-02-01 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017139256A JP2017139256A (ja) | 2017-08-10 |
JP6523186B2 true JP6523186B2 (ja) | 2019-05-29 |
Family
ID=59387051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016017113A Active JP6523186B2 (ja) | 2016-02-01 | 2016-02-01 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20170221698A1 (ja) |
JP (1) | JP6523186B2 (ja) |
KR (1) | KR102042890B1 (ja) |
TW (1) | TWI613723B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6853116B2 (ja) * | 2017-05-31 | 2021-03-31 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
JP6806719B2 (ja) | 2018-01-17 | 2021-01-06 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
JP6980624B2 (ja) * | 2018-09-13 | 2021-12-15 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム |
JP7224217B2 (ja) | 2019-03-15 | 2023-02-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法及び成膜装置 |
JP7364547B2 (ja) * | 2020-09-25 | 2023-10-18 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5052339A (en) * | 1990-10-16 | 1991-10-01 | Air Products And Chemicals, Inc. | Radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition process and reactor |
KR100449028B1 (ko) * | 2002-03-05 | 2004-09-16 | 삼성전자주식회사 | 원자층 증착법을 이용한 박막 형성방법 |
JP4258518B2 (ja) * | 2005-03-09 | 2009-04-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 |
US7524765B2 (en) * | 2005-11-02 | 2009-04-28 | Intel Corporation | Direct tailoring of the composition and density of ALD films |
US7759747B2 (en) * | 2006-08-31 | 2010-07-20 | Micron Technology, Inc. | Tantalum aluminum oxynitride high-κ dielectric |
JP4929932B2 (ja) * | 2006-09-01 | 2012-05-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 |
US8703625B2 (en) * | 2010-02-04 | 2014-04-22 | Air Products And Chemicals, Inc. | Methods to prepare silicon-containing films |
US9165761B2 (en) * | 2011-08-25 | 2015-10-20 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Method for manufacturing semiconductor device, method for processing substrate, substrate processing apparatus and recording medium |
JP2013077805A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-25 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム |
US8569184B2 (en) * | 2011-09-30 | 2013-10-29 | Asm Japan K.K. | Method for forming single-phase multi-element film by PEALD |
JP5806612B2 (ja) * | 2011-12-27 | 2015-11-10 | 東京エレクトロン株式会社 | シリコン酸炭窒化膜の形成方法 |
US9234276B2 (en) * | 2013-05-31 | 2016-01-12 | Novellus Systems, Inc. | Method to obtain SiC class of films of desired composition and film properties |
JP6022276B2 (ja) * | 2012-09-20 | 2016-11-09 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
JP6091940B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2017-03-08 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
JP6155063B2 (ja) * | 2013-03-19 | 2017-06-28 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラム |
JP6125946B2 (ja) * | 2013-08-08 | 2017-05-10 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラム |
JP5788448B2 (ja) * | 2013-09-09 | 2015-09-30 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラム |
JP5883049B2 (ja) * | 2014-03-04 | 2016-03-09 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラムおよび記録媒体 |
-
2016
- 2016-02-01 JP JP2016017113A patent/JP6523186B2/ja active Active
-
2017
- 2017-01-11 TW TW106100833A patent/TWI613723B/zh active
- 2017-01-31 KR KR1020170013866A patent/KR102042890B1/ko active IP Right Grant
- 2017-01-31 US US15/421,162 patent/US20170221698A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI613723B (zh) | 2018-02-01 |
KR102042890B1 (ko) | 2019-11-08 |
KR20170091528A (ko) | 2017-08-09 |
JP2017139256A (ja) | 2017-08-10 |
TW201802939A (zh) | 2018-01-16 |
US20170221698A1 (en) | 2017-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6578243B2 (ja) | ガス供給ノズル、基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | |
US9837261B2 (en) | Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing method | |
CN107818911B (zh) | 半导体器件的制造方法、衬底处理装置及记录介质 | |
JP5959307B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム | |
JP6043546B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム | |
KR101992156B1 (ko) | 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치, 가스 공급계 및 프로그램 | |
TWI541862B (zh) | 半導體裝置之製造方法、基板處理方法、基板處理裝置及記錄媒體 | |
JP5855691B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラム及び記録媒体 | |
JP6523186B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
US9881789B2 (en) | Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium | |
TW201438105A (zh) | 半導體裝置之製造方法,基板處理裝置及記錄媒體 | |
JP2016072587A (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
US9934962B2 (en) | Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium | |
JP6529780B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
US10062562B2 (en) | Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and recording medium | |
JP6224258B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
JP6239079B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム | |
JP6731527B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180322 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20180727 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180809 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20181112 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190402 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190425 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6523186 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |