JP6511271B2 - Substrate unit and electrochemical cell unit - Google Patents

Substrate unit and electrochemical cell unit Download PDF

Info

Publication number
JP6511271B2
JP6511271B2 JP2015005194A JP2015005194A JP6511271B2 JP 6511271 B2 JP6511271 B2 JP 6511271B2 JP 2015005194 A JP2015005194 A JP 2015005194A JP 2015005194 A JP2015005194 A JP 2015005194A JP 6511271 B2 JP6511271 B2 JP 6511271B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
wire
substrate unit
lead
unit according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2015005194A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015187971A (en
Inventor
恒昭 玉地
恒昭 玉地
雄介 波多野
雄介 波多野
幸夫 秋山
幸夫 秋山
渡邊 俊二
俊二 渡邊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP2015005194A priority Critical patent/JP6511271B2/en
Priority to CN201510103762.9A priority patent/CN104916874A/en
Publication of JP2015187971A publication Critical patent/JP2015187971A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6511271B2 publication Critical patent/JP6511271B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

Landscapes

  • Battery Mounting, Suspending (AREA)

Description

この発明は、基板ユニットおよびこの基板ユニットを備えた電気化学セルユニットに関するものである。   The present invention relates to a substrate unit and an electrochemical cell unit provided with the substrate unit.

リチウムイオン電池等の非水電解質二次電池や、電気二重層キャパシタ等の電気化学セルユニットは、各種デバイスの電源等に利用されている。
電気化学セルユニットは、電荷を蓄える電気化学セルと、この電気化学セルに接続される保護回路基板等を備える。保護回路基板は、電気化学セルの充電や過放電を抑制すると同時に、充電時の大電流や放電時の大電流を検知して電気化学セルの機能を制限するものである。
Non-aqueous electrolyte secondary batteries such as lithium ion batteries and electrochemical cell units such as electric double layer capacitors are used as power supplies for various devices.
The electrochemical cell unit includes an electrochemical cell that stores a charge, a protective circuit board connected to the electrochemical cell, and the like. The protective circuit board limits the function of the electrochemical cell by detecting a large current during charging and a large current during discharging while suppressing charging and overdischarging of the electrochemical cell.

保護回路基板は、例えば一辺が10mm程度の大きさとなることがある。このため、保護回路基板に対する導線の位置決めが容易でなく、導線のはんだ付けを手作業で行わざるを得なかった。
一方で、電気化学セルユニットの製造効率向上や信頼性向上等の要請のため、保護回路基板に対する導線のはんだ付け自動化が検討されている。
The protective circuit board may have, for example, a size of about 10 mm on one side. For this reason, positioning of the conducting wire with respect to a protection circuit board was not easy, and it had to carry out soldering of conducting wire manually.
On the other hand, in order to improve the production efficiency and the reliability of the electrochemical cell unit, automation of soldering of a lead to a protective circuit board has been considered.

例えば、特許文献1には、基板に長孔を形成し、この長孔に導線を挿通して、導線の芯線を、基板の回路パターンに溶着する技術が提案されている。特許文献1に記載された技術では、複数本の導線を束の状態で長孔に通すので、作業が簡単で自動化が容易となるとされている。また、複数の導線の先端部が回路パターンに沿うので、一度に全ての導線を加熱加圧溶着することができるとされている。   For example, Patent Document 1 proposes a technique in which a long hole is formed in a substrate, and a conductive wire is inserted into the long hole to weld the core wire of the conductive wire to the circuit pattern of the substrate. In the technique described in Patent Document 1, it is supposed that the operation is easy and automation is easy because a plurality of conducting wires are passed through the elongated hole in a bundle state. Further, it is supposed that all the leads can be heated and pressure-welded at one time since the tip portions of the plurality of leads follow the circuit pattern.

登録実用新案第3038053号公報Registered utility model No. 3038053

しかしながら、特許文献1に記載の技術では、導線を基板に形成した長孔に挿通するので、基板の厚み方向に導線が盛り上がってしまう。このため、薄型化が要求される保護回路基板に対する配線技術には適さないという問題がある。
また、特許文献1には、導線の芯線を回路パターンに対して確実に位置決めする技術は開示されていない。このため、はんだ付けや超音波接合などによる保護回路基板に対する導線の接合を自動化することはできないという問題がある。
However, in the technique described in Patent Document 1, since the conducting wire is inserted into the long hole formed in the substrate, the conducting wire is raised in the thickness direction of the substrate. For this reason, there is a problem that it is not suitable for the wiring technology for a protective circuit board which is required to be thin.
In addition, Patent Document 1 does not disclose a technique for reliably positioning the core wire of the conducting wire with respect to the circuit pattern. For this reason, there is a problem that the bonding of the lead to the protective circuit board by soldering or ultrasonic bonding can not be automated.

そこで、本発明は、上記事情に鑑みたものであって、基板に対する導線の位置決めを容易に行うことができるとともに、はんだ付けや超音波接合などによる基板に対する導線の接合を自動化することができる基板ユニットおよびこの基板ユニットを備える電気化学セルユニットを提供することを課題とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to easily position the conducting wire with respect to the substrate, and to automate the bonding of the conducting wire to the substrate by soldering or ultrasonic bonding. It is an object of the present invention to provide an unit and an electrochemical cell unit provided with the substrate unit.

上記の課題を解決するため、本発明の基板ユニットは、絶縁被覆から芯線を露出させた導線と、前記導線の芯線が接続される一対の電極パッドを有する基板と、を備えた基板ユニットであって、前記基板は、奥面を有して周縁を切り欠くように形成されて、前記絶縁被覆の端部を収容する導線収容部と、電気化学セルの正極タブ及び負極タブに接続する一対のランドと、を備え、前記導線は、前記絶縁被覆が前記導線収容部に収容されることを特徴とする。
本発明によれば、導線が導線収容部に保持されるので、導線が基板に対して確実に位置決めできる。したがって、はんだ付けや超音波接合などによる基板に対する導線の接合を自動化することができる。
In order to solve the above-mentioned subject, a substrate unit of the present invention is a substrate unit provided with a lead which exposed a core from insulation coating, and a substrate which has a pair of electrode pads to which a core of the lead is connected. The substrate is formed to have a back surface and a peripheral edge cut out, and a pair of a lead wire receiving portion for receiving the end of the insulating coating and a positive electrode tab and a negative electrode tab of the electrochemical cell. And a land, wherein the lead wire is characterized in that the insulation coating is accommodated in the lead wire accommodation portion.
According to the present invention, since the conducting wire is held by the conducting wire accommodating portion, the conducting wire can be reliably positioned with respect to the substrate. Therefore, bonding of the lead to the substrate by soldering or ultrasonic bonding can be automated.

また、本発明の基板ユニットは、前記導線は、前記導線収容部の奥行方向に沿って収容されて、前記絶縁被覆の端面が前記導線収容部の前記奥面に当接することを特徴とする。
本発明によれば、導線が導線収容部に保持されて、さらに絶縁被覆の端面が導線収容部の奥面に当接するので、導線が導線収容部の奥行方向に対してもより確実に位置決めできる。したがって、はんだ付けや超音波接合などによる基板に対する導線の接合を自動化することができる。さらに、導線が導線収容部の奥行方向に沿って収容されるので、基板ユニットを薄型化することができる。
Further, the substrate unit of the present invention is characterized in that the conducting wire is accommodated along the depth direction of the conducting wire accommodation portion, and the end face of the insulating coating abuts on the back surface of the conducting wire accommodation portion.
According to the present invention, since the conducting wire is held by the conducting wire accommodating portion and the end face of the insulating coating abuts on the back surface of the conducting wire accommodating portion, the conducting wire can be more reliably positioned in the depth direction of the conducting wire accommodating portion . Therefore, bonding of the lead to the substrate by soldering or ultrasonic bonding can be automated. Furthermore, since the conducting wire is accommodated along the depth direction of the conducting wire accommodation portion, the substrate unit can be thinned.

また、本発明の基板ユニットは、前記導線収容部が、前記周縁から前記奥面に向かって切り欠き幅が漸次大きくなるように形成されることを特徴とする。
本発明によれば、奥面が長くなるので奥面を平坦に形成しやすくなる。また、プレス加工やリューター等による切削加工により導線収容部を形成する場合には、導線収容部の内側面と奥面を円弧形に繋ぐように形成できるので、内側面と奥面の間に亀裂等が発生する不具合を防止できる。さらに、導線収容部は、基板の周縁側が狭くなるので、導線の位置決めをより精度よく行うことができる。
Further, the substrate unit of the present invention is characterized in that the conductor containing portion is formed so that the notch width gradually increases from the peripheral edge toward the back surface.
According to the present invention, since the back surface becomes long, the back surface can be easily formed flat. Further, in the case of forming the lead wire accommodating portion by press working or cutting with a luteter or the like, the inner side surface and the back surface of the lead wire accommodation portion can be formed in an arc shape, so between the inner side surface and the back surface It is possible to prevent the occurrence of cracks and the like. Furthermore, since the lead wire accommodating portion is narrowed at the peripheral edge side of the substrate, the lead wire can be positioned more accurately.

また、本発明の基板ユニットは、前記導線収容部が、内側面から突出して前記絶縁被覆に係合する係合突部を備えることを特徴とする。
本発明によれば、係合突部が導線の絶縁被覆に接触するので、導線が導線収容部から離脱することを防止できる。
Further, the substrate unit of the present invention is characterized in that the wire housing portion includes an engagement protrusion which protrudes from an inner side surface and engages with the insulating coating.
According to the present invention, since the engagement projection contacts the insulating coating of the lead, the lead can be prevented from being separated from the lead containing portion.

また、前記導線収容部に充填されて前記導線を固着させる導線固着樹脂を備えることを特徴とする。
本発明によれば、導線固着樹脂が導線を導線収容部に固着させるので、導線が導線収容部から離脱することを確実に防止できるとともに、基板に導線を強固に固定できる。また、導線固着樹脂が導線収容部に充填されるので、導線固着樹脂が基板よりも盛り上がることなく、基板ユニットを薄型化することができる。
In addition, it is characterized in that it is provided with a wire fixing resin which is filled in the wire containing portion to fix the wire.
According to the present invention, since the conductive wire fixing resin causes the conductive wire to be fixed to the conductive wire storage portion, the conductive wire can be reliably prevented from being detached from the conductive wire storage portion, and the conductive wire can be firmly fixed to the substrate. In addition, since the wire fixing resin is filled in the wire housing portion, it is possible to make the substrate unit thinner without raising the wire fixing resin than the substrate.

また、前記導線収容部が、前記基板の厚み方向に形成された底面を有することを特徴とする。
本発明によれば、絶縁被覆を底面に当接させることにより、基板の厚み方向において導線を位置決めすることができる。したがって、はんだ付けや超音波接合などによる基板に対する導線の接合を自動化することができる。また、導線収容部に充填した導線固着樹脂が基板の裏側に回り込むことを防止できる。
Further, the lead wire accommodating portion is characterized by having a bottom surface formed in a thickness direction of the substrate.
According to the present invention, the conductive wire can be positioned in the thickness direction of the substrate by bringing the insulating coating into contact with the bottom surface. Therefore, bonding of the lead to the substrate by soldering or ultrasonic bonding can be automated. Moreover, it can prevent that the conducting-wire adhering resin with which the conducting-wire accommodating part was filled comes around to the back side of a board | substrate.

また、前記導線収容部が、前記基板を載置する基板保持治具に形成された位置決め突部が嵌まり込むことを特徴とする。
本発明によれば、はんだ付けや超音波接合などによる基板に対する導線の接合作業の際に、基板保持治具に対して基板を確実に位置決めすることができる。また、基板保持治具の位置決め突部に導線を当接させることにより、基板の厚み方向において導線を位置決めすることができる。したがって、基板に対する導線のはんだ付けを自動化することができる。また、導線収容部に充填した導線固着樹脂が必要以上に、基板の裏側に回り込むことを防止できる。
Further, the lead wire accommodating portion is characterized in that a positioning projection formed on a substrate holding jig on which the substrate is placed is fitted.
According to the present invention, the substrate can be reliably positioned with respect to the substrate holding jig at the time of bonding work of the lead wire to the substrate by soldering, ultrasonic bonding or the like. Further, the conductive wire can be positioned in the thickness direction of the substrate by bringing the conductive wire into contact with the positioning projection of the substrate holding jig. Thus, the soldering of the leads to the substrate can be automated. Moreover, it can prevent that the conducting-wire adhering resin with which the conducting-wire accommodating part was filled wraps around to the back side of a board | substrate more than necessary.

また、前記芯線と前記基板は、超音波接合により接続されることを特徴とする。
本発明によれば、副材を用いない為、確実に芯線と基板を接続できるとともに、接続部分が必要以上に盛り上がることなく、基板ユニットを薄型化することができる。
Further, the core wire and the substrate are connected by ultrasonic bonding.
According to the present invention, since the auxiliary material is not used, the core wire and the substrate can be connected reliably, and the substrate unit can be thinned without the connection portion rising more than necessary.

また、本発明の電気化学セルユニットは、導線の直径が0.08mmから0.41mmであることを特徴とする。
本発明によれば、小型の基板ユニットの導線と基板の位置決めを確実に実施することができる。したがって、はんだ付けや超音波接合などによる基板に対する導線の接合を自動化することができる。
Moreover, the electrochemical cell unit of the present invention is characterized in that the diameter of the conducting wire is 0.08 mm to 0.41 mm.
According to the present invention, the positioning of the lead of the small substrate unit and the substrate can be reliably performed. Therefore, bonding of the lead to the substrate by soldering or ultrasonic bonding can be automated.

また、本発明の電気化学セルユニットは、本発明の基板ユニットを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、はんだ付けや超音波接合などによる基板に対する導線の接合が自動化されるので、接続不良等の不具合発生が減少する。また、組立作業の効率化によるコスト低減が図られる。
The electrochemical cell unit of the present invention is characterized by comprising the substrate unit of the present invention.
According to the present invention, the bonding of the lead wire to the substrate by soldering, ultrasonic bonding or the like is automated, so that the occurrence of defects such as connection failure is reduced. In addition, cost reduction can be achieved by improving the efficiency of assembly work.

本発明によれば、導線が導線収容部に保持されて、絶縁被覆の端面が導線収容部に収容されるので、導線が基板に対して確実に位置決めできる。したがって、はんだ付けや超音波接合などによる基板に対する導線の接合を自動化することができる。   According to the present invention, since the conducting wire is held by the conducting wire accommodating portion and the end face of the insulation coating is accommodated in the conducting wire accommodating portion, the conducting wire can be reliably positioned with respect to the substrate. Therefore, bonding of the lead to the substrate by soldering or ultrasonic bonding can be automated.

本発明の第一実施形態に係る電気化学セルユニットの概略構成を示す図である。It is a figure showing a schematic structure of an electrochemical cell unit concerning a first embodiment of the present invention. 本発明の第一実施形態に係る基板ユニットを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the board | substrate unit which concerns on 1st embodiment of this invention. 基板および基板保持治具を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a board | substrate and a board | substrate holding jig. 本発明の第二実施形態に係る基板ユニットを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the board | substrate unit which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第三実施形態に係る基板ユニットを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the board | substrate unit which concerns on 3rd embodiment of this invention. 本発明の第四実施形態に係る基板ユニットを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the board | substrate unit which concerns on 4th embodiment of this invention. 本発明の第五実施形態に係る基板ユニットを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the board | substrate unit which concerns on 5th embodiment of this invention.

(第一実施形態)
以下に、本発明の第一実施形態について、図面を用いて説明をする。
図1は、本発明の第一実施形態に係る電気化学セルユニット1の概略構成を示す図であって、図1(a)は平面図であり、図1(b)は側面図である。
図1に示すように、電気化学セルユニット1は、主に、電気化学セル11と基板ユニット2により構成される。
First Embodiment
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described using the drawings.
FIG. 1 is a view showing a schematic configuration of the electrochemical cell unit 1 according to the first embodiment of the present invention, FIG. 1 (a) is a plan view, and FIG. 1 (b) is a side view.
As shown in FIG. 1, the electrochemical cell unit 1 mainly includes an electrochemical cell 11 and a substrate unit 2.

電気化学セル11は、例えば、正極および負極を含む電極体13と、電極体13を収納する外装体19と、を備えた、いわゆるリチウムイオン電池である。
電極体13は、平面視で略矩形状をしている。電極体13は、不図示のセパレータを介して互いに積層または捲回された不図示の正極および負極を含んでいる。正極および負極は、例えば電解液や固体電解質などの非水電解質に接している。
The electrochemical cell 11 is, for example, a so-called lithium ion battery including an electrode body 13 including a positive electrode and a negative electrode, and an exterior body 19 for housing the electrode body 13.
The electrode body 13 has a substantially rectangular shape in plan view. The electrode body 13 includes positive and negative electrodes (not shown) stacked or wound on one another via a separator (not shown). The positive electrode and the negative electrode are in contact with a non-aqueous electrolyte such as, for example, an electrolytic solution or a solid electrolyte.

電極体13の正極は、例えば金属箔等の集電体に正極活物質を付着させたものである。正極活物質は、例えばコバルト酸リチウムやチタン酸リチウム、マンガン酸リチウム等のように、リチウムと遷移金属とを含む複合酸化物である。
電極体13の負極は、例えば金属箔等の集電体に負極活物質を付着させたものである。負極活物質は、例えばシリコンやシリコン酸化物、グラファイト、ハードカーボン、チタン酸リチウム、LiAl等である。
セパレータは、リチウムイオンを通す特性を有する。セパレータは、例えば樹脂ポーラスフィルム、ガラス製不織布、樹脂製不織布のいずれか一つまたはこれらの組み合わせを含む。
電極体13は、正極または負極の一方から他方にリチウムイオンが移動することにより、電荷を蓄積(充電)したり、電荷を放出(放電)したりする。
The positive electrode of the electrode body 13 is obtained by, for example, attaching a positive electrode active material to a current collector such as a metal foil. The positive electrode active material is, for example, a composite oxide containing lithium and a transition metal such as lithium cobaltate, lithium titanate, lithium manganate and the like.
The negative electrode of the electrode body 13 is obtained by, for example, attaching a negative electrode active material to a current collector such as a metal foil. The negative electrode active material is, for example, silicon, silicon oxide, graphite, hard carbon, lithium titanate, LiAl or the like.
The separator has the property of transmitting lithium ions. The separator includes, for example, any one of a resin porous film, a glass non-woven fabric, a resin non-woven fabric, or a combination thereof.
The electrode body 13 accumulates (charges) electric charge or discharges (discharges) electric charge when lithium ions move from one of the positive electrode and the negative electrode to the other.

外装体19は、平面視すると略矩形状のシートを、電極体13を包み込むように折り曲げて形成される。外装体19は、例えば金属箔と金属箔に積層された樹脂層とを有するラミネートフィルムである。金属箔は、例えばアルミニウム、ステンレススチール等の水分や酸素を遮断する金属材料を用いて形成される。内面の樹脂層は、例えばポリエチレンやポリプロピレン、アイオノマー、エチレン‐プロピレン共重合樹脂等の熱可塑性樹脂を用いて形成される。外面の樹脂層は、例えばポリアミド等の熱可塑性樹脂を用いて形成される。電極体13は、外装体19により封止される。   The exterior body 19 is formed by bending a sheet having a substantially rectangular shape in plan view so as to wrap the electrode body 13. The exterior body 19 is, for example, a laminate film having a metal foil and a resin layer laminated on the metal foil. The metal foil is formed using, for example, a metal material that blocks moisture and oxygen, such as aluminum and stainless steel. The resin layer on the inner surface is formed using, for example, a thermoplastic resin such as polyethylene, polypropylene, an ionomer, or an ethylene-propylene copolymer resin. The resin layer on the outer surface is formed using, for example, a thermoplastic resin such as polyamide. The electrode body 13 is sealed by the exterior body 19.

基板ユニット2は、電気化学セル11の側方に配置されており、主に基板20と、正極タブ15と、負極タブ16と、正極導線40Aと、負極導線40Bとにより構成される。
基板20は、例えばガラスを含有するエポキシ系の樹脂からなるガラスエポキシ基板であって、平面視すると略矩形状に形成される。
基板20は、電気化学セル11の厚み方向の一方側において、電気化学セル11の主面12に沿うように配置される。
基板20の主面のうち、電気化学セル11の主面12と同じ方向を向く第一主面21には、配線パターン(不図示)が配索される。配線パターンは、例えば銅(Cu)等の金属材料を成膜して形成される。
The substrate unit 2 is disposed to the side of the electrochemical cell 11, and mainly includes a substrate 20, a positive electrode tab 15, a negative electrode tab 16, a positive electrode lead 40A, and a negative electrode lead 40B.
The substrate 20 is a glass epoxy substrate made of, for example, an epoxy resin containing glass, and is formed in a substantially rectangular shape in plan view.
The substrate 20 is disposed along the major surface 12 of the electrochemical cell 11 on one side in the thickness direction of the electrochemical cell 11.
A wiring pattern (not shown) is disposed on the first major surface 21 of the major surface of the substrate 20 facing in the same direction as the major surface 12 of the electrochemical cell 11. The wiring pattern is formed by depositing a metal material such as copper (Cu), for example.

基板20の第一主面21には、複数の電子素子23が実装される。電子素子23は、例えば抵抗器やトランジスタ等のスイッチング回路がパッケージングされたICである。
電子素子23および配線パターンは、保護回路を形成する。この保護回路は、電気化学セル11の充放電を制御して過充電や過放電を防止したり、過電流が発生した時に外部機器から電気化学セル11を電気的に遮断したりする。
A plurality of electronic elements 23 are mounted on the first major surface 21 of the substrate 20. The electronic element 23 is, for example, an IC in which a switching circuit such as a resistor or a transistor is packaged.
The electronic element 23 and the wiring pattern form a protective circuit. The protection circuit controls charge and discharge of the electrochemical cell 11 to prevent overcharge and overdischarge, and electrically shuts off the electrochemical cell 11 from an external device when an overcurrent occurs.

第一主面21には、一対の電極パッド24A,24Bが設けられる。電極パッド24A,24Bは、例えば銅(Cu)等の金属材料を成膜して形成されており、配線パターンと同時に形成される。
電極パッド24A,24Bには、それぞれ正極導線40Aおよび負極導線40Bの芯線が電気的および機械的に接続される。正極導線40Aおよび負極導線40Bは、外部機器に対して電気化学セルユニット1を電気的に接続するための導線である。
The first major surface 21 is provided with a pair of electrode pads 24A and 24B. The electrode pads 24A, 24B are formed by depositing a metal material such as copper (Cu), for example, and are formed simultaneously with the wiring pattern.
The core wires of the positive electrode lead 40A and the negative electrode lead 40B are electrically and mechanically connected to the electrode pads 24A and 24B, respectively. The positive electrode lead 40A and the negative electrode lead 40B are leads for electrically connecting the electrochemical cell unit 1 to an external device.

第一主面21には、一対のランド27が形成される。一対のランド27には、それぞれ正極タブ15および負極タブ16が、例えば抵抗溶接により接合される。ランド27は、配線パターンに対して積層して成膜される。   A pair of lands 27 is formed on the first major surface 21. The positive electrode tab 15 and the negative electrode tab 16 are joined to the pair of lands 27 by, for example, resistance welding. The lands 27 are formed by laminating on the wiring pattern.

正極タブ15は、例えばアルミニウム(Al)を主成分とする材料により、細長い平板形に形成される。負極タブ16は、例えばニッケル(Ni)を主成分とする材料により、細長い平板形に形成される。
正極タブ15は、電極体13の正極に対して電気的および機械的に接続される。負極タブ16は、電極体13の負極に対して電気的および機械的に接続される。正極タブ15と負極タブ16は、電気化学セル11の電極体13から延出する。
The positive electrode tab 15 is formed in an elongated flat plate shape, for example, by a material whose main component is aluminum (Al). The negative electrode tab 16 is formed in an elongated flat plate shape, for example, by a material containing nickel (Ni) as a main component.
The positive electrode tab 15 is electrically and mechanically connected to the positive electrode of the electrode body 13. The negative electrode tab 16 is electrically and mechanically connected to the negative electrode of the electrode body 13. The positive electrode tab 15 and the negative electrode tab 16 extend from the electrode body 13 of the electrochemical cell 11.

正極タブ15および負極タブ16は、それぞれ電極体13の側面から基板ユニット2に向けて延出する。そして、正極タブ15および負極タブ16の先端部15a,16aは、ランド27に対して抵抗溶接される。   The positive electrode tab 15 and the negative electrode tab 16 respectively extend toward the substrate unit 2 from the side surface of the electrode body 13. The tip portions 15 a and 16 a of the positive electrode tab 15 and the negative electrode tab 16 are resistance-welded to the lands 27.

図2は、本発明の第一実施形態に係る基板ユニット2を示す模式図であって、図2(a)は平面図であり、図2(b)は側面断面図であり、図2(c)は正面図である。
基板ユニット2は、基板20、正極導線40Aおよび負極導線40B等を備える。
以下では、正極導線40A、負極導線40Bを単に導線40A、導線40Bという。
FIG. 2 is a schematic view showing the substrate unit 2 according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 (a) is a plan view, and FIG. 2 (b) is a side sectional view; c) is a front view.
The substrate unit 2 includes a substrate 20, a positive electrode lead 40A, a negative electrode lead 40B, and the like.
Hereinafter, the positive electrode conductor 40A and the negative electrode conductor 40B will be simply referred to as the conductor 40A and the conductor 40B.

基板20は、平面視すると略矩形状に形成された平板形の部材である。基板20の第一主面21には、周縁20fの近傍に電極パッド24A,24Bが配置される。
基板20の周縁20fには、導線収容部30A,30Bが設けられる。導線収容部30A,30Bは、それぞれ基板20の周縁20fを矩形状に切り欠くように形成される。導線収容部30A,30Bは、基板20を厚み方向に貫通する。
The substrate 20 is a flat plate-like member formed in a substantially rectangular shape in plan view. Electrode pads 24A and 24B are disposed on the first major surface 21 of the substrate 20 in the vicinity of the peripheral edge 20f.
Conductor receiving portions 30A and 30B are provided on the peripheral edge 20f of the substrate 20. The conductor containing portions 30A and 30B are each formed so as to cut out the peripheral edge 20f of the substrate 20 in a rectangular shape. The conductor containing portions 30A and 30B penetrate the substrate 20 in the thickness direction.

導線収容部30Aは、周縁20fから電極パッド24Aに向かうように形成される。導線収容部30Bは、周縁20fから電極パッド24Bに向かうように形成される。
導線収容部30A,30Bは、一対の内側面31と奥面32をそれぞれ有する。一対の内側面31は、それぞれ周縁20fに直交し、互いに対向する。内側面31同士の間隔(切り欠き幅)は、導線40A,40Bの外径よりもやや大きくなるように設定される。具体的には導線40A,40Bの外径に対し1.1〜2.0倍である。内側面31の奥行方向の長さは、電極パッド24A,24Bの位置に応じて任意に設定される。
奥面32は、一対の内側面31に対してそれぞれ直交する。つまり、奥面32は、周縁20fに対して平行に形成される。奥面32は、平面視すると、電極パッド24A,24Bに近接する位置に配置される。これにより、導線収容部30A,30Bは、平面視で矩形状に形成される。なお、奥面32は、平面視すると、電極パッド24A,24Bの周縁に一致する位置に配置されてもよい。
The wire housing portion 30A is formed to face the electrode pad 24A from the peripheral edge 20f. The wire housing portion 30B is formed to be directed from the peripheral edge 20f to the electrode pad 24B.
Each of the wire housings 30A and 30B has a pair of inner side surfaces 31 and a back surface 32. The pair of inner side surfaces 31 are orthogonal to the peripheral edge 20 f and face each other. The distance between the inner side surfaces 31 (notch width) is set to be slightly larger than the outer diameter of the conducting wire 40A, 40B. Specifically, it is 1.1 to 2.0 times the outer diameter of the conducting wire 40A, 40B. The length in the depth direction of the inner side surface 31 is arbitrarily set according to the positions of the electrode pads 24A and 24B.
The back surface 32 is orthogonal to the pair of inner surfaces 31 respectively. That is, the back surface 32 is formed parallel to the peripheral edge 20 f. The back surface 32 is disposed at a position close to the electrode pads 24A and 24B in plan view. Thereby, conducting wire accommodating parts 30A and 30B are formed in rectangular shape by plane view. The back surface 32 may be disposed at a position coinciding with the periphery of the electrode pads 24A and 24B in plan view.

導線40A,40Bは、外部機器に対して基板20を電気的に接続するための導線である。導線40A,40Bは、例えば銅等の低効率の低い金属からなる芯線42と、この芯線42を覆う絶縁被覆43とからそれぞれ構成される。絶縁被覆43には、例えばゴムやビニル等の絶縁材料が用いられる。導線40A,40Bのそれぞれの端部41は、絶縁被覆43が剥ぎ取られて、芯線42が露出する。   The conductors 40A and 40B are conductors for electrically connecting the substrate 20 to an external device. The conducting wires 40A and 40B are respectively composed of a core 42 made of a low-efficiency metal such as copper and an insulating coating 43 covering the core 42. For the insulating coating 43, an insulating material such as rubber or vinyl is used, for example. The insulation coating 43 is peeled off at each end 41 of the conducting wire 40A, 40B, and the core wire 42 is exposed.

導線40A,40Bは、それぞれの端部41が基板20の導線収容部30A,30Bに収容される。端部41は、導線収容部30A,30Bに対して奥行方向に沿って収容される。
具体的には、正極導線40Aは、端部41の絶縁被覆43が導線収容部30Aに収容される。負極導線40Bは、端部41の絶縁被覆43が導線収容部30Bに収容される。また、導線40A,40Bの絶縁被覆43の端面43tは、導線収容部30A,30Bの奥面32にそれぞれ当接する。
導線40A,40Bのそれぞれの芯線42は、基板20の第一主面21の電極パッド24A,24Bに密着配置される。そして、それぞれの芯線42は、第一主面21の電極パッド24A,24Bにはんだ付けや超音波接合などにより接合される。なお、本実施形態においてははんだ付けする場合を記載する。
The ends 41 of the conductors 40A and 40B are accommodated in the conductor accommodating portions 30A and 30B of the substrate 20, respectively. The end portion 41 is accommodated along the depth direction with respect to the wire accommodating portions 30A and 30B.
Specifically, the insulation coating 43 of the end portion 41 of the positive electrode conductor 40A is accommodated in the conductor containing portion 30A. In the negative electrode conductor 40B, the insulation coating 43 of the end 41 is accommodated in the conductor accommodation portion 30B. In addition, the end face 43t of the insulating coating 43 of the conducting wire 40A, 40B abuts on the back surface 32 of the conducting wire accommodation portions 30A, 30B, respectively.
The core wires 42 of the conductive wires 40A and 40B are disposed in close contact with the electrode pads 24A and 24B of the first major surface 21 of the substrate 20. The respective core wires 42 are joined to the electrode pads 24A and 24B of the first main surface 21 by soldering, ultrasonic bonding or the like. In the present embodiment, the case of soldering is described.

導線40A,40Bの端部41を導線収容部30A,30Bに収容すると、内側面31同士の間に絶縁被覆43がそれぞれ配置される。また、導線収容部30A,30Bの奥面32に絶縁被覆43の端面43tがそれぞれ当接する。
このため、導線40A,40Bが第一主面21に沿って転がってずれることが抑止される。また、導線40A,40Bが第一主面21に沿って長手方向にずれることが抑止される。したがって、導線40A,40Bの基板20に対する移動が抑止される。
このように、本実施形態の基板ユニット2では、導線40A,40Bの端部41が導線収容部30A,30Bに収容されることにより、導線40A,40Bが基板20に対して位置決めされる。したがって、それぞれの芯線42を電極パッド24A,24Bにはんだ付けするときに、自動はんだ付け装置(不図示)を用いることができる。
When the end portions 41 of the conductors 40A and 40B are accommodated in the conductor containing portions 30A and 30B, the insulating coatings 43 are disposed between the inner side surfaces 31 respectively. Further, the end face 43t of the insulating coating 43 abuts on the back surface 32 of the wire housings 30A and 30B.
Therefore, the lead wires 40A and 40B are prevented from rolling and shifting along the first major surface 21. Further, the lead wires 40A and 40B are prevented from being displaced in the longitudinal direction along the first major surface 21. Therefore, the movement of the conductors 40A and 40B relative to the substrate 20 is suppressed.
As described above, in the substrate unit 2 of the present embodiment, the lead portions 40A and 40B are positioned with respect to the substrate 20 by the end portions 41 of the lead wires 40A and 40B being accommodated in the conductor containing portions 30A and 30B. Therefore, when soldering each core wire 42 to electrode pad 24A, 24B, an automatic soldering device (not shown) can be used.

導線収容部30A,30Bには、導線40A,40Bを基板20に対して固着する導線固着樹脂35が充填される。導線固着樹脂35には、例えばエチレン酢酸ビニル等の熱可塑性プラスチックが用いられる。導線固着樹脂35は、導線収容部30A,30Bのみに配置される。
導線固着樹脂35は、絶縁被覆43を覆うことなく配置される。従来は、第一主面21に密着配置した導線40A,40Bの絶縁被覆43を導線固着樹脂35で覆うため、基板ユニット2の厚み(高さ)が増加することがあった。
これに対して、基板ユニット2では、導線固着樹脂35を導線収容部30A,30Bのみに配置して導線40A,40Bを固着しているので、導線収容部30A,30B内に導線固着樹脂35を充填するとともに導線固着樹脂35が絶縁被覆43を覆うことなく配置できる。したがって、基板ユニット2の薄型化を図ることができる。
The conductive wire fixing resin 35 for fixing the conductive wires 40A and 40B to the substrate 20 is filled in the conductive wire accommodating portions 30A and 30B. For example, a thermoplastic plastic such as ethylene vinyl acetate is used for the conductive wire fixing resin 35. The wire fixing resin 35 is disposed only in the wire storage portions 30A and 30B.
The wire fixing resin 35 is disposed without covering the insulating coating 43. Conventionally, the thickness (height) of the substrate unit 2 may increase because the insulating coating 43 of the conducting wires 40A and 40B closely disposed on the first major surface 21 is covered with the conducting wire fixing resin 35.
On the other hand, in the substrate unit 2, since the conductive wire fixing resin 35 is disposed only in the conductive wire storage portions 30A and 30B and the conductive wires 40A and 40B are fixed, the conductive wire bonding resin 35 is contained in the conductive wire storage portions 30A and 30B. At the same time as filling, the wire fixing resin 35 can be disposed without covering the insulating coating 43. Therefore, thinning of the substrate unit 2 can be achieved.

図3は、基板20および基板保持治具50を示す模式図であって、図3(a)は平面図であり、図3(b)は正面図である。なお、図3においては、導線40A,40Bを二点鎖線で図示している。
導線40A,40B(芯線42)の基板20(電極パッド24A,24B)に対するはんだ付けを自動化するためには、導線40A,40Bの基板20に対する位置決めが必要である。さらに、基板20の自動はんだ付け装置(不図示)に対する位置決めも必要である。
このため、図3に示すように、基板20を基板保持治具50に載置して、基板20の位置ずれを防止する。以下、基板保持治具50および基板20と基板保持治具50との位置決めについて詳細に説明する。
FIG. 3 is a schematic view showing the substrate 20 and the substrate holding jig 50, wherein FIG. 3 (a) is a plan view and FIG. 3 (b) is a front view. In FIG. 3, the conducting wires 40A and 40B are illustrated by two-dot chain lines.
In order to automate the soldering of the conductors 40A and 40B (core 42) to the substrate 20 (electrode pads 24A and 24B), the positioning of the conductors 40A and 40B with respect to the substrate 20 is necessary. Furthermore, positioning of the substrate 20 with respect to an automatic soldering apparatus (not shown) is also required.
Therefore, as shown in FIG. 3, the substrate 20 is placed on the substrate holding jig 50 to prevent positional deviation of the substrate 20. Hereinafter, the substrate holding jig 50 and the positioning of the substrate 20 and the substrate holding jig 50 will be described in detail.

基板保持治具50は、矩形の平板形の部材等であって、ベース51と、複数の位置決めピン52と、複数の位置決め突部53とを備える。
ベース51は、基板20を載置する部材である。基板20は、第二主面22をベース51に密着させた状態でベース51に載置される。
位置決めピン52は、基板20の四隅に形成された凹部29に密着する四本の軸体である。位置決めピン52は、ベース51に対して垂直に立設される。
位置決め突部53は、ベース51から突出する部位であり、基板20に形成された導線収容部30A,30Bに嵌まり込む。
位置決め突部53の高さ(厚み)は、例えば基板20の厚みから導線40A,40B(絶縁被覆43)の半径を引いた長さと同等に設定される。これにより、導線40A,40Bは、それぞれ端部41が導線収容部30A,30Bに収容されたときに、芯線42が第一主面21の位置(高さ)に一致するように配置される。
The substrate holding jig 50 is a rectangular flat plate member or the like, and includes a base 51, a plurality of positioning pins 52, and a plurality of positioning protrusions 53.
The base 51 is a member on which the substrate 20 is placed. The substrate 20 is placed on the base 51 in a state where the second major surface 22 is in close contact with the base 51.
The positioning pins 52 are four shafts in close contact with the recesses 29 formed at the four corners of the substrate 20. The positioning pin 52 is erected perpendicularly to the base 51.
The positioning protrusion 53 is a portion that protrudes from the base 51 and is fitted into the wire housing portions 30A and 30B formed on the substrate 20.
The height (thickness) of the positioning protrusion 53 is set, for example, equal to the length obtained by subtracting the radius of the conducting wire 40A, 40B (insulation 43) from the thickness of the substrate 20. Thus, the lead wires 40A and 40B are arranged such that the core 42 matches the position (height) of the first major surface 21 when the end portions 41 are stored in the wire storage portions 30A and 30B, respectively.

基板20の四個の角部には、それぞれ位置決めピン52に対応する円弧形の凹部29が予め形成される。また、基板20には、導線収容部30A,30Bが予め形成される。
このため、基板20を基板保持治具50に載置すると、四本の位置決めピン52が基板20の凹部29にそれぞれ密着(嵌合)する。また、このとき、位置決め突部53が導線収容部30A,30Bに嵌まり込む。これにより、基板20が基板保持治具50に対して精度よく位置決めされる。すなわち、基板20は、自動はんだ付け装置(不図示)に対して位置決めされる。
Arc shaped recesses 29 corresponding to the positioning pins 52 are formed in advance at four corners of the substrate 20. In addition, the conductor containing portions 30A and 30B are formed in advance on the substrate 20.
Therefore, when the substrate 20 is placed on the substrate holding jig 50, the four positioning pins 52 are in close contact (fitted) with the recessed portions 29 of the substrate 20, respectively. Further, at this time, the positioning protrusion 53 is fitted into the wire housings 30A and 30B. Thereby, the substrate 20 is accurately positioned with respect to the substrate holding jig 50. That is, the substrate 20 is positioned relative to the automatic soldering apparatus (not shown).

位置決め突部53は、導線収容部30A,30Bに導線40A,40Bを配置するときに、導線40A,40Bを基板20の厚み方向において位置決めする。上述したように、位置決め突部53を用いることにより、導線40A,40Bの芯線42を第一主面21の位置(高さ)に一致させることができる。このため、基板20に対する導線40A,40Bのはんだ付けを自動化することができる。さらに、導線収容部30A,30Bに導線固着樹脂35を充填するときに、導線固着樹脂35が第二主面22に回り込むことを防止できる。   The positioning protrusion 53 positions the conducting wires 40A and 40B in the thickness direction of the substrate 20 when the conducting wires 40A and 40B are arranged in the conducting wire accommodating portions 30A and 30B. As described above, by using the positioning protrusions 53, the core wires 42 of the conducting wires 40A and 40B can be made to coincide with the position (height) of the first major surface 21. Therefore, the soldering of the conductors 40A and 40B to the substrate 20 can be automated. Furthermore, when the wire fixing resin 35 is filled in the wire housing portions 30A and 30B, the wire fixing resin 35 can be prevented from coming around the second main surface 22.

このように、基板ユニット2では、導線40A,40Bが導線収容部30A,30Bに収容および保持される。このため、導線40A,40Bの基板20に対する移動が抑止される。つまり、導線40A,40Bが基板20に対して確実に位置決めされる。
したがって、本実施形態によれば、基板20に対する導線40A,40Bのはんだ付けを自動化することができる。
さらに、絶縁被覆43の端面43tが導線収容部30A,30Bの奥面32に当接する。このため、導線40A,40Bが基板20の導線収容部の奥行方向に対してもより確実に位置決めされる。また、導線40A,40B(絶縁被覆43)が導線収容部30A,30Bに対して奥行方向に沿って収容されるので、基板ユニット2を薄型化できる。
As described above, in the substrate unit 2, the conducting wires 40A and 40B are accommodated and held in the conducting wire accommodating portions 30A and 30B. For this reason, the movement of the conductors 40A and 40B with respect to the substrate 20 is suppressed. That is, the conductive wires 40A and 40B are reliably positioned with respect to the substrate 20.
Therefore, according to the present embodiment, the soldering of the leads 40A and 40B to the substrate 20 can be automated.
Furthermore, the end face 43t of the insulating coating 43 abuts on the back surface 32 of the wire housings 30A and 30B. For this reason, the conducting wires 40A and 40B are more reliably positioned in the depth direction of the conducting wire accommodating portion of the substrate 20. Moreover, since the conducting wire 40A, 40B (insulation coating 43) is accommodated along the depth direction with respect to the conducting wire accommodation portions 30A, 30B, the substrate unit 2 can be thinned.

また、本実施形態によれば、導線固着樹脂35が導線40A,40Bを導線収容部30A,30Bに固着させるので、導線40A,40Bが導線収容部30A,30Bから離脱することを確実に防止できるとともに、基板20に導線40A,40Bを強固に固定できる。また、導線固着樹脂35が導線収容部30A,30Bに充填されるので、導線固着樹脂35が基板20よりも盛り上がることなく、基板ユニット2を薄型化することができる。   Further, according to the present embodiment, since the conductive wire fixing resin 35 fixes the conductive wires 40A and 40B to the conductive wire storage portions 30A and 30B, the conductive wires 40A and 40B can be reliably prevented from being separated from the conductive wire storage portions 30A and 30B. In addition, the conductors 40A and 40B can be firmly fixed to the substrate 20. In addition, since the conductive wire fixing resin 35 is filled in the conductive wire accommodating portions 30A and 30B, the substrate unit 2 can be thinned without the conductive wire fixing resin 35 rising from the substrate 20.

また、導線収容部30A,30Bが、基板20を載置する基板保持治具50に形成された位置決め突部53が嵌まり込むので、基板20に対する導線40A,40Bのはんだ付け作業の際に、基板保持治具50に対して基板20を確実に位置決めすることができる。また、基板保持治具50の位置決め突部53に導線40A,40Bを当接させることにより、基板20の厚み方向において導線40A,40Bを位置決めすることができる。したがって、基板20に対する導線40A,40Bのはんだ付けを自動化することができる。また、導線収容部30A,30Bに充填した導線固着樹脂35が基板20の裏側に回り込むことを防止できる。   In addition, since the positioning projections 53 formed on the substrate holding jig 50 on which the substrate 20 is placed are fitted in the conductor containing portions 30A and 30B, the soldering operation of the conductors 40A and 40B to the substrate 20 is performed. The substrate 20 can be reliably positioned with respect to the substrate holding jig 50. Further, by bringing the conducting wires 40A and 40B into contact with the positioning protrusions 53 of the substrate holding jig 50, the conducting wires 40A and 40B can be positioned in the thickness direction of the substrate 20. Therefore, the soldering of the conductors 40A and 40B to the substrate 20 can be automated. In addition, the wire fixing resin 35 filled in the wire housing portions 30A and 30B can be prevented from coming around the back side of the substrate 20.

また、電気化学セルユニット1は、基板20に対する導線40A,40Bのはんだ付けが自動化されるので、接続不良等の不具合発生が減少して高い信頼性を確保できる。また、組立作業の効率化により製造コストが抑えられるので、電気化学セルユニット1の低価格化を実現できる。   Further, in the electrochemical cell unit 1, the soldering of the conducting wires 40A and 40B to the substrate 20 is automated, so that the occurrence of problems such as connection failure can be reduced and high reliability can be ensured. In addition, since the manufacturing cost can be reduced by improving the efficiency of the assembly operation, the price reduction of the electrochemical cell unit 1 can be realized.

(他の実施形態)
続いて、他の実施形態に係る基板ユニットについて説明する。
第一実施形態の基板ユニット2は、導線収容部30A,30Bが平面視で矩形状に切り欠かれて形成されていた(図1(a)参照)。これに対して、導線収容部30A,30Bの形状は第一実施形態に限定されることはなく、以下に説明する各実施形態のような形状であってもよい。なお、以下では、第一実施形態と同様の構成部分については詳細な説明を省略する。
(Other embodiments)
Subsequently, a substrate unit according to another embodiment will be described.
In the substrate unit 2 of the first embodiment, the lead wire accommodating portions 30A and 30B are formed in a rectangular shape in a plan view (see FIG. 1A). On the other hand, the shape of the wire housings 30A and 30B is not limited to the first embodiment, and may be a shape as in each embodiment described below. In the following, detailed description of the same components as in the first embodiment will be omitted.

(第二実施形態)
図4は、本発明の第二実施形態に係る基板ユニット102を示す模式図である。なお、図4においては、導線40A,40Bを二点鎖線で図示している。
図4に示すように、第二実施形態の基板ユニット102は、基板20の周縁20fに導線収容部130A,130Bが設けられる。導線収容部130A,130Bは、それぞれ基板20の周縁20fを略矩形状に切り欠くように形成される。導線収容部130A,130Bは、基板20を厚み方向に貫通する。
Second Embodiment
FIG. 4 is a schematic view showing a substrate unit 102 according to a second embodiment of the present invention. In FIG. 4, the conducting wires 40A and 40B are illustrated by two-dot chain lines.
As shown in FIG. 4, in the substrate unit 102 of the second embodiment, the wire housing portions 130A and 130B are provided on the peripheral edge 20 f of the substrate 20. The conductor containing portions 130A and 130B are formed so as to cut out the peripheral edge 20f of the substrate 20 in a substantially rectangular shape. The conductor containing portions 130A and 130B penetrate the substrate 20 in the thickness direction.

導線収容部130A,130Bは、一対の内側面131と奥面132をそれぞれ有する。
一対の内側面131は、それぞれ周縁20fに対して交差し、周縁20fから奥面132に向かって内側面131同士の間隔(切り欠き幅)が漸次大きくなるように形成される。内側面131同士の間隔は、周縁20fの近傍では、導線40A,40Bの外径よりもやや大きくなるように設定される。具体的には、切り欠き幅は周縁20fの近傍であれば導線直径に対し1.1〜2.0倍、奥面132の近傍であれば切り欠き幅は周縁20fの近傍に対し1.1〜2.0倍であると導線の位置決めがより確実にできるため好ましい。 奥面132は、周縁20fに対して平行に形成される。
一対の内側面131と奥面132は、円弧形に繋がるように形成される。内側面131同士の間隔が奥面132に近づくにしたがって大きくなるように設定される。
Each of the wire housings 130A and 130B has a pair of inner side surfaces 131 and a back surface 132.
The pair of inner side surfaces 131 intersect with the peripheral edge 20 f, respectively, and the distance (notch width) between the inner side surfaces 131 is gradually increased from the peripheral edge 20 f toward the back surface 132. The distance between the inner side surfaces 131 is set to be slightly larger than the outer diameter of the conducting wire 40A, 40B in the vicinity of the peripheral edge 20f. Specifically, the notch width is 1.1 to 2.0 times the wire diameter if it is near the peripheral edge 20f, and the notch width is 1.1 for the vicinity of the peripheral edge 20f if it is near the back surface 132. It is preferable because the position of the conductor can be made more reliable if it is ~ 2.0 times. The back surface 132 is formed parallel to the peripheral edge 20 f.
The pair of inner side surfaces 131 and the back surface 132 are formed to be connected in an arc shape. The distance between the inner side surfaces 131 is set to be larger as it approaches the back surface 132.

第二実施形態によれば、導線収容部130A,130Bが、周縁20fから奥面132に向かって切り欠き幅が漸次大きくなるように形成されるので、奥面132が長くなり奥面132を平坦に形成しやすくなる。また、プレス加工やリューター等による切削加工により導線収容部130A,130Bを形成する場合には、導線収容部130A,130Bの内側面131と奥面132を円弧形に繋ぐように形成できるので、内側面131と奥面132の間に亀裂等が発生する不具合を防止できる。さらに、導線収容部130A,130Bは、基板20の周縁20f側が狭くなるので、導線40A,40Bの位置決めをより精度よく行うことができる。   According to the second embodiment, since the lead wire accommodating portions 130A and 130B are formed such that the notch width gradually increases from the peripheral edge 20f toward the back surface 132, the back surface 132 becomes longer and the back surface 132 becomes flat. It becomes easy to form. Further, in the case of forming the wire housings 130A and 130B by press working or cutting with a luteter or the like, the inner side surface 131 and the back surface 132 of the wire housings 130A and 130B can be formed in an arc shape. It is possible to prevent the occurrence of a crack or the like between the inner surface 131 and the back surface 132. Furthermore, in the lead wire accommodating portions 130A and 130B, the side of the peripheral edge 20f of the substrate 20 is narrowed, so positioning of the lead wires 40A and 40B can be performed more accurately.

(第三実施形態)
図5は、本発明の第三実施形態に係る基板ユニット202を示す模式図である。
図5に示すように、第三実施形態の基板ユニット202は、基板20の周縁20fに、導線収容部230A,230Bが設けられる。導線収容部230A,230Bは、それぞれ基板20の周縁20fを略矩形状に切り欠くように形成される。導線収容部230A,230Bは、基板20を厚み方向に貫通する。
Third Embodiment
FIG. 5 is a schematic view showing a substrate unit 202 according to a third embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 5, the board | substrate unit 202 of 3rd embodiment is provided with conducting-wire accommodating part 230A, 230B in the periphery 20f of the board | substrate 20. As shown in FIG. The conductor containing portions 230A and 230B are formed so as to cut out the peripheral edge 20f of the substrate 20 in a substantially rectangular shape. The conductor containing portions 230A and 230B penetrate the substrate 20 in the thickness direction.

導線収容部230A,230Bは、一対の内側面231と奥面232をそれぞれ有する。
一対の内側面231には、それぞれ複数の係合突部235が設けられる。複数の係合突部235は、内側面231に沿って平面視で三角形状に形成される。複数の係合突部235は、導線40A,40Bの絶縁被覆43に係合して、導線40A,40Bの移動を抑止する。
Conductor housing portions 230A and 230B have a pair of inner side surfaces 231 and back surfaces 232, respectively.
A plurality of engaging protrusions 235 are provided on the pair of inner side surfaces 231, respectively. The plurality of engaging protrusions 235 are formed in a triangular shape in plan view along the inner side surface 231. The plurality of engagement protrusions 235 engage with the insulation coating 43 of the leads 40A and 40B to inhibit movement of the leads 40A and 40B.

内側面231同士の間隔は、導線40A,40Bの外径よりもやや小さくなるように設定される。具体的には、対向する係合突部235同士の最短距離が、導線40A,40Bの外径よりもやや小さく設定される。係合突部235同士の最短距離は導線直径に対し0.7〜1.0倍である。このため、導線収容部230A,230Bに導線40A,40Bを収容すると、複数の係合突部235が絶縁被覆43を押圧して、絶縁被覆43を保持する。これにより、導線40A,40Bの移動が抑止されるので、基板20に対する導線40A,40Bのはんだ付けを自動化することができる。   The distance between the inner side surfaces 231 is set to be slightly smaller than the outer diameter of the conducting wire 40A, 40B. Specifically, the shortest distance between the opposing engaging protrusions 235 is set to be slightly smaller than the outer diameter of the conducting wire 40A, 40B. The shortest distance between the engaging protrusions 235 is 0.7 to 1.0 times the wire diameter. For this reason, when the conducting wires 40A and 40B are accommodated in the conducting wire accommodating portions 230A and 230B, the plurality of engagement protrusions 235 press the insulating coating 43 and hold the insulating coating 43. As a result, the movement of the conductors 40A and 40B is suppressed, so that the soldering of the conductors 40A and 40B to the substrate 20 can be automated.

(第四実施形態)
図6は、本発明の第四実施形態に係る基板ユニット302を示す模式図であって、図6(a)は平面図であり、図6(b)は側面図である。
図6に示すように、第四実施形態の基板ユニット302は、基板20の周縁20fに、導線収容部330A,330Bが設けられる。導線収容部330A,330Bは、それぞれ基板20の周縁20fを略矩形状に切り欠くように形成される。導線収容部330A,330Bは、基板20を厚み方向に貫通することなく、第一主面21側のみを切り欠くように形成される。
Fourth Embodiment
FIG. 6 is a schematic view showing a substrate unit 302 according to a fourth embodiment of the present invention, wherein FIG. 6 (a) is a plan view and FIG. 6 (b) is a side view.
As shown in FIG. 6, in the substrate unit 302 according to the fourth embodiment, the wire housings 330A and 330B are provided on the peripheral edge 20f of the substrate 20. The conductor containing portions 330A and 330B are formed so as to cut out the peripheral edge 20f of the substrate 20 in a substantially rectangular shape. The conductor containing portions 330A and 330B are formed so as to cut out only the first major surface 21 without penetrating the substrate 20 in the thickness direction.

導線収容部330A,330Bは、一対の内側面331、奥面332および底面333をそれぞれ有する。
一対の内側面331は、それぞれ周縁20fに直交し、互いに対向する。奥面332は、一対の内側面331に対してそれぞれ直交する。つまり、奥面332は、周縁20fに対して平行に形成される。
底面333は、第一主面21および第二主面22に対して平行に形成される。
第一主面21から底面333までの距離(導線収容部330A,330Bの深さ)は、導線40A,40B(絶縁被覆43)の半径と同等に設定される。これにより、導線40A,40Bは、それぞれ端部41が導線収容部330A,330Bに収容されたときに、芯線42が第一主面21の位置(高さ)に一致するように配置される。
The wire housings 330A and 330B have a pair of inner side surfaces 331, a back surface 332 and a bottom surface 333 respectively.
The pair of inner side surfaces 331 are orthogonal to the peripheral edge 20 f and face each other. The back surface 332 is orthogonal to the pair of inner surfaces 331 respectively. That is, the back surface 332 is formed parallel to the peripheral edge 20 f.
The bottom surface 333 is formed parallel to the first major surface 21 and the second major surface 22.
The distance from the first major surface 21 to the bottom surface 333 (the depths of the wire housings 330A and 330B) is set to be equal to the radius of the wires 40A and 40B (insulation 43). Thus, the lead wires 40A and 40B are arranged such that the core 42 matches the position (height) of the first major surface 21 when the end portions 41 are stored in the wire storage portions 330A and 330B, respectively.

底面333は、導線収容部330A,330Bに導線40A,40Bを配置するときに、導線40A,40Bを基板20の厚み方向において位置決めする。底面333に導線40A,40B(絶縁被覆43)を載置することにより、芯線42を第一主面21の位置(高さ)に一致させることができる。   The bottom surface 333 positions the conductors 40A and 40B in the thickness direction of the substrate 20 when the conductors 40A and 40B are disposed in the conductor containing portions 330A and 330B. The core wire 42 can be made to coincide with the position (height) of the first major surface 21 by placing the conducting wires 40A and 40B (insulation 43) on the bottom surface 333.

第四実施形態によれば、導線収容部330A,330Bが、基板20の厚み方向に形成された底面333を有するので、導線40A,40Bの絶縁被覆43を底面333に当接させることにより、基板20の厚み方向において導線40A,40Bを位置決めすることができる。したがって、基板20に対する導線40A,40Bのはんだ付けを自動化することができる。また、導線収容部330A,330Bに充填した導線固着樹脂35が基板20の裏側に回り込むことを防止できる。   According to the fourth embodiment, since the conductor containing portions 330A and 330B have the bottom surface 333 formed in the thickness direction of the substrate 20, the substrate is covered by bringing the insulating coating 43 of the conductors 40A and 40B into contact with the bottom surface 333. The conductors 40A and 40B can be positioned in the thickness direction of 20. Therefore, the soldering of the conductors 40A and 40B to the substrate 20 can be automated. In addition, the wire fixing resin 35 filled in the wire housing portions 330A and 330B can be prevented from coming around the back side of the substrate 20.

(第五実施形態)
図7は、第五実施形態に係る基板20および基板保持治具150の説明図である。
図7に示すように、第五実施形態の基板20は、導線収容部430A,430Bが平面視で円弧状に凹み形成されている。また、導線収容部430A,430Bと対向する位置には、窪部129,129が平面視で円弧状に凹み形成されている。導線収容部430A,430Bと窪部129,129とは、それぞれ同一の形状に形成されている。
基板保持治具150は、基板20の四角に対応した位置に設けられた四個の角部位置決め治具152と、導線収容部430A,430Bおよび窪部129,129に対応した位置に設けられた四個の突部153とを備える。
(Fifth embodiment)
FIG. 7 is an explanatory view of a substrate 20 and a substrate holding jig 150 according to the fifth embodiment.
As shown in FIG. 7, in the substrate 20 of the fifth embodiment, the conductor containing portions 430 </ b> A and 430 </ b> B are recessed in an arc shape in plan view. Further, recessed portions 129 and 129 are formed in a circular arc shape in plan view at positions facing the wire containing portions 430A and 430B. The conductor containing portions 430A and 430B and the recesses 129 and 129 are formed in the same shape.
The substrate holding jig 150 is provided at positions corresponding to the four corner positioning jigs 152 provided at the positions corresponding to the squares of the substrate 20 and the wire accommodating portions 430A, 430B and the recesses 129, 129. And four projections 153.

角部位置決め治具152は、平面視でL字状に形成されており、それぞれ基板20の角部に対応した位置に隅部を有している。基板20の角部が角部位置決め治具152の隅部に当接することにより、基板20の位置決めがなされる。また、四個の突部153を位置決めに用いてもよい。
また、突部153は、周面の曲率が導線収容部430A,430Bおよび窪部129,129の曲率と略同一となるように形成されている。導線収容部430A,430Bおよび窪部129,129内に突部153が配置されることにより、基板20の位置決めがさらに精度よくなされるとともに、導線収容部430A,430Bに導線固着樹脂を充填する場合に、導線固着樹脂が導線40A,40Bの絶縁被覆43の周囲に回り込み、基板20と導線40A,40Bとの接続を強固にすることが可能である。
The corner positioning jig 152 is formed in an L shape in plan view, and has corners at positions corresponding to the corners of the substrate 20. When the corner of the substrate 20 abuts the corner of the corner positioning jig 152, the substrate 20 is positioned. Also, four projections 153 may be used for positioning.
Further, the protrusion 153 is formed such that the curvature of the circumferential surface is substantially the same as the curvatures of the conductor containing portions 430A, 430B and the recesses 129, 129. In the case where the positioning of the substrate 20 is made more accurately by arranging the projections 153 in the wire containing portions 430A, 430B and the recessed portions 129, 129, and when the wire containing portions 430A, 430B are filled with the wire fixing resin. In addition, it is possible that the conductive resin adheres to the periphery of the insulating coating 43 of the conductive wires 40A and 40B, thereby strengthening the connection between the substrate 20 and the conductive wires 40A and 40B.

第五実施形態によれば、第一実施形態と同様に精度よく基板20の位置決めを行うとことができる。すなわち、基板20は、自動はんだ付け装置(不図示)に対して位置決めされる。したがって、基板20に対する導線40A,40Bのはんだ付けを自動化することができる。
この発明の技術範囲は上記の実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
According to the fifth embodiment, the substrate 20 can be positioned with high accuracy as in the first embodiment. That is, the substrate 20 is positioned relative to the automatic soldering apparatus (not shown). Therefore, the soldering of the conductors 40A and 40B to the substrate 20 can be automated.
The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

上述した各実施形態では、導線収容部30A,30B(130A,130B,230A,230B,330A,330B,430A,430B)に対して導線40A,40Bがそれぞれ一本ずつ収容される場合について説明したが、これに限らない。したがって、例えば一つの導線収容部30A(130A,230A,330A,430A)に対して、複数本の導線40A,40Bが収容されてもよい。この場合には、複数本の導線は、奥面32(132,232,332,432)に沿って一列に配置される。   In each of the above-described embodiments, the case has been described in which one conductor 40A or 40B is accommodated in each of the conductor housings 30A, 30B (130A, 130B, 230A, 230B, 330A, 330B, 430A, 430B). Not limited to this. Therefore, for example, a plurality of conducting wires 40A and 40B may be accommodated in one conducting wire storage unit 30A (130A, 230A, 330A, 430A). In this case, the plurality of conductive wires are arranged in a line along the back surface 32 (132, 232, 332, 432).

基板20に形成された四つの凹部29に対して四本の位置決めピン52を密着(嵌合)させる場合に限らない。例えば、対角方向にある二つの凹部29に対して二本の位置決めピン52を密着(嵌合)させる場合でも、基板20が位置決めされる。
また、四つの凹部29のうち、導線収容部30A,30Bが設けられた周縁20fに対向する周縁20fに設けられた二つの凹部29に対して二本の位置決めピン52を密着させる場合でもよい。つまり、導線40A,40B(絶縁被覆43の端面43t)を導線収容部30A,30Bの奥面32に押し当てたときに、基板20が移動しないように保持されていればよい。
The present invention is not limited to the case in which four positioning pins 52 are closely attached (fitted) to the four recesses 29 formed in the substrate 20. For example, even in the case where two positioning pins 52 are in close contact (fit) with two recesses 29 in the diagonal direction, the substrate 20 is positioned.
Further, two positioning pins 52 may be brought into close contact with two recesses 29 provided in the peripheral edge 20 f opposite to the peripheral edge 20 f provided with the conductor containing portions 30 A and 30 B among the four recesses 29. In other words, the substrate 20 may be held so as not to move when the conductive wires 40A and 40B (end faces 43t of the insulating coating 43) are pressed against the back surface 32 of the conductive wire housings 30A and 30B.

上記各実施形態では、導線40A,40Bは直径が0.24mmであり、小型の基板ユニットが対象である。導線40A,40Bの直径は、0.08から0.41mm程度でも本発明の効果を有するが、0.08から0.32mmがより好ましい。これにより、小型の基板ユニットの導線と基板の位置決めを確実に実施することができる。したがって、はんだ付けや超音波接合などによる基板に対する導線の接合を自動化することができる。
また上述した各実施形態では、芯線42と電極パッド24A,24Bとの接合をはんだ付けにより行っているが、超音波接合によっても可能である。この場合、導線40A,40Bのそれぞれの芯線42は、基板20の第一主面21の電極パッド24A,24Bに密着配置される。
In each of the above-described embodiments, the conducting wires 40A and 40B have a diameter of 0.24 mm, and a small substrate unit is a target. The diameter of the conductive wires 40A and 40B is about 0.08 to 0.41 mm, but the effect of the present invention can be obtained, but 0.08 to 0.32 mm is more preferable. Thereby, positioning of the conducting wire of a small board | substrate unit and a board | substrate can be implemented reliably. Therefore, bonding of the lead to the substrate by soldering or ultrasonic bonding can be automated.
Moreover, in each embodiment mentioned above, although joining to core wire 42 and electrode pad 24A, 24B is performed by soldering, it is also possible by ultrasonic bonding. In this case, the core wires 42 of the conductive wires 40A and 40B are disposed in close contact with the electrode pads 24A and 24B of the first major surface 21 of the substrate 20.

さらに、超音波接合の場合には、電極パッド24A,24Bの表面は酸化防止のためあらかじめメッキしておくことが良い。メッキの材質としては、スズ、二ッケル、またはそれらの合金が好ましい。ニッケルメッキの場合には、メッキの組成にリンを含ませることがより好ましい。メッキにリンを含ませるためには、リンを含有する還元剤を併用した無電解メッキを用いることが好ましい。この場合、例えば、リン化合物として次亜リン酸を用いる場合、その濃度はメッキ液に対し1wt%〜15wt%とすることが好ましい。また、メッキの層は、結晶子のサイズを10μm以下とすると良く、より好ましくは、0.1μ以下、さらに好ましくは、0.02μ以下であると良い。このように結晶子を小さく、アモルファスにすることによって接合強度を高くすることができる。
超音波接合の場合、副材を用いない為、確実に芯線と基板を接続できるとともに、接続部分が必要以上に盛り上がることなく、基板ユニットを薄型化することができる。
Furthermore, in the case of ultrasonic bonding, the surfaces of the electrode pads 24A and 24B may be plated in advance to prevent oxidation. As a material of plating, tin, nickel, or their alloys are preferable. In the case of nickel plating, it is more preferable to include phosphorus in the plating composition. In order to include phosphorus in plating, it is preferable to use electroless plating using a reducing agent containing phosphorus in combination. In this case, for example, when hypophosphorous acid is used as the phosphorus compound, the concentration is preferably 1 wt% to 15 wt% with respect to the plating solution. In the plating layer, the crystallite size is preferably 10 μm or less, more preferably 0.1 μm or less, and still more preferably 0.02 μm or less. The bonding strength can be increased by making the crystallite small and amorphous in this manner.
In the case of ultrasonic bonding, since no auxiliary material is used, the core wire and the substrate can be securely connected, and the substrate unit can be thinned without the connection portion being raised more than necessary.

上述した各実施形態を任意に組み合わせた形態としてもよい。したがって、例えば、第三実施形態と第四実施形態とを組み合わせることにより、導線収容部は、内側面から突出して絶縁被覆に係合する係合突部を備えるとともに、基板の厚み方向に形成された底面を有していてもよい。
その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記した実施の形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能である。
It is good also as a form which combined each embodiment mentioned above arbitrarily. Therefore, for example, by combining the third embodiment and the fourth embodiment, the wire housing portion is formed in the thickness direction of the substrate while being provided with the engaging projection that protrudes from the inner side surface and engages with the insulating coating. It may have a bottom surface.
In addition, without departing from the spirit of the present invention, it is possible to replace components in the above-described embodiment with known components as appropriate.

1・・・電気化学セルユニット 2・・・基板ユニット 20・・・基板 20f・・・周縁 30A,30B・・・導線収容部 31・・・内側面 32・・・奥面 35・・・導線固着樹脂 40A・・・正極導線(導線) 40B・・・負極導線(導線) 41・・・端部 42・・・芯線 43・・・絶縁被覆 43t・・・端面 50・・・基板保持治具 53・・・位置決め突部 102・・・基板ユニット 130A,130B・・・導線収容部 131・・・内側面 132・・・奥面 202・・・基板ユニット 230A,230B・・・導線収容部 231・・・内側面 232・・・奥面 235・・・係合突部 302・・・基板ユニット 330A,330B・・・導線収容部 331・・・内側面 332・・・奥面 333・・・底面 430A,430B・・・導線収容部 432・・・奥面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electrochemical cell unit 2 ... Board | substrate unit 20 ... Board | substrate 20f ... Peripheral edge 30A, 30B ... Lead wire accommodating part 31 ... Inner side 32 ... Back surface 35 ... Lead wire Fixing resin 40A ... positive electrode lead (lead) 40B ... negative electrode lead (lead) 41 ... end part 42 ... core 43 ... insulation coating 43t ... end face 50 ... substrate holding jig 53: Positioning projection 102: Substrate unit 130A, 130B: Conducting wire storage portion 131: Inner side surface 132: Back surface 202: Substrate unit 230A, 230B: Conducting wire storage portion 231 ... the inner surface 232 ... inner surface 235 ... engaging projection 302 ... substrate units 330A, 330B ... wire accommodating portion 331 ... inner surface 332 ... inner surface 333 .. · Bottom surface 430A, 430B · · · Conducting wire housing portion 432 · · · back surface

Claims (9)

絶縁被覆から芯線を露出させた導線と、前記導線の芯線が接続される一対の電極パッドを有する基板と、を備えた基板ユニットであって、
前記基板は、奥面を有して周縁を切り欠くように形成されて、前記絶縁被覆の端部を収容する導線収容部と、電気化学セルの正極タブ及び負極タブに接続する一対のランドと、を備え、
前記導線は、前記導線収容部の奥行方向に沿って収容されて、前記絶縁被覆の端面が前記導線収容部の前記奥面に当接することを特徴とする基板ユニット。
A substrate unit comprising a conductive wire having a core wire exposed from an insulating coating, and a substrate having a pair of electrode pads to which the core wire of the conductive wire is connected,
The substrate is formed to have a back surface and a peripheral edge cut out, and a lead wire accommodating portion for receiving the end of the insulating coating, and a pair of lands connected to the positive electrode tab and the negative electrode tab of the electrochemical cell , And
The substrate unit, wherein the conducting wire is accommodated along the depth direction of the conducting wire accommodation portion, and an end face of the insulating coating abuts on the back surface of the conducting wire accommodation portion.
請求項1に記載の基板ユニットであって、
前記導線収容部は、前記周縁から前記奥面に向かって切り欠き幅が漸次大きくなるように形成されることを特徴とする基板ユニット。
The substrate unit according to claim 1, wherein
The substrate unit, wherein the lead wire accommodating portion is formed such that a notch width gradually increases from the peripheral edge toward the back surface.
請求項1または2のいずれか1項に記載の基板ユニットであって、
前記導線収容部は、内側面から突出して前記絶縁被覆に係合する係合突部を備えることを特徴とする基板ユニット。
The substrate unit according to any one of claims 1 or 2 , wherein
The substrate unit, wherein the lead wire accommodating portion includes an engagement protrusion which protrudes from an inner side surface and engages with the insulating coating.
請求項1からのいずれか1項に記載の基板ユニットであって、
前記導線収容部に充填されて前記導線を固着させる導線固着樹脂を備えることを特徴とする基板ユニット。
The substrate unit according to any one of claims 1 to 3 , wherein
A substrate unit comprising a wire fixing resin filled in the wire containing portion to fix the wire.
請求項1からのいずれか1項に記載の基板ユニットであって、
前記導線収容部は、前記基板の厚み方向に形成された底面を有することを特徴とする基板ユニット。
The substrate unit according to any one of claims 1 to 4 , wherein
A substrate unit characterized in that the lead containing portion has a bottom surface formed in the thickness direction of the substrate.
請求項1からのいずれか1項に記載の基板ユニットであって、
前記導線収容部は、前記基板を載置する基板保持治具に形成された位置決め突部が嵌まり込むことを特徴とする基板ユニット。
The substrate unit according to any one of claims 1 to 4 , wherein
A board unit characterized in that a positioning projection formed on a board holding jig on which the board is placed fits into the lead wire accommodating portion.
請求項1からのいずれか1項に記載の基板ユニットであって、
前記芯線と前記電極パッドは、超音波接合により接続されることを特徴とする基板ユニット。
The substrate unit according to any one of claims 1 to 6 , wherein
The substrate unit, wherein the core wire and the electrode pad are connected by ultrasonic bonding.
請求項1からのいずれか1項に記載の基板ユニットであって、
前記導線の直径が0.08mmから0.41mmであることを特徴とする基板ユニット。
The substrate unit according to any one of claims 1 to 7 , wherein
A substrate unit characterized in that the diameter of the conducting wire is 0.08 mm to 0.41 mm.
請求項1からのいずれか1項に記載の基板ユニットを備えたことを特徴とする電気化学セルユニット。 An electrochemical cell unit comprising the substrate unit according to any one of claims 1 to 8 .
JP2015005194A 2014-03-10 2015-01-14 Substrate unit and electrochemical cell unit Expired - Fee Related JP6511271B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015005194A JP6511271B2 (en) 2014-03-10 2015-01-14 Substrate unit and electrochemical cell unit
CN201510103762.9A CN104916874A (en) 2014-03-10 2015-03-10 Substrate unit and electrochemical battery cell

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014046880 2014-03-10
JP2014046880 2014-03-10
JP2015005194A JP6511271B2 (en) 2014-03-10 2015-01-14 Substrate unit and electrochemical cell unit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015187971A JP2015187971A (en) 2015-10-29
JP6511271B2 true JP6511271B2 (en) 2019-05-15

Family

ID=54430101

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015005194A Expired - Fee Related JP6511271B2 (en) 2014-03-10 2015-01-14 Substrate unit and electrochemical cell unit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6511271B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112021000231T5 (en) 2020-11-30 2022-09-08 Sumitomo Riko Company Limited ELECTROSTATIC TRANSDUCER
WO2023145773A1 (en) 2022-01-27 2023-08-03 住友理工株式会社 Electrostatic transducer

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019138255A (en) * 2018-02-14 2019-08-22 日本電産サンキョー株式会社 Pump device

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5750766Y2 (en) * 1978-01-27 1982-11-06
JP4061056B2 (en) * 2001-11-30 2008-03-12 株式会社東芝 Battery pack
JP4848878B2 (en) * 2006-07-27 2011-12-28 住友電気工業株式会社 Coaxial cable connection structure, coaxial cable, and method of manufacturing coaxial cable connection structure
JP5080134B2 (en) * 2007-05-18 2012-11-21 矢崎総業株式会社 Terminal mounting structure
JP2009176893A (en) * 2008-01-23 2009-08-06 Ricoh Co Ltd Printed circuit board
JP2013153066A (en) * 2012-01-25 2013-08-08 Sanyo Electric Co Ltd Circuit board with lead wire and battery pack with lead wire
TWI500204B (en) * 2012-03-21 2015-09-11 Simplo Technology Co Ltd Battery module

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112021000231T5 (en) 2020-11-30 2022-09-08 Sumitomo Riko Company Limited ELECTROSTATIC TRANSDUCER
WO2023145773A1 (en) 2022-01-27 2023-08-03 住友理工株式会社 Electrostatic transducer

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015187971A (en) 2015-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101442138B (en) Secondary battery
KR101075304B1 (en) Battery pack and manufacture method thereof
JP5256589B2 (en) An assembled battery in which a plurality of film-clad batteries are arranged adjacent to each other
JP5190491B2 (en) Secondary battery
KR101264495B1 (en) Secondary Battery And Battery Pack having thereof
US9130224B2 (en) Battery pack and method of manufacturing battery pack
KR20160060221A (en) MANUFACTURING METHOD FOR SECONDARY BATTERY and SECONDARY BATTERY USING THE SAME
JP2011181300A (en) Lead member for nonaqueous electrolyte power storage device and method of manufacturing the same
JP6266387B2 (en) Substrate unit, electrochemical cell unit, and electrochemical cell unit manufacturing method
KR101255245B1 (en) Battery pack
JP6511271B2 (en) Substrate unit and electrochemical cell unit
CN107615558B (en) Winding type battery
CN103165829A (en) Secondary battery
US20200044225A1 (en) Secondary battery
KR20080039093A (en) Secondary battery
JP5269834B2 (en) Secondary battery
KR101057566B1 (en) Secondary battery with a protection circuit module and method of making the secondary battery with a protection circuit module
JP5472284B2 (en) Film outer battery and battery pack
JP2010033888A (en) Lead wire for nonaqueous electrolyte battery and nonaqueous electrolyte battery
CN204257745U (en) Lug lead-in wire and electric energy storage device
EP3641045A1 (en) Cable type battery
KR20210061113A (en) The Electrode Assembly And The Method For Thereof
JP2013239398A (en) Lead terminal for power storage device, and nonaqueous electrolyte power storage device equipped with the same
KR100994954B1 (en) Secondary battery which protective circuit board is connected
JP2013020878A (en) Lead member and manufacturing method of the same

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20170913

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20171120

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181023

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181024

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181109

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190402

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190408

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6511271

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees