JP6521500B2 - 高スループット走査型偏向器及びその製造方法 - Google Patents
高スループット走査型偏向器及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6521500B2 JP6521500B2 JP2014051077A JP2014051077A JP6521500B2 JP 6521500 B2 JP6521500 B2 JP 6521500B2 JP 2014051077 A JP2014051077 A JP 2014051077A JP 2014051077 A JP2014051077 A JP 2014051077A JP 6521500 B2 JP6521500 B2 JP 6521500B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- magnetic
- coils
- wire
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1472—Deflecting along given lines
- H01J37/1474—Scanning means
- H01J37/1475—Scanning means magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F5/00—Coils
- H01F5/003—Printed circuit coils
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/152—Magnetic means
- H01J2237/1526—For X-Y scanning
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
12 電子ビーム
50 試料支持台
52 試料
60 対物レンズ
63,64 磁極片
100 走査型電子顕微鏡
110,130 電極
120 磁気偏向器組立体
140 コントローラ
202A,202B コイルユニット
302A,302B,304A,304B コイルユニット
214,215 コネクタ
320‐1,320‐2 コイル
321‐1,321‐2 ターン
400 ウェーハ画像化システム
Claims (14)
- 一次電子ビームを走査させるよう構成される磁気偏向器組立体(120)であって、
前記磁気偏向器組立体は、前記一次電子ビームを一方向でウェーハ上に走査するための少なくとも1つの磁気偏向器を含み、
前記少なくとも1つの磁気偏向器は、1対のコイルユニット(302A,302B;304A,304B)を形成する少なくとも2組のコイルを有し、
前記少なくとも2組のコイル中のターン(321‐1,321‐2)の数は、8以下であり、
コイルを形成するワイヤ又はコイルを形成する導体の断面の最大寸法は、0.2mm以下であり、
各コイルユニットは、2つ以上のコイルを含み、
各コイルユニット中の前記2つ以上のコイルは、前記2つ以上のコイルを形成する複数のワイヤ(320‐1,320‐2)を含む多ワイヤ式ストリングによって形成され、
前記多ワイヤ式ストリングの各ワイヤ(320‐1,320‐2)は、前記2つ以上のコイルに電流を供給するために、第1のコネクタ(214)及び第2のコネクタ(215)に接続されている、磁気偏向器組立体。 - 前記磁気偏向器組立体は、ウェーハ画像化システムのためのアップグレードキットを提供するように適用されている、請求項1に記載の磁気偏向器組立体。
- 各多ワイヤ式ストリングのワイヤの本数は、2〜10である、請求項1又は2に記載の磁気偏向器組立体。
- 前記磁気偏向器組立体は、軟磁性材料によって包囲されている、請求項1〜3のうちいずれか一項に記載の磁気偏向器組立体。
- 前記軟磁性材料は、フェライトである、請求項4に記載の磁気偏向器組立体。
- 前記磁気偏向器組立体は、一ステージに1〜6個の磁気偏向器を含み、各磁気偏向器は、1対のコイルユニットを有し、前記1対のコイルユニットの各々のターンの数は、8以下であり、前記コイルを形成するワイヤ又は前記コイルを形成する導体の断面の最大寸法は、0.2mm以下である、請求項1〜5のうちいずれか一項に記載の磁気偏向器組立体。
- 前記コイルを形成するワイヤ又は前記コイルを形成する導体は、エッチング、導電性箔のパターニング、スクリーン印刷、被覆層蒸着、及びこれらの組み合わせから成る群から選択されたプロセスによって形成される、請求項1〜6のうちいずれか一項に記載の磁気偏向器組立体。
- 前記磁気偏向器は、少なくとも1枚のプリント回路板によって提供される、請求項1〜7のうちいずれ一項に記載の磁気偏向器組立体。
- ウェーハを画像化するよう構成されたウェーハ画像化システムであって、
電子ビームをもたらすようになったエミッタチップを有するエミッタと、
前記電子ビームを前記ウェーハ上に集束させるよう構成された対物レンズと、
前記エミッタチップと前記対物レンズとの間に設けられた少なくとも1つの集光レンズと、
前記ウェーハの画像を発生させるよう前記電子ビームを前記ウェーハ上に走査させるための請求項1〜8のうちいずれか一項に記載の磁気偏向器組立体(120)と、を含む、システム。 - 前記磁気偏向器組立体は、光軸に沿う方向に互いに離れて位置する少なくとも2つのステージを含む、請求項9記載のシステム。
- 前記エミッタは、冷電界エミッタ又は熱支援型冷電界エミッタである、請求項9又は10に記載のシステム。
- 前記磁気偏向器は、前記対物レンズ内に設けられている、請求項9〜11のうちいずれか一項に記載のシステム。
- ウェーハの画像を発生させるために電子ビームを前記ウェーハ上で走査させる磁気偏向器組立体を製造する方法であって、
少なくとも2組のコイルを用意するステップであって、前記少なくとも2組のコイルのターンの数は、8以下であり、コイルを形成するワイヤ又はコイルを形成する導体の断面の最大寸法は、0.2mm以下である、ステップと、
前記少なくとも2組のコイルで1対のコイルユニットを形成するステップであって、各コイルユニットは、2つ以上のコイルを含み、各コイルユニットの前記2つ以上のコイルは、前記2つ以上のコイルを形成する多ワイヤ式ストリングによって形成され、前記多ワイヤ式ストリングの各ワイヤ(320‐1,320‐2)は、前記2つ以上のコイルに電流を供給するために、第1のコネクタ(214)及び第2のコネクタ(215)に接続されている、ステップと、
前記1対のコイルユニットから、一方向に前記電子ビームを前記ウェーハ上に走査させるための少なくとも1つの磁気偏向器を形成するステップと、を含む方法。 - 前記コイルを形成するワイヤ又は前記コイルを形成する導体は、エッチング、導電性箔のパターニング、スクリーン印刷、被覆層蒸着、及びこれらの組み合わせから成る群から選択されたプロセスによって形成される、請求項13に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP13159526.6 | 2013-03-15 | ||
EP13159526.6A EP2779205B1 (en) | 2013-03-15 | 2013-03-15 | High throughput scan deflector and method of manufacturing thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014183047A JP2014183047A (ja) | 2014-09-29 |
JP6521500B2 true JP6521500B2 (ja) | 2019-05-29 |
Family
ID=47901810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014051077A Expired - Fee Related JP6521500B2 (ja) | 2013-03-15 | 2014-03-14 | 高スループット走査型偏向器及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140264062A1 (ja) |
EP (1) | EP2779205B1 (ja) |
JP (1) | JP6521500B2 (ja) |
TW (1) | TWI634583B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017204499A (ja) | 2016-05-09 | 2017-11-16 | 株式会社アドバンテスト | マルチカラム荷電粒子ビーム露光装置 |
US10504684B1 (en) * | 2018-07-12 | 2019-12-10 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | High performance inspection scanning electron microscope device and method of operating the same |
DE102019004124B4 (de) * | 2019-06-13 | 2024-03-21 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Teilchenstrahl-System zur azimutalen Ablenkung von Einzel-Teilchenstrahlen sowie seine Verwendung und Verfahren zur Azimut-Korrektur bei einem Teilchenstrahl-System |
WO2021165136A1 (en) * | 2020-02-21 | 2021-08-26 | Asml Netherlands B.V. | Charged particle inspection tool, inspection method |
US20230066086A1 (en) * | 2021-08-25 | 2023-03-02 | Kla Corporation | High resolution, multi-electron beam apparatus |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3702450A (en) * | 1971-05-11 | 1972-11-07 | Atomic Energy Commission | Printed circuit steering coils |
US5017789A (en) * | 1989-03-31 | 1991-05-21 | Loma Linda University Medical Center | Raster scan control system for a charged-particle beam |
US5264706A (en) * | 1991-04-26 | 1993-11-23 | Fujitsu Limited | Electron beam exposure system having an electromagnetic deflector configured for efficient cooling |
JPH09147779A (ja) * | 1995-11-20 | 1997-06-06 | Nikon Corp | 電磁偏向器 |
JPH09246035A (ja) * | 1996-03-06 | 1997-09-19 | Jeol Ltd | 回路印刷シート |
US6588090B1 (en) * | 1999-06-03 | 2003-07-08 | Nikon Corporation | Fabrication method of high precision, thermally stable electromagnetic coil vanes |
US6153885A (en) * | 1999-06-03 | 2000-11-28 | Nikon Corporation | Toroidal charged particle deflector with high mechanical stability and accuracy |
EP1120809B1 (en) * | 2000-01-27 | 2012-02-22 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Objective lens for a charged particle beam device |
DE10237141A1 (de) * | 2002-08-13 | 2004-02-26 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Strahlführungssystem, Abbildungsverfahren und Elektronenmikroskopiesystem |
EP1389797B1 (en) * | 2002-08-13 | 2008-10-08 | Carl Zeiss NTS GmbH | Particle-optical apparatus and its use as an electron microscopy system |
US20050189844A1 (en) * | 2003-09-05 | 2005-09-01 | Du Hung T. | Field assemblies having pole pieces with dovetail features for attaching to a back iron piece(s) and methods of making same |
JP4316394B2 (ja) * | 2004-01-21 | 2009-08-19 | 株式会社東芝 | 荷電ビーム装置 |
US7506280B2 (en) * | 2004-11-12 | 2009-03-17 | Tabtronics, Inc. | Magnetic winding and method of making same |
US7893406B1 (en) * | 2005-06-29 | 2011-02-22 | Hermes-Microvision, Inc. | Electron gun with magnetic immersion double condenser lenses |
EP1760761B1 (en) * | 2005-09-05 | 2017-10-18 | ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Charged particle beam emitting device and method for operating a charged particle beam emitting device |
EP1760762B1 (en) * | 2005-09-06 | 2012-02-01 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Device and method for selecting an emission area of an emission pattern |
US7525230B1 (en) * | 2005-10-20 | 2009-04-28 | Revolution Electric Motor Company | Air core motor-generator |
US7358510B2 (en) * | 2006-03-27 | 2008-04-15 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Ion implanter with variable scan frequency |
DE102007045874A1 (de) * | 2007-09-25 | 2009-04-02 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Multipolspulen |
EP2051278B1 (en) * | 2007-10-17 | 2011-09-07 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Energy filter for cold field emission electron beam apparatus |
CN101483361B (zh) * | 2008-01-11 | 2011-12-07 | 德昌电机(深圳)有限公司 | 无槽电机定子绕组结构及其绕线方法及具有上述绕组结构的定子结构 |
WO2009098788A1 (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-13 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | 電子源の製造方法 |
US8138484B2 (en) * | 2010-04-28 | 2012-03-20 | Axcelis Technologies Inc. | Magnetic scanning system with improved efficiency |
-
2013
- 2013-03-15 EP EP13159526.6A patent/EP2779205B1/en not_active Not-in-force
- 2013-07-02 US US13/934,094 patent/US20140264062A1/en not_active Abandoned
-
2014
- 2014-03-13 TW TW103109127A patent/TWI634583B/zh active
- 2014-03-14 JP JP2014051077A patent/JP6521500B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI634583B (zh) | 2018-09-01 |
EP2779205A1 (en) | 2014-09-17 |
JP2014183047A (ja) | 2014-09-29 |
US20140264062A1 (en) | 2014-09-18 |
TW201443966A (zh) | 2014-11-16 |
EP2779205B1 (en) | 2017-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9431210B2 (en) | Charged particle beam device with dynamic focus and method of operating thereof | |
US10541112B2 (en) | Charged particle beam system and method of operating the same | |
JP6728498B2 (ja) | 試験片を検査する方法および荷電粒子マルチビーム装置 | |
EP0968517B1 (en) | Sem provided with an electrostatic objective and an electrical scanning device | |
US10522327B2 (en) | Method of operating a charged particle beam specimen inspection system | |
JP6099113B2 (ja) | ツインビーム荷電粒子ビームコラム及びその作動方法 | |
TWI557769B (zh) | 電子束晶圓檢查系統及其操作方法 | |
JP6521500B2 (ja) | 高スループット走査型偏向器及びその製造方法 | |
JP2017107849A (ja) | 静電多極デバイス、静電多極配置、および静電多極デバイスを製造する方法 | |
JP2014220241A5 (ja) | ||
JP2012003902A (ja) | 走査型電子顕微鏡及びその制御方法 | |
CN111527582A (zh) | 使用带电粒子束的装置 | |
JP2020013790A (ja) | 高性能検査走査電子顕微鏡装置およびその動作方法 | |
JP2001283759A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
TWI819505B (zh) | 影響帶電粒子束的方法,多極裝置,及帶電粒子束設備 | |
JP7265641B2 (ja) | 荷電粒子装置用のビームスプリッタ | |
CN217239380U (zh) | 石墨烯电极静电透镜及扫描电子显微镜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170208 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170413 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171011 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180620 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20180910 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20181119 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181211 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190403 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190422 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6521500 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |